KR950003087B1 - 샴푸 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
샴푸 조성물
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 2-히드록시알카노산(2-hydroxyalkanoic acid)을 함유한 샴푸 조성물에 관한 것이다.
임의의 2-히드록시알카노산은 피부에 국소 적용하기 위한 조성물에 함유될 경우 이 화합물이 피부에 이롭다는 것은 알려져 있다. 그러한 이로운 점으로는 신장력(伸張力) 증대와 외관의 향상이 있다.
나이가 들어감에 따라, 화학적 또는 기계적 손질법의 결과로 탄력이 감소된 모발은 기계적 응력을 받게될때 더 부서지기 쉽다. 모발의 탄력이 증가함에 따라 모발은 그러한 기계적 응력에 대한 저항력이 커질 뿐만 아니라 미용상 매력을 끌게 된다. 모발은 더 부드럽게 느껴지고 단정해진다.
히드록시카복실산은 종전에는 피부용 크림류에 포함시켜 왔는데, 이 경우 이들 산은, 여러가지 피부 질환을 치료하는데 있어서 다소 유익한 것으로 나타났다. 그러한 피부용 크림류의 예는 모두 반 스코트(Van Scott)유(Yu)의 명의로 된 미국 특허 제3,920,835호, 제3,984,566호 또는 제4,363,815호에서 찾아볼 수 있다.
2-히드록시옥타노산과 알킬 락테이트의 혼합물을 함유하는 피부용 크림류는 미국특허 제4,507,319호(유리레버; Unilever)에 개시되어 있으며, 여드름에 특히 효과적이라고 언급되어 있다.
EP 제7,785호(유니레버)는 히드록실화 C6∼C10카복실산을 함유하는 피부용 조성물에 관한 것으로서, 이 조성물은 음이온계 유화제를 비롯한 다수의 담체에 의해 조성될 수 있다. 이들 조성물은 산성 pH을 유지하기 위한 보조산(co-acid) 완충제를 함유하지 않는다. 모발의 성장을 불완전하게 하는 비듬과 극단적으로 건조한 두피를 다루는데 2-히드록시옥타노산을 사용하는 것이 EP 제232,982호(유니레버)에 기재되어 있는데, 상기 산은 또한 비이온계 계면 활성제를 함유하는 조성물 형태로 하여 모발에 적용된다. 비이온계 계면 활성제는 피부 상태의 악화를 최소화하기 위한 용도에도 적합하다.
DE 제2,110,993호(헨켈; Henkel)는 히드록시카복실산의 알칼리 금속염으로 이루어진 액체 세정 조성물에 관한 것이다. 이들 조성물은 산성 pH를 유지하기 위한 보조산 완충제를 함유하지 않는다.
임의의 2-히드록시알카노산을 샴푸 조성물에 혼합시킬 경우, 이들이 모발의 탄력을 증대시키고, 따라서 미용상 유리한 점을 발생시킨다는 놀라운 사실이 현재 발견되기에 이르렀다. 이 효과는 2-히드록시알카노산의 계속적인 사용을 통하여 달성된다.
이 효과는 C4∼C20의 사슬 길이를 갖는 2-히드록시알카노산의 적용시에 나타날 수 있다.
본 발명은 다음의 (a)∼(c) 성분으로 이루어진 샴푸 조성물을 제공한다.
(a) 2-히드록시헥사노산, 2-히드록시옥타노산, 2-히드록시데카노산 또는 이들의 혼합물 중에서 선택되는 2-히드록시알카노산 0.1∼20중량%.
(b) 적어도 대부분 음이온계, 양쪽성 이온계 및/또는 쯔비터이온계인 계면 활성제 2∼40중량%.
(c) 보조산 완충제 0.1∼10중량%.
계면 활성제 중의 일부는 비이온계 계면 활성제 등의 다른 종류의 보조 계면 활성제(co-surfactant)일 수 있다.
본 발명의 조성물은 가능하게는 조성물은 기타의 계면 활성제가 수반된 음이온계 계면 활성제 2∼40%를 함유하는 것이 특히 고려된다.
[2-히드록시 알카노산]
본 발명의 샴푸 조성물은 2-히드록시헥사노산, 2-히드록시옥타노산, 2-히드록시데카노산, 또는 이들의 혼합물 중에서 선택된 2-히드록시알카노산 0.1∼20중량%, 바람직하게는 1∼10중량% 함유한다. 2-히드록시옥타노산이 가장 바람직한 산이다.
만일, 조성물에 2-히드록시알카노산이 0.1중량% 이하로 함유된다면, 모발의 탄력 증가는 관찰되지 않으며, 만일 20중량% 이상 함유된다해도 추가의 잇점이 나타나지 않는다.
[계면 활성제]
또한, 본 발명의 샴푸 조성물은 계면 활성제의 전부 또는 대부분이 음이온계, 양쪽성 이온계 또는 쯔비터이온계 계면 활성제를 2∼40중량%, 바람직하게는 5∼20중량% 함유한다. 특히 가능하게는 다른 종류의 계면 활성제를 수반한 음이온계 2% 이상(따라서, 음이온계의 양은 2∼40% 범위이다) 함유될 수 있다. 음이온계 계면 활성제는 존재하는 계면 활성제의 대부분을 구성할 수 있다.
음이온계 계면 활성제는 아실 글루타메이트, 아실 펩티드, 사르코시네이트, 카복실산 에스테르, 아실 이세티오네이트, 알파-올레핀 술포네이트, 술포숙시네이트, 알킬 벤젠 술포네이트, N-메틸 타우린의 아미드, 알파-술포 지방산, 소듐, 마그네슘 또는 암모늄 라우릴 술페이트와 같은 알킬 술페이트 및 알킬 에테르 술페이트 중에서 선택하는 것이 바람직한데, 가장 바람직한 것은 소듐 라우릴 에테르 술페이트(2EO)이다.
음이온 계면 활성제와 함께 보조 계면 활성제로서 특히 사용될 수 있는 양쪽성 이온계 및 쯔비터이온계 계면 활성제로는 알킬 베타인, 알킬 아미도 프로필 베타인, 알킬 암포(ampho) 글리시네이트 및 술포베타인(술타인)이 있다.
계면 활성제 혼합물의 일부로 존재할 수 있는, 비이온계 계면 활성제로는 에톡실레이트류, 예를 들면 알코올의 슈가 에스테르, 글리콜의 에스테르, 글리세롤의 에스테르, 에톡실화 소르비탄 에스테르 및 아민 산화물이 있다.
[보조산 완충제]
또한, 본 조성물은 산성 pH를 유지하도록 작용하는 보조산 완충제를 함유한다. 본 발명자들은 모발은 산 자체보다 침투력이 낮은 산의 염을 생성하는 2-히드록시알카노산의 묽은 용액을 완충시킬 수 있다는 사실을 알게 되었다.
적합한 보조산 완충제로는 락트산, 시트르산, 타르타르산, 아세트산, 포름산, 말론산, 글리콜산, 티오글리콜산, 벤조산, 아디프산, 말산 및 메사콘산이 있다. 가장 바람직한 산은 락트산이다.
보조산 완충제는 조성물에 0.1∼10중량%, 바람직하게는 1중량% 이상, 더욱 바람직하게는 2∼5중량%의 함량으로 존재한다. 2-히드록시알카노산 완충제의 총량은 통상 조성물의 1.7중량% 이상, 더 좋기로는 3 또는 5중량% 이상일 수 있다.
조성물의 pH는 3∼5의 범위 내인 것이 바람직하다.
[기타 성분]
또한, 본 발명의 샴푸 조성물은 모발에 2-히드록시알카노산의 침착을 조장하는 침착제를 더 포함할 수 있다.
적합한 침착제로는 양이온계 셀루로즈 에테르가 있는데, 이는 미국 특허 제3,816,616호와 제4,272,515호에 기재되어 있으며, 유니온 카바이드 코포레이션(Union Carbide Corporation)으로부터 Polymer JR라는 상품명으로 구득할 수 있다. 중합체 JR의 CTFA 호칭은 폴리쿼터니움 10(Polyquaternium 10)이다. 다른 적합한 물질로는 미국 특허 제4,298,494호에 기재된 양이온계 폴리갈락토만난(Polygalactomannan gum) 유도체가 있는데, 이는 셀라네제-스테인 홀(celanese-stein Hall)에서 자구아르(Jaguar)라는 상표로 시판하고 있다.
적합한 물질의 예로는 구아르 히드록시프로필트리모니움 클로라이드라는 CTFA 호칭을 가진 것으로서 Jaguar C13S라는 상표로 시판하고 있다. 기타 적합한 물질로는 자구아르 C17과 히드록시프로필 치환기 뿐만 아니라 양이온계 사급 암모늄 기를 포함하고 있는 히드록실화 양이온계 구아르 유도체인 자구아르 C16으로 알려진 히드록시프로필화 양이온 구아르가 있다.
본 발명의 샴푸에 유용한 다른 침착제로는, 미국 특허 제4,080,310호에 기재된 저분자량 아디프산/디에틸렌-트리아민 폴리아미드 및 디메틸술페이트로 쿼터나이즈화시킨(quatertnised) 디메틸아미노 에틸 메타크릴레이트와 비닐 피롤리돈의 공중합체(Gafquat) 755, GAF 코포레이션, 미국 특허 제4,048,301호 기재된 N-비닐 피롤리돈, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트와 폴리에틸렌 글리콜을 함유하는 그라프트(graft) 양이온계 공중합체, 미국 특허 제4,009,256에 기재된 C3-C5불포화 카복실산의 단일 중합체 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산염 및 미국 특허 제3,186,911호에 기재된 에테르화 녹말의 중합체가 있다.
또한, 머크 앤드 컴패니 인크.(Merck & Co. Inc.)에 의해 상표 머콰트(Morquat)로 시판되고 있는 고분자량 중합체도 본 발명의 샴푸의 침착제로서 사용되기에 적합하다. 대표적인 것으로는 충전도(充塡度)가 높은 양이온계 디메틸 디아릴암모늄 클로라이드 단이 중합체인 Merquat 100 및 디메틸 디알릴 암모늄 클로라이드와 아크릴 아미드로 제조된 양이온계 공중합체인 550이 있다. 이들 물질은 각각 CFTA 사전에서 Quaternium-40과 41으로 호칭되고 있다.
또한, 본 발명의 샴푸 조성물은 당 기술 분야에 알려져 있고 특정의 제형화에 필요한 임의의 성분을 더 함유한다. 기타 성분의 예로는 계면 활성제, 점도 조절제, 용해도 조절제, 거품 촉진제, 유백제(乳白濟) 향료, 착색제, 실리콘과 같은 콘디쇼닝제, 방부제, 단백질, 중합체, 완충제 및 물이 있다.
본 발명의 샴푸 조성물은 필요한 성분들을 특정량으로 혼합함으로써 제제된다.
[제품 형식 및 포장]
본 발명의 샴푸 조성물은 통상 뚜껑이 달린 용기 또는 펌푸가 달린 디스펜서(dispenser)에 채워 포장된다. 일반적으로, 본 발명의 조성물은 모발에 사용함으로써 모발에 2-히드록시알카노산에 의하여 부여된 잇점이 인식될 수 있는 방식으로 제조될 수 있다. 가능한 포장법들은 헤어트리트먼트 조성물 분야에 숙련된 자에게 공지된 다양한 방법들이 있다.
[본 발명의 효과]
본 발명의 샴푸 조성물이 95%의 신뢰도로 모발의 탄력을 크게 증대시킨다는 것은 인스트론(Instron) 측정법을 비롯한 시험으로 알게 되었다. 비록 출원인은 이론에 구애되기를 원하지 않지만, 본 발명의 조성물로 처리했을 때의 모발의 탄력 증대는 모발 단백질 사슬의 가소화도와 관계가 있다고 생각된다. 펄스된 NMR 측정에 의하면, 2-히드록시알카노산이 함유된 조성물로 처리된 모발의 가소화는 처리하지 않은 모발의 가소화보다 더 크다는 것이 확인된다. 이 효과는 화학적 또는 기계적으로 손상되어버린 모발의 경우에서 특히 현저하다.
탄력이 증가된 모발은 솔질이나 또는 빗질과 같은 기계적 응력하에서 쉽게 부서지지 않는다. 본 발명의 조성물로 처리된 흑인종 모발은 처리되지 않은 모발보다 더 부드럽고 더 유연하며 부서짐 저항성이 더 커진다. 유럽인과 태국인 모발은 탄력이 증가됨을 나타낸다.
[비교예]
다음의 비교 실시예는 모발 특성을 보존하는 2-히드록시알카노산의 보유 효과를 설명한다.
[비교 실시예 1]
머리카락을 24시간 동안 2-히드록시옥타노산 수용액(pH 3.0) 1중량%에 담구어 놓았다. 모발:액체의 중량비는 1:200이었다. 인스트론 시험에 의해 2-히드록시옥타노산으로 처리된 모발 탄력 증대는 본래의 처리되지 않은 모발에 비하여 통계학적 95% 신뢰도를 나타내는 것이었다.
[비교 실시예 2]
태국인의 머리카락을 24시간 동안 사슬 길이가 C2, C6, C8및 C14인 2-히드록시알카노산의 0.0625M 용액에 모발과 액체의 비율이 1:200로 되도록 하여 담그어 놓았다. C14히드록시산은 물에 덜 녹으므로 에탄올 용액을 사용하였다. 대조군의 결과는 머리카락을 24시간 동안 물 또는 에탄올(C14에 대한 대조군으로서)에 담그어 놓아 얻었다.
시험에 사용한 모든 산은 2-히드록시옥타노산에 의하여 모발의 탄력을 증가시키고 최적의 효과를 발휘한다는 것을 알게 되었다.
[비교 실시예 3]
이 비교 실시예는 2-히드록시알카노산 보유시의 보조산 완충제의 효과를 나타낸다. 머리카락을 방사성 표지가 있는 1%의 2-히드록시옥타노산과 2%의 락트산이 함유된 조성물을 사용하여 pH 3.0에서 처리하였다. 여러 번 적용 후에, 머리카락에 의한 2-히드록시옥타노산의 보유도를 측정하고, 락트산이 함유되어 있지 않은 유사한 조성물로 처리한 모발에서보다 2-히드록시옥타노산의 보유도가 더 크다는 것을 알게되었다. 이것은 모발에 의한 2-히드록시알카노산의 보유가 보조산 완충제의 존재하에 높아진다는 것을 입증하는 것이다.
[비교 실시예 4]
머리카락(0.5g, 10cm 길이)을 깨끗이 씻었다. 아래에 설명한 바와 같이, 2-히드록시옥타노산과 락트산의 변동량을 함유하는 시험 조성물을 각 머리카락에 발라 1분 동안 놓아둔 다음 머리카락을 30초 동안 헹구었다. 2-히드록시옥타노산은14C로 방사선 표지가 되어 있으므로 모발에 남아 있는 2-히드록시옥타노산의 양이 측정될 수 있었다.
머리카락을 풍건시켜 상이한 조성물(2-하이드록시알카노산이 함유되지 않은 것)로 샴푸하고, 시험 조성물을 다시 적용하였다. 1, 5 및 10회 처리 후 모발에 잔류하는 방사능 수준을 측정하였다.
시험 조성물은 모두 pH 3이며 다음 성분을 함유하였다.
A. 2-히드록시옥타노산 1중량%
B. 2-히드록시옥타노산 1중량%와 락트산 2중량%
C. 2-히드록시옥타노산 2중량%와 락트산 4중량%
그 결과는 다음과 같았다. 측정값은 모발 1g당 2-히드록시옥타노산의 보유량(×10-4)g으로 표시한다.
Figure kpo00001
모발에 보유된 2-히드록시옥타노산의 양은 락트산의 첨가에 의해서 크게 증가된다는 것을 알 수 있다.
[실시예]
다음의 실시예는 본 발명의 샴푸 조성물을 예시한 것이다. 성분들을 함께 혼합시켜 샴푸를 형성하고, 염기를 사용하여 각 조성물의 pH를 3.0∼5.0으로 조정한다.
[실시예 1]
Figure kpo00002
(1) 엠피란 CDE는 코코디에탄올아민이다.
[실시예 2]
Figure kpo00003
[실시예 3]
Figure kpo00004
(2) 글루카메이트 DOE 120은 에톡실화 메틸 글루코시드 디올레이트이다.
[실시예 4]
Figure kpo00005
(3) DOBS 102는 C12∼C14알킬벤젠술포네이트이다.

Claims (14)

  1. (가) 2-히드록시헥사노산, 2-히드록시옥타노산, 2-히드록시데카노산 또는 이들의 혼합물 중에서 선택된 2-히드록시알카노산 0.1∼20중량%와, (나) 적어도 대부분 음이온계, 양성 이온계 및/또는 쯔비터 이온계 계면활성제 2∼40중량% 및 (다) 보조산 완충제 0.1∼10중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 수용성 샴푸 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 2-히드록시알카노산은 2-히드록시옥타노산인 것인 수용성 샴푸 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 2-히드록시알카노산은 1∼10중량%의 양으로 존재하는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나의 항에 있어서, 2∼40중량%의 음이온계 계면 활성제를 함유하는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 음이온계 계면 활성제는 아실 글루타메이트, 아실펩티드, 사르코시네이트, 카복실산 에스테르, 아실 이세티오네이트, 알파-올레핀 술포네이트, 술포숙시네이트, 알킬 술포네이트, 또는 알킬 에테르 술포네이트, 알킬 아릴 술포네이트, N-메틸 타우린의 아미드 또는 알파-술포 지방산 중에서 선택되는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 음이온계 계면 활성제는 아실 글루타메이트, 아실펩티드, 살코시네이트, 카복실산 에스테르, 아실 이세티오네이트, 알파-올레핀 술포네이트, 술포숙시네이트, 알킬 술페이트 또는 알킬 에테르 술페이트 중에서 선택되는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  7. 제4항에 있어서, 음이온계 계면 활성제는 소듐 라우릴 에테르 술페이트(2EO) 또는 소듐 라우릴 술페이트(3EO)인 것인 수용성 샴푸 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 계면 활성제는 알킬베타인, 알킬아미도 프로필 베타인, 알킬 암포글리시네이트, 술포베타인, 비이온 에톡실레이트, 슈가 에스테르, 글리콜의 에스테르, 글리세롤의 에스테르, 에톡실화 소르비탄 에스테르 또는 아민 산화물 중에서 선택된 계면 활성제인 것인 수용성 샴푸 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 보조산 완충제는 락트산인 것인 수용성 샴푸 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 보조산 완충제는 2∼5중량%의 양으로 존재하는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 침착제가 0.1∼5중량%의 양으로 더 함유되는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 침착제는 폴리쿼터니움 10, 쿼터니움 40, 쿼터니움 41 및 구아르 히드록시프로필 트리모니움 클로라이드 중에서 선택되는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  13. 제11항에 있어서, 침착제는 0.5∼3중량%의 양으로 존재하는 것인 수용성 샴푸 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 2-히드록시알칸산과 보조산 완충제의 총량은 조성물의 3중량% 이상인 것인 수용성 샴푸 조성물.
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