KR940004304B1 - 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판 및 그 제조방법

제1도는 종래 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판을 도시한 입단면도.

제2도는 본 발명에 따른 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판을 도시한 입단면도.

제3a도 내지 제3b도는 본 발명의 제조방법을 그 순서대로 도시한 단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 기판 1a : 돌출부

1b : 베이스부 3 : 후막

본 발명은 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.

통상적으로 평판표시소자 즉, 플라즈마 표시소자(Plasma Display Panel), 액정표시소자(Liquid Crystal Display), EL소자(Electro - luminescence Display) 등의 회로기판에 소정의 후막패턴을 형성함에 있어서는 즉, 제1도에 도시한 바와 같이 기판(10) 표면에 스크린 인쇄법에 의해 소정패턴으로 후막(20)을 형성하는 것이었다.

그러나 이와 같이 스크린 인쇄법에 의해 회로기판위에 후막을 형성함에 있어서는 고정세(高情細)한 후막 패턴을 얻을 수 없다는 문제점이 있었다. 이는 후막패턴의 정세도가 스크린 마스크(screen Mask)의 정세도 및 후막인쇄에 사용되는 후막인쇄용 페이스트(paste)의 유동특성(Rheolegy 特性)에 많은 제한을 받기때문이다. 이중에서도 후막패턴의 정세도는 특히 후막인쇄용 페이스트의 영향을 많이 받는데 이는, 후막패턴간의 간격이 매우 정세(精細)한 경우 후막인쇄용 페이스트의 유동특성에 의해 후막 상호간에 번짐이 발생하기 때문이다. 이로 인해서는 후막 패턴간의 인력으로 라인 쇼트(line short)가 되는 현상이 발생했다. 또한 다양한 후막패턴 형태를 이룰수 없다는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 창출된 것으로서, 후막간의 번짐을 방지 할 수 있으며 다양형태의 후막패턴을 형성할 수 있고 고정세한 후막패턴 형성이 가능한 후막이 형성된 기판을 제공함에 그 첫째 목적이 있다.

또한 본 발명은 상기 첫째 목적을 달성하는 후막이 형성된 기판을 제조하기에 가장 적합한 제조방법을 제공함에 그 둘째 목적이 있다.

상기 첫째 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 그 상면이 소정 패턴으로 인입가공됨으로써 인입가공된 베이스부와 인입가공되지 않은 돌출부가 형성되고 이 돌출부 상면에 후막이 형성되어 된 것을 특징으로 한다.

또한 상기의 둘째 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판의 상면을 소정패턴으로 인입가공하여 소정 패턴의 돌출부를 형성하는 공정; 상기 인입가공하여 형성된 돌출부에 후막을 인쇄하는 공정; 을 특징으로 한다.

이때 상기 후막을 인쇄하는 공정은 스크린 인쇄법이 적용된다.

이러한 본 발명의 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판은 후막간의 번짐을 방지할 수 있고, 고정세한 후막패턴을 형성할 수 있다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 우선 본 발명의 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판의 제2도에 도시한 바와 같은 구조를 갖는다.

기판(1)의 상면은 소정패턴으로 인입가공된 베이스부(1b)와, 인입가공되지 않은 돌출부(1a)를 가지며, 상기 돌출부(1a)에는 본 발명의 특징에 따라 후막(2) 예를 들면 ITO막이 형성된다.

이와 같은 본 발명의 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판은 후막(2)간에 번짐이 발생하지 않는 것이며, 고정세한 후막패턴을 형성할 수 있는 것이다.

즉, 기판(1) 표면을 미리형성하고자 하는 패턴으로 인입가공하여 인입가공된 베이스부(1b)와 가공되지 않은 돌출부(1a)를 형성하여, 상기 돌출부(1a)에 후막(2)을 형서함으로써, 후막(2) 상호간의 번짐이 인입가공된 베이스부(1b)에 의해 발생되지 않는 것이다. 이는 소정의 인쇄법에 의해 돌출부(1a)에 형성된 후막(2)은 후막인쇄용 페이스트와 기판(1) 표면 즉, 돌출부(1a)간의 표면장력에 의해 상기 베이스부(1b)에는 인쇄되지 않기 때문이다. 그리고 기판(1) 표면을 미리 소정패턴으로 인입가공함에 있어 다양한 패턴으로 인입가공이 가능한 것이며 특히, 기판(1) 표면며 약 2 - 15㎛ 정도로 가공할 수 있는 것이어서 고정세판 패턴을 얻을 수 있다.

상기와 같은 본 발명의 평판 디스플레이용 후막이 형성된 회로기판은 다음과 같은 본 발명의 제조방법에 의해 제조될 수 있다.

제3a도에 도시된 바와 같이 기판(1) 표면을 소정패턴을 갖도록 인입가공한다. 이때 기판(1) 표면을 인입가공함에 있어서는 기판(1)의 재질이 산화규소(SiO₂)로 형성된 유리재이기 때문에 HF용액을 사용하여 에칭가공하거나, 또는 플라즈마 방전중 발생하는 활성패디컬(rdeical)을 사용하는 드라이 에칭 즉 플라즈마 에칭(plasma ET ching)이 바람직하며, 레이저트리밍(Laser trimming)함으로써 인입가공하여도 좋다.

이에 이어서 제3b도에 도시된 바와 같이 인입가공하여 형성된 상기 기판(1)의 돌출부(1a)에 소정의 인쇄법에 의해 후막(2)을 인쇄한다. 상기 후막(2)을 인쇄하는 인쇄법으로서는 스크린마스크(screen mask)에 패턴마스크(pattern mask)를 형성하거나, 또는 열린메쉬(Bare Mesh) 상태로 기판(1)의 돌출부(1a)에 인쇄하면 기판 표면면과 페이스트으 표면장력에 의해 돌출부(1a)에만 인쇄된다.

이때 상기 기판(1)상에 표면이 이미 소정패턴을 갖도록 인입가공되어 있기 때문에 무 패턴의 스크린마스크를 사용하여도 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 즉 셀프얼라인 효과(Self-Align)가 있으며 이에 따라 스크린 마스크의 제작이 불필요할 수도 있어 공정을 단순화할 수 있는 이점이 있다.

이상에서 상술된 본 발명의 실시예는 본 발명이 적용될 수 있는 복잡하고 다양한 형태의 모든 평판소자에 적용가능한 것이며, 특히 매우 복잡하고 고정세한 화상표시용소자에 적용됨이 더욱 바람직한바, 본 발명이 추구하는 기본적 기술사상은 근본적으로 벗어나지 않는한 평판소자에 있어 후막이 형성된 기판과 이의 제조방법도 본 발명의 범주내에 있음은 당연할 것이다.

Claims (5)

1. 그 상면이 소정 패턴으로 인입가공됨으로써 인입가공된 베이스부와 인입가공되지 않은 돌출부가 형성되고 이 돌출부 상단면에 소정높이의 후막이 형성되어 된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이용 후막이형성된 기판.
2. 제1항에 있어서, 상기 기판 상면을 인입가공하여 형성된 돌출부의 높이가 약 2 ~ 15㎛인 것을 특징으로 하는 후막이 형성된 평판 디스플레이용 기판.
3. 기판의 상면을 소정패턴으로 인입가공하여 돌출부를 형성하는 공정; 상기 인입가공하여 형성된 돌출 부에 후막을 인쇄하는공정; 을 포함하여 된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판의 제조방법.
4. 제3항에 있어서 상기 기판의 인입가공이 에칭가공 또는 레이저 트라밍 가공함으로써 돌출부가 형성되도록 된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판의 제조 방법.
5. 제3항에 또는 제4항중 적어도 어느 한항에 있어서, 상기 기판의 돌출부에 후막을 인쇄하는 공정이 스크린 인쇄법에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이용 후막이 형성된 기판의 제조방법.