KR940014545A - 저 분산을 나타내는 분급 굴절률의 조형품 - Google Patents

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KR940014545A KR1019930028493A KR930028493A KR940014545A KR 940014545 A KR940014545 A KR 940014545A KR 1019930028493 A KR1019930028493 A KR 1019930028493A KR 930028493 A KR930028493 A KR 930028493A KR 940014545 A KR940014545 A KR 940014545A
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야수히로 코이케
레슬리 레니브 3세 에이취
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야수히로 코이케
케니스 에이 제노니
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Abstract

연속적인 등급 굴절률을 가진 일체식, 열가소성 물품은 매트릭스 중합체와는 상이한 굴절률의 저 분자량, 실질적인 미반응성 손 분자의 존재하에서 불화 매트릭스 중합체를 중합시킴으로써 형성된다. 열가소성 물품은 낮은 감쇠 및 높은 띠폭의 광학 도파관, 섬유 또는 렌즈와 같은 조형품을 생산하기 위해 사용될 수 있다.

Description

저 분산을 나타내는 분급 굴절률의 조형품
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 제2도의 장치의 상면도이고 ;
제3도는 제1도 및 2도의 장치와 관련하여 제조된 예비성형물로부터 광학섬유를 압신성형하는데 유용한 장치를 정면에서 본 단면도이고 ;
제4도는 폴리 3FMA 등급 굴절률(“GRIN”)예비성형품 막대의 굴절률 분포를 그래프를 나타낸다.

Claims (23)

  1. 불화 중합체 성분 및 실질적인 불활성 저 분자량 손 분자 성분으로 구성된 일체식 열가소성 물품으로서, 손 분자 성분은 중합체 성분과 실질적으로 미반응성이지만, 그내에서 가용성이고 중합체 성분과는 상이한 굴절률을 나타내고, 물품내 손 분자 성분의 농도가 이들의 형성 동안에 형성된 물품의 중앙에서부터 가장자리까지의 농도구배를 나타내어 물품은 물품의 중앙에서부터 물품의 가장자리까지의 농도구배에 의존하는 분급 굴절률을 나타내며, 중앙에서의 분급 굴절률은 가장자리의 것과는 상이한 일체식 열가소성 물품.
  2. 제1항에 있어서, 저 분자량 손 분자 성분이 불화 중합체 성분보다 약 0.001 단위 더 높은 굴절률을 갖는 일체식 열가소성 물품.
  3. 제1항에 있어서, 저 분자량 손 분자 성분이 불화 중합체 성분보다 약 0.005 단위 더 높은 굴절률을 갖는 일체식 열가소성 물품.
  4. 제1항에 있어서, 실질적인 미반응성 저분자량 손 분자 성분이 물품의 중량의 약 1%- 약 20%인 일체식 열가소성 물품.
  5. 제1항에 있어서, 물품이 원통형 예비성형물의 형성이고 광학 섬유의 제조에 유용한 일체식 열가소성 물품.
  6. 제1항에 있어서, 물품이 광학 섬유인 일체식 물품.
  7. 제1항에 있어서, 불화 중합체가 하기 일반식(I)를 갖는 단량체로 구성되는 일체식 열가소성 물품 :
    상기 식에서 X는 수소 원자 또는 중수소 원자이고 R은 선형, 분지 또는 시클릭 C1-C10알킬 또는 C6-C10아릴이다.
  8. 제6항에 있어서, R내 수소원자들이 불소, 염소 또는 브롬에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환되는 일체식 열가소성 물품.
  9. 제1항에 있어서, 불화 중합체가 하기 일반식(II)를 갖는 단량체로 구성되는 일체식 열가소성 물품 :
    상기 식에서 X는 수소, 중수소, 불소 또는 C1-C6알킬기이고, Y는 수소원자 또는 중수소 원자이고, Y′은 수소 원자 또는 중수소 원자이며, R은 선형, 분지 또는 시클릭 C1-C10알킬기이다.
  10. 제8항에 있어서, X가 C1-C6알킬일때 X의 수소들, 또는 R의 수소들은 불소에 의해 전부 또는 부분적으로 치환되는 일체식 열가소성 물품.
  11. 제1항에 있어서, 불화 중합체가 폴리-(트리플루오로메틸메타크릴레이트) 또는 폴리-(헥사플루오로이소프로필-2-플루오르아크릴레이트)인 일체식 열가소성 물품.
  12. 제1항에 있어서, 저 분자량 손 분자 성분이 하기 일반식 III의 분자인 일체식 열가소성 물품 :
    상기 식에서 Rf는 C1-C6알킬, C6-C10아릴 또는 부분적으로 또는 전부 불화된 C1-C6알킬, 또는 부분적으로 또는 전부 불화된 C6-C10아릴기이다.
  13. 제1,6항 또는 8항에 있어서, 저 분자량 손 분자 성분이 디부틸 프탈레이트, 벤질 벤조에이트, 부틸 페닐 프탈레이트, 벤질-n-부틸프탈레이트, 1-메톡시페닐-1 페닐 에탄, 3-페닐-1-프로판올, 브로모벤젠, m-디클로로벤젠, 1,2-디브로모에탄, 0-디클로로벤젠, 비스(1,1,3,3,3,α-헥사플루오로이소프로필)테레프탈레이트, 또는 불화 방향족 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 일체식 열가소성 물품.
  14. 제10항에 있어서, 저 분자량 손 분자 성분이 디부틸 프탈레이트인 일체식 열가소성 물품.
  15. 불화 단량체를 적당한 용기내에서, 단량체 및 중합체에 가용성이고 불화중합체와는 상이한 굴절률을 가지는 실질적인 미반응성, 저분자량 손 분자의 존재하에서 및 이와 용해하여 중합시키며 ; 단량체의 중합을 용기의 표면에서 시작하고 그것이 조절된 속도로 진행하도록 하여 손 분자 성분이 물품의 가장자리에서 부터 중앙까지 중합반응이 진행함에 따라 물품내 농도구배를 형성하도록 하여 굴절률이 중앙에서부터 가장자리까지 방사상으로 분급되는 일체식 물품을 형성하는 것으로 구성되는, 물품의 중앙에서부터 가장자리까지 분급 굴절률을 갖는 일체식 불화 중합체 기재 물품의 생산 방법.
  16. 제15항의 방법에 의해 생산된 일체식 불화 중합체 기재 물품.
  17. 불화 단량체로부터 형성된 매트릭스 중합체보다 더 높은 굴절률을 갖는 광학적으로 양립가능한, 실질적으로 미반응성인 저 분자량 손분자의 존재하에서 매트릭스 중합체를 형성하기 위해 불화 단량체를 중합시킴으로써 형성된, 낮은 광학적 분산 및 높은 띠폭을 나타내는 중합체 광학 섬유로서, 섬유내 손 분자의 농도가 가장자리보다 섬유의 중앙에서 더 큰 농도구배에 의해 형성되고 상기 섬유는 중합체 및 실질적으로 미반응성인 저 분자량 손 분자의 상대적인 농도비에 의해 방사상으로 형성된 분급 굴절률 프로필을 갖고, 중앙이 가장자리보다 더 큰 굴절률을 갖는 상기 중합체 광학 섬유.
  18. 제17하에 있어서, 섬유가 약 200-약 400범위의 낮은 전체 빛 감쇠 효과, dB/km를 나타내는 광학 섬유.
  19. 제17항에 있어서, 저 분자량 손 성분이 불화되는 중합체 광학섬유.
  20. 제17항에 있어서, 단량체가 부분적으로 중수소치환되는 중합체 광학 섬유.
  21. 제17항에 있어서, 매트릭스 중합체가 중합체 2-플루오로아크릴산 에스테르인 중합체 광학 섬유.
  22. 제17항에 있어서, 매트릭스 중합체가 폴리(트리플루오로에틸 메타크릴레이트) 또는 폴리(헥사플루오로이소프로필 2-플루오로아크릴레이트)인 중합체 광학 섬유.
  23. 제17항에 있어서, 손 분자가 디부틸 프탈레이트인 중합체 광학 섬유.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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