KR930023334A - 유기 폴리이소시아네이트의 표준화 및 안정화 방법, 및 이 방법에 의해 얻어진 안정한 생성물 - Google Patents

유기 폴리이소시아네이트의 표준화 및 안정화 방법, 및 이 방법에 의해 얻어진 안정한 생성물 Download PDF

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Abstract

유기 폴리이소시아네이트의 반응성을 동시에 증가시키는 신규한 표준화 및 안정화 방법, 및 본 발명의 방법에 의해 제조된 플리이소시아네이트가 제공된다.
플리이소시아네이트를 특정 일반식으로 표시되는 1이상의 에폭시기를 갖는 화합물과 혼합시키다. 이어서, 이 혼합물을 특정 일반식으로 표시되는 실릴화제 및 (또는) 알킬화제로 안정화시킨다. 폴리이소시아네이트/에폭시이드 화합물을 임의로는 안정화제를 첨가하기 전에 가열시킬 수 있다. 이들 폴리이소시아네이트는 폴리이소시아네이트 부가 생성물의 제조에 유용하다.

Description

유기 폴리이소시아네이트의 표준화 및 안정화 방법, 및 이 방법에 의해 얻어진 안정한 생성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. a) 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 에폭시드 0.01 내지 10중량％, 및 b) (Ⅰ)하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 실릴화산 및(또는) (2) 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 알킬화 산 0.01 내지 1중량％를 첨가한 유기 폴리이소시아네이트로 이루어지는 안정화된 유기폴리이소시아네이트 조성물.
    식중,x는 0 내지 1의 수를 나타내고, y는 0내지 4의 수를 나타내고, z 는 0내지 6의 수를 나타내고, k는 0 내지 1의 수를 나타내고, 1은 0 내지 8의 수를 나타내고, m은 0.5내지 4의 수를 나타내고, n은 1내지 10의 수를 나타내고,p는 0 내지 15의 수를 나타내고, q는 0내지 1의 수를 나타내고, A는 수소, 일가의 포화 알킬기, 다가의 포화 알킬기, 일가의 불포화 알킬기, 다가의 불포화 알킬기, 일가의 포화 시클릭 알킬기, 일가의 불포화 시클릭 알킬기, 다가의 불포화 시클릭 알킬기, 다가의 불포화 시클릭 알킬기, 일가의 아릴기, 치환체를 갖는 다가의 아릴기, 다가의 아실기, 치환체를 갖는 다가의 아릴기, 아실기 또는 N-아실기를 나타내고, B는 산소, 황 또는 질소를 나타내고, M은
    를 나타내고, R 및 R는 각각 수소 또는 C-C 알킬기를 나타내고, R은 수소 또는 C-C 알킬기를 나타내고, X는 2이하의 pKa 값을 갖는 산으로 부터 산성 수소 원자를 제거함으로써 얻은 산성기를 나타내고 a는 1,2 또는 3의 정수를 나타낸다.
  2. 제 1항에 있어서, 성분 a)가 0.1 내지 2 중량％의 양으로 존재하는 조성물.
  3. 제 2항에 있어서, 성분 b)가 0.01 내지 0.1중량％의 양으로 존재하는 조성물.
  4. 제 1항에 있어서, 성분 b)가 0.01 내지 0.1중량％의 양으로 존재하는 조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 유기 폴리이소시아네이트가 디페닐메탄 폴리이소시아네이트인 조성물.
  6. 제 1항에 있어서, 유기 폴리이소시아네이트가 디페닐메탄계의 폴리이소시아네이트의 혼합물인 조성물.
  7. 제 1항에 있어서, 유기 폴리이소시아네이트가 화학적으로 변형된 폴리이소시아네이트인 조성물.
  8. 제 제 1항에 있어서 성분 a)가 페녹시프로필렌 옥시드 및 비스페놀-A폴리글리시딜 에테르로 이루어진 군 중에서 선택되는 조성물.
  9. 제 8항에 있어서, 성분 b) (1)이 트리플루오로메탄 술폰산 트리메틸실릴 에스테르 및 인산 트리스(트리메틸 실릴 에스테르)로 이루어진 군 중에서 선택되는 조성물.
  10. 제 8항에 있어서, 성분 b)(2)가 벤젠 술폰산 메틸 에스테르, 메탄 술폰산 메틸 에스테르, 트리플루오로메탄 술폰산 메틸 에스테르 및 톨루엔 술폰산 메틸 에스테르로 이루어진 군 중에서 선택되는 조성물.
  11. 제 1항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 화합물의 트리플루오로메탄 술폰산 트리메틸 실릴 에스테르 또는 인산 트리스(트리메틸 실릴 에스테르)를 나타내고, 일반식(Ⅲ)의 화합물이 벤젠 술폰산 메틸 에스테르, 메탄술폰산 메틸 에스테르, 트리플루오로메탄 술폰산 메틸 에스테르 또는 톨루엔 술폰산 메틸 에스테를를 나타내는 조성물.
  12. a) 유가 폴리이소시아네이트를 약 20℃ 내지 약 150℃에서 b) 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 에폭시드 0.01 내지 10중량％ 및 c) (1) 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 실릴화 산 및(또는) (2) 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 알킬화산 0.01 내지 1 중량％와 혼합시키는 것으로 이루어지는, 안정화된 유기 폴리이소시아네이트 조성물의 제조방법.
    식중, x는 0 내지 1의 수를 나타내고, y는 0 내지 4의 수를 나타내고, z는 0내지 6의 수를 나타내고, k는 0내지1의 수를 나타내고, 1은 0내지 8의 수를 나타내고, m은 0.5 내지 4의 수를 나타내고, n은 1내지 10의 수를 나타내고, p는 0 내지 15의 수를 나타내고, q는 0 내지 1의 수를 나타내고, A는 수소, 일가의 포화 알킬기, 다가의 포화 알키리기, 일가의 불포화 알킬기, 다가의 불포화 알킬기, 일가의 포화 시클릭 알킬기, 다가의 포화 시클릭 알킬기, 일가의 불포화 시클릭 알킬기, 다가의 불포화 시클릭 알킬기, 일가의 아릴기, 치환체를 갖는 일가의 아릴기, 다가의 아릴기, 치환체를 갖는 다가의 아릴기, 아실기 또는 N- 아실기를 나타내고, B는 산소, 황 또는 질소를 나타내고, M은
    를 나타내고, R 및 R는 각각 수소 또는 C-C 알킬기를 나타내고, R은 수소 또는 C-C 알킬기를 나타내고, X는 2이하의 pKa값을 갖는 산으로 부터 산성 수소 원자를 제거함으로써 얻은 산성기를 나타내고 A는 1 내지 3의 정수를 나타낸다.
  13. 제 12항에 있어서, 성분 b)가 0.1내지 2중량％의 양으로 사용되고, 성분C)가 0.01내지 0.1 중량％의 양으로 사용되는 방법.
  14. 제 12항에 있어서, 유기 폴리이소시아네이트 a)가 화학적으로 변형된 폴리이소시아네이트, 및 디페닐메탄계의 폴리이소시아네트 혼합물로 이루어지는 군중에서 선택되는 방법.
  15. 제 12항에 있어서, 에폭시드 b)가 페녹시프로필렌 옥시드 및 비스페놀-A폴리글리시딜 에테르로 이루어지는 군 중에서 선택되는 방법.
  16. 제 12항에 있어서, 성분 C)(1)이 트리플루오로메탄 술폰산 트리메틸실릴 에스테르 및 인산 트리스(트리베틸실릴 에스테르)로 이루어지는 군 중에선 선택되는 방법.
  17. 제 12항에 있어서, 성분 c) (2)가 벤젠술폰산 메틸 에스테르, 메탄 술폰산 메틸 에스테르, 트리플루오로메탄 술폰산 메틸 에스테르 및 톨루엔 술폰산 메틸 에스테로로 이루어지는 군 중에서 선택되는 방법.
  18. 제 13항에 있어서, 성분 c) (2)가 유리산을 , 에폭시드기를 함유하는 화합물과 반응시킴으로써 반응계 내에서 형성되는 방법.
  19. 제 12하아에 있어서, 성분 c)가 c) (1) 및 c)(2)의 혼합물인 방법.
  20. 제 1항의 폴리이소시아네트 조성물을 이소시아네티트 반응성 물질과 반응시키는 폴리이소시아네이트 부가 생성물의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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