KR927003688A - 사차 암모늄 폴리아릴아미드 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

사차 암모늄 폴리아릴아미드
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (30)

  1. (이때, R은 R3및 R1NHC(=O)R2로 부터 선택되고, R1및 R3는 립적으로 m-페닐렌, p-페닐렌, 3,3'-바이페닐렌, 3,4-바이페닐렌, 4,4'-바이페닐렌 및 4,4'-디페닐렌 에테르로부터 선택되고, R2은 R1및 -(-CH2-)-x로 부터 선택되고, Ar은 1,2,4-벤젠트리일이며, 및 x는 1 내지 10이다)로 구성되는 군으로부터 독립적으로 선택된 중합체 반복 단위로부터 유도되고, 폴리아미드가 적어도 약 2500의 분자량을 갖는 폴리아릴아미드 및 식 R4,4N+(이때, 각각의 R4는 독립적으로 히드로카르빌 또는 치환된 히드로카르빌로부터 선택되며, 단, 적어도 하나의 R4기가 최소한 1개의 베타 수소 원자를 함유한다.)인 사차 암모늄 양이온으로 구성되는 사차암모늄 폴리아릴아미드.
  2. 제1항에 있어서, 모든 R4기는 최소한 1개의 베타 수소 원자를 함유하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 0.1-100퍼센트의 탈수소화 정도를 갖는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 중합체 반복 단위를 폴리(p-페닐렌 테레프탈아미드), 폴리(m-페닐렌 이소프탈아미드), 폴리(p-벤즈아미드), 폴리(4,4-바이페닐렌 이소프탈아미드), 폴리(클로로-p-페닐렌 이소프탈아미드), 3,4,3',4'-테트라아미노 바이페닐의 폴리벤즈이미다졸 및 이소프탈산, 및 3,4-디아미노벤조산의 폴리벤즈이미다졸로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 중합체 반복 단위는 폴리(p-페닐렌 테레프탈아미드), 폴리(m-페닐렌 이소프탈아미드) 및 폴리(p-벤즈아미드)로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 중합체 반복 단위는 폴리(p-페닐렌 테레프탈아미드) 및 폴리(m-페닐렌 이소프탈아미드)로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 사차 암모늄 양이온은 350이하의 분자량을 갖는 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 사차 암모늄 양이온은 250이하의 분자량을 갖는 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 사차 암모늄 양이온은 테트라에틸암모늄 또는 테트라-n-부틸암모늄인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 디알킬설폭시드내 용액인 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 디알킬설폭시드는 디메틸 설폭시드인 조성물.
  12. (이때, R은 R3및 R1NHC(=O)R2로 부터 선택되고, R1및 R3는 독립적으로 m-페닐렌, p-페닐렌, 3,3'-바이페닐렌, 3,4-바이페닐렌, 4,4'-바이페닐렌 및 4,4'-디페닐렌 에테르로부터 선택되고, R2은 R1및 -(-CH2-)-x로 부터 선택되고, Ar은 1,2,4-벤젠트리일이며, 및 x는 1 내지 10이다)로 구성되는 군으로부터 독립적으로 선택된 중합체 반복 단위로부터 유도되고, 폴리아미드가 적어도 약 2500의 분자량을 갖는 폴리아미드를 식 R4,4N+x-(이때, 각각의 R4는 독립적으로 히드로카르빌 또는 치환된 히드로카르빌로부터 선택되며, 단, 적어도 하나의 R4기가 최소한 1개의 베타 수소 원자를 함유하며, 및 이때 X는 그의 공역산의 반응하지 않는 중합체 반복 단위내 아미도기에 부착된 수소보다 큰 pka를 갖는 음이온이다.)인 사차 암모늄 염기의 용액과 접촉시킴으로 구성되는 사차암모늄 폴리아미드의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 음이온은 히드록시드 또는 알콕시드인 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 용매는 디알킬설폭시드인 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 용매는 디메틸설폭시드인 방법.
  16. 제12항에 있어서, R4 4N+는 테트라에틸암모늄 또는 테트라-n-부틸 암모늄인 방법.
  17. 제12항에 있어서, 용매를 제거함이 포함되는 방법.
  18. 제12항에 있어서, 0-60℃의 온도에서 수행되는 방법.
  19. 제12항에 있어서, 20-40℃의 온도에서 수행되는 방법.
  20. 및
    (이때, R은 R3및 R1NHC(=O)R2로 부터 선택되고, R1및 R3는 독립적으로 m-페닐렌, p-페닐렌, 3,3'-바이페닐렌, 3,4-바이페닐렌, 4,4'-바이페닐렌 및 4,4'-디페닐렌 에테르로부터 선택되고, R2은 R1및 -(-CH2-)-x로 부터 선택되고, Ar은 1,2,4-벤젠트리일이며, 및 x는 1 내지 10이다)로 구성되는 군으로부터 독립적으로 선택된 중합체 반복 단위로부터 유도되고, 폴리아미드가 적어도 약 2500의 분자량을 갖는 폴리아릴아미드를 식 R4,4N+x-(이때, 각각의 R4는 독립적으로 히드로카르빌 또는 치환된 히드로카르빌로부터 선택되며, 단, 적어도 하나의 R4기가 최소한 1개의 베타 수소 원자를 함유하며, 및 이때 X는 그의 공역산의 반응하지 않은 중합체 반복 단위내 아미도기에 부착된 수소보다 큰 pka를 갖는다.)인 사차 암모늄 염기의 용액과 접촉시킴으로써 폴리아미드 용액을 형성시키고, (b) 폴리아릴아미드 용액으로부터 제품을 주조하고, (c) 용매를 증발시키고, (d) 70-300℃범위내에서 용매를 휘발시킴과 동시에 또는 후에 폴리아릴아미드를 가열하여 제거 및/또는 알킬화에 의해 폴리아미드가 형성되도록 하고, 및 (e) 기화를 통해 휘발물로서 형성된 올레핀 및 사차 아민을 임의로 제거하는 것으로 구성되는 폴리아미드의 제조방법.
  21. 제20항에 있어서, 단계(d)에서 폴리아미드는 우세하게 알킬화에 의해 형성되는 방법.
  22. 제20항에 있어서, 단계(a)에서 폴리아릴아미드는 150-300℃범위 내에서 가열되는 방법.
  23. 제21항에 있어서, 단계(d)에서 폴리아미드는 우세하게 제거에 의해 형성되는 방법.
  24. 제21항에 있어서, 상기 제품은 필름인 방법.
  25. 제20항에 있어서, 단계(d)에서 폴리아릴아미드는 180-250℃범위 내에서 가열되는 방법.
  26. (a) 폴리아미드가,
    및
    (이때, R은 R3및 R1NHC(=O)R2로 부터 선택되고, R1및 R3는 독립적으로 m-페닐렌, p-페닐렌, 3,3'-바이페닐렌, 3,4-바이페닐렌, 4,4'-바이페닐렌 및 4,4'-디페닐렌 에테르로부터 선택되고, R2은 R1및 -(-CH2-)-x로 부터 선택되고, Ar은 1,2,4-벤젠트리일이며, 및 x는 1 내지 10이다)로 구성되는 군으로부터 독립적으로 선택된 중합체 반복 단위위 중합체이고, 폴리아미드가 적어도 약 2500의 분자량을 갖는 폴리아미드 제품을 식 R4,4N+x-(이때, 각각의 R4는 독립적으로 히드로카르빌 또는 치환된 히드로카르빌로부터 선택되며, 단, 적어도 하나의 R4기가 최소한 1개의 베타 수소 원자를 함유하며, 및 이때 X는 그의 공역산의 반응하지 않는 중합체 반복 단위내 아미도기에 부착된 수소보다 큰 pka를 갖는다.)인 사차 암모늄 염기의 용액과 상기 제품의 표면상에 폴리아미드 를 형성하기 충분한 시간동안, 임의의 실질적으로 비율의 폴리아미드를 용해시키지않고 접촉시키고, (b) 상기 제품을 사차 암모늄 염기의 상기 용액으로부터 제품을 제거하고, (c) 상기 제품을 점착될 제품과 접촉시키고, 및 (d) 상기 제품을 임의로 70-300℃로 가열하여 임의의 존재하는 폴리아릴아미드가 폴리아미드로 전환되도록 하는 것으로 구성되는, 폴리 아미드 제품의 다른 제품에 대한 점착성을 증진시키는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 단계(c)에서 상기 제품은 단계(a) 및 (b)에서와 유사하게 처리되는 다른 폴리아미드 제품에 점착되는 방법.
  28. 제26항에 있어서, 단계(d)에서 상기 제품은 150-300℃로 가열되는 방법.
  29. 제26항에 있어서, 단계(d)에서 상기 제품은 180-250℃로 가열되는 방법.
  30. 제26항에 있어서, 상기 폴리아미드는 폴리(p-페닐렌 테레프탈아미드) 및 폴리(m-페닐렌 이소프탈아미드)로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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