KR930008196A - 금속 스트립을 전기도금하는 개선된 방법 - Google Patents
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Abstract
이 개선된 방법에 따라 스트립이 적어도 하나의 전해조 전해액을 통과하여 전해조에 공급되는 전류를 조정하는것에 의해 스트립의 표면에 2개의 금속층이 연속적으로 적층되어 스트립의 표면에서 전류밀도의 평균값이 적층되는 금속이온의 한계확산전류 값 보다 적게된다.
더구나, 제1금속층의 형성기간 동안 스트립의 표면에서 한계확산정류를 초과할 수 있는 국부적인 과전류의 발생을 억제하기 위해 전류가 조정된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (9)
- 스트립상에 적층되어지는 금속이온 용액을 함유하고, 상기 스트립과 접촉하여 음극을 형성하는 도전체인 복수개의 로울러와 각 로울러 근처에 위치한 적어도 하나의 양극을 구비하는, 각각의 도전정 로울러/양극쌍이, 금속스트립의 표면에서 전류밀도(J)가 이온한계확산전류값(J1)이서나 또는 이를 초과할 수 있도록 조절가능한 전류(I)로서 공급되는 적어도 하나의 전해조의 전해액을 스트립이 통과하도록 하는 방식으로 금속스트립을 전기도금하는 방법에 있어서, 상기 스트립상의 적층은 제1 및 제2열의 도전체 로울러/양극쌍의 전류(I)를 조절함으로써 2단계로 수행하되, 한편으로는 2단계동안 스트립의 표면상에서 전류밀도의 평균값(Jm) 이 상기 한계확산전류(J1)보다 적게하고, 다른 한편으로는, 제1단계 동안은 상기 스트립 표면상의 임의 지정에서 국부전류밀도값(J)이 상기 한계확산전류(J1)보다 적게하도록 함을 특징으로 하는 금속스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항에 있어서, 제1적층을 형성하기 위해 사용된 전류밀도의 평균값 보사 더 큰 전류밀도의 평균값(Jm)을 얻기 위해 도전체 로울러/양극 쌍의 제2열 전류(I)를 조절하는 것에 의해 제2금속적층단계가 실행되는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1금속적층단계인 동안 제1열 도전체 로울러/양극쌍의 전류(I)가 조절되어 스트립의 표면에서 전류밀도의 평균값(Jm)이 다음의 관계식 :을 만족하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항 또는 제3항에 있어서, 제1적층단계인 동안 적층된 금속층이 4-6㎛, 바람직하게 5㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항 또는 제4항에 있어서, 제2금속적층단계인 동안 제2열 도전체 로울러/양극쌍의 전류(I)가 조절되어 스트립의 표면에서 전류밀도의 평균값(Jm)이 다음의 관계식시;을 만족하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항 또는 제5항에 있어서, 제1전해조의 제1도전체 로울러/양극 쌍에서 스트립의 경과에 제1금속적층 단계가 대응하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 제1항 또는 제5항에 있어서, 제1전해조의 2개의 제1도전체 로울러/양극 쌍에서 스트립의 경과에 제1금속적층단계가 대응하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 개선된 방법.
- 전술한 항 중 어느 한 항에 있어서, 2개의 금속적층단계인 스트립의 이동속도(V)가 실제 동일하다는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.
- 전술한 항 중 어느 한 항에 있어서, 스트립상에 적층되는 금속이 아연인 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 전기도금하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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