KR930004561B1 - 띠형 강재를 특성개선 가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조 - Google Patents

띠형 강재를 특성개선 가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

띠형 강재를 특성개선 가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조
제1도는 특정개선 가공할 띠형 강재의 종단면도.
제2도는 제1도의 A-A선에 따른 단면도.
제3도는 제1도의 B-B선에 따른 단면도.
제4도는 제1도의 C-C선에 따른 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 띠형재료 2, 2' : 전류 롤
3 : 침지 롤 4 : 아연도금조
5, 7 : 양극 6,8 : 공극
9, 10 : 액체 제트펌프 11, 12 : 띠형재료 섹션
41, 42 : 케이싱 43 : 유출액 포집부
51, 71 : 양극 끝부분 91, 101 : 혼합관
92, 102 : 공급관
[산업상 이용분야]
본 발명은 띠형 강재를 특성개량 가공하기 위한 수직식 아연 도금 전해조에 관한 것이다.
[종래의 기술]
향류조(向流槽)는 서독 특허원 P 334032.0호 명세서에 공지되어 있다.
상기 명세서에서는, 양극과 띠형재료 사이 영역에서 특히 2m/s의 높은 유속을 발생시키기 위한 장치가 개시되어 있다. 이 장치에 의해, 수직 방향의 띠형재료 안내부를 구비한 전해조에 있어서, 예를들면 띠형재료의 한쪽면 또는 양면을 용해성 또는 불용성의 양극(陽極)을 사용하여 특성개선가공할때 특성개선가공면 전체에 걸쳐서 균일하게 고유속을 달성할 수 있게 된다.
에너지 사용량을 가능한한 낮추는 경우 이 고유속은, 전해조중에서 다량의 전해액을 자기순환 시킴으로써 달성할 수 있다.
[발명이 해결하고자 하는 문제점]
본 발명의 목적은 이를 해결하기 위한 장치를 제공하는 것이다.
[문제점을 해결하기 위한 수단]
본 발명의 장치에서, 가능한한 낮은 펌프에너지의 사용하에 행하는 다량의 전해액 순환은 액체 제트 펌프 원리를 적용하므로써 달성된다. 이렇게 하므로써 직접 펌프를 통하여 유입되는 양에 비하여 대략 3 내지 5배의 전해액을 순환 유동시킬 수 있다. 이 순환량의 증대는 본래의 전해조중에 인젝터를 설치함으로써 야기된다.
가용성 양극을 사용할때, 띠형재료 및 양극 관측을 위해 상부 액면을 자유상태로 하기 위해, 띠형재료의 상승섹션에서의 물 제트 펌프가 전해조의 하부 구역에 있어서 양극 후방에 설치되어 있으며 이것이 상향 유동을 발생시키고, 이 유동은 케이싱 및 양극 상부 네크의 적절한 구성에 의해 방향 전환되고 또 양극과 띠형재료 사이의 공극 가운데를 강제관류하여 하향 유동이 발생한다. 이 하향유동은, 전해조이 하부에 있어서 양극 후방에 설치된 물 제트 펌프에 의해 야기되는 부압이 샤프트 형상 유동의 하단에 형성되므로써 형성된다. 이 시스템에 의해 전해액 유량의 대부분이 순환된다.
정제되고 냉각된 전해액의 전해조에의 공급은, 여과기 및 냉각기를 구비한 순환장치를 사용하여 펌프에 의해 필요량의 전해액을 제트노즐로 공급하여 행한다.
띠형재료의 하강섹션에서 제트펌프는 사응하여 구성한 슬릿 노즐을 거쳐서 필요량의 전해액을 양극과 띠형재료 사이의 공극 가운데에 공급하도록 설치되어 있다. 펌프에 의해 상향 인양된 전해액은 상응하는 구조의 양극 네트를 통하여 양극과 띠형재료 사이의 공극으로부터 주위로 흘러나오고 또 일부는 저장 탱크중에 유출할 수 있다.
본 발명의 일실시예를 첨부도면에 의거, 상세히 설명한다.
일반적으로, 제1도의 아연도금조(4)는 장치의 일부이며, 그 장치에서는 다수의 그와같은 아연도금조가 앞뒤로 설치되어 있다. 특성개선가공할 띠형재료(1)의 하강 섹션(11)은 상부 전류 롤(2)로부터 수직하게 설치한 양극(5)사이의 공극(6) 중앙을 통과하여 전해액으로 채워져 있는 케이싱내에 설치된 침지 롤(3)로부터, 띠형재료(1)의 상승 섹션(12)이 수직방향으로 설치된 서로 평행한 양극(7)사이의 상응하는 공극(8)내를 통과하여 상부의 다른 전류 롤(2')로 안내된다.
양극(5, 7)은 띠형재료(1)를 향한 면이 통과하는 띠형재료(1)의 평면에 대해 평행하게 설치되어 있으며, 또 양극의 상측 끝부분(51, 71)에서 제거가능하게 걸려 있다.
양극(5)을 둘러싸고 케이싱(41)이 설치되어 있으며, 이 속에서는 전해액의 유동이 화살표 방향으로 유지된다. 케이싱(41)벽과 양극사이의 공극내에 액체 제트 펌프(9)가 설치되어 있으며, 슬릿형상 끝부분을 구비한 혼합관(91)은 공극(6)하단을 향해 배치되어 있다. 이와같이 하여 고 유속 내지는 고 유동압에 의해 띠형재료의 진행방향과는 반대방향의 전해액 유동이 얻어지고, 이 전해액의 유동은 일반적으로 난류이며 또 통과하는 띠형재료 섹션(11)에 유리한 전해 조건을 가져온다.
양극 끝부분(51) 사이에서 유출(overflow)하는 전해액은 일부가 유출액 포집부(43)내로 유입하고, 또 그 포집부(43)로부터 펌프, 여과기, 열교환기등을 구비한 외부 시스템에 의해 다시 제트펌프(9)로 공급된다.
공극(8)내를 상승하는 띠형재료 섹션(12)이 안내되는 양극(7)의 주위에도 별개의 케이싱(42)이 배치되어 있다. 이 케이싱(42)내의 전해액의 유동 또한 화살표로 도시되어 있다. 액체 제트 펌프(10) 및 그 혼합관(101)을 거쳐서 전해액은 공극(8)의 하부에서 흡인되고 또 혼합관(101)을 통하여 케이싱(42)과 양극(7) 사이의 상응하는 공극내로 압출된다. 이 흡인작용에 의해 공극(8)내에서는 띠형재료 섹션(12)의 진행방향과는 반대방향의 고유속이 달성된다. 양극 끝부분(71)사이의 유출 전해액은 여기에서도 유출액 포집부(43)내로 유출하고 또 공급관(102)을 거쳐서 중간배치되어 있는 처리 시스템으로부터 제트펌프(10)로 공급된다. 제트펌프(9)에 상응하는 공급관은 92로 도시되어 있다.

Claims (3)

  1. 특성개선가공할 띠형재료가 상부의 가이드겸 전류 롤에서 하부의 방향 전환용 침지 롤로 그리고 이 침지 롤에서 다른 상부의 가이드겸 전류 롤로 안내되고, 그때 각각의 특성개선가공해야 할 띠형재료의 상승섹션 및 하강 섹션이 수직방향으로 배치된 양극 사이의 공극내에서 띠형재료의 진행방향과 반대방향으로 고속 순환 유동하는 전해액과 충돌하는, 띠형 강재를 특성개선가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조에 있어서, 양극(5, 7)사이의 각각의 공극(6, 8)내에서 띠형재료의 진행방향과 반대방향의 전해액 유동이 각 공극 입구의 직전 또는 직후에 설치된 액체 제트 펌프(9, 10)에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 띠형강재를 특성개선가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조.
  2. 제1항에 있어서, 끝부분이 슬릿 노즐형상인 액체 제트 펌프(9)의 혼합관(91)이 양극(5) 사이 공극(6)의 하부 개구부 가운데로 개구되어 있으며, 이 공극(6) 가운데로 띠형재료 하강 섹션(11)이 안내되는 것을 특징으로 하는 아연도금 전해조.
  3. 제1항에 있어서, 양극/음극-공극(6, 8)을 형성하는 띠형재료 하강 섹션(11)과 띠형재료 상승 섹션(12)용 양극(5, 7)이 각각의 케이싱(41, 42)에 설치되어 있으며, 이들 케이싱내의 상응하는 액체 제트 펌프(9, 10)에 의해 양극과 음극 사이에서 전해 액류가 순환하는 것을 특징으로 하는 아연도금 전해조.
KR1019860002140A 1985-03-23 1986-03-22 띠형 강재를 특성개선 가공하기 위한 수직식 아연도금 전해조 KR930004561B1 (ko)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1214758B (it) * 1986-12-18 1990-01-18 Centro Speriment Metallurg Processo per il trattamento elettrolitico in continuo di metalli e dispositivo per attuarlo
DE3901807A1 (de) * 1989-01-21 1990-07-26 Roland Schnettler Vorrichtung zum elektrolytischen abscheiden von metallen auf einer oder beiden seiten von baendern
DE4143015C2 (de) * 1991-12-24 1994-07-14 Giv Grundstuecks Und Industrie Stromrolle
WO1995021952A1 (de) * 1994-02-15 1995-08-17 Ecograph Ag Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen oberflächenbeschichtung von werkstücken
DE19510667A1 (de) * 1995-03-23 1996-09-26 Schloemann Siemag Ag Abscheidevorrichtung für Metalle aus einem metallhaltigen Elektrolyten
FR2765597B1 (fr) * 1997-07-02 1999-09-17 Kvaerner Metals Clecim Installation de revetement electrolytique de bandes metalliques, et anode pour une telle installation
KR20010018167A (ko) * 1999-08-17 2001-03-05 신현준 수직형 전기도금조를 구비한 금속 스트립의 전기도금장치
CN108588758A (zh) * 2018-02-24 2018-09-28 洛阳三轩金研环保科技有限公司 一种用于高密度银电解槽的电解液循环系统

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2673836A (en) * 1950-11-22 1954-03-30 United States Steel Corp Continuous electrolytic pickling and tin plating of steel strip
AU540287B2 (en) * 1982-02-10 1984-11-08 Nippon Steel Corporation Continuous electrolytic treatment of metal strip using horizontal electrodes
NL8300946A (nl) * 1983-03-16 1984-10-16 Hoogovens Groep Bv Inrichting voor het tweezijdig electrolytisch bekleden van metaalband.
IT1173714B (it) * 1983-05-16 1987-06-24 Centro Speriment Metallurg Dispositivo per il trattamento elettrolitico di nastri metallici
KR890001111B1 (ko) * 1983-09-07 1989-04-24 미쯔비시주우고오교오 가부시기가이샤 연속 합금전기도금방법 및 장치
JPS6056092A (ja) * 1983-09-07 1985-04-01 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続式合金電気メツキ方法および装置
ATE31560T1 (de) * 1983-11-10 1988-01-15 Hoesch Ag Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen abscheiden von metallen.
IT1177925B (it) * 1984-07-24 1987-08-26 Centro Speriment Metallurg Procedimento per elettrodeposizione in continuo di metalli ad elevata denista' di corrente di celle verticali e relativo dispositivo di attuazione
JPS6173897A (ja) * 1984-09-20 1986-04-16 Nippon Kokan Kk <Nkk> 垂直型電気亜鉛めつき装置
IT1182708B (it) * 1985-02-08 1987-10-05 Centro Speriment Metallurg Perfezionamento nei dispositivi a celle verticali per l'elettrodeposizione, in continuo e a elevata densita' di corrente, di metalli

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Publication number Publication date
ES8702955A1 (es) 1987-01-16
CA1277283C (en) 1990-12-04
JPH0699839B2 (ja) 1994-12-07
ES553221A0 (es) 1987-01-16
AU5491286A (en) 1986-09-25
AU584401B2 (en) 1989-05-25
JPS61221398A (ja) 1986-10-01
EP0196420A3 (en) 1987-12-09
DE3510592A1 (de) 1986-10-02
KR860007399A (ko) 1986-10-10
ATE53867T1 (de) 1990-06-15
DE3510592C2 (ko) 1989-05-24
EP0196420A2 (de) 1986-10-08
US4762602A (en) 1988-08-09
DE3670865D1 (de) 1990-06-07
EP0196420B1 (de) 1990-05-02

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