KR910005103A - 써멀 이메이징 시스템 - Google Patents

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KR910005103A
KR910005103A KR1019900012483A KR900012483A KR910005103A KR 910005103 A KR910005103 A KR 910005103A KR 1019900012483 A KR1019900012483 A KR 1019900012483A KR 900012483 A KR900012483 A KR 900012483A KR 910005103 A KR910005103 A KR 910005103A
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KR
South Korea
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layer
thermal imaging
imaging device
layers
conductive layer
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KR1019900012483A
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English (en)
Inventor
피턴 헨리 스미스 데이비드
테렌스 레오나드 미크
왈터 스완 데이비드
Original Assignee
도날드 밀러 셀
미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/3825—Electric current carrying heat transfer sheets
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/028—Layers in which after being exposed to heat patterns electrically conductive patterns are formed in the layers, e.g. for thermoxerography
    • G—PHYSICS
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    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Abstract

내용 없음

Description

써멀 이메이징 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 써멀 이메이징 기기의 기본 실시 양태를 나타낸 단면도.
제2도는 전체 착색제 전달층을 포함하는 본 발명의 써멀 이메이징 기기의 단면도.
제3도는 전체 착색제 전달층 및 착색제 수용기판을 구비한 필 어파트 구조의 본 발명의 써멀 이메이징 기기의 단면도.

Claims (19)

  1. 써멀 이메이징 시스템의 열적 활성 성분을 포함하는 매체에 국부 가열을 가하도록 된 프린트 표면을 갖고, 다음의 연속층; (a)투명 또는 반투명 전기전도층, (b)633mm 파장의 레디에이숀 및 4.0 ×106w/m2의 강도로 일루미네이숀되었을때 적어도 0.01s/cm의 전도도 및 적어도 1 ×103의 감광도를 갖는 광전도층, (c)광전도층 (b)및 다음의 층들과 전기적으로 밀접하게 접촉되어 있는 전기전도층, (d)내부식성 마모층, 또는 (e)이미지 형성 시스템의 상기 열적 활성 성분을 포함하는 층, 을 포함하는 써멀 이메이징 기기에 있어서, 전압 포렌샬이 (a)및 (c)층에 인가되고 기기가 층(a)를 통해 노출되었을때 층(b)의 노출부분이 전도성으로 되어 전류흐름이 증가되고 층(b)의 노출부분에 해당되는 지점에 열이 발생하며, 이미지 형성 시스템의 상기 성분을 열적 활성화 시키기에 충분하게 프린트 표면이 인접 부분이 국부 가열되도록 상기 층들이 제조 및 배열되며, 상기 기기에 페로마그네틱가넷 물질은 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전도층(a)는 이디움 옥사이드, 틴옥사이드, 이디움틴 옥사이드, 카드뮴 틴 옥사이드, 카드뮴 이디움 옥사이드 또는 이들의 혼합물 또는 금속을 포함하며; 상기 광전도층(b)은 카드뮴 설파이드, 카드뮴 세레나이드, 카드뮴 테루라이드, 갈륨 알세나이드, 리드 설파이드, 리드 세레나이드, 징크옥사이드 또는 이들의 혼합물을 포함하고 각각은 선택적으로 하나이상의 보완용 어셉터로 도핑되고; 상기 전도층(c)은 알루미늄 또는 티타늄을 포함하며; 상기 마모층은 알루미나, 실리콘 나이트라이드, 티타늄 나이트라이드, 알루미늄 나이트라이드, 보론 나이트라이드, 실리콘 옥사이드, 실리콘 카바이드, 다이아몬드 또는 다이아몬드형 물질 또는 선택적으로 교차결합된 폴리어 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  3. 제1항에 또는 2항에 있어서, 상기 전도층(a)는 0.1 내지 1.0㎛의 두께를 갖고; 상기 광전도층(b)는 1.0 내지 20.0㎛의 두께를 갖고; 상기 전도층(c)는 0.1 내지 1.0㎛의 두께를 갖고; 및 상기 마모층(d)는 0.1 내지 10㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 써멀 어메이징 기기.
  4. 제1항 내지 3항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 층(a)가 기판에 인접하여 층(d) 또는 층(e)는 상기 기판에서 떨어져 있고 상기 지지기판 및 코팅된 층이 실질적으로 사각형 프리증 또는 실질적으로 속이빈 실린더 또는 드럼을 형성하도록, 상기 연속층이 투명지지 기판에 코팅되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  5. 제4항에 있어서, 상기 지지기판 및 전도층(a)사이에 삽입되는 투명한 열저항층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  6. 전술한 항들중 어느 한 항에 있어서, 상기 전도층(a) 및 (c)의 적어도 하나는 다수의 불연속 전극으로 형성되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  7. 제6항에 있어서, 상기 불연속 전극은 실질적으로 상기 프린트 표면의 길이를 연장하는 일련의 라인으로 형성되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  8. 전술한 항들중 어느 한 항에 있어서, 세층(a) 내지 (c) 및 내부식 마모층(d)를 포함하고, 프린트표면은 내부식 마모층(d)와 결합하여 전도층(c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  9. 제1항 내지 7항중의 어느 한 항에 있어서, 세층(a) 내지 (c) 및 층(e)를 포함하고, 프린트 표면은 전도층(c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  10. 제1항 내지 7항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 이미지 형성시스템의 열적활성 성분을 포함하는 매체를 상기 프린트 표면에 가하는 수단과 결합되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  11. 제1항 내지 7항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 이미지 형성시스템의 열적활성 성분으로 코팅되거나 이를 함유한 도우너리본 또는 시이트와 결합되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  12. 제9항에 있어서, 상기 열적 활성 성분을 포함하는 매체는 층(e)에 포함되는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  13. 제10항 내지 12항중의 어느 한 항에 있어서, 선택적으로 리셉터층을 구비하는 이미지 리셉터 기판과 결합되어 상기 열적 활성 성분을 수용하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 기기.
  14. 상기 기기의 노출 수단 및 각 기기의 (a) 및 (c)층에 전압을 인가하기 위한 수단을 포함하는, 제1항 내지 13항중의 어느 한 항에 기재된 적어도 하나의 써멀 이메이징 기기를 구비하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 어셈블리.
  15. 제14항에 있어서, 상기 기기의 노출 수단은 액체 크리스탈 디스플레이에 의해 조절되는 스캐닝 레이저 또는 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 어셈블리.
  16. 제14항 또는 15항 있어서, 다수의 써멀 이메이징 기기를 포함하고, 각 기기는 다른색의 열적 활성성분을 포함하는 별도의 매체에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 써멀 이메이징 어셈블리.
  17. 써멀 이메이징 시스템의 열적 활성 성분을 포함하는 매체에 국부 가열을 가하도록 된 프린트 표면을 갖고, 다음의 연속층; (a)투명 또는 반투명 전기전도층, (b)633mm파장의 레디에이숀 및 4.0 ×106w/m2의 강도로 일루미네이숀 되었을때 적어도 0.01s/cm의 전도도 및 적어도 1 ×103의 감광도를 갖는 광전도층, (c)광전도층 (b) 및 다음의 층들과 전기적으로 밀접하게 접촉되어 있는 전기전도층, (d)내부식성 마모층, 또는 (e)이미지 형성 시스템의 상기 열적 활성 성분을 포함하는 층, 을 포함하는 써멀 이메이징 기기를 제공할 단계에 전압 포렌샬을 (a) 및 (c)층에 인가하는 단계; 층(b)의 노출부분이 전도성으로 되어 전류흐름이 증가되고 층(b)의 노출부분에 해당하는 지점에 열이 발생하며, 이미지 형성 시스템의 상기 성분을 열적 활성화 시키기에 충분하게 프린트 표면의 인접 부분이 국부 가열되도록 층(a)를 통해 기기를 노출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시각적 이미지의 레코딩 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 써멀 이메이징 기기의 전도층(a) 및 (c)중의 적어도 하나는 다수의 불연속 전극으로 형성되며, 상기 불연속 전극을 포하하는 기기의 부분 노출시 전압 포렌샬은 상기 불연속전극 및 다른 전도층의 해당전극을 통하여 독립적으로 인가되는 것을 특징으로하는 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 불연속 전극은 일련의 라인으로 형성되며, 상기 노출 수단은 상기 일련의 라인에 수직으로 배열되는 선형 노출 소스를 포함하고, 상기 전극 및 다른 전도층의 해당전극 사이의 전압 포텐샬은 독립적으로 조절되는 한편, 상기 소스는 상기 다수의 라인에 동시 노출되며 상기 라인을 따라 스캐닝되는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900012483A 1989-08-15 1990-08-14 써멀 이메이징 시스템 KR910005103A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB898918622A GB8918622D0 (en) 1989-08-15 1989-08-15 Thermal imaging system
GB89.18622 1989-08-15

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KR910005103A true KR910005103A (ko) 1991-03-30

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Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900012483A KR910005103A (ko) 1989-08-15 1990-08-14 써멀 이메이징 시스템

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DE69014768T2 (de) 1995-07-13
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EP0413569B1 (en) 1994-12-07

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