KR940004118B1 - 멀티 에젝터형(multi ejector)오염 및 유독개스 세정장치 및 그 방법 - Google Patents

멀티 에젝터형(multi ejector)오염 및 유독개스 세정장치 및 그 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

멀티 에젝터형(MULTI EJECTOR)오염 및 유독개스 세정장치 및 그 방법
제1도의 "가", "나"는 본 발명에 있어서, 오염 및 유독개스 세정장치의 구성 및 그에 따른 작동진행과정을 예시한 개략도.
제2도는 제1도의 "나"의 "다"부분확대도.
제3도는 제1도의 "나"의 "라"부분확대도.
제4도는 제1도의 "나"의 "마"부분확대도.
제5도는 본 발명에 있어서 1차 기수분리 탱크내에 설치되는 주름벽의 배열 상태를 나타낸 발췌평면도.
제6도는 제5도의 바-바선 단면도.
제7도는 본 발명에 있어서, 오염 및 유독개스의 세정공정 과정을 순차적으로 나타낸 배블럭도.
제8도는 본 발명에 있어서, 수냉식 간접열교환기의 구성을 나타낸 개략단면도.
제9도는 본 발명에 있어서, 와싱처리부의 구성을 나타낸 발췌단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 싸이클론(CYCLON) 2, 3 : 간접열교환기
4 : 냉각기 5 : 기수분리기
6 : 흡출식 송풍기 7 : 냉각탑
8 : 보조냉각기 19 : 회수탱크
20 : 집수탱크 21 : 1차 중화처리탱크
21g, 24c : 냉각수 분사노즐 21h : 디프셔(diffuser)
21, 26b : 무화구 23 : 유출파이프
24 : 2차 중화처리탱크 24b : 어젝터(ejector)
26 : 1차기수분리탱크 26, 26c',26c'' : WN주름관
27 : 개스와싱처리부 27b, 31d : 와싱바
28 : 2차기수분리탱크 28a : 무화판
31 : 3차 중화처리탱크 31b : 집수판
31C : 돈모층
본 발명은 각종 산업제조공장의 제조공정과정에서 필연적으로 발생되게되는 오염개스나 유독개스를 효과적으로 세정하기 위한 오염 및 유독개스 세정장치 및 그 방법에 관한 것이다.
현재 피혁제조공정이나 제철공장, 식품공장, 벽지제조공장, 플라스틱제품 제조공장 및 이와 유사한 기타생산 공장에서의 제조공정과정에서는 D.O.P나 기타 유류, 매연악취등의 각종 유해물질이 함유된 오염 및 유독개스가 필연적으로 발생되고 있어 심각한 환경공해요인으로 부각되고 있는바, 이러한 오염개스나 유독개스를 정화하기 위한 장치나 방법등을 개발하기 위해 다각적인 방향에서 연구가 거듭되고 있는 실정이다.
이러한 연구의 결과로 개발되어 있는 정화장치에는, 대, 소형의 저장탱크 군을 다수 설치하여 오염개스나 유독개스를 순차적으로 통과시키면서 특정 화학약품을 투여하여 중화시켜주도록된 것과, 상기 방안에 대형 집진장치를 추가설치하여 분진형태의 유독물질을 어느정도 미리 추출해낸 상태에서 화학약품을 부여하여 중화시켜주도록 된 것등이 주류를 이루고 있었던바, 이러한 종래의 정화장치를 이용함에 있어서는 고가의 화학약품 및 여과포가 다량 소모되게 됨에 따라 막대한 가동비용이 소요되는 단점이 있었을 뿐만 아니라, 최종공정 과정에서는 투여된 화학약품을 재차 정화시켜주어야만 하는 단점이 노출되고 있었고, 오염원 및 유독물질의 정화효율이 비교적 저조했던등, 여러가지 문제점을 안고 있었던 것이다. 다른 한편으로는, 정화장치의 시설규모가 방대하여 소규모의 중소업체에서는 그 설치장소를 확보하는데 만도 상당한 어려움을 느끼고 있을 뿐만 아니라 시설 구축에 소요되는 비용역시 막대하여 설치가동하고 있는 업체가 소수에 불과한 실정이었다.
본 발명은 이와같은 현실점을 감안하여 연구개발된 것으로, 저온 또는 고온상태로 배출되는 오염개스나 유독개스를 소정의 싸이클론(CYCLON)으로 유입시켜 먼지형태의 MIST가 어느정도 분리되도록한 상태에서 수냉식 열교환 방법으로 저온화 시킴과 동시에 소정압력으로 물을 분사하여 개스와 혼합되도록 하는 공정과정이 반복수행되도록 하는 소정의 공정과정으로 개스에 포함된 대부분의 유해물질이 추출되도록한후 최종공정과정에서 소량의 약품투여로 완전히 중화시켜 대기중에 방출하도록하는 간단한 방안을 채택함으로서, 정화장치 시설구축에 다른 설치면적이나 구축비용을 최소화함은 물론 가동비용역시 최소화하여 어느업체나 부담없이 설치가동할 수 있도록하면서 환경공해 방지에 일익을 담당할 수 있도록 하는데 첫째 목적이 있고, 오염개스나 유독개스에 함유된 유해물질이 거의 완벽하게 제거되도록 하면서 고도의 정화 효율을 기대할 수 있도록하는데 둘째 목적이 있는 것인바, 그 공정과정과 그에 수반되는 장치의 구성 및 작용효과를 첨부도면에 의거하여 순차적으로 상술하면 다음과 같다.
본 발명의 실시를 위해 요구되는 정화장치는 소정의 MIST 분리 및 개스 보유온도 저하기능을 선행하도록된 선처리 장치부(100)와, 중화처리 기능을 갖는 후처리 장치부(200)로 대별 구성된다.
선처리 장치부(100)는 제1도의 "가"에 도시된 바와같이, 분진이나 유류분등을 1차적으로 분리처리하도록된 단수나 복수 또는 그 이상의 싸이클론(1)과, 고온상태의 오염물질 유독개스를 점차적으로 저온화 하도록 된 2패스 타입의 수냉식 간접열교환기 ((2), (3)), 소정 압력으로의 물분사로 개스온도를 급강하 시킴과 동시에 일부 유해물질 추출기능을 갖도록된 직접열교환식 냉각기(4), 상기 구성체를 거쳐 유입되는 오염물질 및 개스에서 수분을 분리하도록된 기수분리기(5), 상기 구성체를 개스가 순차적으로 거치도록 하기 위해 소정의 흡입 압력을 발생하도록된 흡출식 브로우어(BLOWER) (6), 상기 각 구성체에 냉각수를 공급하기 위한 냉각탑(7), 상기한 열교환기(3)와 냉각기(4) 및 기수분리기(5)에서 유출되는 물을 집수하여 냉각탑(7)으로 재유입되도록 하는 기능과 후술될 집수탱크(20)로 냉각수를 공급하기 위한 기능 및 집수탱크(20)로 부터 회송순환되는 냉각수의 보조냉각기능을 공히 갖도록된 보조 냉각기(8)를 적절히 배열설치하여 구성한다.
냉각탑(7)으로 부터 공급되는 냉각수의 순환파이프라인은, 냉각탑(7)으로부터 단수 또는 복수개의 간접열교환기(2)를 거친후 모터펌프(11)에 의해 냉각탑(7)으로 재유입되도록 하는 A파이프라인(12), 냉각탑(7)으로 부터 간접열교환기(3)와 보조냉각기(8)를 거쳐 냉각탑(7)으로 재유입되도록한 B파이프라인(13), 상기 직접열교환식 냉각기(4)와 기수분리기(5)로 부터 보조 냉각기(8)로 연결되는 C파이프라인(14), 상기 보조냉각기(8)와 후술될 집수탱크(20)를 연결하는 D파이프라인(15), 후술될 집수탱크(20)로부터 1차 중화탱크(21) 및 보조냉각기(8)를 연결하는 E라인(16), 후술될 집수탱크(20)와 1차 중화처리탱크(21) 사이를 연결하는 E라인(16)과 직접열교환식 냉각기(4)를 연결하면서 냉각기(4)에 냉각수를 공급하는 F라인(16a)으로 복합 구성하여 이루는 한편, 정화대상의 오염물질 및 유독개스 이송 파이프라인 G(17)는 싸이클론(1), 열교환기((2), (3)) 냉각기(4), 기수분리기(5) 및 흡출식 송풍기(6)를 순차적으로 연결함과 동시에 후술될 1차 중화처리탱크(21)로 연결되는 분배파이프(22)까지 연결구성하여 이룬다.
한편, 상기한 각각의 구성체로 부터 추출되는 유해물질은 유출파이프라인(18)을 통해 회수탱크(19)로 유입되도록한후 모터펌프(19a)에 의해 처리장으로 배출되도록 구성한다.
상기 선처리장치부(100)와 병행설치되는 후처리장치부(200)는 제1도의 "나"에 도시된 바와같이, 유독개스 이송파이프라인 G(17)가 연결되는 다수의 분배파이프(22) 배출구(22a)측이 내측에 위치되는 상태로서 설치되는 소정크기의 1차 중화처리탱크(21), 상기한 다수의 1차 중화처리탱크(21)사이에 위치되면서 유출파이프(23)을 통해 1차 중화처리탱크(21)와 연통되는 상태로 설치되는 2차 중화처리탱크(24), 상기 2차 중화처리탱크(24)의 수직하방에 위치되면서 다수의 연결파이프(25)를 통해 2차 중화처리탱크(24)와 연통되는 상태로 설치되는 1차기수분리탱크(26), 상기 1차기수분리탱크(26)의 내부중앙에 끝단의 유입구(27a)가 위치됨과 동시에 내측 중앙부에는 적정길이를 갖는 소직경의 와싱바(WASHING BAR)(27b)가 무수히 세워설치된 개스 와싱처리부(27), 상기 개스와싱처리부(27) 하단의 배출기(27c)와 연통되는 상태로 설치되는 2차 기수분리탱크(28), 다수의 연결파이프(29)를 통해 상기 2차기수분리탱크(28)와 연통되는 상태로 설치되는 집수탱크(20), 상기 2차 중화처리탱크(24)의 직상방에 위치되면서 다수의 연결파이프(30)를 통해 2차기수분리탱크(26)와 연통되는 상태로 설치되어 최종 공정처리기능을 수행하게되는 2차 중화처리탱크(31)를 상호연통상태로 조합설치하여 구성한다.
한편, 외측에 위치되는 1차 중화처리탱크(21)와 그 중심부에 위치하는 2차 중화처리탱크(24)를 상호 연결하면서 개스상승로(32)로 제공하게되는 유출파이프(23)의 유출구(23a) 내측 적정부위에는 고정대(35')를 통해 약품 분사구(35)를 설치하고 별개설치되는 화학약품저장탱크(33)와 상기 약품분사구(35)사이에 약품이송 파이프라인(34)을 연결설치함과 동시에 2차 중화처리탱크(24) 하방의 배출구(24a)와 약품저장탱크(33)사이에 회수파이프라인(34a)을 병행설치하여 모터펌프(37)에 의한 약품의 분사 및 회수공정과정이 반복수행되도록 한다.
상기한 집수탱크(20)의 유출구(20a)와 1차 중화처리탱크(21)의 냉각수 유입구(21a) 사이를 연결하는 E파이프라인(16) 상에는 복수개의 휠타(40, 41)와 모터펌프(42)를 연결설치하여 휠타(40, 41)를 통해 유해물질 걸름효과가 수반되는 상태로서 냉각수가 반복순환되도록 하는 한편, 상기 휠타(41)와 모터펌프(42)사이에는 체크밸브(43) 및 소형모터펌프(44)를 각각 연결설치하여 세정장치의 운전정지 상태가 지속됨에 따라 동절기에서의 동파가 우려되는 경우 소용량의 모터펌프(44)를 가동시켜주면서 냉각수가 순환되도록 함으로서 동파 방지효과를 얻도록한다.
상기한 1차 중화처리탱크(21)와 와싱처리부(27) 상측의 냉각수 유통구(21b, 27d) 사이에는 순환파이프라인 H(45)를 연겨설치하여 와싱부(27)내로 냉각수가 공급되도록 하고, 상기 2차기수분리탱크(28)와 그 하방의 집수탱크(20) 사이 및 와싱처리부(27)와 1차기수분리탱크(26) 사이에는 유해물질 추출부(46, 47)를 마련함과 동시에 상기 1차 중화처리탱크(21) 하부측에 추출구(21c)를 형성하여 각각의 추출부(46, 47) 및 추출구(21c)와 전술된 회수탱크(19) 사이에 유해물질 추출파이프라인(K1, K2, K3)을 각각 연결설치 함으로서, 각 공정처리과정에서 추출되는 유해물질 유출수단을 이루도록 한다.
상기한 집수탱크(20)와 1차 중화처리탱크(21) 사이를 연결하는 냉각수 순환용 E파이프라인(16)중 보조냉각기(8)측으로 연결되는 부위에는 온도감지센서(48)와 솔레노이드밸브(49)를 상호 연관 작동되도록 연결 설치함으로서, 집수탱크(20)로 부터 유출된 후 E파이프라인(16)을 통해 1차 중화처리탱크(21) 측으로 재 유입되게되는 냉각수의 온도가 비정상적으로 높을 경우(약 20℃ 이상일 경우)에는 이를 감지한 온도감지센서(48)에 의해 솔레노이드 밸브(49)가 작동되면서 보조 냉각기(8)측으로 유입되도록 한다.
최상부측에 위치되는 3차 중화처리탱크(31)에는 탱크 외측 상, 하부에 위치되는 약품투입구(50)와 배출구(51) 사이에 J파이프라인(52)을 연결설치함과 동시에 탱크 내측 중앙부에는 상기 약품투입구(50)와 연통되는 상태로 분사구(53)를 연결설치하고 외측의 파이프라인 상에는 모터펌프(54)를 연결설치함으로서 약품이 함유된 중화처리제 순환작용이 반복되도록 하여 각각의 구성체 및 그에 관련되는 각각의 파이프라인을 연결구성한다.
상술한 바와같은 각각의 파이프라인 통해 냉각수와 중화처리제의 순환작용 및 유해물질의 순차적 추출작용이 선별적으로 이루어지도록된 후처리장치에 있어서, 유독개스 이송파이프라인 G(17)와 연결되는 분배파이프(22)를 통해 개스가 최초로 유입되게되는 1차 중화처리탱크(21)는 제1도의 "나" 및 제2도에 도시된 바와같이, 상측으로 내입설치되는 분배파이프(22)의 배출구(22a)와, 하측에서 내입설치되는 유출파이프(23)의 유입구(23b) 사이에 격판(21d, 21e)을 횡설하여 그 사이에 소정공간의 개스유압실(21f)이 마련되도록 하고, 상부측에 위치되는 격판(21d) 상에는 다수의 냉각수 분사노즐(21g)을 관통설치하여 상측의 냉각수 유통구(21a)를 통해 유입되는 냉각수를 분사 낙하시켜 주도록 하되, 분사노즐(21g) 하단의 유출구측이 개스유압실(21f) 하부에 위치되도록함과 동시에 분사노즐(21g) 하방에는 형의 유통로(21h')를 가지면서 살포기능을 수행하도록된 디프셔(diffuser)(21h)를 근접 설치하여 냉각수와 함께 혼입되는 개스의 수용성 유해물질 액화 작용이 유발되도록 하는 한편, 상기 디프셔(21h) 수직하방에는 반구형의 무화면(21')이 요입 형성된 무화구(21i)를 세워설치하여 개스혼합상태로 낙하하는 냉각수가 무화면(21i)에 부딪치면서 사방으로 비산분무된후 탱크(21)로 낙하하도록 구성함으로서, 개스에 포함된 수용성 유해물질이 냉각수에 액화된 상태로 탱크(21) 저부에는 낙하되도록한후 유해물질은 추출구(21c) 및 추출파이프라인(K3)을 통해 회수탱크(19)로 유입되도록 하고, 대부분의 유해물질이 제거된 정화 상태의 개스는 중앙부에 위치되는 유출파이프(23)의 유입구(23b)를 통해 자기공정과정을 수행하게되는 2차 중화처리탱크(24) 측으로 유입되도록한다.
이때 최하방의 집수실(21j)로 유입되는 냉각수에 함유하게되는 유해물질은 자체 비중이 물보다 낮아(약 0.9정도) 냉각수의 상층부에 떠있게 됨에 따라 회수탱크(19)로의 추출이 가능하게 된다. 유입구(23b)측이 상기 1차 중화처리탱크(21)에 내입설치된 유출파이프(23)의 유출구(23a)가 하부측으로 연결설치되면서 1차 중화처리탱크(21)에서의 처리공정과정을 거친 정화개스가 유입되도록된 2차 중화처리탱크(24)는 제1도 "나" 및 제3도에 도시된 바와같이, 하방의 1차기수분리탱크(26)로 연통되는 상태의 연결파이프(25) 상부측에 위치되는 탱크(26) 내주면 부위에 와선상의 유통로(24b')를 갖는 다수의 에젝터(ejector)(24b)를 적층설치함과 동시에 그 수직상부에 위치되는 탱크(24) 상면에는 분출구(24c')가 내측의 에젝터(24b) 상부에 위치되는 상태로서 냉각수 분사노즐(24c)을 설치하여 구성함으로서, 저면중앙에 위치되는 유출파이프(23)의 유출구(23a)를 통해 유입되는 개스가 분사되는 냉각수와 함께 에젝터(24b)의 유통로(24b')로 혼입되도록 하면서 와류작용으로 잘 혼합된후 연결파이프(25)를 통해 2차기수분리탱크(26) 측으로 유입되도록 하는 한편, 2차 중화처리탱크(24)의 내측상부 적정부위에는 분리격판(24e)을 횡설하고 그 중앙에는 중공의 배출구(24f)를 형성하여 내측에 유출공(24g)이 마련되도록 하며, 상기 유통공(24g)의 저부측에는 2개의 지지간(24h)을 통해 막음판(24i)을 고정설치하되, 상기 막음판(24i)은 유출파이프(23)의 유출구(23a) 수직상방에 위치되도록 하여 유출파이프(23)를 통해 상승 유입되는 개스가 분사구(35)를 통해 분사되는 캐미칼등의 중화처리제와 혼합되면서 중화처리된 상태로 상승하면서 막음판(24i)에 부딪쳐 하방으로 선회한후, 배출구(24f)의 유출공(24g)을 통해 상승유입되도록 하고, 그 과정에서 개스에 잔류하는 중화처리제 및 유해물질이 액화상태로 분리되게되는 효과가 수반되도록 하며, 이러한 상태로 상승 유입되는 개스가 냉각수와 함께 에젝터(24b)를 통과하게 되면서 그때까지 개스에 잔재하고 있던 유해물질의 대부분을 중화처리하도록 하고, 이때 탱크(24)내에 잔여하게되는 중화처리제는 배출구(24a)와 약품 이송파이프라인(34a)을 통해 약품저장탱크(33)로 회수된후 약품분사구(35)를 통해 재분사되는 과정이 반복되게되는 한편, 사용되는 중화처리제로서는 정화대상 개스의 특성에 알맞는 산성제나 알칼리제 또는 중성제를 선택적으로 사용토록하고, 이때 각각의 탱크(21, 24)내에 조성되는 압력은 흡출식 브로우어(6)를 통해 그 조절이 가능하게 되는바, 정화대상의 개스 특성에 따라 대기압보다 높은 +상태 또는 대기압보다 낮은 -상태로 선택조절할 수 있다.
상면에 연결파이프(25)가 연결설치되어 상기 2차 중화처리탱크(24)에서의 처리과정을 가지면서 개스가 혼합응축된 상태의 냉각수가 낙하유입되도록 하고, 내측중앙부에는 개스 와싱처리부(27) 상단의 유입구(27a)가 내입설치되어 있는 1차기수분리탱크(26)는, 제4도에 도시된 바와같이, 상기 연결파이프(25)의 유출구(25a) 수직하방에 반구형의 무화면(26a)이 요입형성된 무화구(26b)를 고착설치하여 상당치의 압력으로 낙하하는 냉각수가 부딪치면서 무화상태로 비산되도록 하고, 탱크(26) 내측 상면부와 저면부에는 제5도 및 제6도에 도시된 바와 같이, 상기 개스와싱처리부(27) 상단의 유입구(27a)외경과 소정간격이 유지되는 상태로서 테프론이나 스테인레스 또는 나일론재등으로 이루어진 3개의 대.중.소 주름관(26c, 26c', 26c'')을 세워 설치하되, 각각의 주름관(26c, 26c', 26c'')은 상호 적정 간격을 유지토록함과 동시에 중앙부에 위치되는 주름관(26c')은 탱크(26) 저면에, 그 내, 외측에 위치되는 주름관(26c'', 26)은 탱크(26) 상면에 각각 고작 설치하면서 소정간격이 유지되도록 하여, 개스가 혼합된 상태의 냉각수가 무화구(26b)를 통해 미세한 물방울 형태로 무화되면서 상기 주름관(26c) 외벽에 부딪친후 개스에 잔재하던 대부분의 수용성 유해물질이 물에 섞여 탱크저부로 낙하되도록 하고, 정화개스는 최외측의 주름관(26c)과 중앙부의 주름관(26c') 사이의 간극으로 상승된후 상층부에서 주름관(26b')과 주름관(26c'') 사이로 재차하강한 다음 주름관(26c'') 내측으로 재 상승하면서 중앙에 위치되는 유입구(27a)를 통해 개스 와싱처리부(27)로 유입되도록 함으로서, 정화개스의 순차적인 상, 하 순환 이송과정에서 각각의 주름관(26c, 26c', 26c'') 내, 외벽 부위에서의 수분 결로현상이 유발되도록 하여 개스에 포함된 잔여 수분이 효과적으로 제거되도록 하고 탱크(26) 저부에 설치되는 주름관(26c') 저부에는 다수의 통공(26''')을 관통 형성하여 냉각수가 유통되도록 구성한다.
이때 유해물질이 액화된 상태로 탱크(26)내에 잔재하게되는 냉각수는 배출구(26d)를 통해 배출 시켜주도록하거나 회수탱크(19)로 유입시켜 주도록 한다. 상기 과정을 거치면서 대부분의 유해물질이 제거된 상태로 유입 되게되는 정화상태의 개스를 와싱방법으로 세정하게되는 개스와싱처리부(27)는 제9도에 도시된 바와 같이 소직경으로 이루어지는 다수의 와싱바(27b)를 대구경 파이프내에 무수히 세워설치하여 구성하되, 파이프 중앙부내측에는 2장의 반달형 격판(27d)을 대향상태로 횡설고착하여 그 중앙부에 유통로(27e)가 마련되도록 함과 동시에 각각의 격판(27d) 상, 하부측에는 파이프 내경보다 다소 작은 지름을 갖는 원형 격판(27f)을 각각 설치하여 파이프 내주연측으로 유통로(27g)가 마련되도록 하여 낙하이송되는 개스가 파이프내주연 측으로 부터 중앙부측으로 굴곡선회한후 재차 파이프 내주연측을 통해 낙하 이송되도록 하고, 이때 파이프의 길이 및 와싱바(27b)의 길이는 필요에 따라 적절한 길이로 조절설정 해주도록함과 동시에 냉각수 유통구(27d)를 통해 냉각수를 분사해 줌으로서, 개스가 하단의 배출구(27c) 측으로 낙하 이송되는 과정에서 개스에 잔여하는 유해물질이 물방울에 액화되는 상태로 와싱바(27b) 표면에 묻은 후 흘러 낙하되도록 하면서 고도의 세정효과를 얻도록하고, 이때 개스와싱처리부(27)의 상방에 위치되는 추출부(47)에서는 미량의 D.O.P 동기체상태의 유해물질을 추출하여 회수탱크(19)로 유입되도록 하게된다.
상기 과정을 거친 정화개스가 유입된후 연결파이프(30)를 통해 2차 정화처리탱크(31) 측으로 상승유입되도록 하게되는 2차기수분리탱크(28)는, 상기 와싱처리부(27)의 배출구(27c) 수직하방에 위치되는 상태로 소정크기의 무화판(28a)을 설치함으로서, 개스와싱처리부(27)를 통해 잔여 유해물질이 액화된 상태로 낙하하는 냉각수가 부딪쳐 비산되면서 미세한 물방울 형태로 무화 되도록 하여 기수분리 효과를 얻도록 구성하는 한편, 상기 2차기수분리탱크(28)로 낙하유입된 냉각수가 다수의 연결파이프(29)를 통해 재차 낙하유입되도록된 집수탱크(20)의 상부중앙에 마련되는 소정 넓이의 추출부(46) 및 K1파이프라인을 통해 기체상태인 D.O.P등의 유해물질을 추출하여 회수탱크(19)로 유입시켜주도록 한다.
상기 2차기수분리탱크(28)로 부터 다수의 연결파이프(30)를 통해 정화개스가 상승유입되도록된 3차 중화처리탱크(31)는, 상방의 외틀(31a) 내측에 삿갓형태의 집수판(31b)을 설치하고, 그 하방에는 돈모층(31c)을 설치함과 동시에 그 하방에 위치되는 약품분사구(53)로 부터 내벽체측으로 하향경사지는 상태의 와싱바(31d)를 다수 설치하여 구성함으로서, 연결파이프(30)를 통해 유입되는 개스가 약품분사구(53)로 부터 분사되는 중화처리제와 혼합되면서 탱크(31)내의 와싱바(31d) 표면에 접촉되는 과정에서 잔여 유해물질이 액화상태로 탱크저부에 낙하되도록 하고, 순수정화개스는 상부측으로 상승하면서 돈모층(31c)을 거쳐 집수판(31b)에 부딪친후, 외틀(31a)과 집수판(31b) 사이를 통해 대기중으로 방출되도록 하는 과정에서 잔류수분 및 유해물질이 완전히 제거되도록 구성한다.
미설명부호 55는 전술의 소형 모터펌프(44)와 동일기능을 갖는 동파 방지용 모우터를 나타낸 것이다.
이상에서 상술한 바와같은 본 발명의 장치를 통해 유해물질이 포함된 개스를 점화시키는 공정과정을 제7도에 의거하여 각 공정별로 상세히 설명하면 다음과 같다.
제1공정
이 공정 과정은 식품이나, 피혁류, 플라스틱류등 각종 물품제조공정 과정에서 생성되게되는 오염개스 및 유독개스를 유출시켜 통상구조를 갖는 싸이클론(1)으로 유입통과시켜주면서 유독개스에 포함된 분진이나 소량의 D.O.P등의 유해 물질의 1차적으로 분리하는 최초 공정 과정이다.
이 공정 과정에서는 오염 및 유독개스에 포함된 유해물질의 약 5% 정도를 선제거시키는 효과를 얻게 되며, 이때 사용되는 싸이클론(1)은 개스의 배출용량에 따라 단수나 복수 또는 그 이상의 대수로 설치하여 사용하도록 하고, 이 과정에서 추출된 유해물질은 추출파이프라인(18)을 통해 회수탱크(19)로 회수되도록한 후 처리장으로 이송처리하도록 한다.
제2공정
상기 제1공정 과정을 거치면서 소정량의 유해물질이 1차 제거된 상태로 이송되는 오염개스 및 유독개스를 단수 또는 복수개의 수냉식 간접열교환기(3)로 유입 순환 시키면서 고온의 자체보유온도(통상적으로 약 350℃-600℃정도를 보유하게됨)를 1차적으로 저하시켜줌과 동시에 체적 감소효과가 동반되도록 하는 공정 과정이다.
이때의 공정 과정에서는 제8도에 도시된 바와같이 통상적 구조를 갖는 수냉식 간접열교환기(2, 3)의 열교환실(2a, 3a) 상부측으로 부터 개스가 유입된후 하방의 유출구(2b, 3b)측으로 서서히 하강하면서 유출되도록 하는 과정에서 냉각수가 순환되고 있는 상태의 열교환파이프군(2c, 3c) 외경에 접촉되어 보유온도의 급속저하 작용이 실현 되게되며, 열교환작용에 따른 보유온도의 급속저하 현상에 의해 파이프군 표면에서이 응축 현상이 필연적으로 수반되게됨에 따라 이때의 응축수에 유류분, 분진 및 D.O.P등의 각종 유해물질이 액화상태로 잔류하게 되는 부수효과를 얻게되고 상기와 같은 응축현상을 통해 추출된 유해물질은 추출파이프라인(18)을 통해 회수탱크(19)로 유입시켜주도록 한다. 한편, 상기 공정과정에 사용되는 수냉식 간접열교환기(2, 3)는 필요에 따라 복수 또는 다수개를 선택적으로 연결설치하면서 개스의 상. 하 순환 이송작용이 순차적으로 반복되도록 하여 소기의 목적이 달성되도록 한다.
제3공정
상기 공정 과정으로 자체보유온도가 급저하됨과 동시에 소정량의 유해물질이 제거된 상태의 개스를 직접 열교환식 냉각기(4)로 유입통과시키면서 자체보유온도를 약 60℃이하로 급저하시켜줌과 동시에 개스에 포함된 수용성 유해물질이 분사되는 냉각수에 액화되도록 하면서 약 30%정도의 제거효과를 얻도록 하는 공정과정이다.
이러한 공정 과정에서는 직접 열교환식 냉각기(4)의 상부로 부터 냉각수가 분사되도록 하면서 그 사이로 개스가 상승한후 냉각기(4) 외부로 유출되도록 함으로서, 개스의 자체보유온도 급저하 효과를 기대할 수 있게됨은 물론 개스에 포함된 일부 유해물질이 냉각수에 액화되어 제거되게 되는 부수효과를 얻게된다.
제4공정
상기 공정과정의 순차적인 진행으로 자체보유온도가 약 60℃이하로 급저하되고 함우된 유해물질중 약 30%정도가 제거된 상태로 이송되는 개스를 통상구조의 기수분리기(5)로 유입통과시키면서 개스에 함유된 수분을 제거한후 다음 공정으로 이송시켜주는 공정과정이다.
한편, 상기와 같은 각각의 공정과정이 순차적으로 진행되도록 함에 있어서는 유독개스 이송파이프라인 G(17)를 통해 각각의 공정과정으로 이송되는 개스의 이송 작용이 흡출식 브로우어(6)의 흡입력을 통해 이루어지도록하고, 흡출식 브로우어(6)의 흡입력을 통해 상기 공정과정을 순차적으로 거치면서 송풍기(6)를 통과한 개스는 그 직후부터 브로우어(6)의 송풍압력에 의해 다음 공정으로 이송되도록 한다.
제5공정
상기 공정과정을 순차적으로 거치면서 자체보유온도가 60℃ 이하로 급저하되고, 약 30%정도의 유해물질이 제거된 상태로서 이송되는 정화개스를 1차 중화처리탱크(21)로 통과시키되, 상기 1차 중화처리탱크(21)내의 상부로부터 순차적으로 세워 설치되는 냉각수분사노즐(21g)과 디프셔(21h) 및 무화구(21i)를 순차적으로 거치는 과정에서 정화개스가 냉각수에 혼합된후 무화구(21i)를 통해 비산분무되도록 하면서 대부분의 수용성 유해물질이 냉각수에 액화되도록 하고, 정화개스는 유출파이프(23)를 통해 2차 중화처리탱크(24)로 이송 유입되도록 하면서 개스에 포함된 유해물질의 약 98%정도를 제거하는 효과를 얻도록 한 공정과정이다.
상기 공정과정에서는 E 순환파이프라인(16)을 통해 1차 중화처리탱크(21) 상부측으로 부터 냉각수가 공급되도록 하고 처리과정을 거친 냉각수는 H 파이프라인(45)을 통해 후술된 개스와싱처리부(27)로 이송유입되도록 하는 한편, 냉각수에 용해된 상태로 상층부에 떠 있게 되는 유해물질은 추출구(21c) 및 K3파이프라인을 통해 회수탱크(19)로 유입되도록 한다.
제6공정
상기 제5공정과정을 통해 대부분의 수용성 유해물질이 제거된 상태의 개스가 유출파이프(23)를 통해 2차 중화처리탱크(24)의 저부로부터 상승유입되면서 상기 2차 중화처리탱크(24) 내주연부의 상승부로 부터 연결 설치되는 냉각수분사노즐(24c)과 에젝터(24b)를 순차적으로 거치도록 하는 과정에서 냉각수와 개스가 잘 혼합되도록 한후 연결파이프(25)를 통해 다음 처리과정을 수행하게 되는 1차 기수분리탱크(26)로 낙하유입되도록 하되, 유출파이프(23)의 유출구(23a)측에 설치되는 약품분사구(35)를 통해 분사되는 소정의 중화처리제가 개스와선 혼합된 상태로 냉각수분사노즐(24c) 및 에젝터(24b)를 순차적으로 거치면서 혼합되도록 하여 개스에 함유된 잔여 유해물질을 약 99%이상 제거하는 효과를 얻도록 한 공정과정이다.
이 공정과정에서 사용되는 중화처리제는 정화대상의 개스 특성에 따라 산성액, 알칼리액, 중성액 등으로 구분되는 아니코액 또는 캐미칼(일반 명칭임) 중에서 선택적으로 사용토록 하고, 이때 분사노즐(24c)을 통해 분사되는 냉각수 분사압력을 약 10㎏/㎠g 이내로 설정해줌과 동시에 그 공정소요시간을 약 3초 이내로 설정하는 것이 바람직하다.
한편 탱크(24)에 잔류하게 되는 중화처리제는 추출구(24a) 및 회수파이프라인(34a)을 통해 별도의 약품 저장탱크(33)로 회수된후 이송파이프라인(34)을 통해 재분사되는 순환과정이 반복되도록 하면서 중화처리제의 소비량 최소화 효과를 얻을 수 있도록 한다.
제7공정
상기 제6공정과정을 거치면서 개스가 혼합된 상태로서 소정길이의 연결파이프(25)를 통해 낙하하는 냉각수를 1차 기수분리탱크(26)로 유입시키면서 정화개스만을 분리하여 다음 공정을 수행하는 개스와싱처리부(27)로 유입되도록 하는 공정과정인바, 상기 연결파이프(25)의 수직하방에 위치되는 무화구(26b)에 낙하유입되는 냉각수가 부딪쳐 비산되면서 미세한 물방울 형태로 분무되도록 함으로서, 개스 분리효과를 얻도록 하는 한편, 탱크(26)내에는 3개의 대, 중, 소 주름관(26c, 26c', 26c'')을 겹 설치하면서 그 사이로 개스 이송통로가 마련되도록 하여, 분리된 개스가 이송통로를 순차적으로 통과한후, 중앙의 유입구(27a)를 통해 다음 공정인 개스와싱처리부(27)로 유입되도록 함으로서, 개스에 잔재하던 유해물질은 주름관(26c) 외벽에 부딪쳐 낙하하게 되는 물방울에 액화된 상태로 탱크(26) 저부에 낙하된후 배출구(26d)를 통해 배출되도록 하고, 정화개스는 상기 주름관(26c, 26c', 26c'')사이를 순차적으로 통과하여 유입구(27a)로 유입되는 과정에서 개스에 잔여하는 대부분의 수분이 결로현상을 통해 제거되도록 하는 공정과정이다.
제8공정
상기 제7공정과정을 거쳐 유입되는 정화개스가 미소직경의 와싱바(27b)군이 무수히 세워설치된 개스와싱처리부(27)로 유입통과되도록 함과 동시에 와싱바(27b)의 상부측으로 부터 냉각수를 분사유입시켜줌으로서, 개스에 잔여하는 유해물질이 와싱바(27b) 외경에 묻게되는 물방울에 액화되도록 하면서 소정의 유해물질 제거 효과를 얻도록 하는 공정과정이다.
이때 개스 혼합과정에서 기체상태로 발생되는 D.O.P 등의 일부 유해물질은 와싱처리부(27) 상부측에서 추출시키면서 회수탱크(19)로 유입시켜 주도록 하고, 와싱바(27b)의 자체 길이는 필요에 따라 적절한 길이로 선택설정토록 한다.
제10공정
상기 제8공정과정을 통해 개스가 혼합된 상태로 낙하유입되는 냉각수가 내측중앙의 부화판(28a)에 부딪쳐 비산 분무되도록 하면서 개스가 분리되도록 한후, 연결파이프(30)를 통해 3차 중화처리탱크(31)로 상승유입되도록 하는 공정과정이다.
이때 무화판(28a)에 부딪친후 하방으로 낙하하는 냉각수는 연결파이프(29)를 통해 하방의 집수탱크(20)로 낙하유입되도록 한후, 순환파이프라인을 통해 반복 순환되도록 하는 한편, 자체비중이 낮아 집수탱크(20)에 낙하 유입되는 냉각수의 상층부에 떠있게 되는 유해물질은 추출부(46) 및 K1파이프라인을 통해 회수탱크(19)로 추출토록 한다.
제9공정
상기 제9공정과정을 통해 정화 상태로 상승유입되는 개스를 3차 중화처리탱크(31)내에서 최종적으로 완전히 중화시킨후 대기중으로 방출되도록 하는 최종 공정과정인바. 3차 중화처리탱크(31)내로 상승유입되는 개스가 약품분사구(53)를 통해 분사되는 중화제와 혼합된 상태로 와싱바(31d) 사이를 통과하여 상승하는 과정에서 잔류유해물질이 와싱바(31d) 표면에서의 결로현상에 의해 완전히 제거되도록 하는 한편, 상기 과정으로 중화처리된 개스가 계속 상승하면서 상측의 돈모층(31C)을 거쳐 삿갓형태의 집수판(31b)에 1차적으로 부딪친후 외측의 유통로를 통해 대기중으로 방출되도록 하는 과정에서 개스에 잔여하는 수분까지 완전히 제거처리토록 하는 공정과정이다.
이때 사용되는 중화처리제는 별도의 순환파이프라인(52)을 통해 반복적으로 분사시켜주면서 소비량 최소화 효과를 얻도록 한다.
이상에서 상술한 바와 같은 본 발명은 각종 물품제조공정 과정에서 배출되는 유독개스를 거의 완벽한 상태로 정화처리한후 대기중으로 방출시켜줌으로서 환경공해요인을 제거토록 한것인바. 최소의 전용 점유면적에 최소의 설치비용으로 구축설치할 수 있도록 하여 소규모의 중소기업체에서도 부담없이 설치가동할 수 있도록 하였고, 그 구조의 단순화로 고정의 요소를 최소화하여 유지보수가 용이토록 함은 물론 가동비용을 최소화하면서 결제성 향상 효과를 기대할 수 있도록 하였으며, 개스에 함유된 유독물질이 거의 완전하게 제거되도록 하면서 정화 효율의 극대화 효과를 얻을 수 있도록 하는 한편, 정화처리대상의 개스량이나 그 특성에 알맞는 적절한 규모로 장치자체를 손쉽게 가변 설치하면서 개스정화 작업을 가장 효과적으로 실행할 수 있도록 하게 되는 등 여러 가지의 장점을 얻도록 한 우수한 발명인 것이다.

Claims (14)

  1. 싸이클론(1)의 일방에 2 패스타입의 수냉식 간접 열교환기(2)(3), 냉각기(4), 기수분리기(5) 및 흡출식 브로우어(6)를 설치하여 이들을 오염, 유독개스 이송 파이프라인 G(17)으로 연결 설치하고, 상기 싸이클론(1)의 일방에는 수냉식 간접 열교환식(2)(3)와 A 파이프라인(12), B 파이프라인(13)으로 연결되는 냉각탑(7)을 설치하며, 상기 수냉식 간접 열교환기에는 보조냉각기(8)와, 모터펌프(19a)가 연결되는 회수탱크(19)를 각각 연결하고, 상기 가수분리기(5)와 보조냉각기(8) 사이에는 C 파이프라인(14)을, 보조냉각기(8)와 후술되는 집수탱크(20)는 D 파이프라인(15)을 각각 연결 설치하며, 상기 보조냉각기(8)와, 냉각탑(7) 사이에는 모터펌프(11)가 설치되는 파이프라인을 연결시키고, 상기 보조냉각기(8)와 냉각기(4)에는 D, E 파이프라인(15)(16)과 F 파이프라인(16a)의 일단을 각각 연결시켜 선처리 장치부(100)를 구성하며, 이 선처리 장치부(100) 일방에는 후처리장치부(200)를 설치하되, 이는 1차 중화처리탱크(21) 중앙에 2차 중화처리탱크(24)를 설치하고, 이에 개스상승로(32)를 제공하는 유출파이프(23)를 연결시키며, 이의 하방에 상기 2차 중화처리탱크(24)와 연결파이프(25)로 내통되는 1차 기수분리탱크(26)를 설치하되, 이의 하방에 유입구(27a)를 가지며 소직경의 와싱바(27b)가 무수히 설치된 개스와싱처리부(27)를 설치하며, 이의 배출구(27c)에는 2차 기수분리탱크(28)와 집수탱크(20)를 설치하고, 상기 2차 중화처리탱크(24)의 상부에 3차 중화처리탱크(31)를 설치하되, 다수의 연결파이프(30)로 상기 2차 기수분리탱크(28)와, 연결시키며, 상기 유출파이프(23)의 유출구(23a)에는 약품분사구(35)를 설치하여 이에 약품저장탱크(33)를 약품이송파이프라인(34)으로 연결하고, 상기 약품저장탱크(33)와 2차 중화처리탱크(24)의 배출구(24a)에 연결되는 회수파이프 라인(34a)에는 모터 펌프(37)를 설치하며, 상기 집수탱크(20)와 1차 중화처리탱크(21)를 연결하는 E 파이프라인(16)에는 복수개의 휠타(40)(41)와 모터펌프(42), 체크밸브(43), 소형모터펌프(44)를 연결설치하고, 상기 1차 중화처리탱크(21)와 개스 와싱처리부(27) 상측의 냉각수 유통구(21b)(27d) 사이에는 순환파이프라인 H(45)를 연결 설치시키며, 상기 2차 기수분리탱크(28)와 집수탱크(20) 사이, 개스와싱처리부(27)와, 1차 기수분리크(26)사이에는 각각 유해물질 추출부(46)(47)를 설치하고, 상기 1차 중화처리탱크(21)의 추출구(21c)와, 유해물질 추출부(46)(47), 추출구(21c)와 회수탱크(19) 사이에는 추출파이프라인(K1, K2, K3)을 각각 연결설치하며, 상기 E 파이프라인(16)의 보조냉각기(8) 축으로 연결되는 부위에는 온도감지센서(48), 솔레노이드밸브(49)를 설치하고, 분사구(53)를 중앙에 설치한 3차 중화처리탱크(31)의 상, 하부 약품 투입구(50)와 배출구(51) 사이에는 모터펌프(54)가 설치되는 J 파이프라인(52)을 연결 설치하여 유독 및 오염개스를 정화시키도록 구성하여서 됨을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 개스 이송용 G 파이프라인(17)에 연결되는 분배파이프(22)를 통해 개스가 최초로 유입되게 되는 1차 중화처리탱크(21)는, 상측으로 내입 설치되는 분배파이프(22)의 배출구(22a)와 하측으로 내입 설치되는 유출파이프(23)의 유입구(23b) 사이에 결판(21d)(21e)을 횡설하여 그 사이에 개스유입실(21f)을 형성하고, 상측의 결판(21d)에는 다수의 냉각수 분사노즐(21g)을 관통 설치하며 이의 유출구 직하방에는 형의 유통로(21h')를 갖는 디프셔(21h)를 근접 설치하고, 상기 디프셔(21h) 수직하방에는 반구형의 무화면(21i')이 요입 형성된 무화구(21i)를 부착설치하여 디프셔(21h)를 거쳐 낙하하는 냉각수가 부딪치면서 비산 분무되도록 함으로서 개스분리효과를 얻을 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 유출파이프(23)의 유출구(23a)가 하부측으로 연결되면서 1차 중화처리탱크(21)를 거친 개스가 유입되도록 된 2차 중화처리탱크(24)는, 하방의 1차 기수분리탱크(26)와 연통되는 연결파이프(25)의 직상방에 위치되는 탱크(26) 내주연부 위에 와선상의 유통로(24b')를 갖는 다수의 에젝터(24b)를 적층설치하고, 그 직상방의 탱크상면에는 분출구(24c')가 에젝터(24b) 상부에 위치되는 상태로서 냉각수 분사 노즐(24c)를 설치하며, 유입되는 개스가 분사냉각수와 함께 에젝터(24a)의 유통로(24b')로 유입되어 와류작용에 의해 혼합되도록 하고, 2차 중화처리탱크(24)의 내측 상부에는 분리격판(24e)를 횡설하며, 그 중앙에는 배출구(24f)를 형성하여 그 내측으로 유출공(24g)이 형성되도록 하고, 상기 유출공(24g)의 저부측에는 지지간(24h)을 통해 막음판(24i)을 고정설치하여서 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  4. 제1항에 있어서, 연결파이프(25)를 통해 2차 중화처리탱크(24)를 거친 개스가 냉각수에 혼합된 상태로 낙화유입되게 되는 1차 기수분리탱크(26)는, 연결파이프(25)의 유출구(25a) 직하방에 반구형의 무화면(26a)이 요입형성된 무화구(26b)를 고착설치하고 상기 탱크(26) 내측 중앙부에는 주름관을 설치하며, 분리된 개스는 주름관을 통과한후 유입구(27a)를 통해 개스와싱처리부(27)로 하향 유입되도록 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  5. 제1항 및 제4항에 있어서, 1차 기수분리탱크(26) 내측에 설치되는 주름관은 레프론이나 스테인레스 또는 나일론재로 선택 성형되는 3개의 대, 중, 소 주름관(26c, 26c', 26c'')으로 조합 구성하여 그 사이에 소정 간격이 형성되도록 하되, 최내측에 위치되는 주름관(26'')은 개스와싱처리부(27) 상단의 유입구(27a)를 감싸는 상태로 유지되도록 하고, 가운데 위치되는 주름관(26c')은 냉크(26) 저면에, 그 내, 외측에 위치되는 주름관(26c'', 26c)은 탱크(26) 상면에 각각 부착 설치하여 각각의 주름관(26c, 26c', 26c'') 사이에 상, 하 방향으로의 지그재그형 개스 이송로가 형성되도록 하며, 분리되는 개스의 이송과정에서 주름관(26c, 26c', 26c'')에서의 수분결로현상이 유발되게 하고, 주름관(26c')의 하부에 냉각수 유통용 통공(26c'')을 다수 관통 형성하여 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  6. 제1항에 있어서, 개스와싱처리부(27)는 파이프의 중앙부 내측에 2장의 반달형 격판(27d)을 대향상태로 횡설하여 그 사이에 유통로(27e)가 형성되게 하고, 각각의 격판(27d) 상, 하부측에는 파이프 내경보다 다소 작은 지름의 원형 격판(27f)를 각각 설치하여 파이프 내경보다 다소 작은 지름의 원형 격판(27f)를 각각 설치하여 파이프 내주연측으로 유통로(27g)가 형성되게 하며, 유통로(27e, 27g)가 시행형태를 이루도록 하고, 상부의 냉각수 유통구(27d)를 통해 냉각수를 분사토록 하여 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  7. 제1항에 있어서, 2차 기수분리탱크(28)는, 전기한 개스와싱처리부(27)의 배출구(27c) 수직하방에 위치하는 상태로서 무화판(28a)을 내설하여 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  8. 제1항에 있어서, 다수의 연결파이프(30)를 통해 2차 기수분리탱크(28)로 부터 정화개스가 상승 유입되도록 된 3차 중화처리탱크(31)는, 상방의 외틀(31a) 내측에 삿갓형태의 집수판(31b)를 설치하고, 그 하방에는 돈모층(31c)을 설치하며, 그 하방에 위치되는 약품분사구(53)로 부터 내벽체측으로 하향 경사지게 다수의 와싱바(31d)를 설치하여 구성된 것을 특징으로 하는 멀티 에젝터형 오염개스 및 유독개스 세정장치.
  9. 식품류, 피혁류, 플라스틱류 등 각종 물품제좌좌정에서 생성되게 되는 오염개스 및 유독개스를 유출시켜 소정구조의 싸이클론(1)으로 유입 통과시키면서 개스에 포함된 오염물질 및 소량의 D.O.P 등의 유해 물질을 1차적으로 약 5% 정도 분리하여 추출파이프라인을 통해 회수탱크(19)로 유입시키는 제1공정과정과, 상기 제1공정을 거친 개스를 단수 또는 그 이상수의 수냉식 간접 열교환기(2)로 유입 통과시키면서 고온의 자체온도를 점전적으로 저하시키고, 자체 체적감소효과가 동반되도록 하며 열교환과정에서 일부 유해물질의 액화상태로 발생되게 되는 응축수는 파이프라인(18)을 통해 회수탱크(19)로 추출시키는 제2공정과정, 상기 제2공정을 거치면서 자체보유온도가 저하되고, 소정량의 유해물질이 제거된 상 xo의 개스를 직접 열교환식 냉각기(4)로 유입통과시키면서 자체보유온도를 약 60℃이하로 급저하시키며, 개스에 포함된 오염 및 유해물질이, 분사되는 냉각수에 액화되도록 하면서 약 30%정도의 제거효과를 얻도록 하는 제3공정, 상기 공정과정을 거쳐 이송되는 개스를 기수분리기(5)로 유입 통과시키면서 개스에 함유된 수분을 분리시켜 일부 유해물질의 액화 작용이 동반된 상태로 분리되는 수분을 회수탱크(19)로 추출 제거하는 제4공정, 상기 공정과정을 순차적으로 거치면서 어느 정도 정화된 상태로 이송되는 개스를 1차 중화처리탱크(21)로 유입시킴과 동시에 분사노즐(21g)을 통해 분사되는 냉각수와 개스가 섞인 상태로서 디프셔(21h)의 유통로를 통과하면서 잘 혼합되도록 하여 약 98% 이상의 수용성 유해물질이 냉각수에 액화되도록 하며, 개스가 혼합된 상태로 디프셔(21h)를 통과한 냉각수를 직하방에 위치되는 무화구(21i)에 부딪쳐 비산분무되도록 하면서 기수분리시킨 정화상태의 개스를 차기 공정으로 이송 유입되도록 하고, 냉각수는 개스 와싱처리부(27)로 이송 유입되도록 하며, 액화상태의 유해물질은 회수탱크로 추출제거하는 제5공정, 상기 제5공정을 통해 대부분의 유해물질이 제거된 상태로서 유출파이프(23)을 통해 이송 유입되는 정화개스를 2차 중화처리탱크(24) 저부로부터 상승유입되도록 하여 분사노즐(24c)을 통해 분사되는 냉각수와 개스가 직하방의 에젝터(24b)로 섞여 유입되고 와선상의 유통로(24b')를 통과하게 하여 냉각수와 개스가 잘 혼합된 상태로서 1차 기수분리탱크(26)로 낙하 유입되도록 하되, 유출파이프(23)의 유출구(23b) 측에 설치되는 약품분사구(35)를 통해 소정의 중화처리제를 분사하여 개스를 미리 중화처리한 상태에서 에젝터(24b)로 유입되도록 하며, 잔여 유해물질을 약 99% 이상 중화처리하는 효과를 얻도록 하는 제6공정, 상기 제6공정과정을 통해 개스와 혼합된 냉각수가 소정길이의 연결파이프(25)를 통해 1차 기수분리탱크(26)로 낙하 유입되도록 하고, 연결파이프(25)의 수직하방에 설치되는 무화구(26b)를 통해 낙하 유입되는 냉각수는 비산분무되도록 하면서 기수분리되게 하며, 1차 기수분리탱크(26)내의 유입구(27a) 외측에 겹설치된 대, 중, 소 주름관(26c, 26c', 26c'') 사이로 지그재그형태의 개스 이송로가 마련되도록 하여 분리개스가 상기 이송통로를 거치면서 개스와싱처리부(27)로 이송 유입되어 개스에 잔재하는 대부분의 수분이 주름관 벽면에서의 결로현상을 통해 분리되도록 하고, 유해물질이 액화된 상태의 냉각수는 배출구(26d)를 통해 유출되도록 하는 제7공정, 상기 제7공정 과정을 거쳐 유입되는 정화개스를 와싱바(27b)군이 무수히 설치된 개스와싱처리부(27)로 유입통과되도록 하여 개스와싱처리부(27)의 상부측으로부터 냉각수를 분사시켜 주며, 개스가 와싱바(27b)군 사이로 하향 이송되는 과정에서 잔류하던 유해물질이 냉각수에 액화되도록 하면서 소정의 제거효과를 얻도록 하되, 와싱처리부(27)를 이루는 파이프내에 시행 형태의 개스 이송로가 마련되도록 하여 유해물질 제거 효율이 배가 되도록 하고, 상기 과정에서 기체 상태로 발생되는 D.O.P 등의 유해물질은 추출부(47)를 통해 회수탱크(19)로 추출 제거하는 제8공정, 상기 제8공정과정을 통해 개스가 혼합된 상태의 냉각수가 2차 기수분리탱크(28)로 낙하 유입되면서 무화판(28a)에 부딪쳐 비산분무되게 하여 개스가 분리되도록 하고, 분리개스는 연결파이프(30)를 통해 3차 중화처리탱크(31)로 상승 유입되도록 하며, 냉각수는 연결파이프(29)를 통해 하방의 집수탱크(20)로 낙하 유입된후 순환파이프라인을 통해 반복 순환되도록 하고, 액화상태의 유해물질은 추출부(46)를 통해 회수탱크(19)로 추출제거하는 제9공정과, 상기 제9공정과정을 통해 정화상태로 상승 유입되는 개스를 3차 중화처리탱크(31)내에서 최종적으로 중화처리하되, 3차 중화처리탱크(31) 내측상부에서 분사구(53)를 통해 분사되는 소정의 중화처리제와 혼합되는 상태로 상승하면서 와싱바(31d)군을 통과하도록 하여 그 상승과정에서 발생되는 와싱바(31d) 표면에서의 결로현상에 의해 잔류 유해물질이 완전히 액화되도록 하고, 개스는 상측의 돈모층(31c)을 통과하면서 삿갓형태의 집수판(31)에 1차적으로 부딪쳐 개스에 잔유하던 수분이 완전히 제거된 상태로서 대기중에 방출되도록 하는 제10공정과정을 순차적으로 거치면서 오염 및 유독개스를 세정하도록 함을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
  10. 제9항에 있어서, 제4공정과정을 수행하는 기수분리기와 제5공정과정을 수행하는 1차 중화처리탱크(21) 사이를 연결하는 개스 이송파이프라인(G) 상에 흡출식 브로우어(6)를 설치하여 전기 제1공정으로부터 제4공정 과정에서의 개스이송은 브로우어(6)에서의 흡입력에 의해 이루어지도록 하고, 전기 제5공정과정으로 부터 제10공정과정에서의 개스 이송은 브로우어(6)의 송풍압력에 의해 진행되도록 하는 것을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
  11. 제9항에 있어서, 전기 제5공정 및 제6공정에서 공히 실시되는 1, 2차 중화처리탱크(21, 24) 내에서의 냉각수 분사압력은 약 10㎏/㎠g 정도로 설정하고, 그 공정 소요시간은 약 3초이내로 설정해주는 것을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
  12. 제9항에 있어서, 전기 제6공정과정을 진행하는 2차 중화처리탱크(24)의 개스유입직전에 약품분사구(35)를 통해 분사되는 중화처리제는 추출구(24a) 및 회수파이프라인(34)과 모터펌프(37)를 통해 순환되도록 하면서 반복적으로 분사 사용토록 하는 것을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
  13. 제9항에 있어서, 전기 제6공정과정을 진행하는 2차 중화처리탱크(24)로 유입되는 개스가 분사구(35)를 통해 분사되는 중화처리제와 혼합되면서 중화처리된 상태로 직상방의 막음판(24i)에 부딪쳐 하향선회하고, 유출공(24g)을 통해 에젝터(24b)로 유입되도록 하여 개스에 잔류하는 중화처리제 및 유해물질이 막음판(24i) 상에서 액화상태로 분리되도록 하는 것을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
  14. 제9항에 있어서, 최종공정인 제10공정과정을 진행하는 3차 중화처리탱크(31)내에서 분사구(53)를 통해 분사되는 소정의 중화처리제는 약품투입구(50)와 배출구(51)를 연결하는 J 파이프라인(52) 및 모터펌프(54)를 통해 순환되도록 하면서 반복적으로 분사 사용토록한 것을 특징으로 하는 오염개스 및 유독개스 세정방법.
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