KR920002647A - 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도 - Google Patents

친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도 Download PDF

Info

Publication number
KR920002647A
KR920002647A KR1019910012314A KR910012314A KR920002647A KR 920002647 A KR920002647 A KR 920002647A KR 1019910012314 A KR1019910012314 A KR 1019910012314A KR 910012314 A KR910012314 A KR 910012314A KR 920002647 A KR920002647 A KR 920002647A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hydrophilic copolymer
mol
ratio
present
copolymer
Prior art date
Application number
KR1019910012314A
Other languages
English (en)
Inventor
요제프 파우스트 라이문트
루츠 실비아
플리프케 엥겔베르트
Original Assignee
빈프리트 게르만, 칼-헤르만 메이어-들호이어
훽스트 아크티엔게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 빈프리트 게르만, 칼-헤르만 메이어-들호이어, 훽스트 아크티엔게젤샤프트 filed Critical 빈프리트 게르만, 칼-헤르만 메이어-들호이어
Publication of KR920002647A publication Critical patent/KR920002647A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/036—Chemical or electrical pretreatment characterised by the presence of a polymeric hydrophilic coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31699—Ester, halide or nitrile of addition polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (14)

  1. 중합체 쇄로부터 형성되고, 산성 측쇄 그룹 및 염기성 측쇄 그룹을 갖는 하기 일반식의 친수성 공중합체 :
    상기 식에서, R1은 H, CH3또는 C2H5이고 ; R2는 탄소수 1내지 17의 알킬 또는 사이클로알킬라디칼, 바람직하게는 CH3C2H5또는 C3H7이고;R3은 CH3, C3H7이고; m은 2,3 또는 4이고;n,o 및 p는 단량체 단위의 비율(몰%)이고; 단,n+o+p=100몰%; n 및 p는 각각 2몰% 이상이다.
  2. 제1항에 있어서, 알킬 라디칼 R2가 메틸, 에틸, 프로필 또는 이소프로필인 친수성 공중합체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 산성 측쇄 그룹을 갖는 단량체 단위가 2내지 50몰% 비율(n)로 존재하는 친수성 공중합체.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 염기성 측쇄 그룹을 갖는 단량체 단위가 2내지 50몰%율(p)로 존재하는 친수성 공중합체.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 이온화될 수 없는 중성 단량체 단위가 0내지 96몰% 비율(o)로 존재하는 친수성 공중합체.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 산성 단량체 단위 및 염기성 단량체 단윙가 각각 10내지 50몰%의 기의 동물의 비율(np)로 존재하고 ; 이온화될 수 없는 중성 단량체 단위는 0내지 80몰%의 비율(o)로 존재하는 친수성 공중합체.
  7. 제1항 내지 제6항중 어느 한항에 있어서, 산성 단량체 단위 및 염기성 단량체 단위가 각각 약 10 내지 40몰%의 비율로 존재하는 친수성 공중합체.
  8. 제5항에 있어서, 이온화될 수 없는 중성 단량체 단위가 20내지 80몰%의 비율(o)로 존재하는 친수성 공중합체.
  9. 제1항에 있어서, 이온화 될수 없는 단량체 단위가 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트 또는 에틸 메타크릴레이크로부터 형성되는 친수성 공중합체.
  10. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 공중합체 쇄의 구조가 여러 단량체 단위들로 이루어진 불규칙적인 구조이고 ; 또한 공중합체 쇄의 평균 분자량은 1,000이상, 특히 20,000 내지 50,000인 친수성 공중합체.
  11. 제1항 내지 제10항중 어느 한항에 있어서, 자유 라디칼 중하베 의해 제조된 친수성 공중합체.
  12. 제1항 내지 제11항중 어느 한항에 있어서, 단량체가 약 60내지 120℃로 이용한 중합 온도에서 균질하게 용해될 수 있고 형성된 공중합체는 불용성이고 침전하는 비극성 용매중에서 자유 라디칼 중합시키는 침전 중합에 의해 제조된 친수성 공중합체.
  13. 제12항에 있어서, 비극성 용매가 비극성 유기 용매인 친수성 공중합체.
  14. 석판 인쇄 기재, 특히 옵셋 인쇄판용 양극 산화된 알루미늄 지지체를 친수성화시키기 위한, 제1항 내지 제13항중 어느 한항에 따른 친수성 공중합체의 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910012314A 1990-07-21 1991-07-19 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도 KR920002647A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP4023269.7 1990-07-21
DE19904023269 DE4023269A1 (de) 1990-07-21 1990-07-21 Hydrophile mischpolymere sowie deren verwendung in der reprographie

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR920002647A true KR920002647A (ko) 1992-02-28

Family

ID=6410775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910012314A KR920002647A (ko) 1990-07-21 1991-07-19 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5178963A (ko)
EP (1) EP0468311B1 (ko)
JP (1) JPH075681B2 (ko)
KR (1) KR920002647A (ko)
BR (1) BR9103109A (ko)
CA (1) CA2047449A1 (ko)
DE (2) DE4023269A1 (ko)
ES (1) ES2106750T3 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4023267A1 (de) * 1990-07-21 1992-01-23 Hoechst Ag Platten-, folien- oder bandfoermiges traegermaterial fuer offsetdruckplatten, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
US5368974A (en) * 1993-05-25 1994-11-29 Eastman Kodak Company Lithographic printing plates having a hydrophilic barrier layer comprised of a copolymer of vinylphosphonic acid and acrylamide overlying an aluminum support
US5705570A (en) * 1995-06-07 1998-01-06 International Business Machines Corporation Ablatively photodecomposable compositions
US6495309B1 (en) 1998-12-15 2002-12-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric film having a coating layer of a phosphonic acid group containing polymer
CN103415808B (zh) 2011-02-28 2017-06-23 富士胶片株式会社 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法
WO2016093293A1 (ja) * 2014-12-10 2016-06-16 日産化学工業株式会社 生体物質の付着抑制能を有するイオンコンプレックス材料及びその製造方法
JP6911852B2 (ja) * 2016-06-15 2021-07-28 日産化学株式会社 凍結保存用容器

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (ko) * 1950-12-06
US2991204A (en) * 1957-06-19 1961-07-04 Harris Intertype Corp Hydrophilic surface
GB907718A (en) * 1957-11-01 1962-10-10 Lithoplate Inc Hydrophilic base plates for diazo presensitized lithographic printing plates
US3073723A (en) * 1958-10-03 1963-01-15 Lithoplate Inc Resinous coatings adapted to receive a light-sensitive layer in the production of lithographic printing plates
NL267931A (ko) * 1960-08-05 1900-01-01
US3298852A (en) * 1963-02-07 1967-01-17 Dick Co Ab Metal offset plate and method for manufacture
US3280734A (en) * 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3181461A (en) * 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3440050A (en) * 1965-02-05 1969-04-22 Polychrome Corp Lithographic plate
DE1546786C3 (de) * 1965-06-03 1973-12-13 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Verfahren und Material zur Her stellung von Flachdruckplatten
FR1573529A (ko) * 1967-07-12 1969-07-04
ZA6807938B (ko) * 1967-12-04
GB1246696A (en) * 1969-01-29 1971-09-15 Hawthorn Baker Ltd Improvements in anodised aluminium photolithographic printing plates
DE1938039C3 (de) * 1969-07-26 1978-04-06 Henkel Kgaa, 4000 Duesseldorf Verfahren zur Behandlung von anodisch oxydierten Aluminiumoberflächen
JPS492286B1 (ko) * 1970-02-19 1974-01-19
US4049746A (en) * 1970-12-11 1977-09-20 The Richardson Company Intermediate coating compositions and long running planographic plates prepared therewith
US3769043A (en) * 1971-05-20 1973-10-30 Ricoh Kk Treating solution for planographic printing plates
BE794939A (fr) * 1972-02-03 1973-08-02 Eastman Kodak Co Produit propre a l'utilisation en lithographie
US3861917A (en) * 1972-02-22 1975-01-21 Grace W R & Co Continuous tone lithographic plate and method of making
US3860426A (en) * 1972-12-22 1975-01-14 Eastman Kodak Co Subbed lithographic printing plate
US4116695A (en) * 1974-09-12 1978-09-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a support for a printing plate
US3902976A (en) * 1974-10-01 1975-09-02 S O Litho Corp Corrosion and abrasion resistant aluminum and aluminum alloy plates particularly useful as support members for photolithographic plates and the like
NL7603530A (nl) * 1975-04-07 1976-10-11 Dow Chemical Co Werkwijze, samenstelling en emulsie voor de be- handeling van beeld-dragende lithografische druk- platen, alsmede als zodanig verkregen beklede platen.
GB1577258A (en) * 1976-07-30 1980-10-22 Kansai Paint Co Ltd Planographic printing
JPS53104301A (en) * 1977-02-22 1978-09-11 Ricoh Kk Treating solution for lithographic printing
DE3126636A1 (de) * 1981-07-06 1983-01-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3126627A1 (de) * 1981-07-06 1983-01-20 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Polyvinylmethylphosphinsaeure, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
US4420549A (en) * 1981-09-08 1983-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Lithographic substrate and its process of manufacture
EP0149490B2 (en) * 1984-01-17 1993-12-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer
DE3418496A1 (de) * 1984-05-18 1985-11-21 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von mischpolymerisaten aus vinylphosphonsaeure und (meth-)acrylsaeure in waessriger loesung und ihre verwendung

Also Published As

Publication number Publication date
ES2106750T3 (es) 1997-11-16
BR9103109A (pt) 1992-02-11
JPH06145254A (ja) 1994-05-24
EP0468311B1 (de) 1997-10-08
US5178963A (en) 1993-01-12
DE4023269A1 (de) 1992-01-23
CA2047449A1 (en) 1992-01-22
JPH075681B2 (ja) 1995-01-25
DE59108868D1 (de) 1997-11-13
EP0468311A1 (de) 1992-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4978473A (en) Polymeric solid electrolyte
KR910012128A (ko) 정전기 방지성 용이 접착성 필름, 그의 제조방법 및 그를 사용하는 자기 카드
ATE95541T1 (de) Vielkomponentenbeschichtungszusammensetzung auf der basis eines ein anhydrid enthaltenden polymers, einer glycidylverbindung und einer monomeren oder oligomeren anhydridkomponente.
DE69821161D1 (de) Vernetzte Acrylat Copolymere in wässrige Emulsion mit Verdickungs und Suspensionseigenschaften
KR950701352A (ko) 수성 시스템중에서의 개선된 중합 방법
KR860700257A (ko) 아크릴 별모양 중합체
DE69127886D1 (de) Copolymere auf Basis von N-Alkylacrylamid, deren Herstellung und deren Verwendung als Verdickungsmittel in Shampoozusammensetzungen
KR920002647A (ko) 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도
ES8207561A1 (es) Procedimiento para preparar un gel polimerico hidrofilo de alto peso molecular
KR920002646A (ko) 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도
KR910020056A (ko) 성상 블록 중합체 및 이의 제조 방법
ES2091853T3 (es) Polimeros de injerto de acrilato-metacrilato.
KR930004251A (ko) α,β-불로화된 카복스아미드 단위를 함유하는 중합체성 결합제를 갖는 감방사선성 혼합물
KR920002649A (ko) 열적 가교결합성 친수성 공중합체 및 전자복사에서의 이의 용도
KR920002648A (ko) 친수성 공중합체 및 전자복사(repropraphy)에서의 이의 용도
BR9809842A (pt) Composições para cuidados pessoais contendo polìmeros enxertados.
EP0020782B1 (en) Light-sensitive polyamide resin composition
EP0828167A3 (en) Resin composition for polymerization casting and optical material
GB2003904A (en) Polymer compositions
KR850007075A (ko) 폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법
NO890131L (no) Herdbar dispersjon.
ATE80172T1 (de) Vielkomponentenbeschichtungszusammensetzung auf der basis eines ein anhydrid enthaltenden polymers, einer glycidylverbindung und eines polymers mit mehreren hydroxylgruppen.
KR920018114A (ko) 실란 단위를 함유하는 양친매성 중합체 및 이로부터 제조된 단분자층 하나 이상을 포함하는 필름
KR850000478A (ko) 메타-또는 파라-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트의 에멜션 공중합체의 제법
DK0622383T3 (da) Podepolymerisater til behandling af fleksible ark

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid