KR910020010A - 이미다조(1,2-a) 피리딘 유도체 - Google Patents

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KR910020010A
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고문규
신재무
윤대철
김관성
조형근
정대환
장시영
전봉열
한학규
이춘석
황대섭
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우대규
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/04Ortho-condensed systems

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

내용 없음

Description

이미다조(1,2-a) 피리딘 유도체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 다음 일반식(Ⅰ)의 화합물과 약리학적으로 허용되는 산부가염.
    상기 일반식(Ⅰ)에서 R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급 알킬기, 히드록시기, C1-C4의 저급 알콕시기, 아릴 알콕시기, 아미노기, C1-C4의 저 급알킬아민기, 벤질아민기, 아미도기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택된 기이고, R5</SB는 수소원자 또는 C 1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 히드라진기, 및 아미노이미노메틸렌아미노(구아니딘)기로 구성되는 군에서 선택된 기이다.
  2. 제1항에 있어서, R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급 알킬기, 히드록시기, C1-C4의 저급 알콕시기, 아릴메톡시기, 벤질아민기, 아미노기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택된 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기임을 특징으로 하는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.
  3. 제1항에 있어서, 다음 일반식(Ⅱ)로 표시되는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.
    상기 일반식(Ⅱ)에서 R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, C1-C4저급 알콕시기, 히드록시기, 아릴 알콕시기, 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 벤질아민기 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 것이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기이다.
  4. 제1항에 있어서, 다음 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.
    상기 일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, C1-C4의 저급 알콕시기, 히드록시기, 아릴 알콕시기, 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 벤질아민기 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기이고, 단 R1, R2, R3및 R4는 수소원자이고, R5는 메틸기이고, R6는 아미노기인 화합물은 제외된다.
  5. 제3항에 있어서, R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, 히드록시기, C1-C4의 저급 알콕시기, 아릴메톡시기, 벤질아민기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기임을 특징으로 하는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.
  6. 제4항에 있어서, R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, 히드록시기, C1-C4의 저급 알콕시기, 아릴메톡시기, 벤질아민기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급 알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급 알킬아민기, 아릴아민기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기임을 특징으로 하는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.
    단, R1, R2, R3및 R4는 수소원자이고, R5는 메틸기이고, R6는 아미노기인 화합물은 제외된다.
  7. 다음 일반식(Ⅳ)의 화합물과 다음 일반식(Ⅴ)의 화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음 일반식(Ⅱ)의 화합물의 제조 방법.
    상기 일반식에서 R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, 히드록시기, 아미도기, C1-C4의 저급알콕시기, 아릴알콕시기, 벤질아민기, C1-C4의 저급알킬아민기, 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급알킬아민기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급알킬아민기, 아릴아민기, 히드라진기, 및 구아니딘기로 구성되는 군에서 선택된 기이다. X는 염소원자 또는 브롬원자이다.
  8. 다음 일반식(Ⅷ)의 화합물과 다음 일반식(Ⅷ)의 화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음 일반식(Ⅲ)의 화합물의 제조 방법.
    상기 일반식에서 R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나, 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, 히드록시기, 아미도기, C1-C4의 저급알콕시기, 아릴알콕시기, 벤질아민기, C1-C4의 저급알킬아민기, 아미노기 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택한 기이고, R5는 수소원자 또는 C1-C4의 저급알킬기이고, R6는 아미노기, C1-C4의 저급알킬아민기, 아릴아민기, 히드라진기, 및 구아니딘기로구성되는 군에서 선택된 기이다.
    단, R1, R2, R3및 R4는 수소원자이고, R5는 메틸기이고, R6는 아미노기인 화합물은 제외된다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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