KR910005093A - 감광성 세라믹 피복 조성물 및 그의 제조방법 - Google Patents

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KR910005093A
KR910005093A KR1019890012763A KR890012763A KR910005093A KR 910005093 A KR910005093 A KR 910005093A KR 1019890012763 A KR1019890012763 A KR 1019890012763A KR 890012763 A KR890012763 A KR 890012763A KR 910005093 A KR910005093 A KR 910005093A
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존 네브 윌리엄
제리 오스본 제임즈
에릭 졸리 존
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원본미기재
이 아이 듀우판 디 네모아 앤드 캄파니
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Abstract

내용 없음

Description

감광성 세라믹 피복 조성물 및 그의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. (a)표면적:중량비가 10m2/g이하이고 입자중 최소한 80중량%가 1-10미크론의 크기를 갖는, 세라믹 고형물의 미분된 입자. (b)표면적:중량비가 10m2/g이하이고 입자중 8-15중량%가 0.5-1.0미크론의 크기를 가지며 입자중 85-92중량%는 1-10미크론의 크기를 갖는, 무기 결합제의 미분된 입자가, (c)(1)C1-10알킬 아크릴레이트, C1-10알킬 메타크릴레이드, α-메틸스티렌 및 0-2중량%의 에틸렌형 불포화 카르복실산, 아민 또는 실란-함유 화합물의 단일 중합체와 공중합체, (2)C1-10모노올레핀이 단일중합체와 공중합체, (3)C1-4알킬렌 산화물 및 이들의 혼합물의 단일중합체와 공중합체로 구성된 군으로부터 선책된 유기 중합체 결합체, (전체 무기 고형물을 기준으로) 5-25중량%, (d)광계시제 시스템, (e)광경화성 단량체,(전체 무기 고형물을 기준으로) 1-20중량% (f)하기 구조식(I)로 나타내어지는 분산제 :
    (상기식에서, Q는 a. 1-18개 탄소원자의 알칸올을 갖는 메타크릴 산 또는 아크릴산의 에스테르 b. 스티렌 또는 아크릴로니트릴, c. 에스테르 부분이 2-18개의 탄소원자를 함유하는 비닐 에스테르 또는 d. 비닐 에테르를 갖는, 중합체 또는 공중합체 단편이고 X는 연쇄이동제의 잔기이며, Y는 이소시아네이트 기를 제거한 후의, 디-, 트리-또는 테트라이소시아네트 라디칼의 잔기이고 A는 반응전의 실체로서, 5-14의 pKa를 갖는 염기성 라디칼의 잔기, 또는 이들의 염이며 m 및 n은 1,2또는 3이고, 합하여 A를 넘지 않으며, 단 n이 2 또는 3일때는, A중 하나만이 상기한 바와 같아야함) 또는 하기 구조식(Ⅱ)로 나타내어지는 분산제:
    (상기식에서, Q는 약 20단위의 부틸 메타그릴레이트를 함유하는 알킬 메타그릴레이트 중합체 단편이고 n은 20이며 m은 8-12이고, R은 연쇄정지제 잔기임) (g)디알킬 프탈레이트, 아릴-알킬 프탈레이트, 알킬 포스페이트, 폴리알킬렌 글리코르 글리세롤, 폴리(에틸렌 산화물), 히드록시 에틸화 알킬페놀, 트리크레실포스페이트, 트리에틸렌 글리콜 디아세테이트, 및 폴리에스테르 가소제로 구성된 군으로부터 선택된 가소제, (전체 무기 고형물을 기준으로) 0.5-10중량%, 및 (h)휘발성 비수성 유기 용매로 구성된 유기 매체에, 0.6-2.0의 (b):(a)중량비로 분산된 혼합물로 구성되는, 본질적으로 비산화 분위기하에서, 연소성인 감광성 세라믹 피복 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 가소제가 옥틸 벤질 프탈레이트인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 유기 중합체 경합제가 메틸메타크릴레이트 98중량%와 메타크릴산 2중량%의 공중합체인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 광경하성 단량체가 폴리옥시에틸화 트리메틸롤 프로판 트리아크릴레이트와 폴리옥시에틸화 트리메틸롤 프로판 트리메타크릴레이트로 구성된 군에서 선택된 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 광개시 시스템이, 벤조페논과 마이클러(Michler)케톤, 6대의 1의 중량비로 구성되어 있는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 분산제가 하기 구조식에 의해 나타내어지는 조성물:
    상기식에서, Q는 6000 내지 8000의 중량평균 분자량을 갖는 메틸메타크릴레이트 중합체 단편이다.
  7. (a)표면적:중량비가 10m2/g이하이고 입자중 최소한 80중량%가 1-10미크론의 크기를 갖는, 세라믹 고형물의 미분된 입자, (b)표면적:중량비가 10m2/g이하이고 입자중 8-15중량%가 0.5-10미크론의 크기를 가지며 입자중 85-92중량%가 1-10미크론의 크기를 갖는, 무기 결합제의 미분된 입자가, (c)(1)C1-10알킬 아크릴레이트, C1-10알킬 메타크릴레이드, α-메틸스티렌 및 0-2중량%의 에틸렌형 불포화 카르복실산, 아민 또는 실란-함유 화합물의 단일 중합체와 공중합체, (2)C1-10모노올레핀이 단일중합체와 공중합체, (3)C1-4알킬렌 산화물 및 이들의 혼합물의 단일중합체와 공중합체로 구성된 군으로부터 선책된 유기 중합체 결합체, (전체 무기 고형물을 기준으로) 5-25중량%, (d)광개시제 시스템, (e)광경화성 단량체,(전체 무기 고형물을 기준으로) 1-20중량% (f)하기 구조식(I)로 나타내어지는 분산제:
    (상기식에서, Q는 a. 1-18개 탄소원자의 알칸올을 갖는 메타크릴 산 또는 아크릴산의 에스테르 b. 스티렌 또는 아크릴로니트릴, c. 에스테르 부분이 2-18개의 탄소원자를 함유하는 비닐 에스테르 또는 d. 비닐 에테르를 갖는, 중합체 또는 공중합체 단편이고 X는 연쇄이동제의 잔기이며, Y는 이소시아네이트 기를 제거한 후의, 디-, 트리-또는 테트라이소시아네트 라디칼의 잔기이고 A는 반응전의 실체로서, 5-14의 pKa를 갖는 염기성 라디칼의 잔기, 또는 이들의 염이며 m 및 n은 1,2또는 3이고, 합하여 A를 넘지 않으며, 단 n이 2 또는 3일때는, A중 하나만이 상기한 바와 같아야함) 또는 하기 구조식(Ⅱ)로 나타내어지는 분산제:
    (상기식에서, Q는 약 20단위의 부틸 메타크릴레이트를 함유하는 알킬 메타크릴레이트 중합체 단편이고 n은 20이며 m은 8-12이고, R은 연쇄정지제 잔기임) (g)디알킬 프탈레이트, 아릴-알킬 프탈레이트, 알킬 포스페이트, 폴리알킬렌 글리콜, 글리세롤, 플리(에틸렌 산화물), 히도록시 에틸화 알킬페놀, 트리크레실포스페이트, 트리에틸렌 글리콜 디아세테이트, 및 폴리에스테르 가소제로 구성된 군으로부터 선택된 가소제, (전체 무기 고형물을 기준으로) 0.5-10중량%, 및 (h)휘발성 배수성 유기 용매로 구성된 유기매체에, 0.6-2.0의 (b):(a)중량비로 분산된 혼합물로 구성되는, 본질적으로 비산화 분위기하에서, 연소성인 감광성 세라믹 피복 조성물의 제조방법에 있어서, 성분(a),(b),(c),(d),(e),(f),(g) 및 (h)를 혼합하기 전에, 성분(a)인 세라믹 고형물의 미분자입자와 성분(b)의 무기 결합제의 미분입자를 그러한 입자형태로 동결건조시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제8항에 있어서, 성분(a)인 세라믹 고형물의 미분입자와 성분(b)인 무기 결합제의 미분입자를, 자기분리기를 통해 통과시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890012763A 1988-09-02 1989-09-01 감광성 세라믹 피복 조성물 및 그의 제조방법 KR910005093A (ko)

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