KR920007088B1 - 전자총용 전극 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용없음.

Description

전자총용 전극 제조방법

제1도는 일반적인 전자총용 판상전극의 사시도.

제2도는 제1도의 Ⅱ-Ⅱ선도.

제3a도부터 제3e도까지는 본 발명에 따르는 관상전극의 가공상태를 그 순서대로 도시한 단면도

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 전극의 몸체 11 : 콘형 돌출부

12 :중앙 요입부 13 : 빔통과공

14 : 환형요입부 15 : 비이드

본 발명은 음극선관용 전자총용 전극 제조방법에 관한 것으로서, 특히, 전자총의 삼극부에 속하는 판상 전극의 제조방법에 관한 것이다.

칼라 음극선관은 전자빔을 생성하는 전치 삼극부과, 생성된 전자빔을 스크린을 지향하여 집속 및 가속하는 메인 렌즈계로 이루어지는데, 상기 전치 삼극부에는 열전자 방출원으로서의 캐소오드, 열전자를 초기 전자빔으로 가속 및 집속하는 제어 그리드 및 스크린 그리드가 위치되는데 이들중 상기 두개의 전극은 주로 판상 소재의 금형가공에 의한 판상의 형태를 갖는 판상전극이다.

이러한 판상전극의 몸체(10)의 중앙에는 제1,2도에 도시된 바와 같이 3개의 콘형돌출부(11)(11)(11)가 일렬로 형성되고, 각 돌출부 중앙의 상면에는 중앙 요입부(12)(12)(12)가 형성되며, 이들의 바닥면에는 전자 빔이 통과하는 빔통과공(13)(13)(13)이 각각 형성된다.

그리고 각 콘형 돌출부(11)(11)(11)의 주위에는 환형의 요입부(14)(14)(14)가 형성되며, 그 양측에는 주위 외력에 의한 몸체의 뒤틀림을 방지하는 비이드(15)(15)가 주름진 형태로 압입형성된다. 이러한 판상전극 (10)은 수차에 걸친 압형공정, 피어싱공정, 트리밍 공정이 반복 실시되는 순차 이송금형 가공에 의해서 제조된다.

그러나 종래의 제조방법에 있어서는 상기한 판상 전극(10)을 제조함에 있어서, 상기한 콘형 돌출부(11)와 이 중앙의 중앙 요입부(12)와 그 주위의 환형 요입부(14)가 단동 프레싱 작업에 의해 일시에 형성되도록 하고 있기 때문에 콘형 돌출부가 가공되는 과정에서 일시에 극심한 소성변형이 일어나도록 되어 있다. 이로 인해서 상기 중앙 요입부(12)를 재차 압착하여 소망하는 두께로 상기 중앙 요입부를 가공하는 재차 압착공정에 있어서 가공시 정밀한 목적 치수를 얻기가 어려웠다. 더우기 극심한 소성 변형에 의해 가공 부위의 강도가 크게 가중되어 이를 가공하는 펀치가 심하게 부하를 받게 되어 심하게 되는 문제가 발생되었고 이로 인해 펀치 교체회수가 빈번해 짐으로써 공구교체를 위한 작업 휴지 빈도가 높았다.

이러한 종래의 전극 제조방법에 의하면, 결과적으로 정밀한 치수의 전극을 가공할 수 없음으로 인해 전극의 규격산포가 확대되어 전자총의 성능이 각 제품마다 달리하여 그 성능의 평준화가 어려웠다. 또한, 상기한 바와 같이 펀치의 교환회수가 빈번해 짐으로 인해 부품 소모에 의한 비용 증가는 물론, 작업 휴지시간이 증가하게 되어 공장의 생산성 저하가 초래된다.

본 발명은 상기한 제 문제점을 개선하기 위한 것으로서, 제품의 생산성 제고는 물론 제품 성능의 평쥰화는 도울 수 있는 효율적인 전자총용 전극의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다. 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제조방법은, 가) 빔통과공을 펀칭가공하는 피어싱단계, 나) 빔 통과공이 형성된 부위를 돔형으로 돌출성형하는 콘형 돌출부 예비성형단계, 다) 예비성형된 콘형 돌출부를 정상적인 형태로 압형함과 아울러 빔통과공이 형성된 콘형 돌출부의 중앙에 중앙 요입부를 형성하는 단계, 라) 콘형 돌출부의 주위에 환형요입부를 형성함과 아울러 상기 중앙요입부를 재차 압형하는 단계가 그 순서대로 이루어지도록 된점에 그 특징이 있다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 한 실시예를 상세히 설명한다.

본 발명의 제조 방법에 있어서는 통상의 제조 단계를 중에서 본 발명이 관련되는 부분에 대해 중점적으로 설명되며, 기타에 있어서는 통상의 방식을 따른다. 그리고 제조 장치에 있어서는 여러단계의 가공이 순차적으로 이루어지는 순차이종금형 장치가 적용된다.

먼저 제3a도를 참조하면, 순차적으로 이송되어 오는 판상 소재에 펀칭 가공을 통하여 초기 빔통과공(13)을 형성한다. 그리고 빔통과공(13)이 형성된 부위를 상당 크기로 압형하여 제3b도에 도시된 바와 같이 예비 콘형 돌출부(11')를 형성한다. 이어서 제3c도에 도시된 바와 같이 소정형상의 펀치와 다이를 통하여 상기 예비 콘형 돌출부(11')를 정상적인 형태의 콘형돌출부(11)를 가공하며, 이와 더불어서 상기 침통과공(13)이 형성된 부위에 중앙 요입부(12)를 형성한다. 또한 상기 과정을 통해 축소된 전자빔통과공을 다시 피어싱하여 정상적인 크기를 가지도록 한다. 이때에 중앙 요입부(12)의 두께는 적용되는 전자총에 따라 다르나 대략 0.07㎜정도가 되게 한다. 다음의 단계로서 제3d도에 도시된 바와 같이 상기 콘형 돌출부(11)의 주위에 환형 요입부(14)를 압축성형하며, 이와 더불어 상기 중앙 요입부(12)의 바닥을 최종의 두께(대략 0.06㎜)로 압착한다. 그리고 제3e도에 도시된 바와 같이 통상 최종의 마무리 단계들을 통하여 콘형 돌출부(11) 양측의 보강용 비이드(15)와, 몸체 가장자리 부위에 절곡부(16)등을 형성한 후, 최종의 형태로 트리밍 한다.

이상과 같은 순서를 통하여 본 발명에 따른 전극을 제작할 수 있게 되는데 본 발명 제조 방법의 특징은 전기한 바와 같이 피어싱 공정이후 예비 콘형 돌출부 형성 공정을 가짐으로써 급격한 변형에 의한 응력의 집중을 억제하며, 정상적인 형태의 콘형 돌출부를 형성함에 있어서는 환형 요입부를 가공하지 않음으로써 일시에 형성되는 소성변형 부위를 가능하면 작게 한다. 즉, 본 발명은 소성변형량이 가장 큰 콘형 돌출부를 2단계에 걸쳐 가공하여 응력 집중을 가능한 억제하며, 이와 더불어 일시에 한부위에 소성 변형이 집중되지 않도록 공수가 종래에 비해 증가되지 않는 범위내에서 분산 압형하도록 한다.

이러한 본 발명에 의하면 효율적인 가공 순서에 의해 정밀한 규격의 전극이 제조될 수 있게 되는데, 특히 상기한 콘형 돌출부 중앙에 형성되는 중앙 요입부의 압착가공시 종래에 비해 작업이 용이하여 지제되고, 펀치의 마모율이나 파손률이 크게 저감되게 된다. 따라서 정밀한 부품을 통하여 전자총의 성능 향상이 이루어 지며, 펀치의 수명의 장구화로 제품의 생산성이 크게 향상되게 된다.

Claims (1)

1. 음극선관용 전자총의 판상전극(10)을 제조하는 방법에 있어서, 가) 빔통과공(13)을 펀칭가공하는 초기 피어싱단계, 나) 상기 빔통과공(13)이 형성된 부위를 돔형으로 돌출성형하는 콘형 돌출부(11)의 예비성형단계, 다) 예비 성형된 상기 콘형 돌출부(11)를 정상적인 상태로 압형함과 아울러 빔통과공이 형성된 콘형 돌출부의 중앙에 중앙 요입부(12)를 형성하는 단계, 라) 콘형 돌출부(11)의 주위에 환형요입부(14)를 형성함과 아울러 상기 중앙 요입부(13)를 재차 압형하며, 상기 과정을 통해 축소된 상기 초기 빔통과공(13)을 정상 크기로 확대하는 피어싱 단계들을 포함하되, 상기의 단계들이 그 순서대로 이루어지도록 된 것을 그 특징으로 하는 전자총용 전극 제조방법.

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