KR930018264A - 분광측정 장치를 표준화하고 교정하는 방법 - Google Patents

분광측정 장치를 표준화하고 교정하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR930018264A
KR930018264A KR1019930001937A KR930001937A KR930018264A KR 930018264 A KR930018264 A KR 930018264A KR 1019930001937 A KR1019930001937 A KR 1019930001937A KR 930001937 A KR930001937 A KR 930001937A KR 930018264 A KR930018264 A KR 930018264A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
calibration
data
peak
spectral
profile
Prior art date
Application number
KR1019930001937A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100264163B1 (ko
Inventor
엠. 간츠 알란
에이치. 트래씨 데이비드
에이. 홀트 로버트
Original Assignee
씨. 웬델 베르기어, 쥬니어
더 피킨 엘머 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 씨. 웬델 베르기어, 쥬니어, 더 피킨 엘머 코포레이션 filed Critical 씨. 웬델 베르기어, 쥬니어
Publication of KR930018264A publication Critical patent/KR930018264A/ko
Priority to KR1020000000249A priority Critical patent/KR100273009B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100264163B1 publication Critical patent/KR100264163B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/2803—Investigating the spectrum using photoelectric array detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J2003/2866—Markers; Calibrating of scan

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

예리한 분광 라인에 대해 고유 프로파일을 나타내는 광측정 장치는 좁은 분광라인에 대해 프로파일 데이터를 처리한다. 분광 라인들은, 금으로 피복된 중합체의 고급의 미세 에탈론으로 실행된다. 변환 필터가 프로파일 데이터를 가우스 곡선형 프로파일로 변환시키도록 계산된다. 파장 교정은, 샘플 데이터에 인가되어 교정된 표준화 데이터를 발생시키는 수정 매트릭스를 달성하도록 필터에 결합된다. 수정 매트릭스가 교정 데이터에 반복적으로 인가되어 파장 교정을 위해 사용된 표준화된 교정 데이터를 발생시킨다.광학 표준, 간섭 에탈론 및 줄무늬 방정식에 의해 교정이 달성된다. 먼저 에탈론 유효두께가 계산되고 정확히 측정되므로써 줄무늬 피크들이 파장을 교정한다.

Description

분광측정 장치를 표준화하고 교정하는 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 합체한 분광 사진 시스템의 개략도, 제2도는 분광 사진측정 장치의 고유 프로파일, 본 발명에 따라 선택된 타겟 프로파일, 및 관련된 변환필터를 예시하는 분광 프로트(plot), 제3도는 본 발명에 이용된 컴퓨터 프로그램용 플로우챠트.

Claims (55)

  1. 고유 특성을 갖는 분광 측정 장치를 표준화시키되, 상기 분광측정장치에 의해 영향을 받은 분광측정장치 데이터를 왜곡시키는 고유 특성을 갖는 분광측정장치를 표준화시키는 방법으로서 분광 표준화 데이터용 타겟 특성을 구체화하되, 고유특성과 비교될 수 있는 타겟 특성을 구체화하는 단계, 상기 고유특성을 상기 타겟 특성으로 변화시키도록 변화 함수를 결정하는 단계, 및 상기 변화 함수를 장치 데이터에 사용하여 교정된 표준화 데이터를 생성시키는 단계를 포함하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 장치용 파장 교정을 설정하는 단계, 상기 파장교정을 상기 변환 함수와 결합시켜 수정 함수를 이루는 단계, 및 상기 수정함수를 장치 데이터로 사용하여 교정된 표준화 데이터를 생성시키는 단계를 부가적으로 포함하는 단계.
  3. 선택된 분광범위의 각 세그먼트를 이루는 얇은 가상 분광라인용 특성 고유 프로파일을 지니며 각각의 고유 프로파일이 그와 관련된 고유폭을 갖는 특성 고유 프로파일을 갖는 분광측정장치를 표준화시키되, 상기 분광범위 중 적어도 하나의 선택된 세그먼틀르 이루는 적어도 하나의 좁은 분광라인의 라인 소오스를 포함하고, 각각의 좁은 분광라인이 해당선택 세그먼트에 대한 고유폭보다 상단히 좁은 관련 라인폭을 갖는 좁은 분광라인중 적어도 하나의 좁은 분광라인의 라인 소오스를 포함하는 분광측정장치를 표준화시키는 방법으로서, 각기 선택된 세그먼트를 이루는 예리한 가상 분광라인용 타겟 프로파일을 구체화하는 단계, 초기에 상기 장치를 라인 소오스로 가상 분광라인용 타겟 프로파일을 구체화하는 단계, 초기에 상기 장치를 라인 소오스로 작동시켜 각각의 좁은 분광라인에 대하여 한세트의 포르파일 데이터를 생성시킴으로써 각 세트의 프로파일 데이터가 해당 선택 세그먼트용 고유 프로파일을 나타내는 단계, 각 세트의 프로파일 데이터를 각각의 선택 세그먼트의 해당 타겟 프로파일로 변환시키도록 변환 필터를 계산하는 단계, 및 추후의 샘플 데이터 사용을 위해 상기 변환 필터를 세이브(save)시키는 단계를 포함하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 장치를 샘플 소오스와 정상적으로 작동시켜 샘플 스펙트럼을 나타내는 샘플 데이터를 생성시키는 단계, 및 상기 변환 필터를, 각각의 선택 세그먼트를 이루는 샌플 데이터에 사용하여 상기 샘플 스펙트럼을 나타내는 표준화된 샘플 데이터를 생성시키는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 장치를 예비 작동시켜 공칭 배경 데이터를 저장하는 단계, 및 상기 프로파일 데이터 및 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 수정하는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 수정단계는 상기 프로파일 데이터와 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 분할하는 단계를 포함하는 단계.
  7. 제5항에 있어서, 상기 정상 작동 단계는 상기 장치를 부가적으로 작동시켜 상기 샘플 데이터와 관련된 정상 배경 데이터를 생성시키는 단계를 포함하고, 상기 변환 필터를 사용하는 단계는 상기 변환 필터를 상기 정상 배경 데이터에 부가적으로 사용하여 표준화된 배경 데이터를 생성시키는 단계를 포함하며, 상기 표준화된 샘플 데이터를 상기 표준화된 배경 데이터로 수정하는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  8. 제4항에 있어서, 상기 계산 단계이전에 미리 선택된 분광 강도 교정에 따라 상기 프로파일 데이터를 교정하는 단계, 및 상기 변환 필터를 사용하는 단계이전에 상기 강도 교정에 따라 상기 샘플 데이터를 교정하는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  9. 제3항에 있어서, 상기 타겟 프로파일은 고유폭과 공칭적으로 동일한 프로파일 폭을 갖는 방법.
  10. 제3항에 있어서, 상기 타겟 프로파일은 가우스(gaussion)곡선 형태인 방법.
  11. 제3항에 있어서, 상기 적어도 하나의 선택 세그먼트는 상기 선택된 분광범위를 가로지르는 복수개의 직렬(tandem)세그먼트를 포함하고, 각각의 직렬 세그먼트는 적어도 하나의 좁은 분광라인을 갖는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 라인소오스는 고급의 미세 파브리-패롯 에탈론(Fabry-Perot etalon)인 방법.
  13. 제13항에 있어서, 상기 장치용 파장 교정을 설정하는 단계, 및 상기 파장교정을 상기 변환 필터와 결합시켜 수정 매트릭스를 이루는 단계를 부가적으로 포함하고, 상기 세이브시키는 단계는 추후의 샘플 데이터 사용을 위해 상기 교정 매트릭스를 세이브시키는 단계를 포함하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 장치를 샘플 소오스로 정상 작동시켜 샘플 스펙트럼을 나타내는 샘플 데이터를 생성시키는 단계, 및 상기 수정 매트릭스를 상기 샘플 데이터에 사용하여 상기 샘플 스펙트럼을 나타내는 교정된 표준화 데이터를 생성시키는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 설정단계는 상기 장치를 방사선의 파장 교정소오스로 작동시켜 고정 데이터를 생상시키는 단계, 및 상기 변환 필터를 상기 교정데이터에 사용하여 상기 파장 교정을 구성하는 표준화된 교정 데이터를 생성시키는 단계를 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 장치를 예비 작동시켜 공칭 배경 데이터를 저장하는 단계, 및 상기 교정 데이터, 상기 프로파일 데이터 및 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 수정하는 단계를 부가적으로 포함하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 수정단계는 상기 교정 데이터, 상기 프로그램 데이터 및 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 분할하는 단계를 포함하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 상기 장치는 상기 분광 범위에 내재하는 분광위치대 분광 파장의 공칭 교정을 갖고, 정확히 식별된 파장의 1차 분광 피크의 교정 소오스 및 상기 분광 범위를 가로질러 이격된 다수의 2차 피크의 다중 소오스를 부가적으로 포함하며, 각각의 2차 피크는 상관 상수에 따른 피크 파장의 상관 함수에 의해 식별되는 정수 순서번호를 갖고, 상기 파장 교정을 설정하는 단계는, 상기 장치를 상기 교정 소오스로 부가 작동시켜 상기 1차 분광 피크를 나타내는 교정 데이터를 생성시키고, 상기 장치를 상기 다중 피크 소오스로 또 다르게 부가작동시켜 상기 다수의 2차 피크를 나타내는 2차 데이터를 생성시키는 단계, 상기 분광위치와 관련하여 상기 교정 데이터 부터 1차 피크위치를 확인하고, 상기 분광위치와 관련하여 한세트의 2차 피크위치를 상기 2차 데이터로 부터 부가적으로 확인하는 단계, 상기 공칭 교정에 의해 결정되는 적어도 2개의 피크파장에 대한 차동 순서번호에 따라 상기 상관상수를 상기 상관 함수로 평가하는 단계, 상기 1차 피크에 인접 배치되어 있는 적어도 하나의 선택된 2차 피크에 대한 교정 순서번호를 상기 상관함수로 식별하는 단계로서, 상기 공칭 교정에 의해 선택된 2차 피크에 대하여 선택된 예비파장 및 상기 평가된 상관 상수에 따라 달성되는 식별 단계, 상기 상관함수를 사용하여 상기 교정 배열 번호, 상기 정밀 식별 파장 및 상기 상대 위치로부터 정밀한 상관 상수를 계산하는 단계, 상기 정밀 상관 상수를 상기 상관 함수로 사용하여 고정된 파장을 해당 배열 번호, 결과적으로는 상기 분광 위치에 대한 2차 피크 위치에 할당하는 단계를 포함하는 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 다중 소오스는 방사선 소오스 및 상기 방사선 소오스에 삽입된 제1의 광학 요소를 포함하고, 상기 제1의 광학 요소는 파장과 관련된 굴절율(n)을 지니며, 상기 배열 번호(m)는 상기 상관함수에 의한 상과 상수(T´)에 따른 피크 파장(L)(m=nT´/L)으로 식별되는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 다중 소오스는 다수의 2차 피크를 포함하는 줄무늬 패턴(fringe pattern)으로 상기 방사선을 전달하도록 배치된 파브리-페롯의 저급 미세 에탈론인 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 저급 미세 에탈론은 피복되지 않은 융합 실리카 플레이트를 포함하는 방법.
  22. 제18항에 있어서, 상기 교정 데이터는 교정 프로파일을 한정하며, 상기 확인 단계는 상기 교정 프로파일을 저장하는 단계, 상기 분광위치에 대하여 상기 교정 프로파일의 중심 파장을 평가하는 단계, 상기 중심 파장에 대하여 상기 교정 프로파일을 반전시켜 반전된 프로파일을 형성하는 단계, 및 상기 교정 데이터를 상기 결합된 프로파일과 정합시켜 상기 평가된 중심 파장과 상기 1차 분광 피크사이의 오프셋을 결정함으로써 상기 오프셋이 상기 분광 위치에 대하여 상기 1차 피크위치를 한정하는 단계를 포함하는 방법.
  23. 제22항에 있어서, 광학 표준은 네오디뮴이 도우프된 이트륨 알루미늄 석류석 필터인 방법.
  24. 정밀하게 식별된 파장의 분광 피크의 교정 소오스를 포함하는 분광측정장치에서 정밀 파장 지점을 설정하고, 상기 분광측정장치가 분광범위에 존재하는 분광위치대 분광파장의 공칭교정을 갖는 방법으로서, 상기 장치를 상기 교정 소오스로 작동시켜 적어도 하나의 분광피크를 나타내는 교정 프로파일을 생성하는 단계, 상기 교정 프로파일을 저장하는 단계, 상기 분광위치에 대하여 상기 교정 프로파일의 중심 파장을 평가하는 단계, 상기 중심 파장에 대하여 상기 교정 프로파일을 반전시켜 반정된 프로파일을 형성하는 단계, 상기 교정 프로파일 및 상기 반전된 프로파일을 부가하여 결합된 프로파일을 형성하는 단계 및 상기 교정 데이터를 상기 결합된 프로파일에 정합시켜 상기 평가된 중심 파장과 상기 1차 분광 피크사이의 오프셋을 결정함으로써 상기 오프셋이 상기 분광위치에 대하여 상기 1차 피크위치를 한정하는 단계를 포함하는 방법.
  25. 제24항에 있어서, 상기 광학 표준은 네오디뮴이 도우프된 이트륨 알루미늄 석류석 필터인 방법.
  26. 선택된 분광범위에 존재하는 분광위치대 분광파장의 공칭교정을 갖는 부노강측정 장치에서 파장을 정밀하게 교정하되, 정밀하게 식별된 파장의 1차 분광피크의 교정 소오스 및 상기 분광범위를 가로질러 이격되어 있으며 상관 상수에 따른 피크 파장의 상관함수에 의해 식별되는 정수 순서번호를 각각 갖는 다수의 2차 피크의 다중 소오스를 포함하는 분광측정장치에서 파장을 정밀하게 교정하는 방법으로서, 파장 교정을 설정하는 단계는, 상기 장치를 상기 교정 소오스로로 부가작동시켜 상기1차 분광피크를 나타내는 교정 데이터를 생성시키고, 상기 장치를 상기 다중 피크 소오스로 또 다르게 부가작동시켜 상기 다수의 2차 피크를 나타내는 2차 데이터를 생성시키는 단계, 상기 분광위치와 관련하여 상기 교정 데이터로 부터 1차 피크위치를 확인하고, 상기 분광위치와 관련하여 상기 2차 데이터로 부터 한세트의 2차 피크우치를 부가적으로 확인하는 단계, 상기 공칭 교정에 의해 결정되는 적어도 2개의 피크 파장에 대한 차동배열 번호에 따라 상기 상관 상수를 상기 상관함수로 평가하는 단계, 상기 1차 피크에 인접 배치되어 있는 적어도 하나의 선택된 2차 피크에 대한 교정 순서번호를 상기 상관함수로 식별하는 단계로서, 상기 공칭 교정에 의해 선택된 2차 피크에 대하여 결정된 예비 파장 및 상기 평가된 상관상수에 따라 달성되는 식별 단계, 상기 선택된 2차 피크 및 상기 1차 피크의 정밀한 상대 위치를 상기 선택된 2차 피크로부터 보간하는 단계, 상기 상관함수를 사용하여 상기 교정 순서번호, 상기 정밀 식별 파장 및 상기 상대 위치로부터 정밀한 상관 상수를 계산하는 단계, 상기 정밀 상관 상수를 상기 상관함수로 사용하여 고정된 파장을 해당순서번호, 결과적으로 상기 분광위치에 대한 2차 피크위치에 할당하는 단계를 포함하는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 상기 다중 소오스는 방사선 소오스 및 상기 방사선 소오스에 삽입된 제1의 광학요소는 파장과 관련된 굴절율(n)을 지니며, 상기 순서번호(m)는 상기 상관함수에 의한 상관상수(T′)에 따른 피크파장(L)(m=nT′/L)으로 식별되는 방법.
  28. 제27항에 있어서, 상기 다중 소오스는 다수의 2차 피크를 포함하는 줄무늬 패턴으로 상기 방사선을 전달하도록 배치된 파브리－페롯의 저급 미세 에탈론인 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 저급 미세 에탈론은 피복되지 않은 융합 실리카 플레이트를 포함하는 방법.
  30. 제26항에 있어서, 상기 교정 데이터는 교정 프로파일을 한정하며, 상기 확인 단계는 상기 교정 프로파일을 저장하는 단계, 상기 분광위치에 대하여 상기 교정 프로파일의 중심파장을 평가하는 단계, 상기 중심파장에 대하여 상기 교정 프로파인을 반전시켜 반전된 프로파일을 형성하는 단계, 상기 교정 프로파일과 상기 반전된 프로파일을 부가하여 결합된 프로파일을 형성하는 단계, 및 상기 교정 데이터를 상기 결합된 프로파일과 정합시켜 상기 평가된 중심 파장과 상기 1차 분광 피크사이의 오프셋을 결정함으로써 상기 오프셋이 상기 분광위치에 대하여 상기 1차 피크위츠를 한정하는 단계를 포함하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 광학 표준은 네오디뮴이 도우프된 이트륨 알루미늄 석류석 필터인 방법.
  32. 선택된 분광범위의 각 세그먼트를 이루는 얇은 가상 분광라인에 대한 특성 고유 프로파일을 지니되, 관연된 고유폭을 각각 갖는 특성 고유 프로파일을 지니며, 상기 분광 범위의 적어도 하나의 선택된 세그먼트를 이루는 적어도 하나의 좁은 분광라인의 라인 소오스를 포함하되, 해당하는 선택 세그먼트에 대한 고유폭보다 상당히 좁은 관련된 라인 폭을 각각 갖는 좁은 분광라인중 적어도 하나의 좁은 분광라인의 라인 소오스를 포함하는 분광측정장치로서, 각각의 선택 세그먼트를 이루는 얇은 가상 분광라인에 대하여 타겟 프로파일을 구체화하는 구체화 수단, 초기에 상기 장치를 상기 라인 소오스로 작동시켜 각각의 좁은 분광라인에 대하여 한세트의 프로파일 데이터를 생성함으로써 각세트의 프로파일 데이터가 해당하는 선택 세그먼트에 대한 고유 프로파일을 나타내게 하는 개시수단, 각 세트의 프로파일 데이터를 각각의 선택 세그먼트에 대하여 타겟 프로파일로 변화시키도록 변환 필터를 계산하는 계산수단, 상기 장치를 샘플 소오스로 생성시켜 샘플 스펙트럼을 나타내는 샘플 데이터를 생성하는 작동수단, 및 상기 변환 필터를, 각각의 선택 세그먼트를 이루는 샘플 데이터에 사용하여 상기 샘플 스펙트럼을 나타내는 표준화 샘플 데이터를 생성시키는 응용수단으로 구성되어 있는 표준화 시스템을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  33. 제32항에 있어서, 상기 장치를 예비작동시켜 공칭 배경 데이터를 저장하는 수단, 및 상기 프로파일 데이터와 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 수정하는 수단을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  34. 제32항에 있어서, 상기 라인 소오스는 고급의 미세 파브리－페롯 에탈론을 구비한 에탈론 구조인 분광측정장치.
  35. 제34항에 있어서, 상기 에탈론은 각 측면상에 반 투명한 금 피박을 갖는 얇은 플리머 피막을 포함하며, 각각의 피막은 1％내지 10％의 투과율을 제공하기에 충분한 분광측정장치.
  36. 제35항에 있어서, 상기 피막은 대략 10내지 25마이크로미터의 두께인 분광측정장치.
  37. 제35항에 있어서,상기 피막은 니트로셀룰로오스인 분광측정장치.
  38. 제35항에 있어서, 상기 에탈론 구조는 사이에 샌드위치된 에탈론을 갖는 한쌍의 플래너 글라스 윈도우를 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  39. 제32항에 있어서, 상기 장치용 파장 수정을 설정하는 교정수단, 상기 파장교정을 상기 변형 필터와 결합시켜 수정 매트릭스를 이루는 결합수단, 상기 장치를 샘플 소오스로 작동시켜 샘플 스펙트럼을 나타내는 샘플 데이터를 생성하는 수단, 및 상기 수정 매트릭스를 상기 샘플 데이터에 사용하여 상기 샘플 스펙트럼을 나타내는 교정된 표준화 데이터를 생성시키는 수단을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  40. 제35항에 있어서, 상기 장치는 방사선의 파장 교정 소오스를 부가적으로 포함하며, 상기 교정수단은 상기 장치를 상기 파장 교정 소오스로 작동시켜 고정 데이터를 생상시키는 수단, 및 상기 변환 필터를 상기 교정 데이터에 사용하여 상기 파장 교정을 구성하는 표준화된 교정 데이터를 생성시키는 수단을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  41. 제40항에 있어서, 상기 장치를 예비작동시켜 공칭 배경 데치터를 저장하고, 상기 교정 데이터, 상기 프로파일 데이터 배경 데이터 및 상기 샘플 데이터를 상기 공칭 배경 데이터로 수정하는 배경수단을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  42. 제39항에 있어서,상기 장치는 상기 분광범위를 이루는 분광위치대 분광파장의 공칭 교정을 갖고, 정밀하헤 식별된 파장의 적어도 하나의 1차 분광피크의 교정소오스와 상기 분광범위를 가로질러 이격된 다수의 2차 피크의 다중 소오스를 부가적으로 포함하되, 각각의 2차 피크는 상관 상수에 따른 피크 파장의 상관함수에 의해 식별된 정수 순서번호를 갖으며, 상기 교정수단은, 상기 장치를 상기 교정 소오스로 부가작동시켜 상기 1차 분광피크를 나타내는 교정 데이터를 생성시키고, 또 다르게 상기 장치를 상기 다중 피크 소오스로 부가 작동시켜 상기 다수의 2차 피크를 나타내는 2차 데이터를 생성시키는 부가수단, 상기 분광위치와 관련하여 상기 교정 데이터로 부터 1차 위치를 확인하고, 상기 분광위치와 관련하여 상기 2차 데이터로 부터 한 세트의 2차 피크 위치를 부가적으로 확인하는 확인수단, 상기 공칭 교정에 의해 결정되는 적어도 2개의 피크 파장에 대한 차동 순서번호에 따라 상기 상관 상수를 상관 함수로 평가하는 평가수단, 상기 1차 피크에 인접 배치되어 있는 적어도 하나의 선택된 2차 피크에 대한 교정 순서번호를 상기 상관 함수로 식별하는 식별수단으로서, 상기 공칭 교정에 의해 선택된 2차 피크에 대하여 결정된 예비파장 및 상기 평가된 상관 상수에 따라 달성되는 식별수단, 상기 선택된 2차 피크 및 상기 피크의 정밀한 상대위치를 상기 선택된 2차 피크로부터 보간하는 단계, 상기 상관함수를 사용하여 상기 교정 순서번호, 상기 정밀 식벽 파장 및 상기 상대 위치로부터 정밀한 상관 상수를 계산하는 계산수단, 및 상기 정밀 상관 상수를 상기 상관 함수로 사용하여 교정된 파장을 관련 순서번호, 결과적으로 상기 분광위치에 대한 2차 피크위치로 할당하는 이용수단을 포함하는 분광측정장치.
  43. 제42항에 있어서, 상기 다중 소오스는 상기 다수의 2차 피크를 포함하는 줄무늬 패턴으로 상기 방사선을 전달하도록 배치된 파브리－페롯의 저급 미세에탈론인 분광측정장치.
  44. 제43항에 있어서, 상기 저급 미세 에탈론은 피복되지 않은 융합 실리카 플레이트를 포함하는 분광측정장치.
  45. 제42항에 있어서, 상기 교정 소오스는 네오디뮴이 도우프된 이트륨 알루미늄 석류석 필터인 분광측정장치.
  46. 정밀하게 식별된 파장의 적어도 하나늬 1차 분광 피크의 교정 소오스, 및 분광 범위를 가로질러 이격된 다수의 2차 피크의 다중 소오스를 포함하되, 각각의 2차 피크는 상관 상수에 따른 피크 파장의 상관 함수에 의해 식별된 정수 순서번호를 갖고, 선택된 분광범위에 존재하는 분광위치대 분광파장의 공칭 교정을 갖는 분광측정장치로서, 상기 장치를 상기 교정소오스로 부가 작동시켜 상기 1차 분광 피크를 나타내는 교정 데이터를 생성하고, 또 다르게 상기 장치를 상기 다중 피크 소오스로 부가작동시켜 상기 다수의 2차 피크를 나타내는 2차 데이터를 생성하는 부가수단, 상기 분광위치와 관련하여 상기 교정 데이터로 부터 1차 피크위치를 확인하고, 상기 분광위치와 관련하여 상기 2차 데이터로부터 한세트의 2차 피크위치를 부가적으로 확인수단, 상기 공칭 교정에 의해 결정되는 적어도 2개의 피크파장에 대한 차동 순서번호에 따라 상기 상관상수를 상기 상관함수로 식별하는 식별수단으로서, 상기 공칭교정에 의해 선택된 2차 피크에 대하여 결정된 예비 파장 및 상기 평가된 상관 상수에 따라 달성되는 식별수단, 상기 선택된 2차 피브 및 상기 1차 피크의 정밀한 상대위치를 상기 선택된 2차 피크로부터 보간하는 보간수단, 상기 상관함수를 사용하여 상기 교정 순서번호, 상기 정밀 식별 파장 및 상기 상대위치로부터 정밀한 상관 상수를 계산하는 계산수단, 및 상기 정밀 상관 상수를 상기 상관함수로 사용하여 교정된 파장을 관련 순서번호, 결과적으로는 상기 분광위치에 대한 2차 피크위치로 할당하는 이용수단으로 구성되어 있는 고정수단을 부가적으로 포함하는 분광측정장치.
  47. 제46항에 있어서, 상기 다중 소오스는 방사선 소오스 및 상기 방사선 소오스에 삽입된 제1의 광학 요소를 포함하며, 상기 제1의 광학 요소는 파장과 관련된 굴절율(n)을지니고, 상기 배열 변호(m)는 상관함수에 의한 상관 상수(T´)에 따른 피크 파장(L)(m0mT´/L)으로 식별되는 분광측정장치.
  48. 제47항에 있어서, 상기 다중 소오스는 상기 다수의 2차 피크를 포함하는 줄무늬 패턴으로 상기 방사선을 전달하도록 배치된 파브리-페롯의 저급 메세에 탈론인 분광측정장치.
  49. 제48항에 있어서, 상기 저급 미세 에탈론은 피복되지 않은 융합 실리카 플레이트를 포함하는 분광측정장치.
  50. 제46항에 있어서, 광학 표준은 네오디뮴이 도우프된 이트륨 알루미늄 석류석 필터인 광학측정장치.
  51. 근접 적외선 분광라인을 통과시키는 고급의 미세 에탈론을 포함하되, 각각이 1％내지 10％투과율을 제공하기에 충분한 반투명한 금 피막을 각각의 측면상에 갖는 얇은 폴리머 피막으로 구성되어 있는 고급의 미세 에탈론을 포함하는 에탈론 구조물.
  52. 제51항에 있어서, 상기 피막은 대략 10내지 25마이크로미터인 두께인 에탈론 구조물.
  53. 제51항에 있어서, 상기 피막은 니트로셀룰로오스인 에탈론 구조물.
  54. 제51항에 있어서, 사이에 샌드위치인 에탈론을 갖는 한쌍의 플레너 글라스 위노우를 부가적으로 포함하는 에탈론 구조물.
  55. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930001937A 1992-02-12 1993-02-12 분광측정장치 및 그 표준화 방법 KR100264163B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000000249A KR100273009B1 (ko) 1992-02-12 2000-01-05 에탈론 구조물

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US92017834448 1992-02-12
US92-07/834,448 1992-02-12
US07/834,448 US5303165A (en) 1992-02-12 1992-02-12 Standardizing and calibrating a spectrometric instrument

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000000249A Division KR100273009B1 (ko) 1992-02-12 2000-01-05 에탈론 구조물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930018264A true KR930018264A (ko) 1993-09-21
KR100264163B1 KR100264163B1 (ko) 2000-08-16

Family

ID=25266968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930001937A KR100264163B1 (ko) 1992-02-12 1993-02-12 분광측정장치 및 그 표준화 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5303165A (ko)
EP (2) EP0560006B1 (ko)
JP (1) JP3768873B2 (ko)
KR (1) KR100264163B1 (ko)
CA (1) CA2087360C (ko)
DE (2) DE69333054T2 (ko)

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2611911B1 (fr) * 1987-02-27 1989-06-23 Bp France Procede de determination directe d'un indice d'octane
US5559728A (en) * 1990-10-09 1996-09-24 University Of Washington Calibration transfer for second order analytical instruments
US5485268A (en) * 1993-03-18 1996-01-16 Tobias; Reginald Multiplex spectroscopy
DE4317948C2 (de) * 1993-05-28 1996-07-25 Werner Dr Schmidt Monochromator für Spektrometer
GB9414301D0 (en) * 1994-07-15 1994-09-07 Unicam Ltd Wavelength calibration of optical spectrometers
US5710713A (en) * 1995-03-20 1998-01-20 The Dow Chemical Company Method of creating standardized spectral libraries for enhanced library searching
US5619332A (en) * 1995-05-15 1997-04-08 Tracor, Inc. High spectral resolution fiber optic spectrometer
US5729639A (en) * 1995-05-16 1998-03-17 Santa Barbara Research Center Sensor system having detector to detector responsivity correction for pushbroom sensor
FR2743642B1 (fr) * 1996-01-11 1999-05-21 Toshiba Kk Procede et appareil de diagnostic d'anomalies d'une installation
US5717209A (en) * 1996-04-29 1998-02-10 Petrometrix Ltd. System for remote transmission of spectral information through communication optical fibers for real-time on-line hydrocarbons process analysis by near infra red spectroscopy
US5668374A (en) * 1996-05-07 1997-09-16 Core Laboratories N.V. Method for stabilizing near-infrared models and determining their applicability
US6029115A (en) * 1996-10-03 2000-02-22 Perkin Elmer Llc Analyzing spectrometric data
JP2001506753A (ja) * 1996-12-18 2001-05-22 ユニヴァーシティ オブ ウロンゴン ガス中のガス濃度および同位体比の測定のための方法と装置
US5838008A (en) * 1996-12-18 1998-11-17 University Of Wollongong Method and apparatus for measuring gas concentrations and isotope ratios in gases
EP0849575A3 (en) * 1996-12-20 2000-04-19 The Perkin-Elmer Corporation Standardizing a spectrometric instrument
US6138082A (en) * 1996-12-20 2000-10-24 The Perkin Elmer Corporation Standardizing between analytical instruments
US5850623A (en) * 1997-03-14 1998-12-15 Eastman Chemical Company Method for standardizing raman spectrometers to obtain stable and transferable calibrations
US5958246A (en) 1997-05-16 1999-09-28 The Perkin-Elmer Corporation Standardization of chromatographic systems
WO1999010866A1 (en) 1997-08-25 1999-03-04 Imagicolor Corp A system for distributing and controlling color reproduction at multiple sites
JPH11125562A (ja) 1997-10-21 1999-05-11 Ando Electric Co Ltd 波長校正装置
US6049762A (en) * 1997-12-18 2000-04-11 Perkin Elmer Llc Standardizing a spectrometric instrument
US6400468B1 (en) * 1998-03-31 2002-06-04 International Business Machines Corporation Smoothing calibration files to improve reproduction of digitized images
US6137104A (en) * 1998-06-12 2000-10-24 Varian, Inc. Fast automated spectral fitting method
EP1105710B1 (en) 1998-08-14 2011-12-28 On-Site Analysis, Inc. Method of normalizing the spectrum intensity measured by optical emission spectrometry
CN1361861A (zh) * 1999-05-21 2002-07-31 布克哈姆技术公共有限公司 与连续重新校准相结合的光谱数据的自适应判读方法和系统
US6738502B1 (en) * 1999-06-04 2004-05-18 Kairos Scientific, Inc. Multispectral taxonomic identification
US6418383B1 (en) * 2000-02-11 2002-07-09 Perkinelmer Instruments Llc Method and apparatus for iterative spectral compensation
US6687000B1 (en) * 2000-06-26 2004-02-03 Wisconsin Alumni Research Foundation Photon-sorting spectroscopic microscope system
US6570894B2 (en) 2001-01-30 2003-05-27 Tektronix, Inc. Real-time wavelength calibration for swept lasers
US6785002B2 (en) * 2001-03-16 2004-08-31 Optical Coating Laboratory, Inc. Variable filter-based optical spectrometer
US7194369B2 (en) * 2001-07-23 2007-03-20 Cognis Corporation On-site analysis system with central processor and method of analyzing
US6882874B2 (en) * 2002-02-15 2005-04-19 Datex-Ohmeda, Inc. Compensation of human variability in pulse oximetry
DE10207733B4 (de) * 2002-02-22 2006-03-23 Perkin Elmer Bodenseewerk Zweigniederlassung Der Berthold Gmbh & Co. Kg Spektroskopieverfahren
EP1371957B1 (en) * 2002-06-11 2008-01-09 Jobin Yvon S.A.S. Spectrometer
EP1623351B1 (en) * 2003-04-28 2012-04-18 Cerno Bioscience LLC Computational method and system for mass spectral analysis
US6983213B2 (en) * 2003-10-20 2006-01-03 Cerno Bioscience Llc Methods for operating mass spectrometry (MS) instrument systems
JP2007501392A (ja) * 2003-08-01 2007-01-25 ビアコア エービー 表面結合光学共振プロファイルを数量化する方法および装置
US7099015B2 (en) * 2003-08-25 2006-08-29 Ivan Melnyk Fiber optic sensing device for measuring a physical parameter
US7414723B2 (en) * 2004-02-23 2008-08-19 Malvern Instruments Incorporated Automated interleaved spectral imaging calibration
JP4504078B2 (ja) * 2004-04-26 2010-07-14 オリンパス株式会社 エアギャップ可変式分光透過率可変素子のエアギャップ基準位置調整構造及びエアギャップ可変式分光透過率可変素子のエアギャップ基準位置調整構造を備えた光学装置
EP1827657B1 (en) * 2004-10-28 2015-04-22 Cerno Bioscience LLC Qualitative and quantitative mass spectral analysis
US20060255258A1 (en) * 2005-04-11 2006-11-16 Yongdong Wang Chromatographic and mass spectral date analysis
US7583378B2 (en) * 2006-02-23 2009-09-01 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Spectrograph calibration using known light source and Raman scattering
US7400398B2 (en) * 2006-05-09 2008-07-15 Environmental Systems Products Holdings Inc. Remote emissions sensing system and method incorporating spectral matching by data interpolation
EP1998155A1 (de) 2007-05-30 2008-12-03 Roche Diagnostics GmbH Verfahren zur Wellenlängenkalibration eines Spektrometers
US8330955B2 (en) 2008-02-12 2012-12-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Color detector
JP2011511946A (ja) 2008-02-13 2011-04-14 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． 面積が拡大縮小された光検出器を有する色検出器
US20100080351A1 (en) * 2008-09-26 2010-04-01 i-Nalysis LLC Handheld spectrometer
CN101656537B (zh) * 2009-07-21 2012-04-04 中国科学院武汉物理与数学研究所 多脉冲干涉Ramsey-CPT条纹的制备方法及装置
US7999933B2 (en) * 2009-08-14 2011-08-16 Princeton Instruments Method for calibrating imaging spectrographs
CN101650225B (zh) * 2009-09-16 2011-08-17 中国科学院安徽光学精密机械研究所 一种利用宽可调谐激光的绝对光谱辐亮度响应度定标系统的装置
GB201003939D0 (en) * 2010-03-09 2010-04-21 Isis Innovation Multi-spectral scanning system
KR101078135B1 (ko) * 2010-07-30 2011-10-28 경북대학교 산학협력단 광원 스펙트럼 분석용 분광기의 전 영역 교정 장치 및 그 장치에서 정보 획득 방법
US8682704B2 (en) * 2011-01-03 2014-03-25 Express Scripts, Inc. Methods and systems for scheduling activity level based meetings
US8730466B2 (en) * 2011-07-14 2014-05-20 Thermo Electron Scientific Instruments Llc Optical spectrometer with underfilled fiber optic sample interface
CN103946481B (zh) * 2011-11-15 2017-03-08 哈利伯顿能源服务公司 采用光学计算元件指导钻井作业
WO2013082446A1 (en) * 2011-12-02 2013-06-06 Schlumberger Canada Limited Optical spectrometer and downhole spectrometry method
KR101249477B1 (ko) 2011-12-08 2013-04-01 한국기초과학지원연구원 제동복사 파장을 측정가능한 폴리크로메이터
US9170194B2 (en) * 2012-03-28 2015-10-27 Yokogawa Electric Corporation Material property measuring apparatus
DE102012217676B4 (de) * 2012-09-27 2016-05-04 Secopta Gmbh Verfahren zur Identifikation der Zusammensetzung einer Probe
EP2912421B1 (en) * 2012-10-23 2024-05-01 Apple Inc. High accuracy imaging colorimeter by special designed pattern closed-loop calibration assisted by spectrograph
CN103175822B (zh) * 2013-02-06 2015-08-05 中国食品药品检定研究院 消除拉曼光谱仪台间差的方法
US9546904B2 (en) * 2013-03-15 2017-01-17 P & P Optica Inc. Apparatus and method for optimizing data capture and data correction for spectroscopic analysis
CN103776531B (zh) * 2014-01-01 2015-09-23 西安应用光学研究所 近红外微弱脉冲光谱辐亮度校准装置
EP3161436B1 (en) * 2014-06-27 2024-03-20 Spectral Engines OY A method for determining the spectral scale of a spectrometer and apparatus
EP3221004B1 (en) 2014-11-21 2021-09-15 The Regents of the University of California Three-dimensional radiotherapy dose distribution prediction
KR101589619B1 (ko) * 2014-11-26 2016-01-28 국방과학연구소 스펙트럼 배경물질 신호 제거 방법
US11953427B2 (en) * 2015-08-03 2024-04-09 Endress+Hauser Optical Analysis, Inc. Reconstruction of frequency registration for quantitative spectroscopy
US10088468B2 (en) * 2016-02-04 2018-10-02 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
US10852189B2 (en) 2016-02-26 2020-12-01 The Regents Of The University Of California Filter array reconstructive spectrometry
CN107389660A (zh) * 2017-09-06 2017-11-24 北京航峰精诚装备技术有限公司 一种便携式油料原子发射光谱分析仪
JP6988512B2 (ja) * 2018-01-24 2022-01-05 株式会社リコー 分光特性取得装置、画像形成装置、画像形成システム
CN109211415A (zh) * 2018-11-20 2019-01-15 电子科技大学 一种基于光源光谱特征波长的波长标定方法
WO2020197498A1 (en) * 2019-03-27 2020-10-01 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Self-calibrating spectral sensor modules
GB2586046B (en) * 2019-07-31 2021-12-22 Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh Peak determination in two-dimensional optical spectra
KR102103344B1 (ko) * 2019-12-03 2020-05-29 주식회사 다산에스엠 광산란 방식 미세먼지 측정시스템
US20230052878A1 (en) * 2019-12-19 2023-02-16 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Detector wavelength calibration
CN111239669A (zh) * 2020-03-17 2020-06-05 北京环境特性研究所 频谱仪档位相对固定误差标定方法及功率测量方法
CN114047149B (zh) * 2021-11-09 2024-04-26 宁波市计量测试研究院(宁波新材料检验检测中心) 一种食品检测中的趋同性风险预警方法
WO2024056713A1 (en) 2022-09-14 2024-03-21 Trinamix Gmbh Method for calibrating a spectrometer device of a batch of spectrometer devices
CN116007754B (zh) * 2023-03-24 2023-06-02 加维纳米(北京)科技有限公司 光谱仪标定方法、装置、电子设备和存储介质

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3646331A (en) * 1970-09-03 1972-02-29 Kollmorgen Corp Automatic 100{11 line adjustment of spectrophotometers
US3682528A (en) * 1970-09-10 1972-08-08 Optical Coating Laboratory Inc Infra-red interference filter
US3668406A (en) * 1970-11-16 1972-06-06 Texas Instruments Inc Light processing device utilizing beamsplitter having first region reflective from both sides and second region which is transparent
US3698814A (en) * 1971-01-25 1972-10-17 John B Clark Aberration-free compensator for use in white light interferometry
US3734621A (en) * 1971-12-06 1973-05-22 Hewlett Packard Co Spectrophotometer utilizing memory storage calibration techniques
US4005937A (en) * 1974-11-26 1977-02-01 Allied Chemical Corporation Simultaneous interferometric transmission of periodic spectral components
US4409512A (en) * 1979-06-05 1983-10-11 Duro-Test Corporation Incandescent electric lamp with etalon type transparent heat mirror
US4482251A (en) * 1981-10-19 1984-11-13 Electro-Nucleonics, Inc. Clinical analyzer
US4692883A (en) * 1985-02-21 1987-09-08 The Perkin-Elmer Corporation Automatic digital wavelength calibration system for a spectrophotometer
FR2588656B1 (fr) * 1985-10-16 1990-02-09 Bertin & Cie Appareil de spectro-colorimetrie a fibres optiques
US4782492A (en) * 1986-05-05 1988-11-01 Polaroid Corporation Thermally controllable optical devices and system
US4916645A (en) * 1988-06-02 1990-04-10 The Perkin-Elmer Corporation Continuous monochrometer drift compensation of a spectral monochromator
DE69115575T2 (de) * 1990-06-22 1996-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Verfahren zur spektralen Messung

Also Published As

Publication number Publication date
CA2087360C (en) 2005-04-12
DE69315607D1 (de) 1998-01-22
EP0560006A2 (en) 1993-09-15
DE69315607T2 (de) 1998-04-30
EP0560006B1 (en) 1997-12-10
JP2002196130A (ja) 2002-07-10
DE69333054D1 (de) 2003-07-24
JPH0682307A (ja) 1994-03-22
JP3768873B2 (ja) 2006-04-19
JP3547771B2 (ja) 2004-07-28
EP0800066B1 (en) 2003-06-18
KR100264163B1 (ko) 2000-08-16
CA2087360A1 (en) 1993-08-13
DE69333054T2 (de) 2004-04-29
EP0560006A3 (en) 1993-12-15
US5303165A (en) 1994-04-12
EP0800066A3 (en) 1998-02-25
EP0800066A2 (en) 1997-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930018264A (ko) 분광측정 장치를 표준화하고 교정하는 방법
US10151633B2 (en) High accuracy absorbance spectrophotometers
CN101813519B (zh) 光谱仪杂散光校正方法
CN112710393A (zh) 光学测定装置、波长校正方法以及标准试样
CN110501141A (zh) 利用频率梳光源测fp的透过率曲线的装置及方法
JP3217069B2 (ja) 分光計測定の比較を可能にするための方法と装置組合せ
JP2021067611A5 (ko)
CN117128877B (zh) 一种薄膜厚度检测方法、计算机及系统
Perret et al. Self-consistent algorithm for calibrating spectrometers to picometer accuracy over the entire wavelength range
GB1568530A (en) Spectrophotometer
CA2455136C (en) Standardizing and calibrating a spectrometric instrument
US11530955B2 (en) Method for measuring gas temperature in plasma
CN109406107B (zh) 红外光学材料均匀性测试的试样面形误差的控制方法
JP4041199B2 (ja) スペクトル情報を標準化する方法及び装置及び標準化されたスペクトル情報を利用するためのコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
Zong Wavelength calibration method for spectroradiometers with picometer uncertainties
WO2022102685A1 (ja) 分光分析システム、計算装置、および計算プログラム
Tarasov et al. Evaluation of color measurement accuracy and its dependence on time for hand‐held print‐art spectrophotometers
KR100273009B1 (ko) 에탈론 구조물
JPH0862041A (ja) スペクトル測定方法および装置
CN114414049B (zh) 一种提高光谱成像仪精确度的装置、系统、方法及介质
JPH04252924A (ja) 分光測定方法
Krutikov et al. The traceability of modern pyrometers to the primary standard of the unit of temperature and the classification of methods of pyrometry
JP3547771B6 (ja) 分光機器の標準化方法および分光機器
Yan et al. A simple and accurate wavelength calibration method for CCD-spectrometer
Lowe et al. Correction for window transmission losses in radiation thermometry using high temperature fixed points

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030423

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee