KR930001712B1 - Varnish impregnation method and apparatus - Google Patents

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미쓰아끼 하라다
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가부시기 가이샤 다구마
후꾸다 쥰기지
가부시기 가이샤 다구마 소오고오겐큐우쇼오
후꾸다니 기요시
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

와니스 함침(含浸)방법 및 장치Varnish Impregnation Method and Apparatus

제1도는 본 발명에 관한 와니스 함침장치의 제1실시예를 표시하는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the varnish impregnation apparatus according to the present invention.

제2a도 및 제2b도는 각각 저점성액의 침투작용을 표시하는 설명도.2A and 2B are explanatory diagrams showing the penetrating action of the low-viscosity liquid, respectively.

제3도는 저점성액인 메틸에틸케톤의 온도 및 증기압 선도.3 is a temperature and vapor pressure diagram of methyl ethyl ketone as a low viscosity liquid.

제4도는 본 발명에 관한 와니스 함침장치의 제2실시예를 표시하는 단면도.4 is a sectional view showing a second embodiment of the varnish impregnation apparatus according to the present invention.

제5도는 본 발명에 관한 와니스 함침장치의 제3실시예를 표시하는 단면도.5 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the varnish impregnation apparatus according to the present invention.

제6도는 그 변형예를 표시하는 장치 요부의 단면도.6 is a sectional view of a main portion of the apparatus, showing a modification thereof.

제7도는 그 변형예를 표시하는 장치의 단면도.7 is a sectional view of a device showing a modification thereof.

제8도는 본 발명에 관한 와니스 함침장치의 제4실시예를 표시하는 단면도.8 is a sectional view showing a fourth embodiment of the varnish impregnation apparatus according to the present invention.

제9도 내지 제11도는 각각 그 변형예를 표시하는 장치의 단면도.9 to 11 are cross-sectional views of devices each showing a modification thereof.

제12도는 본 발명에 관한 와니스 함침장치의 제5실시예를 표시하는 종단측면도.12 is a longitudinal sectional side view showing a fifth embodiment of the varnish impregnation apparatus according to the present invention.

제13도 및 제14도는 각각 그 변형예를 표시하는 장치의 단면도.13 and 14 are cross-sectional views of the apparatus each showing a modification thereof.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 기재 2 : 저점성액 저류조DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Low viscosity liquid storage tank

2' : 저점성액 저류영역 3 : 와니스 저류조2 ': low viscosity liquid storage area 3: varnish storage tank

3' : 와니스 저류영역 4 : 열사이펀실3 ': varnish storage area 4: thermosiphon chamber

4' : 열 사이펀 영역 5 : 기재 가열기구4 ': thermal siphon zone 5: substrate heating mechanism

5a : 가열로울 6 : 냉각기구5a: heating roll 6: cooling mechanism

6a : 냉각로일 6b : 제1냉각코일6a: cooling furnace 6b: first cooling coil

6c : 제2냉각코일 7 : 가이드 기구6c: second cooling coil 7: guide mechanism

8 : 응축액 회수기구 9 : 와니스 함침량 조정기구8: condensate recovery mechanism 9: varnish impregnation amount adjustment mechanism

12 : 저점성포화액 12S : 저점성액 증기12: low viscous saturated liquid 12S: low viscous liquid vapor

13 : 와니스 14 : 추기관13 varnish 14: additional organ

15 : 배기펌프 16 : 압력제어장치15 exhaust pump 16 pressure control device

22 : 불활성 가스공급관 23 : 불활성 가스배기관22: inert gas supply pipe 23: inert gas exhaust pipe

31 : 응축방지기구 32 : 기재 통과통31: condensation prevention mechanism 32: base material passage

36 : 증기분출노즐 37 : 증기누출방지용 냉각기36: steam jet nozzle 37: steam leak prevention cooler

Th : 기재가열온도 Tw : 와니스 온도Th: Substrate heating temperature Tw: Varnish temperature

Ts : 저점성액 온도 Tc : 냉각코일 온도Ts: low viscosity liquid temperature Tc: cooling coil temperature

Pc : 냉각코일 부 증기압 Ph : 기재가열부 증기압Pc: Vapor pressure of cooling coil part Ph: Vapor pressure of substrate heating part

Ps : 저점성액면 증기압 Pw : 와니스 액면 증기압Ps: low viscosity liquid vapor pressure Pw: varnish liquid vapor pressure

본 발명은, 예컨대 전기절연판, 화장판 등의 적층판의 제조에 사용되는 종이, 직물 등의 섬유질 재로 이루어진 시이트 형상 기재에 와니스(varnish)를 함침시키기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 일반적으로, 섬유실재로 이루어진 시이트 형상의 기재에 와니스를 함침시킬 경우, 와니스가 기재의 섬유 내부에까지 함침되어, 각 부분의 와니스량 분포가 얼룩없이 균일한 것이 중요하며, 또한 기재속에 잔존하는 기포를 가급적 적게 하는 것이 요구되고 있다.The present invention relates to a method and an apparatus for impregnating a varnish on a sheet-like substrate made of fibrous materials such as paper and fabrics used in the production of laminated plates such as electrical insulating plates and decorative plates. In general, when the varnish is impregnated with a sheet-shaped substrate made of a fiber material, it is important that the varnish is impregnated to the inside of the fiber of the substrate so that the varnish amount distribution of each part is uniform without staining, and the bubbles remaining in the substrate are As little as possible is required.

종래의 함침방법에서는, 일반적으로, 기재를 예비함침용의 통상 와니스에 예비함침 시킨 뒤에, 타이밀 로울을 거쳐 와니스 통으로 유도되어서, 통상 와니스를 함침시키도록 되어 있는 것이 통례이다.In the conventional impregnation method, in general, after preliminary impregnation of the base material into the usual varnish for pre-impregnation, it is customary to guide the varnish through a mill mill roll to impregnate the varnish.

그런데, 이와 같이 함침방법에서는, 기재의 내부까지 와니스를 균일하고, 충분하게 함침시키는 일이 곤란하며, 와니스를 함침시키는데 장시간을 요하고, 기재속에 잔존하는 기포를 충분히 감소시키는 일이 곤란하였다.By the way, in this impregnation method, it is difficult to uniformly and sufficiently impregnate the varnish to the inside of the base material, it takes a long time to impregnate the varnish, and it is difficult to sufficiently reduce the bubbles remaining in the base material.

이러한 문제는, 특히 고점도의 와니스를 사용했을 경우에 현저하게 나타난다. 그래서, 근래에는, 상기한 예비함침용의 통상 와니스 대신에 용제 혹은 용제를 다량 함유하는 희박한 와니스(이하 "예비함침액"이라함)가 담긴 예비함침조와 통상 와니스가 담긴 본함침조를 병치하여, 기재를 가이드로울에 의하여 예비함침조, 본 함침조를 차례대로 통과시키도록 실시되어 있다.This problem is particularly noticeable when varnishes of high viscosity are used. Thus, in recent years, a pre-impregnation tank containing a thin varnish (hereinafter referred to as "preliminary impregnation liquid") containing a large amount of a solvent or a solvent in place of the above-mentioned conventional varnish for pre-impregnation and a main impregnation tank containing a conventional varnish, The substrate is passed through the preliminary impregnation tank and this impregnation tank in order by a guide roller.

이러한 함침방법에 의하여, 기재가 예비함침액 속을 통과하는 동안에, 기재속의 공기가 예비함침액과 치환되어 배제되므로, 기재에 함침된 예비함침액을 증발시키면서 기재를 와니스 속으로 가져오면, 와니스를 효율 높게 함침시킬 수 있음과 아울러, 기포의 감소를 도모할 수가 있다.By this impregnation method, while the substrate is passed through the pre-impregnation liquid, the air in the substrate is replaced by the pre-impregnation liquid, so that the substrate is brought into the varnish while evaporating the pre-impregnation liquid impregnated with the substrate, the varnish is In addition to being able to be impregnated with high efficiency, bubbles can be reduced.

그러나, 예비함침액으로부터 와니스로 이행단계에 있어서, 기재가 공기에 닿게 되고, 함침조 사이의 가이드 로울에 의한 압축작용을 받으므르서, 기재속의 공기배제가 충분히 이루어지지 않고, 와니스 함침성, 보이드레스 효과(voidless effect)를 지나치게 기대하기가 어렵다.However, in the transition step from the pre-impregnation liquid to the varnish, the substrate comes into contact with the air and is subjected to the compression action by the guide roll between the impregnation tanks, so that the air removal in the substrate is not sufficiently achieved, and the varnish impregnation and the visible It is difficult to expect too much of a voidless effect.

즉, 기재가 상기한 로울에 이르면, 기재를 구성하는 섬유 속에 접촉면 압력이 작용하여, 섬유속의 개섬하게 되고, 섬유속의 모관력에 의하여 유지되어 있는 예비함침액의 액상이 파괴된다. 그리고, 가이드로울을 통과한 시점에서 섬유속의 압축은 해제되지만, 이러한 해압작용에 의하여 개섬된 섬유 속은 재형성된다. 이와 같이, 섬유속에 있어서의 함침액상의 파괴와 개섬된 섬유속의 재형성이 공기 중에서 실시되므로서, 예비함침액에서 와니스로 이행 단계에 있어서 기재에는 공기가 재침입할 우려가 있다.That is, when the substrate reaches the roll described above, the contact surface pressure acts on the fibers constituting the substrate to open the fiber bundle, and the liquid phase of the pre-impregnation liquid held by the capillary force of the fiber bundle is destroyed. Then, the compression of the fiber bundle is released at the time when it passes through the guide roll, but the fiber bundle opened by this decompression action is reformed. As described above, since the impregnation liquid phase breakdown in the fiber bundle and the remodeling of the opened fiber bundle are performed in air, there is a fear that air is re-intruded into the substrate during the transition from the pre-impregnation liquid to the varnish.

본 발명의 목적은, 첫째 기재에 와니스를 균일하고 또한 충분하게 단시간에 함침시킬 수 있고, 게다가 기재중의 기포를 전부 없앨 수 있어서, 전기절연판, 화장판 등의 최종제품의 품질을 대폭 향상시킬 수 있는 프레임 프레그네이숀을 얻을 수 있는 함침방법 및 장치를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to firstly impregnate the varnish in a short time in a uniform and sufficient manner, and to further eliminate all bubbles in the base material, thereby significantly improving the quality of the final product such as an electrical insulation plate and a decorative plate. The present invention provides an impregnation method and apparatus for obtaining a frame fragmentation.

둘째, 타이밀로울 등을 필요로 하지 않고, 장치 구조의 대폭적인 소형화, 간략화를 도모할 수 있는 와니스 함침방법 및 장치를 제공하는데 있다.Secondly, it is to provide a varnish impregnation method and apparatus capable of drastically miniaturizing and simplifying the structure of a device without requiring a tumble mill or the like.

셋째, 기재에 있어서의 저점성액 사용량이 극히 근소하게 되고, 외니스 함침 후의 건조공정에 있어서 건조로 배기량을 대폭 감소시킬 수가 있는 와니스 함침방법 및 장치를 제공하는데 있다.Third, the present invention provides a varnish-impregnation method and apparatus in which the amount of low-viscosity liquid used in the base material is extremely small, and in the drying step after the external varnish impregnation, the amount of exhaust gas can be greatly reduced by drying.

넷째, 지점성액의 손실 및 와니스의 희석화를 효과적으로 방지할 수 있음과 아울러 와니스 함침작용을 촉진을 도모할 수 있는 와니스 함침방법 및 장치를 제공하는 데 있다.Fourth, to provide a varnish impregnation method and apparatus that can effectively prevent the loss of branch liquid and dilution of the varnish, and can promote the varnish impregnation action.

다섯째, 기재속도 등의 와니스 함침조건의 변경, 변동에도 불구하고, 항상 열사이펀 영역의 증기압력을 일정범위로 유지할 수 있으며, 양호한 와니스 함침을 실시할 수 있는 와니스 함침방법 및 장치를 제공하는데 있다.Fifth, the present invention provides a varnish impregnation method and apparatus capable of maintaining a good varnish impregnation and capable of maintaining a constant vapor pressure in a thermosiphon region at all times despite changes and variations in varnish impregnation conditions such as substrate speed.

여섯째, 고정밀도의 압력제어 장치 등을 전혀 필요로 하지 않고, 장치구조를 복잡화, 대형화 하지 않음과 아울러, 열사이펀 영역의 증기압력제어를 압력제어장치 등에 의한 경우에 비하여, 한층 확실하고 정확하게 실시할 수 있는 방법 및 장치를 제공하는데 있다.Sixth, it does not require a high-precision pressure control device or the like, does not complicate and enlarge the device structure, and more precisely and accurately perform steam pressure control in the thermosiphon region than in the case of the pressure control device. It is to provide a method and apparatus that can be.

일곱째, 운전정지시 등에 있어서 열사이펀 실내가 전공 혹은 부압(負壓)상태로 되는 경우에 있어서도, 이와 같은 사태의 발생을 미연에 방지하여, 저점성액이나 와니스가 열사이펀실로 흡상되는 사례가 전혀 발생되지 않는 방법 및 장치를 제공하는데 있다. 이러한 목적은, 다음과 같은 와니스 함침방법 및 장치에 의하여 달성된다.Seventh, even when the thermosiphon interior becomes a major or negative pressure state during operation stoppage, such occurrences are prevented, and low viscosity liquids and varnishes are sucked into the thermosiphon chamber. To provide a method and apparatus that is not. This object is achieved by a varnish impregnation method and apparatus as follows.

본 발명의 방법에서는, 용제 등의 저점성액을 담은 저점성액 저류영역과 와니스를 담은 와니스 저류영역과의 사이에, 와니스 저류영역으로 그 액면에서 액봉된 상태로 연통하는 열사이펀 영역을 설치하여, 섬유질재로 된 시이트 형상의 기재를 저점성액 저류영역, 열사이펀영역, 와니스 저류영역을 차례대로 통과시킴과 아울러, 열사이펀 영역에 있어서 기재를 가열하여 이것에 함침된 저점성액을 증발시키도록 한다.In the method of the present invention, a thermosiphon region is provided between the low-viscosity storage region containing a low-viscosity liquid such as a solvent and the varnish storage region containing a varnish, and the thermosiphon region communicating with the liquid is sealed at the liquid level. The sheet-like substrate made of ash is passed through the low-viscosity storage region, the thermosiphon region, and the varnish storage region in order, and the substrate is heated in the thermosiphon region to evaporate the low-viscosity liquid impregnated therein.

열사이펀 영역에 있어서의 기재가열부로부터 와니스 저류영역에 도달할때까지의 기재 통과 영역부분에 있어서는, 기재를 저점성액 증기의 응축온도 이상으로 가열 또는 보온시키도록 해두는 것이 바람직하다. 열사이펀 영역에서 발생된 저점성액 증기는, 응축액화시켜서 회수하는 것이 바람직하다.In the portion of the substrate passing region from the substrate heating portion in the thermosiphon region to the varnish storage region, it is preferable to heat or keep the substrate above the condensation temperature of the low-viscosity vapor. The low-viscosity vapor generated in the thermosiphon region is preferably condensed and recovered.

열사이펀 영역을 저점성액 저류영역으로 그 액면에서 액봉된 상태로 연통시켜 두고, 그 연통부분에 있어서의 저점성액을 가열증발 시켜서, 증발량을 연통부분에 있어서의 액봉면의 변동에 따라 제어시키도록 하는 것이 좋다.The thermosiphon region is connected to the low-viscosity liquid storage region in a liquid sealed state at the liquid level, and the low-viscosity liquid in the communicating portion is heated and evaporated to control the amount of evaporation according to the variation of the liquid sealing surface in the communicating portion. It is good.

열사이펀 영역에 있어서는, 그 영역에서 발생된 저점성액 증기를 기재출구 쪽으로부터 기재입구 방향으로 유동시키도록 하여 두는 것이 바람직하다. 열사이펀 영역과 와니스저류 영역과의 연통부분 만은, 저점성액의 비등 이상의 온도로 가열, 보온 시키도록 하여 두는 것이 바람직하다. 이러한 방법을 실시하기 위한 장치는, 용제 등의 저점성액을 저류시킨 저섬성액 저류조와, 와니스를 저류시킨 와니스 저류조 및 저점성액 저류조의 액면하부 또는 액면 상부에 있어서 개구하는 기재입구부 및 와니스 저류조의 액면 하부에 있어서 개구하는 기재출구부를 구비한 열사이펀실과, 섬유질재로 된 시이트 형상의 기재를 저점성액 저류조, 열사이펀실, 와니스 저류조로 차례로 통과시키도록 안내하는 가이드 기구와, 열사이펀 실내에 있어서 기재를 가열하여, 함침되어 있는 지점성액을 증발시키는 기재 가열 기구 등을 구비한다.In the thermosiphon region, it is preferable to allow the low-viscosity vapor generated in the region to flow from the substrate outlet side toward the substrate inlet direction. It is preferable that only the communicating portion between the thermosiphon region and the varnish storage region be heated and kept at a temperature above the boiling point of the low-viscosity liquid. An apparatus for carrying out such a method includes a low-island liquid storage tank in which low-viscosity liquids such as solvents are stored, and a liquid level of the base inlet portion and the varnish storage tank which are opened at the lower or upper surface of the varnish storage tank and the viscous liquid storage tank in which the varnish is stored. A thermosiphon chamber having a base outlet opening in the lower portion, a guide mechanism for guiding the sheet-shaped substrate made of fibrous material to pass through the low-viscosity storage tank, the thermosiphon chamber, and the varnish storage tank, and the substrate in the thermosiphon interior. And a substrate heating mechanism for evaporating the impregnated branch liquid.

이 장치에 있어서는, 열사이펀실 내의 저점성액 증기를 응축액화 하는 냉각기구와, 냉각기구에 의하여 응축액화된 저점성액을 회수하는 응축액 회수기구를 구비해 두는 것이 좋다. 기재가열 기구로부터 기재 출구 부의 개구 단부에 이르는 기재통과 영역부분에 있어서, 기재를 저점성액 증기의 응축온도 이상으로 가열 또는 보온하는 응축방지기구를 구비한다.In this apparatus, a cooling mechanism for condensing the low viscosity liquid vapor in the thermosiphon chamber and a condensate recovery mechanism for recovering the low viscosity liquid condensed by the cooling mechanism may be provided. In the substrate passing area portion from the substrate heating mechanism to the opening end of the substrate outlet, a condensation preventing mechanism for heating or keeping the substrate above the condensation temperature of the low-viscosity vapor is provided.

기재 입구부를 저점성액 저류조의 액면하에 개구시킨 경우에는, 기재입구부 내의 저점성액류에 상하방향으로 뻗어있는 저점성액 가열면을 배설하여, 저점성액류의 액면 변동에 따라 저점성액의 가열증발량이 변화 하도록 구성된 저점성액 가열기구를 구비한다.When the substrate inlet is opened under the liquid level of the low-viscosity liquid storage tank, the low-viscous liquid heating surface extending in the vertical direction is disposed in the low-viscosity liquid in the substrate inlet, and the heating evaporation amount of the low-viscosity liquid changes according to the liquid level variation of the low-viscosity liquid. And a low viscosity liquid heating mechanism configured to.

기재출구부에 저점성액 저류부 및 저점성액 가열기를 구비하고 있고 지점성액 저류부의 저점성액을 가열증발시킴과 아울러 열사이펀 실내에서 발생하는 저점상액 증기를 기재출구부 쪽으로부터 기재입구부 방향으로 유동시키는 증기유동기구를 구비한다. 이 경우에, 저점성액 저류조와 저점성액 저류부를 연통시켜 두는 것이 바람직하다.The base outlet is provided with a low viscosity liquid storage part and a low viscosity liquid heater, and heats and evaporates the low viscosity liquid in the viscous liquid storage part and flows the low viscosity liquid vapor generated in the thermosiphon room from the substrate exit part toward the substrate inlet part. A steam flow mechanism is provided. In this case, it is preferable to keep the low viscosity liquid storage tank and the low viscosity liquid storage part in communication.

또, 증기유동기구를, 기재입구부에 설치하여 저점성액 저류부로 연통하는 저점성액 회수부와, 저점성액 회수부에 배설된 냉각기를 구비한다. 열사이펀 실의 둘레벽은 재킷 구조로 구성하여, 그 재킷 안으로 가열매체를 공급, 유동시키도록 하고, 기재출구부 내에 있어서의 와니스 액면과의 경계부분을 저점성액의 비등점 이상으로 가열하는 가열장치를 설치하고, 기재출구부에 있어서의 기재통로의 단면적을, 기재의 통과를 허용할 수 있는 범위에 있어서 최소가 되도록 설정한다. 와니스 저류조를 경과한 기재에 포함된 와니스량을 조정하는 와니스 함침량 조정기구를 구비하고 열사이펀 실내에 저점성액 증기를 공급하는 증기분출 노즐을 구비해 두는 것이 바람직하다.A vapor flow mechanism is provided at the base inlet and provided with a low viscosity liquid recovery part communicating with the low viscosity liquid storage part, and a cooler disposed in the low viscosity liquid recovery part. The circumferential wall of the thermosiphon seal has a jacket structure so as to supply and flow a heating medium into the jacket, and to heat the boundary portion with the varnish liquid surface in the base exit portion to a boiling point of the low viscosity liquid above the boiling point. The cross-sectional area of the substrate passage at the substrate outlet is set so as to be the minimum in a range that allows passage of the substrate. It is preferable to provide a varnish impregnation amount adjusting mechanism for adjusting the varnish amount contained in the substrate having passed through the varnish storage tank and to provide a vapor ejection nozzle for supplying a low viscosity liquid vapor into the thermosiphon interior.

저점성액저류조의 상면부는 기재입구부를 부착한 뚜껑으로 폐색하고, 이 뚜껑으로 형성된 기재의 도입구에는 증기 누출방지용 냉각기를 설치해 두는 것이 좋다.The upper surface of the low-viscosity liquid storage tank is closed with a lid attached to the substrate inlet, and a vapor leak preventing cooler is provided at the inlet of the substrate formed by the cap.

제1도는 본 발명의 제1실시예를 표시한다. 이 실험예의 와니스 함침 장치는, 용제 등의 저점성액(12)이 소정량 저류된 윗면이 개방형상인 저점성액 저류조와 와니스(13)를 소정량 저류한 윗면이 개방형상인 와니스 저장조(3), 양쪽 저장조(2), (3)사이에 배치된 열사이펀 실(4), 열사이펀실(4) 내에서 기재(1)를 가열하는 기재가열기구(5), 저점성액증기를 응축액화하는 냉각기구(6), 기재(1)를 소정의 경로에 따라 주행안내 하는 가이드 기구(7), 응축화된 저점성액(12)을 회수하는 응축액회수 기구(8), 와니스 함침량 조정기구(9)등을 구비한다.1 shows a first embodiment of the present invention. The varnish impregnation apparatus of this experimental example is a varnish storage tank (3) having both a low-viscosity liquid storage tank having an open shape and a top-side varnish storage tank (3) in which a predetermined amount of a low-viscosity liquid (12) such as a solvent is stored, and a storage tank (2), both storage tanks. A thermosiphon chamber (4) disposed between (2) and (3), a substrate heating mechanism (5) for heating the substrate (1) in the thermosiphon chamber (4), and a cooling mechanism for condensing the low-viscosity vapor ( 6), a guide mechanism 7 for guiding the substrate 1 along a predetermined path, a condensate recovery mechanism 8 for recovering the condensed low viscosity liquid 12, a varnish impregnation amount adjustment mechanism 9, and the like. Equipped.

기재는 섬유질재로된 시이트 형상인 것으로서, 합성, 천연의 유기, 무기섬유로 된 직포, 부직포 등이 사용된다. 저점성액(12)으로서는, 기재(1)에 대하여 충분히 젖어드는 성질을 보유한 것이 사용된다. 구체적으로는 와니스(13)보다 낮은 점도의 100CP이하의 점도용제 등을 사용하지만, 함침시키려는 와니스에 배합된 용제와 동질의 것을 사용하는 것이 바람직한데, 그 이유는 와니스(13)에 혼입된 경우에도 지장이 없기 때문이다. 또한, 저점성액(12)은, 도시하지 않은 온도제어장치에 의하여 소정온도(Ts)로 유지되어 있다.The substrate is in the form of a sheet made of a fibrous material, and synthetic, natural organic, woven and nonwoven fabrics made of inorganic fibers are used. As the low-viscosity liquid 12, one having a property of sufficiently wetting with respect to the substrate 1 is used. Specifically, a viscosity solvent having a viscosity lower than 100CP or the like of the varnish 13 is used, but it is preferable to use a solvent having the same content as the solvent blended with the varnish to be impregnated, even if it is incorporated into the varnish 13. Because there is no problem. In addition, the low viscosity liquid 12 is maintained at predetermined temperature Ts by the temperature control apparatus which is not shown in figure.

와니스(13)로서는, 일반적으로 열경화성수지 와니스가 사용되지만, 가타, 열가소성 수지, 천연수지 등의 와니스나 무용제인 액상합성수지, 액상천연수지 등도 사용된다. 또한, 와니스(13)는, 도면에 표시하지 않은 온도제어장치에 의하여 저점성액 온도(Ts)보다 높은 소정온도(Tw)로 유지되어 있다.As the varnish 13, a thermosetting resin varnish is generally used, but varnishes such as gauze, thermoplastic resins, natural resins, liquid synthetic resins, solvent-free natural resins, and the like are also used. The varnish 13 is maintained at a predetermined temperature Tw higher than the low viscosity liquid temperature Ts by a temperature controller not shown in the figure.

열사이펀실(4)은 양쪽 저류조(2), (3)사이의 윗쪽부위에 배설되어 있고, 저벽부에 원통형상의 기재입구부(4a) 및 기재출구부(4b)를 수직으로 설치한 역U자 형상의 사이펀관 형상을 구성하고 있다.The thermosiphon chamber 4 is arranged in the upper part between both the storage tanks 2 and 3, and the station U which vertically provided the cylindrical base material inlet part 4a and the base material outlet part 4b in the bottom wall part is installed vertically. The siphon tube shape is formed.

기재입구부(4a) 및 기재출구부(4b)는, 각각 저점성액 저류영역(2') 및 와니스 저류영역(3')의 액면(12'), (13')하에서 개구되어 있고, 열사이펀실(4)내를 액봉에 의하여 밀폐된 열사이펀 영역(4')을 형성하고 있다.The substrate inlet portion 4a and the substrate outlet portion 4b are opened under the liquid surfaces 12 'and 13' of the low viscosity liquid storage region 2 'and varnish storage region 3', respectively, and are thermosiphoned. The inside of the chamber 4 is formed with the thermosiphon region 4 'sealed by the liquid rod.

기재입구부(4a)는, 그 단면적을 크게하여, 저점성액 포화증기의 응축부 면적이 넓게 되도록 고안되어 있고, 기재출구부(4b)는, 그 단면적을 작게하여, 저점성액 포화증기의 증발부 면적이 좁게되도록 고안되어있다.The substrate inlet portion 4a is designed to increase its cross-sectional area and to increase the area of the condensation portion of the low-viscosity saturated steam. The substrate outlet portion 4b has a small cross-sectional area and evaporation portion of the low-viscosity saturated steam. It is designed to be narrow in area.

기재입구부(4a) 및 기재출구부(4b)를 포함하는 열사이펀실(4)의 주벽은 단열벽으로 구성되어 있어, 저점성액 증기가 외계공기에 의하여 냉각되어서 열사이펀실(4)의 내벽면에 응축부착하는 것을 방지하도록 고안되어 있다. 또, 열사이펀실(4)에는 추가관(14)이 접속되어 있다.The main wall of the thermosiphon chamber 4 including the substrate inlet portion 4a and the substrate outlet portion 4b is composed of a heat insulating wall, so that the low-viscosity vapor is cooled by the external air and the inside of the thermosiphon chamber 4 It is designed to prevent condensation on the wall. In addition, an additional pipe 14 is connected to the thermosiphon chamber 4.

이 추기관(14)에는 배기펌프(15) 및 압력제어 밸브(16)가 개설되어 있어, 열사이펀 영역(4')의 공기를 배제함과 아울러 그 영역(4')압력을 제어하도록 되어 있다.An exhaust pump 15 and a pressure control valve 16 are provided in the weight pipe 14 to remove the air in the thermosiphon region 4 'and to control the region 4' pressure. .

또, 추기관(14)은 에어세퍼레이터(17)에 유도되어, 추기관(14)으로부터 배재되는 공기속에 내포되는 저점성액 증기(12s)를 포화액(12)으로부터 분리회수 하도록 되어 있다. 에어 세퍼레이터(17)에 의해 분리된 저점성액(12)은, 회수관(18)을 통해 저점성액 저류조(2)에 회수된다. 기재가열기구(5)는, 열사이펀실(4)의 가열로울(5a)을 기재(1)의 회행(回行)에 추종하도록 회전자재하게 설치되어 있다.In addition, the weight pipe 14 is guided to the air separator 17 to separate and recover the low-viscosity liquid vapor 12s contained in the air discharged from the weight pipe 14 from the saturated liquid 12. The low viscosity liquid 12 separated by the air separator 17 is recovered to the low viscosity liquid storage tank 2 via the recovery pipe 18. The base material heating mechanism 5 is rotatably provided so that the heating roll 5a of the thermosiphon chamber 4 can follow the circulation of the base material 1.

이 가열로울(5a)은, 열사이펀 영역(4')에 있어서 기재(1)를 저점성액(12)의 비등점 이상 혹은 그 근처온도로 가열하여, 이에 함침시키는 저점성액(12)을 증발시키는 것이다. 가열로울(5a)은, 기계(1)의 통과방향으로 회전구동시키도록 해두어도 무방하다. 이런 경우, 로울 주속을 기재(1)의 주행속도와 일치시켜야 함은 말할 나위도 없다.This heating roll 5a heats the base material 1 at the boiling point of the low-viscosity liquid 12 or near its boiling point in the thermosiphon region 4 ', and evaporates the low-viscosity liquid 12 to be impregnated therein. . The heating roll 5a may be rotated in the passing direction of the machine 1. In this case, it goes without saying that the roll circumferential speed must match the traveling speed of the substrate 1.

가열로울(54a)에 의한 기재 가열 온도 Th(>Tw)는, 도면에 표시되지 않은 온도제어 장치에 의하여 제어되지만, 그 증발능력은, 기재(1)에 함침되어서 열사이펀실(4)내로 반입되는 최대량의 저점성액을 증발시키는데 충분한 것으로 되어 있다. 냉각기구(6)는, 열사이펀실(4) 내에서의 기재출구부(4b)의 상단부위에 배설된 냉각코일(6a)을 구비한다. 이 냉각코일(6a)은, 열사이펀영역(4')에서 발생하는 저점성액 증기(12s)를 기재출구부(4b) 쪽에서 응축액화시켜서, 열사이펀 현상을 효과적으로 실시하게 함과 아울러 저점성액증기(12s)가 와니스 저류 영역(3')에서 응축하는 것을 극력 회피시키는 것이다. 냉각코일 온도(Tc)는 저점성액 온도(Ts)보다 저온으로 유지되어 있다. 주행가이드 기구(7)는, 저점성액저류조(2) 윗쪽 및 각 저류조(2), (3)내에 배설한 가이드 로울(7a)…, (7b)…로 되어 있어, 기재(1)가 기재공급원(1')으로부터 저점성액 저류영역(2')을 통과하여, 기재입구부(4a)에서 열사이펀 영역(4')에 이르고, 가열로울(5) 및 냉각코일(6a)을 통과하여 기재출구부(4b)에서 와니스저류조(3)에 이르며, 와니스 저류영역(3')을 거쳐 와니스 함침량 조정기구(9)를 통과하도록 안내하는 것이다.Although the substrate heating temperature Th (> Tw) by the heating roll 54a is controlled by the temperature control apparatus not shown in the figure, the evaporation capability is impregnated in the substrate 1 and carried in into the thermosiphon chamber 4. It is sufficient to evaporate the maximum amount of low-viscosity liquid. The cooling mechanism 6 is provided with the cooling coil 6a arrange | positioned at the upper end part of the base-material exit part 4b in the thermosiphon chamber 4. The cooling coil 6a condenses and liquefies the low-viscosity vapor 12s generated in the thermosiphon region 4 'at the substrate outlet portion 4b to effectively perform the thermosiphon phenomenon and to provide a low-viscosity liquid vapor ( 12s) avoids condensation in the varnish storage region 3 'as much as possible. The cooling coil temperature Tc is kept lower than the low viscosity liquid temperature Ts. The travel guide mechanism 7 includes a guide roll 7a disposed above the low viscosity liquid storage tank 2 and in each of the storage tanks 2 and 3. , (7b)... The substrate 1 passes from the substrate supply source 1 'through the low viscosity liquid storage region 2', reaches the substrate siphon region 4a to the thermosiphon region 4 ', and the heating roll 5 And through the cooling coil 6a to reach the varnish storage tank 3 from the base outlet 4b, and pass through the varnish impregnation amount adjusting mechanism 9 through the varnish storage region 3 '.

각 저류영역(2'), (3')에 배설되어 있는 가이드로울(7a)…, (7b)의 최소한 하나의 기재(1)에 폭방향으로 신전력(伸展力)을 줄 수 있는 익스팬더식으로 구성되어 있고, 기재(1)의 진행방향에 대하여 직각방향의 저점성액 저류영역(2')에서의 공기와 저점성액과의 치환 및 와니스 저류영역(3')에서의 와니스 함침을, 각각 촉진시키도록 도모하고 있다.Guide rollers 7a disposed in the respective storage areas 2 ', 3'. , The expander type which can give new power to the at least one base material 1 of 7b in the width direction, and the low viscosity liquid storage area | region perpendicular to the advancing direction of the base material 1 ( Substitution of air and the low-viscosity liquid in 2 ') and varnish impregnation in the varnish storage region 3' are promoted, respectively.

응축액 회수기구(8)는, 열사이펀실(4)의 저벽부의, 냉각코일(6a)바로 아래 위치에 배치되어 응축액류(8a)를 형성함과 아울러, 이 응축액류(8a)로부터 연결되어 기재입구부(4a) 아랫쪽으로 경사지게 유하면(8b) 형성하여 이루어진다.The condensate recovery mechanism 8 is arranged at a lower position of the bottom wall portion of the thermosiphon chamber 4 immediately below the cooling coil 6a to form a condensate flow 8a, and is connected to the substrate from the condensate 8a. The lower surface 8b is formed to be inclined downward from the inlet portion 4a.

와니스 함침량 조정기구(9)는, 와니스 저류조(3)위에 스키이즈 로울(squeeze roll) 또는 스키이즈 바아를 배설하여 이루어지며, 와니스 저류조(3)를 경과한 기재(1)를 스퀴즈하여, 와니스 함침량을 조정한다.The varnish impregnation amount adjusting mechanism 9 is formed by disposing a squeeze roll or a squeeze bar on the varnish storage tank 3, and squeezes the base material 1 that has passed the varnish storage tank 3 to the varnish. Adjust the impregnation amount.

이상과 같이 구성된 와니스 함침장치에 의하여, 본 발명의 방법이 다음과 같이 실시된다. 우선, 기재(1)는 기재공급원(1')으로부터 저점성액 저류조(2)에 도달하여 저점성액(12)속에 침지되어, 기재(1) 속의 공기가 저점성액(12)과 치환된다. 즉, 기재(1)가 저점성액(12)의 액면에 도달하면, 저점성액(12)이 모세관형상에 의하여 기재(1)를 구성하는 섬유속(1a)에 침투되고, 동시에, 그 침투력에 의하여 섬유속(1a)안의 공기는 압출된다. 이러한 침투작용은, 섬유속(1a)에서의 침투저항 때문에 어느 단계에서 정지된다.With the varnish impregnation device configured as described above, the method of the present invention is carried out as follows. First, the base material 1 reaches the low viscosity liquid storage tank 2 from the base material supply source 1 'and is immersed in the low viscosity liquid 12, and the air in the base material 1 is replaced with the low viscosity liquid 12. As shown in FIG. That is, when the base material 1 reaches the liquid level of the low viscosity liquid 12, the low viscosity liquid 12 penetrates into the fiber bundle 1a constituting the base material 1 by capillary shape, and at the same time, The air in the fiber bundle 1a is extruded. This penetrating action is stopped at any stage because of the penetration resistance in the fiber bundle 1a.

침투작용의 정지는, 기재(1)의 주행속도, 결국 섬유속(1a)의 저점성액(12)으로의 침입속도(V1)가 침투속도(V2)보다 큰 경우는 액면(12')위에서 발생되고 (제2a도 참조), V1<V2인 경우는 액면(12') 아래에서 발생된다(제2b도 참조).The stoppage of the penetrating action is the liquid surface 12 'when the traveling speed of the substrate 1, and eventually the penetration speed V 1 of the fiber bundle 1a into the low-viscosity liquid 12 is greater than the penetration speed V 2 . It is generated above (see also part 2a), and when V 1 <V 2 , it occurs below the liquid level 12 '(see also part 2b).

따라서, 기재(1)가 저점성액 저류 영역(2')을 통과하는 동안에 익스팬더식 가이드 로울(7a)에 의한 작용을 받음과 아울러 서로 작용하여, 섬유속(1a) 안의 공기는 전부 저점성액(12)과 치환되어 배제된다.Accordingly, while the substrate 1 passes through the low-viscosity storage region 2 ', it is acted upon by the expander-type guide roll 7a and interacts with each other so that all the air in the fiber bundle 1a is low-viscosity 12 ) And are excluded.

그리고, 저점성액(12)이 함침된 기재(1)는, 저점성액 저류영역(2')의 액면 하에 있어서 개구된 기재 입구부(4a)로부터 열사이펀실(4)내에 이르러 가열로울(5a)에 의하여 가열되면서, 기재(1)에 함침되어 있는 저점성(12)이 증발제거된다.Then, the substrate 1 impregnated with the low-viscosity liquid 12 reaches the inside of the thermosiphon chamber 4 from the substrate inlet portion 4a opened under the liquid level of the low-viscosity liquid storage region 2 ', and the heating roll 5a. By heating, the low viscosity 12 impregnated in the substrate 1 is evaporated off.

이때, 기재(1)는 그 진행속도로서 저점성액(12)을 기재가열부(5)로 계속공급하므로써 열사이펀으로서의 위크(wick) 역할을 하게 된다. 한편, 열사이펀실(4) 내에는, 공기는 배기펌프(15)로 미리 배제해 두므로서, 저점성액의 포화증기로 가득차게 된다.At this time, the substrate 1 serves as a wick as a thermosiphon by continuously supplying the low-viscosity liquid 12 to the substrate heating unit 5 as the moving speed thereof. On the other hand, in the thermosiphon chamber 4, air is preliminarily removed by the exhaust pump 15, and the air is filled with saturated steam of the low-viscosity liquid.

또, 기재가열 온도(Th)>와니스 온도(Tw)>저점성액 온도(Ts)>냉각코일 온도(Tc)로 되어 있으므로, 열사이펀 영역(4')에서의 저점성액(12)의 각부 증기압은 기재가열부 증기압(Ph)>와니스 액면증기압(Pw)>저점성액면 증기압(Ps)>냉각코일부 증기압(Pc)으로 되고, 저점성액 증기(12s)가 이 압력 구배에 의하여 음속으로 이동되며, 그 대부분이 기재가열부(5a)로부터 저점성액 저류조(2)로 회수되어, 와니스 저류조(3)에 침입하지 않는다.In addition, since the substrate heating temperature (Th)> varnish temperature (Tw)> low viscosity liquid temperature (Ts)> cooling coil temperature (Tc), the vapor pressure of each part of the low viscosity liquid 12 in the thermosiphon region 4 ' Substrate Heating Part Vapor Pressure (Ph)> Varnish Liquid Vapor Pressure (Pw)> Low Viscosity Liquid Vapor Pressure (Ps)> Cooling Coil Part Vapor Pressure (Pc) The low-viscosity vapor (12s) is moved at the speed of sound by this pressure gradient. Most of them are recovered from the base material heating part 5a to the low viscosity liquid storage tank 2 and do not invade the varnish storage tank 3.

즉, 기재가열부(5a)에서 발생된 저점성액 증기(12s)는, 제1도에 표시하듯이, 열사이편실(4)에서 기재입구부(4a)를 거쳐 저점성액 저류조로 역류되거나 혹은 냉각코일(6a)에 의하여 액화되어 응축액류(8a)에서 유하면 (8b)을 거쳐 저점성액 저류조(2)로 역류되는 것이다.That is, as shown in FIG. 1, the low-viscosity vapor 12s generated in the substrate heating section 5a is flowed back into the low-viscosity storage tank via the substrate inlet section 4a from the thermosylyzer chamber 4 or the cooling coil. It liquefies by (6a) and flows back into the low viscosity liquid storage tank (2) via the oil surface (8b) in the condensate (8a).

따라서, 열사이펀실(4)에서 가열된 기재(1)는 저점성액(12) 포화증기(12s)를 함유할 뿐, 공기를 함유하지 않는 상태에서 기재출구부(4b)로부터 와니스 저류조(3)내에 도달하여, 와니스(13)속으로 침지된다. 이때, 기재(1)는 기재출구부(4b)의 액봉부(13a)에서 공기에 접촉하지 않은 상태로 와니스 저류영역(3')에 초래되며, 열사이펀영역(4')에서 와니스 저류영역(3')으로 이행하는 단계에 있어서 기재(1)에 공기가 침입하는 일은 없다.Therefore, the substrate 1 heated in the thermosiphon chamber 4 contains the low viscosity liquid 12 and the saturated steam 12s, and the varnish storage tank 3 from the substrate outlet portion 4b in the state of not containing air. Is reached and immersed into the varnish 13. At this time, the substrate 1 is brought into the varnish storage region 3 'in a state of not contacting the air in the liquid sealing portion 13a of the substrate outlet portion 4b, and the varnish storage region (in the thermosiphon region 4') In step 3 '), air does not enter the base material 1.

그리고 기재(1)에 포함된 저점성액 포화증기(12s)는 와니스 저류 영역(3')에 침입할 때, 미량의 저점성액 포화액으로 되어서 와니스(13)속으로 확산된다. 따라서, 기재(1)가 와니스 저류영역(3')을 통과할 동안에 기재(1)에는 와니스(13)가 균일하고 충분하게 함침되는 것이다.When the low-viscosity saturated steam 12s contained in the base material 1 enters the varnish storage region 3 ', it becomes a small amount of the low-viscosity liquid saturated liquid and diffuses into the varnish 13. Accordingly, the varnish 13 is uniformly and sufficiently impregnated with the substrate 1 while the substrate 1 passes through the varnish storage region 3 '.

이때, 상술한 바와 같이, 열사이펀 실(4)에서 발생하는 저점성액증기(12s)의 대두분이 저점성액 저류통(2)에 회수되는 것, 및 기재(1)에 의하여 직접 와니스 저류조(3)내에 반입되는 저점성액 포화증기(12s)가 미량인 점에서, 와니스 저류조(3)내의 와니스 점도가 저하되는 일은 없다.At this time, as described above, the soy flour of the low-viscosity liquid vapor 12s generated in the thermosiphon chamber 4 is recovered to the low-viscosity liquid storage tank 2, and the varnish storage tank 3 is directly by the substrate 1. Since the viscosity of the low viscous liquid saturated steam 12s carried in is small, the varnish viscosity in the varnish storage tank 3 does not fall.

또, 기재(1)가 익스팬더 식 가이드 로울(7a), (7b)을 통과할 때 폭방향으로 신전력이 가해지고, 이 신전력은 로울 통과 후에 해소되므로, 저점성액(12) 및 와니스(13)속에소 폭방향의 섬유속도 확섬 및 재수속(齎收束)이 실시되어서, 폭방향에서의 공기 및 저점성액의 치환과 와니스의 함침성도 향상된다.In addition, when the base material 1 passes through the expander-type guide rolls 7a and 7b, new power is applied in the width direction, and this new power is released after the passage of the roll, so that the low viscosity liquid 12 and the varnish 13 In the width direction, the fiber speed is expanded and reprocessed in the width direction, so that the substitution of air and low viscosity liquid in the width direction and the impregnation of the varnish are also improved.

그 결과, 기재(1)의 섬유속 내부에 충분히 와니스(13)가 함침된다. 기재(1)로서 전자기재용 글라스포(#7628)를 와니스(13)로서 아래표에 표시하는 조성의 것을, 또 저점성액(12)으로서 와니스(13)의 배합용제인 메틸에틸케톤을 각각 사용하여, Th=150℃, Tw=30℃, Ts=30℃, Tc=10℃의 온도 조건하에서 상기한 장치를 운전시킨 바, 와니스 저류조(3)에 운반된 저점성액량은 극히 근소(체적%로 10%이며, 중량%로는 0.0128%)하므로, 와니스 저류조(3)의 와니스 점도가 저하되는 등의 트러블을 일으키지 않고, 기재(1)속의 기포를 전부 제거시켜, 기재(1)에 와니스(13)를 균일하고, 충분하게 함침시킬 수 있는 것이 확인되었다.As a result, the varnish 13 is sufficiently impregnated inside the fiber bundle of the base material 1. As the base material 1, a composition having the glass cloth # 7628 for electromagnetic materials as the varnish 13 shown in the table below, and methyl ethyl ketone, which is a compounding solvent of the varnish 13, were used as the low-viscosity liquid 12, respectively. The above-mentioned apparatus was operated under a temperature condition of Th = 150 ° C, Tw = 30 ° C, Ts = 30 ° C, and Tc = 10 ° C, and the amount of low-viscosity liquid conveyed to the varnish storage tank 3 was extremely small (by volume%). 10% and 0.0128% by weight), all the bubbles in the substrate 1 are removed without causing troubles such as the varnish viscosity of the varnish storage tank 3 being lowered, and the varnish 13 is applied to the substrate 1. Was confirmed to be uniform and sufficiently impregnated.

또한, 저점성액(12)으로서 사용된 메틸에틸케톤의 온도 및 증기압 선도는 제3도에 표시한 것과 같다.In addition, the temperature and vapor pressure diagram of methyl ethyl ketone used as the low viscosity liquid 12 are as shown in FIG.

[와니스 조성][Varnish composition]

Figure kpo00001
Figure kpo00001

제4도는 본 발명의 제2실시예를 표시한다.4 shows a second embodiment of the present invention.

본 실시예의 와니스 함침장치는, 지점성액 저류조(2)와 와니스 저류조(3), 열사이펀실(4), 기재가열기구(5), 냉각기구(6), 가이드기구(7), 응축액 회수기구(8), 와니스 함침량 조정기구(9) 및 저점성액 가열기구(21)등을 구분한다.The varnish impregnation apparatus of this embodiment includes a branch liquid storage tank 2, a varnish storage tank 3, a thermosiphon chamber 4, a base material heating mechanism 5, a cooling mechanism 6, a guide mechanism 7, and a condensate recovery mechanism. (8), varnish impregnation amount adjusting mechanism 9, low viscosity liquid heating mechanism 21, and the like are distinguished.

각 저류조(2), (3)의 측벽에는 오바후로 보드(2a), (3b) 및 오바후로 유조(2b), (3b)가 설치되어 있어서, 각 저류조(2), (3)에서의 액면 높이를 일정하게 유지하도록 고안되어 있다. 유조(2b), (3b)속의 액은, 도면에 표시하지 않은 반려장치에 의하여 저류조(2), (3)로 반려되도록 되어 있다. 열사이펀 실(4)에는, 추기관(14)과 불활성 가스 공급관(22) 및 배기관(23)이 접속되어 있다.Obava boards 2a, 3b and Ovafu oil tanks 2b, 3b are provided on the side walls of each of the storage tanks 2, 3, and the liquid level in each storage tank 2, 3 is provided. It is designed to keep the height constant. The liquid in the oil tanks 2b and 3b is returned to the storage tanks 2 and 3 by a companion device not shown in the drawing. The thermosiphon chamber 4 is connected to a weight pipe 14, an inert gas supply pipe 22, and an exhaust pipe 23.

냉각기구(6)는, 기재입구부(4a)에서 저점성액류(12a)의 상위에 배설한 제1냉각코일(6b)과, 기재출구부(4b)에서의 와니스 저류(13a)의 상위 배설한 제2냉각코일(6c)로 이루어진다. 그러나, 제1냉각코일(6b)에 의한 냉각능력, 다시말해서 응축능력은 가열로울(5a)에 의하여 증발된 지점성액을 전부 응축하기에 충분하다. 즉, 가열로울(5a)의 증발능력 이상의 것으로 되어 있다.The cooling mechanism 6 arrange | positions the upper part of the 1st cooling coil 6b arrange | positioned above the low-viscosity liquid 12a in the base material inlet part 4a, and the varnish storage 13a in the base material outlet part 4b. And a second cooling coil 6c. However, the cooling capacity by the first cooling coil 6b, that is, the condensation capacity, is sufficient to condense all the viscous liquid evaporated by the heating roll 5a. That is, it is more than the evaporation capacity of the heating roll 5a.

또, 제2냉각코일(6c)의 응축능력은, 제1냉각 코일(6b)의 응축능력 보다 낮아, 그 10 내지 20%정도로 되어 있다. 또한, 각 냉각코일(6b), (6c)과 열사이펀실(4)의 둘레벽과의 사이는 단열되어 있고, 이 둘레벽에 냉각코일(6b), (6c)에 의한 냉각작용이 미치는 결함, 예컨대 낮은 점성액 증기가 둘레벽 내면에 응축부착 한다는 결함을 방지하도록 도모하고 있다.In addition, the condensation capacity of the second cooling coil 6c is lower than that of the first cooling coil 6b, and is about 10 to 20%. The cooling coils 6b and 6c are insulated from each other by the circumferential wall of the thermosiphon chamber 4, and the defects caused by the cooling action of the cooling coils 6b and 6c are caused by the circumferential wall. For example, it aims to prevent the defect that low viscosity liquid vapor condenses on the inner surface of a peripheral wall.

저점성액 가열기구(21)는, 저점성액류(12a)의 저점성액을 가열, 증발시키는 것으로서, 예컨대 내부에 가열매체를 유동시키는 전열코일로 형성되고 상하방향으로 뻗어있는 저점성액 가열면(21a)을, 저점성액류(12a)에 배치하여 이루어진다.The low-viscosity liquid heating mechanism 21 heats and evaporates the low-viscosity liquid of the low-viscosity liquid stream 12a. For example, the low-viscosity liquid heating surface 21a is formed of a heat transfer coil for flowing a heating medium therein and extends in the vertical direction. It is made to arrange | position to the low viscosity liquids 12a.

저점성액 가열기구(21)에 의한 가열능력, 즉 저점성액 증발능력은, 최소한, 양쪽 냉각 코일(6b), (6c)에 의한 응축력(총화량)에 대한 상당증발량을 확보하는데 충분한 것으로 하고 있다. 또한, 저점성액 가열면(21a)과 열사이펀실(4)의 둘레벽 과의 사이는 단열 되어 있고, 저점성액류(12a)에서의 열이 그 주위의 저점성액(12)에 전열되는 것을 극력 방지하도록 도모하고 있다.The heating capacity of the low-viscosity liquid heating mechanism 21, that is, the low-viscosity liquid evaporation capacity is at least sufficient to ensure a substantial evaporation amount for the condensation force (total amount) by both cooling coils 6b and 6c. . Moreover, between the low viscosity liquid heating surface 21a and the circumferential wall of the thermosiphon chamber 4 is insulated, and it is extremely strong that heat in the low viscosity liquid 12a is transferred to the surrounding low viscosity liquid 12. We are trying to prevent it.

응축액 회수 기구(8)는 제2냉각코일(6c)의 바로 아래 위치에 있어서 기재출구부(4b)의 내주부에 응축액류(8a)를 이어 설치하여, 이 응축류(8a)로부터 저점성액 저류조(2)(보다 구체적으로는, 기재입구부(4a)의 저점성액류(12a)로 회수관(8c)을 유도함에 의하여, 제2냉각코일(6c)에 의하여 응축된 저점성액을 저점성액류(12a)로 회수하도록 구성되어 있다. 또, 제1냉각코일(6b)에 의하여 응축된 저점성액에 대해서는 기재입구부(4a)를 그대로 이용하여 저점성액류(12a)에 회수하도록 되어 있다. 또한, 전기한 응축류(8a)의 구성벽(8b)을 기재(1)와 제2냉각코일(6c)과의 사이를 단열하는 단열벽으로 구성하며, 기재(1)가 냉각코일(6c)에 의하여 방사냉각 됨에 의하여 저점성액 증가가 기재(1)에 응축부착 되는 것을 방지하도록 도모하고 있다.The condensate recovery mechanism 8 is provided at the position just below the second cooling coil 6c to connect the condensate flow 8a to the inner circumference of the base outlet 4b, and to form the low viscosity liquid storage tank from the condensate 8a. (2) (More specifically, the low viscosity liquid condensed by the 2nd cooling coil 6c is guide | induced by inducing | recovering pipe | tube 8c to the low viscosity liquid 12a of the base material inlet part 4a. The low viscosity liquid condensed by the first cooling coil 6b is recovered to the low viscosity liquid 12a using the base inlet 4a as it is. The constitution flow 8b of the condensate 8a described above is constituted by a heat insulation wall that insulates the substrate 1 from the second cooling coil 6c, and the substrate 1 is attached to the cooling coil 6c. It is intended to prevent the low-viscosity increase from condensation adhered to the base material 1 by spinning by cooling.

이러한 구성 이외의 구성에 대해서는, 제1실시예의 구성과 마찬가지이므로, 그 상세한 것은 생략한다. 장치를 기동시키는 데 있어서는, 다음과 같이 하여, 열사이펀실(4)내를 저점성액의 포화증기로 충만시킴과 아울러, 그 증기압력을 일정범위로 유지시켜 둔다. 우선, 공급관(22)으로부터 열사이펀실(4)에 불활성가스를 공급하고 열사이펀실(4)내의 공기를 배기관(23)을 통해 배제한다. 이때, 열사이펀실(4) 내부는 대기압으로 유지한다.The configuration other than such a configuration is the same as that of the first embodiment, and thus the details thereof are omitted. In order to start the apparatus, the inside of the thermosiphon chamber 4 is filled with the saturated vapor of the low-viscosity liquid and the steam pressure is maintained in a constant range as follows. First, an inert gas is supplied from the supply pipe 22 to the thermosiphon chamber 4, and air in the thermosiphon chamber 4 is removed through the exhaust pipe 23. At this time, the inside of the thermosiphon chamber 4 is maintained at atmospheric pressure.

따라서, 저점성액류(12a) 및 와니스류(13a)의 액면(12'a), (13'a)은 저류조(2), (3)의 액면(12'), (13')과 동일한 높이로 위치되어 있다(제4도 실선참조).Therefore, the liquid level 12'a, 13'a of the low viscosity liquid 12a and the varnish 13a are the same height as the liquid level 12 ', 13' of the storage tank 2, (3). (See Figure 4, solid line).

다음에, 각 가열기구(5), (21)를 작동시켜, 주로 저점성액 가열기구(21)로 열사이펀실(4)내에 저점성액 증기를 발생시킨다. 동시에, 저냉각능력의 제2냉각코일(6c)만을 작동시켜서, 저점성액 증기를 응축시킨다. 따라서, 높은 냉각 능력의 제1냉각코일(6b)이 작동되어 있지 않은 까닭에, 양쪽 가열기구(5), (21)에 의한 증발량이 제2냉각코일(6c)에 의한 응축량을 상회하고, 열사이펀실(4)내의 증기압력은 상승되어 간다.Next, each of the heating mechanisms 5 and 21 is operated to generate low viscosity liquid vapor mainly in the low viscosity liquid heating mechanism 21 in the thermosiphon chamber 4. At the same time, only the second cooling coil 6c having a low cooling capacity is operated to condense the low-viscosity vapor. Therefore, since the 1st cooling coil 6b of a high cooling capacity is not operated, the amount of evaporation by both heating mechanisms 5 and 21 exceeds the amount of condensation by the 2nd cooling coil 6c, The vapor pressure in the thermosiphon chamber 4 rises.

이때, 추기관(14)의 추기밸브(16)를 강제적으로 열면, 열사이펀실(4)내의 잉여증기가 추기관(14)으로부터 저점성액 저류조(2)로 배제되어서, 열사이펀실(4) 내부는 대기압으로 유지된다. 한편, 각 봉액면(12'a), (13'a)은 변동되지 않고, 그대로 제4도의 실선 위치로 유지된다.At this time, by forcibly opening the bleed valve 16 of the plunger 14, excess steam in the thermosiphon chamber 4 is removed from the plunger 14 by the low-viscosity liquid storage tank 2, and the thermosiphon chamber 4 The interior is maintained at atmospheric pressure. On the other hand, each sealing liquid surface 12'a, 13'a is not fluctuate | varied and is maintained at the solid line position of FIG.

또, 제2냉각코일(6c)에 의하여 응축된 저점성액은, 응축액류(8a)에 포집되어, 회수관(8c)으로부터 저점성액류(12a)로 회수된다. 이로서 저점성액 증기가 와니스 저류 영역(3')쪽으로 응축하는 것이 방지된다.In addition, the low-viscosity liquid condensed by the second cooling coil 6c is collected in the condensate liquid stream 8a and recovered from the recovery pipe 8c to the low-viscosity liquid stream 12a. This prevents condensation of the low-viscosity vapor into the varnish storage region 3 '.

이와 같은 작용이 반복됨에 의하여, 열사이펀실(4)내의 불활성 가스가 추출되어, 그 실(4)내는 저점성액증기로 충만된다. 열사이펀실(4) 내가 저점성액 증기로 충만되면, 추기밸브(16)가 강제적으로 닫혀, 열사이핀실(4)내의 압력을 상승시킨다. 이때, 열사이펀실(4)내의 압력상승에 따라서, 각 봉액면(12'a), (13'a)은 하강되어 간다(제4도 쇄선참조). 그리고, 저점성액류(12a)의 액면(12'a) 하강에 따라서, 저점성액류(12a)에서의 저점성액 가열면(21a)의 침지깊이에 따라 그 가열면(21a)과 저점성액과의 접촉면적이 감소하여, 저점성액 가열기구(21)에 의한 증발량이 감소해가면서, 제2냉각코일(6c)의 응축량과 평형을 이루게 된다.By repeating such an operation, the inert gas in the thermosiphon chamber 4 is extracted, and the chamber 4 is filled with a low viscous liquid vapor. When the thermosiphon chamber 4 is filled with low-viscosity vapor, the bleed valve 16 is forcibly closed to raise the pressure in the thermosipine chamber 4. At this time, as the pressure rises in the thermosiphon chamber 4, the sealing liquid surfaces 12'a and 13'a are lowered (refer to FIG. 4). As the liquid surface 12'a of the low viscosity liquid 12a falls, the heating surface 21a and the low viscosity liquid are immersed in the low viscosity liquid 12a in the immersion depth of the heating surface 21a. As the contact area decreases, the amount of evaporated by the low-viscosity liquid heating mechanism 21 decreases, thereby achieving equilibrium with the amount of condensation of the second cooling coil 6c.

계속하여, 제1냉각코일(6b)을 작동시키면, 저점성액 증기의 응축량이 증대하여, 열사이펀실(4)내의 압력이 저하되고, 각 봉액면(12'a), (13'a)이 상승한다.Subsequently, when the first cooling coil 6b is operated, the amount of condensation of the low-viscosity liquid vapor increases, and the pressure in the thermosiphon chamber 4 decreases, so that each sealing liquid surface 12'a, 13'a is To rise.

저점성액류(12a)의 액면(12'a) 상승에 따라서, 저점성액 가열면(21a)과 저점성액 과의 접촉면적이 증대하여, 저점성액 가열기구(21)에 의한 증발량이 증가하면서, 냉각코일(6b), (6c)의 응축량과 평형을 이루고 열사이펀실(4)내의 증기압력은 일정범위로 유지된다.As the liquid surface 12'a of the low-viscosity liquid 12a rises, the contact area between the low-viscous liquid heating surface 21a and the low-viscous liquid increases, and the amount of evaporation by the low-viscous liquid heating mechanism 21 increases, thereby cooling. Equilibrium with the amount of condensation of the coils 6b and 6c and the vapor pressure in the thermosiphon chamber 4 are maintained within a certain range.

이와 같은 상태로 만든뒤, 기재(1)를 주행시키면, 제1실시예와 마찬가지로 기재(1)의 와니스 함침이 실시된다. 그러나, 열사이펀실(4)내의 증기압력은, 기재가열기구(5) 및 저점성액 가열기구(21)에 의한 저점성액(12)의 증발량과 냉각기구(6)에 의한 응축량이 평형상태에 있는 한, 일정범위로 유지되지만, 기재의 주행속도 등 와니스 함침조건이 변경, 변동되면, 상기한 증발량과 응축량의 밸런스가 무너지므로서, 열사이펀실(4)내의 증기압력이 변동하여 상기한 작용이 양호하게 실시되지 않을 우려가 있다.After making the substrate 1 run in this state, the varnish impregnation of the substrate 1 is performed as in the first embodiment. However, the vapor pressure in the thermosiphon chamber 4 is such that the amount of evaporation of the low viscosity liquid 12 by the base material heating mechanism 5 and the low viscosity liquid heating mechanism 21 and the amount of condensation by the cooling mechanism 6 are in an equilibrium state. However, if the varnish impregnation conditions such as the traveling speed of the substrate are changed and varied, the balance between the above-mentioned evaporation amount and the condensation amount is broken, and the steam pressure in the thermosiphon chamber 4 is changed, thereby causing the above-described action. There is a possibility that this may not be performed satisfactorily.

그러나, 열사이펀실(4) 내의 증기압력이 변동하면, 이에 따라 저점성액류(12a)의 액면(12'a) 및 와니스류(13a)의 액면(13'a)도 변동되고, 그 변동량에 따라 저점성액 가열기구(21)에 의한 증발량이 자동적으로 제어된다.However, if the vapor pressure in the thermosiphon chamber 4 fluctuates, the liquid level 12'a of the low-viscosity liquid 12a and the liquid level 13'a of the varnish 13a are also fluctuated accordingly. Accordingly, the amount of evaporated by the low viscosity liquid heating mechanism 21 is automatically controlled.

즉, 증기압력이 저하되어, 저점성액류(12a)의 액면(12'a)이 상승하면, 저점성액류(12a)에서의 저점성액(12)과 저점성액 가열면(21a)과의 접속면적이 증가한다(예컨대, 제4도에 실선으로 표시한 상태로 된다).That is, when the vapor pressure falls and the liquid surface 12'a of the low viscosity liquid 12a rises, the connection area between the low viscosity liquid 12 and the low viscosity liquid heating surface 21a in the low viscosity liquid 12a is increased. This increases (for example, it becomes the state shown by the solid line in FIG. 4).

그 결과, 저점성액 가열기구(21)에 의한 증발량이 증발압력의 저하량에 상당하는 양만큼만 증가되고, 열사이펀실(4)내의 증기압력저하를 방지한다. 반대로, 증기압력이 상승된 경우에는, 저점성액류(12a)의 액면(12'a)이 하강하여, 저점성액(12)과 저점성액 가열면(21a)과의 접촉면적이 감소한다(예컨대, 제4도에 쇄선으로 표시한 상태로 된다). 따라서 저점성액 가열기구(21)에 의한 증발량이 감소하여, 증기압력의 상승을 저지한다.As a result, the amount of evaporation by the low-viscosity liquid heating mechanism 21 is increased only by an amount corresponding to the amount of decrease in the evaporation pressure, and the steam pressure in the thermosiphon chamber 4 is prevented from being lowered. On the contrary, when the vapor pressure is increased, the liquid surface 12'a of the low viscosity liquid stream 12a is lowered, and the contact area between the low viscosity liquid 12 and the low viscosity liquid heating surface 21a is reduced (for example, It is in the state shown by the broken line in FIG. Therefore, the amount of evaporation by the low viscosity liquid heating mechanism 21 decreases, and the increase of steam pressure is prevented.

이와 같이, 열사이펀실(4)내의 증기압력은, 압력제어장치 등을 설치하지 않아도 자기제어 되어서, 항상 일정범위로 유지된다. 또, 운전정지로 기재주행이 정지된 경우나 기재주행속도의 변경, 변동이 있는 경우 등에 있어서, 냉각기구(6)에 의한 응축량이 기재가열에 의한 증발량을 대폭 상회하는 상태에선, 열사이펀실(4)내가 진공 혹은 부압으로 되고, 저점성액(12) 및 와니스(13)가 기재입구부(4a) 및 기재출구부(4b)로부터 열사이펀실(4)로 흡인된다는 결함을 일으킬 우려가 있지만, 이와 같은 경우에도 이러한 결함은 전혀 발생하지 않는다.In this way, the steam pressure in the thermosiphon chamber 4 is self-controlled without providing a pressure control device or the like, and is always maintained in a constant range. In the case where the substrate running is stopped due to the stop of operation, or when the substrate running speed is changed or fluctuated, the condensation amount by the cooling mechanism 6 greatly exceeds the evaporation amount due to the substrate heating. 4) Although there is a possibility that the inside becomes a vacuum or a negative pressure and the low viscosity liquid 12 and the varnish 13 are attracted to the thermosiphon chamber 4 from the base inlet 4a and the base outlet 4b, Even in this case, such defects do not occur at all.

제5도는 본 발명의 제3실시예를 표시한다.5 shows a third embodiment of the present invention.

본 실시예의 와니스 함침장치는, 저점성액 저류조(2)와 와니스 저류조(3), 열사이펀실(4), 기재가열기구(5), 냉각기구(6), 가이드기구(7), 응축액 회수기구(8), 와니스 함침량 조정기구(9), 저점성액 가열기구(21), 응축방지기구(31) 등을 구비한다.The varnish impregnation device of this embodiment includes a low viscosity liquid storage tank 2, a varnish storage tank 3, a thermosiphon chamber 4, a base material heating mechanism 5, a cooling mechanism 6, a guide mechanism 7, and a condensate recovery mechanism. (8), varnish impregnation amount adjusting mechanism 9, low-viscosity liquid heating mechanism 21, condensation preventing mechanism 31, and the like.

열사이펀실(4)의 주벽(4c)은, 유하면(8b)을 행성하는 저벽부를 제외하고, 재킷 구조로 구성되어 있고, 그 재킷 내에 적당한 가열 매체를 공급, 유동시킴에 의하여 저점성액(12)의 비등점 이상을 가열, 보온하며, 장치기동시에 열사이펀실(4)내의 압력이 저점성액(12)의 포화증기압으로 신속하게 도달하도록, 즉 신속한 동작을 시작할 수 있도록 도모함과 아울러 저점성액 증기(12s)가 주벽(4c) 내면에 응축부착 하는 것을 방지하도록 도모하고 있다.The circumferential wall 4c of the thermosiphon chamber 4 is constituted of a jacket structure except for the bottom wall portion that planets the oil lower surface 8b, and the low-viscosity liquid 12 is supplied by supplying and flowing a suitable heating medium in the jacket. Heating and warming above the boiling point, and the pressure in the thermosiphon chamber 4 to reach the saturated vapor pressure of the low-viscosity liquid 12 at the time of starting the device, that is, to start the rapid operation, ) Is designed to prevent condensation on the inner surface of the circumferential wall 4c.

물론, 주벽(4c)에서의 재킷의 외벽 및 저벽은 단열재로 구성되어 있다. 응축방지 기구(31)는, 가열로울(5a)의 근처 위치에서 와니스류(13a)에 이르는 기재통과 영역부분(32')을 둘러싸는 기재통과통(32)을 설치하여 이루어진다. 이 기재통과통(32)은, 그 하단부분이 전기한 기재출구부(4b)를 구성하는 것이며, 그 둘레벽을 재킷 구조의 가열벽(32a), (32b)으로 구성한 것이다.Of course, the outer wall and the bottom wall of the jacket in the circumferential wall 4c are made of a heat insulating material. The anti-condensation mechanism 31 is provided by providing a substrate passage 32 surrounding the substrate passage region portion 32 'from the position near the heating roll 5a to the varnishes 13a. The substrate passing passage 32 constitutes the substrate exit portion 4b, the lower end portion of which is described above, and the peripheral wall is constituted by the heating walls 32a and 32b of the jacket structure.

가열벽(32a), (32b)은, 그 내부에 적당한 가열매체를 공급유통시킴에 의하여, 기재통과통(32)내, 즉 기재통과영역 부분(32')에서의 기재(1)를 저점성액 증기(21s)의 응축온도 이상으로 가열, 보온하는 것이다.The heating walls 32a and 32b provide a low viscosity liquid to the substrate 1 in the substrate passage 32, that is, the substrate passage region portion 32 'by supplying a suitable heating medium therein. It heats and heats more than the condensation temperature of steam 21s.

특히, 와니스류(13a)를 둘러싸는 하위의 가열벽(32b)에, 보다 고온의 가열매체를 공급, 유동시켜서 와니스류(13a)의 액면(13'a) 부분을 저점성액(12)의 비등점 이상으로 가열하도록 고안되어 있다. 물론, 상위의 가열벽(32a)에도, 이와 마찬가지의 고온매체를 공급, 유동시키도록 하여도 무방하다.In particular, a higher temperature heating medium is supplied to the lower heating wall 32b surrounding the varnishes 13a, and the liquid surface 13'a portion of the varnishes 13a is brought to a boiling point of the low-viscosity liquid 12. It is designed to heat above. Of course, it is also possible to supply and flow the same high temperature medium to the upper heating wall 32a.

이 경우에, 양쪽 가열벽(32a), (32b)을 일련의 재킷구조로 구성해 둘 수가 있다. 또한, 각 가열벽(32a), (32b)에서의 재킷의 외벽은 단열재로 구성되어 있고, 기재통과통(32)내의 열이 그 주위로 전도되지 않도록 배려하고 있다. 결국, 냉각기구(6)에 의한 냉각 작용을 저하시키거나 혹은 와니스류(13a) 주위의 와니스(13)가 가열되는 일이 없도록 배려하고 있다.In this case, both heating walls 32a and 32b can be comprised by a series of jacket structure. In addition, the outer wall of the jacket in each heating wall 32a, 32b is comprised by the heat insulating material, and is considered so that the heat in the base material passage 32 may not be conducted to the surroundings. As a result, the cooling action by the cooling mechanism 6 is reduced or the varnish 13 around the varnish 13a is not considered to be heated.

또, 기재통과통(32)의 상단은, 가열로울(5a)에 가급적 근접시켜 두는 것이 바람직하다. 이러한 구성 이외의 구성에 대해서는, 제2실시예의 구성과 마찬가지이므로, 그 상세한 것은 생략한다. 단, 응축액 회수기구(8)에 대해서는 제1실시예와 마찬가지로 구성하고 있다. 이 실시예에서는, 가열로울(5a)을 경과한 기재(1)는, 계속하여 기재통과통(32)내로 진입하고, 이것을 통과하여 와니스류(13a)안으로 초래된다.In addition, it is preferable that the upper end of the substrate passing passage 32 be as close as possible to the heating roll 5a. The configuration other than such a configuration is the same as that of the second embodiment, and thus the details thereof are omitted. However, the condensate recovery mechanism 8 is configured similarly to the first embodiment. In this embodiment, the base material 1 which has passed through the heating roll 5a continues to enter the base material passage 32, and passes through this to be brought into the varnish 13a.

이때, 기재통과통(32)내에는 가열벽(32a), (32b)에 의한 가열 작용에 의하여 저점성액 증기(12s)의 응축온도 이상으로 가열, 보온되어 있으므로, 가열로울(5a)에서 와니스류(13a)에 이르는 기재통과 영역부분(32')에서의 저점성액 증기(12a)가 냉각 기구(6)에 의한 방사냉각으로 응축되어서, 기재면에 부착하거나 혹은 와니스류(13a)에 침입하는 일이 없다.At this time, in the substrate passage 32, the varnish is heated and maintained at the condensation temperature of the low-viscosity vapor 12s by the heating action by the heating walls 32a and 32b. The low-viscosity liquid vapor 12a in the substrate passage area portion 32 'reaching (13a) is condensed by radiation cooling by the cooling mechanism 6 to adhere to the substrate surface or invade varnish 13a. There is no

그런데, 와니스 온도는 일반적으로 저점성액의 포화증기 온도 보다도 낮으므로, 기재(1)가 와니스(13) 속으로 진입할 때, 이것에 포함되어 있는 저점성액 증기(12s)가 응축되게 된다. 그러나, 와니스류(13a)의 액면(13'a)부분이 하위의 가열벽(32b)에 의하여 저점성액(12)의 비등점 이상으로 가열되어 있으므로, 상기한 바와 같이 와니스류(13a)에 진입할 때 발생하는 응축액은 재증발 되어서, 와니스(13)속으로는 거의 침입하지 않는다. 이러한 사실에서, 기재(1)의 진입에 따라서 저점성액(12)의 와니스(13) 속으로 침입할 우려는 거의 없고, 와니스(13)가 희석화될 걱정도 없다.By the way, since the varnish temperature is generally lower than the saturated vapor temperature of the low viscosity liquid, when the base material 1 enters the varnish 13, the low viscosity liquid vapor 12s contained therein is condensed. However, since the liquid surface 13'a portion of the varnishes 13a is heated above the boiling point of the low-viscosity liquid 12 by the lower heating wall 32b, the varnish 13a can enter the varnish 13a as described above. The condensate that occurs is re-evaporated and hardly penetrates into the varnish 13. In this fact, there is little fear of invading into the varnish 13 of the low-viscosity liquid 12 as the base 1 enters, and there is no fear that the varnish 13 will be diluted.

상기한 구성은 와니스 함침장치에 있어서, 전기한 가열벽(32a), (32b)은 단순한 단열벽으로 구성하여, 기재 통과관(11) 내를 통과하는 기재(1)를 냉각기구(6)에 의한 냉각작용으로부터 차단하여, 가열로울(5a)에서 와니스류(13a)에 이르는 동안에 기재(1) 및 그 주변 온도를 저점성액(12)의 응축온도 이상으로 단열 보온시키도록 해두어도 무방하다.In the above varnish impregnation apparatus, the heating walls 32a and 32b described above are constituted by simple heat insulating walls, and the substrate 1 passing through the substrate passage pipe 11 is transferred to the cooling mechanism 6. It is also possible to block from the cooling action by the heat insulator and to thermally insulate the substrate 1 and its surrounding temperature above the condensation temperature of the low-viscosity liquid 12 during the heating roll 5a to the varnishes 13a.

또, 유하면(8b)위에 위치하는 가열벽(32a) 부분(혹은 이것에 대신하는 단열벽 부분)은, 반드시 기재(1)를 완전히 둘러싸는 통형상으로되어 있지 않아도 좋고, 와니스류(13a) 부분의 가열장치도, 재킷 구조의 가열벽(32b)에 한정된 것은 아니고, 임의로 되어 있다.In addition, a portion of the heating wall 32a (or a heat insulating wall portion instead of this) positioned on the oil surface 8b may not necessarily have a cylindrical shape completely surrounding the base material 1, and varnishes 13a The heating device of the part is also not limited to the heating wall 32b of a jacket structure, and is arbitrary.

또, 와니스류(13a)를 가열함에 의하여 와니스(13)속의 용제 등이 증발하고, 이것이 열사이펀실(4) 내로 침입할 우려가 있을 경우에는, 와니스(13)속에 침지하는 기재출구부(4b)부분에서의 기재통로를 기재(1)가 통과할 수 있는 범위내에서 가급적 좁게하여, 와니스 저류영역(3')과 열사이펀 영역(4')과의 경계면적, 즉 기재출구부(4b)내에서의 와니스 표면적을 작게 해두면 좋다.Moreover, when the varnish 13a is heated, the solvent etc. in the varnish 13 evaporate, and when this may intrude into the thermosiphon chamber 4, the base material exit part 4b immersed in the varnish 13, The substrate passage at the part 3) is as narrow as possible within the range through which the substrate 1 can pass, so that the interface area between the varnish storage region 3 'and the thermosiphon region 4', that is, the substrate exit portion 4b. It is good to keep the varnish surface area small.

예컨대, 제6도에 표시하듯이, 와니스(13)속에 담그는 기재출구부(4b)부분 즉 가열벽(32b)을 금속제 노즐(34)로 구성해 둔다. 이 노즐(34)에는 열매체의 유동구멍(34a)…이 형성되어 있고 와니스규(13a)를 저점성액(12)의 비등점 이상으로 가열하도록 구성되어 있다. 또한 노즐(34)의 외면에는, 그 주위의 와니스(13)를 가열하지 않도록 단열층(35)을 형성해 두는 것이 바람직하다.For example, as shown in FIG. 6, the base material outlet part 4b immersed in the varnish 13, ie, the heating wall 32b, is comprised by the metal nozzle 34. As shown in FIG. The nozzle 34 has a flow hole 34a of a heat medium. Is formed, and is configured to heat the varnish beef 13a above the boiling point of the low-viscosity liquid 12. Moreover, it is preferable to form the heat insulation layer 35 in the outer surface of the nozzle 34 so that the varnish 13 around it may not be heated.

이와 같이 하여 두면, 와니스류(13a)의 가열에 의한 와니스(13)속의 용제의 증발을 가급적 방지할 수 있음과 아울러, 그 증기가 열사이펀실(4)로 침입하는 것을 기재(1)의 진행에 의하여 가급적 방지할 수 있다.In this way, the evaporation of the solvent in the varnish 13 due to the heating of the varnishes 13a can be prevented as much as possible, and the vapor enters the thermosiphon chamber 4. It can prevent as much as possible.

더우기, 와니스류(13a)의 액면(13'a)에서의 저점성액 증기(12s)의 응축도 가급적 방지할 수 있다. 또, 열사이펀실(4)의 주벽, 예컨대 제6도에 표시하듯이 기재출구부(4b)에 저점성액 증기(12s)를 뿜어 넣는 증기분출 노즐(36)…을 설치해 두어도 무방하다.In addition, condensation of the low-viscosity liquid vapor 12s on the liquid surface 13'a of the varnishes 13a can be prevented as much as possible. In addition, as shown in FIG. 6, the vapor ejection nozzle 36 which blows low viscosity liquid vapor 12s into the base-material outlet part 4b is shown. You can install it.

이와 같이 하면, 전기한 열사이펀실(4)의 주벽(4c)에 의한 가열 작용과 서로 작용하여, 장치 기동시 신속한 동작 시작을 도모할 수가 있다. 더욱이, 제7도에 표시하듯이, 저점성액 저류조(2)의 윗면을, 기재(1)의 도입구(2d)를 보유하는 뚜껑(2c)으로 폐색하고, 도입구(2d)에 냉각코일 등의 증기 누출방지용 냉각기(37)를 배설하도록 해두어도 무방하다.In this way, it interacts with the heating action by the circumferential wall 4c of the thermosiphon chamber 4 described above, and it is possible to promptly start the operation at the time of starting the device. Moreover, as shown in FIG. 7, the upper surface of the low-viscosity liquid storage tank 2 is closed by the lid 2c which holds the inlet 2d of the base material 1, and the cooling coil etc. are in the inlet 2d. It is also possible to arrange the leakage of the cooler 37 for preventing leakage of steam.

도입구(2d)에 있어서, 저점성액 증기(12s)가 냉각기(37)에 의하여 응축 액화된다. 따라서, 저점성액(12)의 방산이 확실하게 방지되고 환경 오염이나 저점성액의 손실을 방지할 수 있음과 아울러, 인화성인 것이라도 저점성액(12)으로서 안전하게 사용할 수 있다. 이러한 구성은, 와니스 저류도(3)에 대해서도 적용할 수 있다.In the inlet port 2d, the low viscosity liquid vapor 12s is condensed and liquefied by the cooler 37. Therefore, dissipation of the low-viscosity liquid 12 can be reliably prevented, environmental pollution and loss of the low-viscous liquid can be prevented, and even if it is flammable, it can be used safely as the low-viscosity liquid 12. Such a configuration is also applicable to the varnish storage diagram 3.

제8도는 본 발명의 제4실시예를 표시한다.8 shows a fourth embodiment of the present invention.

본 실시예의 와니스 함침장치는 저점성액 저류조(2)와 와니스 저류조(3), 열사이펀실(4), 기재가열기구(5), 냉각기구(6), 가이드기구(7), 응축액 회수기구(8), 와니스 함침량 조정기구(9), 증기유동기구(41) 등을 구비한다.The varnish impregnation apparatus of this embodiment includes a low viscosity liquid storage tank 2 and a varnish storage tank 3, a thermosiphon chamber 4, a base material heating mechanism 5, a cooling mechanism 6, a guide mechanism 7, and a condensate recovery mechanism ( 8), varnish impregnation amount adjusting mechanism 9, steam flow mechanism 41, and the like.

증기유동기구(41)는, 기재출구부(4b)에 저점성액 저류부(48) 및 저점성액 가열기(43)를 설치함과 아울러, 저점성액류(12a)에 자기제어 가열기(44)를 배치하여 이루어진다. 저점성액 저류부(42)는 기재출구부(4a)의 하단부에 형성되어 있고, 저점성액 저류조(2)에 연(42a) 시킴에 의하여, 저점성액 저류조(2)내의 저점성액(12)이 소정량 저류되어 있다. 이러한 저점성액 저류부(42)의 액면은, 그 저류부(42)의 저점성액 증발에도 불구하고, 저점성액 저류조(2)의 액면(12')에 일치되어 있다.The steam flow mechanism 41 provides the low viscosity liquid reservoir 48 and the low viscosity liquid heater 43 in the base material outlet 4b, and arranges the magnetically controlled heater 44 in the low viscosity liquid 12a. It is done by The low viscosity liquid storage part 42 is formed in the lower end part of the base-material exit part 4a, and the low viscosity liquid 12 in the low viscosity liquid storage tank 2 burns | fries by making the lead 42a the low viscosity liquid storage tank 2. Quantitative storage. The liquid level of the low-viscosity liquid storage part 42 coincides with the liquid level 12 'of the low-viscosity liquid storage tank 2 in spite of the evaporation of the low-viscosity liquid from the storage part 42.

저점성액 가열기(43)는, 저점성액 저류부(42)를 둘러 싸는 재킷 구조벽으로 구성되어 있고, 그 내부에 적당한 가열매체를 공급, 유동시킴에 의하여, 저점성액 저류부(42)의 저점성액(12)을 가열증발시키는 것이다.The low-viscosity liquid heater 43 is composed of a jacket structure wall surrounding the low-viscosity liquid storage section 42. The low-viscosity liquid of the low-viscosity liquid storage section 42 is supplied by supplying and flowing a suitable heating medium therein. It is to evaporate (12).

이 저점성액 가열기(43)에서의 재킷벽은, 저점성액 저류부(42) 및 와니스류(13a)에 접하는 부분을 제외하고는 단열재로 구성되어 열이 와니스류(13a) 주변의 와니스(13)에 전열되지 않도록 고안되어 있다. 또한, 저점성액 가열기(43)를 열사이펀실(4)의 주벽(4c)에 연통하는 일련의 재킷 구조벽으로 구성하고 있다. 자기제어 가열기(44)는 예컨대 내부에 가열매체를 공급, 유동시키는 전열 코일로 구성된 것으로서, 저점성액류(12a)의 저점성액(12)을 가열 증발시킨다.The jacket wall in the low-viscosity liquid heater 43 is made of a heat insulating material except for the portion in contact with the low-viscosity liquid storage part 42 and the varnishes 13a, and the heat is applied to the varnish 13 around the varnishes 13a. It is designed not to be heated. In addition, the low-viscosity liquid heater 43 is constituted by a series of jacket structure walls communicating with the main wall 4c of the thermosiphon chamber 4. The self-regulating heater 44 is composed of a heat transfer coil for supplying and flowing a heating medium therein, and heat evaporates the low viscosity liquid 12 of the low viscosity liquid stream 12a.

이 자기제어 가열기(44)는, 그 증발능력이 저점성액 가열기(43)보다도 작게한 것이지만, 저점성액류(12a)에 있어서, 상하방향으로 뻗어 있는 저점성액 가열면(44a)을 보유하고 있고, 열사이펀실(4)내의 증기압력 변동에 따라서, 증발능력을 자기제어 할 수 있도록 구성되어 있다. 이 기능은, 전기한 저점성액 가열기구(21)와 마찬가지이다.This self-regulating heater 44 has a lower evaporation capacity than the low viscosity liquid heater 43, but has a low viscosity liquid heating surface 44a extending in the vertical direction in the low viscosity liquid stream 12a. The vapor pressure in the thermosiphon chamber 4 is configured to control the evaporation capacity. This function is similar to the low viscosity liquid heating mechanism 21 described above.

본 실시예에서는, 열사이펀 실(4) 내에서 발생하는 저점성액 증기(12s)가, 제8도에 파선 도시하듯이, 증기압력의 상승에 따라서 자기 제어 가열기(44)에 의한 증발량이 감소함과 아울러 서로 작용하여서, 기재출구부(4b)쪽에서 기재가열부(5a)쪽으로 한층 더 기재 입구부(4a)쪽으로 유동시켜지며, 최소한 기재가열부(5a)에서 와니스류(13a)에 이르는 기재통과 영역부분은 공기가 존재하지 않는 저점성액 포화증기 분위기로 확실히 유지된다. 따라서 기재(1)에서의 와니스 함침성, 보이드레스 효과가 말할 나위없이 향상된다.In this embodiment, the low-viscosity vapor 12s generated in the thermosiphon chamber 4, as shown by the broken line in FIG. 8, the amount of evaporation by the self-regulating heater 44 decreases as the vapor pressure increases. And in addition to each other, it flows further from the substrate outlet portion 4b toward the substrate heating portion 5a toward the substrate inlet portion 4a, and at least the substrate passes from the substrate heating portion 5a to the varnishes 13a. The area portion is reliably maintained in a low viscous liquid saturated steam atmosphere in which no air is present. Therefore, the varnish-impregnation property and voidless effect in the base material 1 are undoubtedly improved.

증기 유동기구(41)에 있어서는, 제9도에 표시하듯이, 기재입구부(4a)쪽에, 전기한 가열기(44) 대신에 냉각코일 등의 냉각기(45)를 설치해도 좋다. 열사이펀실(4) 내에서 발생하는 저점성액 증기(12s)는 냉각기(45)에 의하여 응축되어서 저점성액류(12a)에 회수되어, 그 결과, 상기한 저점성액 증기(12s)의 유동을 발생시킨다.In the steam flow mechanism 41, as shown in FIG. 9, a cooler 45 such as a cooling coil may be provided on the substrate inlet 4a side instead of the heater 44 described above. The low viscous liquid vapor 12s generated in the thermosiphon chamber 4 is condensed by the cooler 45 and recovered to the low viscous liquid stream 12a, resulting in the flow of the low viscous liquid vapor 12s. Let's do it.

이 경우, 추기관(14)은 특별히 필요로 하지 않는다. 또, 기재 입구부(4a)쪽에는, 제10도에 표시하듯이, 전기한 가열기(44) 및 냉각기(45)의 어느 것도 설치하지 않을 수도 있다.In this case, the weight 14 is not particularly necessary. Moreover, neither the heater 44 nor the cooler 45 mentioned above may be provided in the base material inlet part 4a side as shown in FIG.

제10도에 표시한 것은, 제7도에 표시한 것과 마찬가지로, 뚜껑(2c) 및 냉각기(37)를 설치하여, 저점성액 증기(12s)의 방산을 방지하고 있다. 또, 제11도에 표시하듯이, 기재출구부(4b)에 저점성액 회수부(4b)를 설치하여, 이것을 저점성액 저류부(42)에 연통(46a)시켜 두도록 해도 무방하다. 이 경우에, 저점성액 회수부(46)에 냉각기(45)를 배설하여, 저점성액 증기를 저점성액 회수부(46)에 응축회수 하도록 한다.As shown in FIG. 10, as shown in FIG. 7, the lid 2c and the cooler 37 are provided to prevent the dissipation of the low-viscosity vapor 12s. 11, the low viscosity liquid collection | recovery part 4b may be provided in the base material outlet part 4b, and it may be made to communicate 46a to the low viscosity liquid storage part 42. FIG. In this case, the cooler 45 is disposed in the low-viscosity liquid recovery part 46 to condense and recover the low-viscosity liquid vapor to the low-viscosity liquid recovery part 46.

제12도는 제5실시예를 표시한다.12 shows a fifth embodiment.

본 실시예는, 기본적으로 제4실시예와 마찬가지이나, 상기한 각 실시예와 달라서, 기재입구부(4a)를, 저점성액 저류통(2)에서 열사이펀실(4) 내로 이행하는 단계에서 공기에 겁촉하게 되지만 기재(1)에는 저점성액(12)이 함침되어 있으므로, 열사이펀실(4) 내로 진입하기 전의 단계에서 공기가 재침입하게 되는 일은 없다.This embodiment is basically the same as the fourth embodiment, but differs from each of the embodiments described above in the step of transferring the substrate inlet portion 4a from the low viscosity liquid reservoir 2 into the thermosiphon chamber 4. Although it becomes coarse with air, since the low viscosity liquid 12 is impregnated in the base material 1, air does not reintrude in the step before entering into the thermosiphon chamber 4.

따라서, 기재입구부(4a)를 지점성액 저류영역(2')에서 액봉하지 않는다고 하여서, 하등 문제를 발생하는 일은 없다. 이 경우, 제13도에 표시하듯이, 저점성액 저류조(2)에서의 저점성액 증기(12s)의 방산을 방지하는 장치(2c), (37)을 설치할 수 있다. 이러한 장치에 의한 효과는, 기재 입구부(4a)를 액봉시킨 경우에 비하여, 한층 더 크다. 또, 제14도에 표시하듯이, 저점성액 회수부(46)를 설치 하지 않고, 응축액을 기재입구부(4a)로부터 저점성액 저류조(2)로 직접 회수시키도록 해도 무방하다.Accordingly, no problem is caused by not enclosing the base material inlet portion 4a in the branch liquid storage region 2 '. In this case, as shown in FIG. 13, the apparatuses 2c and 37 which prevent the dissipation of the low-viscosity liquid vapor 12s in the low-viscosity liquid storage tank 2 can be provided. The effect by such an apparatus is further larger than the case where the base material inlet part 4a is liquid-sealed. In addition, as shown in FIG. 14, the condensate may be directly recovered from the substrate inlet 4a to the low-viscosity storage tank 2 without providing the low-viscosity liquid recovery section 46.

Claims (19)

섬유질재로 된 시이트 형상의 기재를, 용제 등의 저점성액(12)을 저류시킨 저점성액 저류영역(2'), 그 저류영역(2')과 와니스(13)를 저류시킨 와니스 저류영역(3')과의 사이에 배치되어서 그 와니스 저류영역(3')에 그 액면(13')으로서 액봉된 상태로 연통하는 열사이펀 영역(4') 및 전기한 와니스 저류영역(3')을 차례로 통과시키는 공정과, 열사이펀 영역(4')에 있어서 시이트 형상의 기재(1)를 가열하여 이것에 함침된 저점성액(12)을 증발시키는 공정을 구비하고 있는 와니스 함침방법.The sheet-like base material made of a fibrous material is a low-viscosity liquid storage region 2 'in which a low-viscosity liquid 12 such as a solvent is stored, and a varnish storage region in which the storage region 2' and the varnish 13 are stored. Disposed between the thermosiphon region 4 'and the varnish storage region 3' which communicate with the varnish storage region 3 'in a liquid sealed state as the liquid surface 13' in order. And a step of heating the sheet-like base material (1) in the thermosiphon region (4 ') and evaporating the low-viscosity liquid (12) impregnated therein. 제1항에 있어서, 열사이펀 영역(4')에 있어서의 기재 가열부(5a)로부터 와니스 저류영역(3')에 이르기까지의 기재통과 영역부분(32')에 있어서, 기재(1)를 저점성액 증기(12s)의 응축온도 이상으로 가열 또는 보온시키도록한 와니스 함침방법.The substrate 1 in the substrate passage region portion 32 'from the substrate heating portion 5a in the thermosiphon region 4' to the varnish storage region 3 '. A varnish impregnation method for heating or keeping above a condensation temperature of a low viscosity liquid vapor (12s). 제1항에 있어서 열사아펀 영역(4')에서 발생한 저점성액 증기(12s)를 응축액화시켜서, 그 응축액화된 저점성액(12)을 회수하도록한 와니스 함침방법.The varnish impregnation method according to claim 1, wherein the low-viscosity vapor (12s) generated in the heat sapon region (4 ') is condensed to recover the condensed low-viscosity (12). 제1항에 있어서, 열사이펀 영역(4')을 저점성액 저류영역(2')에 그 액면(12')에서 액봉된 상태로 연통시켜 두고, 그 연통부분(12a)에 있어서 저점성액(12)을 가열 증발시켜서, 그 증발량을 그 연통부분(12a)에서의 액봉면의 변동에 따라서 제어시키도록 한 와니스 함침방법.The low-viscosity liquid 12 according to claim 1, wherein the thermosiphon region 4 'is connected to the low-viscosity liquid storage region 2' in a liquid sealed state at the liquid surface 12 ', and the low-viscosity liquid 12 in the communicating portion 12a. ), And the varnish impregnation method in which the evaporation amount is controlled in accordance with the fluctuation of the liquid sealing surface at the communicating portion (12a). 제1항에 있어서, 열사이핀 영역(4')에 있어서, 그 영역(4')에서 발생한 저점성액 증기(12s)를 기재출구쪽에서 기재입구 방향으로 유동시키도록한 와니스 함침방법.2. The varnish impregnation method according to claim 1, wherein in the thermocypine region (4 '), the low-viscosity liquid vapor (12s) generated in the region (4') is caused to flow from the substrate outlet side toward the substrate inlet direction. 제1항에 있어서, 열사이펀 영역(4')과 와니스 저류영역(3')과의 연통부분을 저점성액(12)의 비등점이상의 온도로 가열, 보온시키도록 한 와니스 함침 방법.The varnish impregnation method according to claim 1, wherein the communication portion between the thermosiphon region (4 ') and the varnish storage region (3') is heated and warmed to a temperature above the boiling point of the low viscosity liquid (12). 용제 등의 저점성액(12)을 저류한 저점성액 저류조(2)와, 와니스(13)를 저류한 와니스 저류조(3)와, 저점성액 저류조(2)의 액면(12')하 또는 액면(12')상에 있어서 개구된 기재입구부(4a) 및 와니스 저류조(3)의 액면(13') 하에 있어서 개구된 기재출구부(4b)를 구비한 열사이펀실(4)과, 섬유질재로 된 시이트 형상의 기재(1)를 저점성액 저류조(2), 열사이펀실(4), 와니스 저류조(3)를 차례로 통과시키도록 안내하는 가이드 기구(7)와, 열사이펀실(4)내에 있어서 기재(1)를 가열하여, 이것에 함침된 저점성액(12)을 증발시키는 기재 가열기구(5)를 구비한 와니스 함침장치.Low viscous liquid storage tank 2 in which low viscous liquid 12 such as a solvent is stored, varnish storage tank 3 in which varnish 13 is stored, and liquid level 12 'or lower liquid level 12 in low viscous liquid storage tank 2 The thermosiphon chamber 4 having the substrate inlet portion 4a opened on the ') and the substrate outlet portion 4b opened on the liquid surface 13' of the varnish storage tank 3, and a fibrous material. The guide mechanism 7 which guides the sheet-shaped base material 1 to pass through the low viscosity liquid storage tank 2, the thermosiphon chamber 4, and the varnish storage tank 3 in order, and the base material in the thermosiphon chamber 4 The varnish impregnation apparatus provided with the base material heating mechanism 5 which heats (1) and evaporates the low viscosity liquid 12 impregnated in this. 제7항에 있어서, 열사이펀실(4)내의 저점성액 증기(12s)를 응축액화하는 냉각기구(6)와, 그 냉각기구(6)에 의하여 응축액화된 저점성액(12)을 회수하는 응축액 회수기구(8)를 구비한 와니스 함침장치.The condensate according to claim 7, wherein the cooling mechanism (6) for condensing the low-viscosity vapor (12s) in the thermosiphon chamber (4) and the low-viscosity liquid (12) condensed by the cooling mechanism (6) are recovered. Varnish impregnation device having a recovery mechanism (8). 제7항에 있어서, 다시 기재가열기구(5)로부터 기재출구부(4b)의 개구단부에 이르는 기재통과 영역부분(32')에 있어서, 기재(1)를 저점성액 증기(12s)의 응축운도 이상으로 가열 또는 보온하는, 응축방지기구(31)를 구비한 와니스 함침장치.8. The condensation flow of the low viscosity liquid vapor 12s in the substrate passage region portion 32 'from the substrate heating mechanism 5 to the opening end of the substrate outlet portion 4b. The varnish impregnation apparatus provided with the condensation prevention mechanism 31 which heats or keeps warm above. 제7항에 있어서, 더욱이, 저점성액 저류조(2)의 액면(12')하에 개구시킨 기재 입구부(4a)내의 저점성액류(12a)에 상하방향으로 뻗은 저점성액 가열면(21a)을 배설하여, 저점성액류(12a)의 액면(12'a)의 변동에 따라서 저점성액(12)의 가열 증발량이 변화하도록 구성된 저점성액 가열기구(21)를 구비한 와니스 함침장치.The low-viscosity liquid heating surface 21a which extends in the vertical direction to the low-viscosity liquid 12a in the substrate inlet portion 4a opened under the liquid surface 12 'of the low-viscosity liquid storage tank 2 further. The varnish impregnation apparatus provided with the low viscosity liquid heating mechanism 21 comprised so that the heat evaporation amount of the low viscosity liquid 12 may change according to the fluctuation | variation of the liquid surface 12'a of the low viscosity liquid flow 12a. 제7항에 있어서, 다시, 기재출구부(4b)에 저점성액 저류부(42) 및 저점성액 가열기(43)를 구비하고 있어서, 저점성액 저류부(42)의 저점성액(12)을 가열 증발시킴과 아울러 열사이펀실(4)내에서 발생하는 저점성액 증기(12s)를 기재출구부(4b)쪽에서 기재입구부 방향으로 유동시키는 증기 유동기구(41)를 구비한 와니스 함침장치.The low-viscosity liquid storage part 42 and the low-viscosity liquid heater 42 are each provided with the low-viscosity liquid storage part 42 and the low-viscosity liquid heater 43 in the base material outlet part 4b. And a varnish impregnation device having a vapor flow mechanism (41) for flowing low viscosity liquid vapor (12s) generated in the thermosiphon chamber (4) toward the substrate inlet portion from the substrate outlet portion (4b). 제11항에 있어서, 저점성액 저류조(2)와 저점성액 저류부(42)를 연통시킨 와니스 함침장치.The varnish impregnation apparatus according to claim 11, wherein the low viscosity liquid storage tank (2) and the low viscosity liquid storage portion (42) are in communication with each other. 제11항에 있어서, 증기유동기구가, 다시, 기재입구부(4a)에 설치되어서 저점성액 저류부(42)에 연통되는 저점성액 회수부(46)와, 이 저점성액회수부(46)에 배설한 냉각기(45)를 구비한 와니스 함침장치.12. The low viscosity liquid recovery part (46) provided in the base fluid inlet part (4a) and communicated with the low viscosity liquid storage part (42) again, and this low viscosity liquid recovery part (46). Varnish impregnation device having a cooler (45) disposed. 제7항에 있어서, 열사이펀실(4)의 주벽(4c)이 재킷 구조로 구성되어 있고, 그 재킷 안에 가열매체를 공급, 유동시키도록한 와니스 함침장치.8. The varnish impregnation apparatus according to claim 7, wherein the circumferential wall (4c) of the thermosiphon chamber (4) has a jacket structure, and the heating medium is supplied and flowed in the jacket. 제7항에 있어서, 기재출구부(4b)내에 와니스 액면(13'a)과의 경계 부분을 저점성액(12)의 비등점 이상으로 가열하는 가열장치(32b, 34, 34a, 43)를 설치한 와니스 함침장치.The heating apparatus 32b, 34, 34a, 43 which installs the boundary part with the varnish liquid surface 13'a more than the boiling point of the low-viscosity liquid 12 in the base material outlet part 4b. Varnish impregnation device. 제15항에 있어서, 기재출구부(4b)에서 기재 통로의 단면적을, 기재(1)의 통과를 허용하는 범위에서 최소로한 와니스 함침장치.The varnish impregnation apparatus according to claim 15, wherein the cross-sectional area of the substrate passage at the substrate outlet portion (4b) is minimized within a range that allows passage of the substrate (1). 제7항에 있어서, 다시, 와니스 저류조(3)를 경과한 기재(1)에 함유된 와니스량을 조정하는 와니스 함침량 조정기구(9)를 구비한 와니스 함침장치.The varnish impregnation apparatus according to claim 7, further comprising a varnish impregnation amount adjusting mechanism (9) for adjusting the varnish amount contained in the substrate (1) that has passed through the varnish storage tank (3). 제7항에 있어서, 다시 열사이펀실(4')내에 저점성액 증기(12s)를 공급하는 증기분출 노즐(36)을 구비한 와니스 함침장치.8. The varnish impregnation device according to claim 7, further comprising a vapor ejection nozzle (36) for supplying low viscosity liquid vapor (12s) into the thermosiphon chamber (4 '). 제7항에 있어서, 저점성액 저류조(2)의 상면 부분을 기재입구부(4a)를 부착한 뚜껑(2c)으로 폐색함과 아울러, 이 뚜껑(2c)에 형성한 기재(1)의 도입구(2d)에 증기누출 방지용 냉각기(37)를 설치한 와니스 함침장치.8. The inlet port of the base material 1 formed in the lid 2c, while closing the upper surface portion of the low-viscosity liquid storage tank 2 with the lid 2c to which the base inlet 4a is attached. A varnish impregnation device (2d) provided with a coolant for preventing leakage of steam (37).
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