KR910001454A - 마킹 모드 선택 기능을 지니고있는 광학 마킹 시스템 및 그 방법 - Google Patents

마킹 모드 선택 기능을 지니고있는 광학 마킹 시스템 및 그 방법 Download PDF

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KR910001454A
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Abstract

내용 없음

Description

마킹 모드 선택 기능을 지니고 있는 광학 마킹 시스템 및 그 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 첫 번째 실시예에 따른 광학 마킹 시스템(optical marking system)을 나타내는 다이어그램,
제5도는 제1도의 광학 마킹 시스템을 제어하는 제어회로의 블록다이어그램,
제6도는 제1도의 광학 마킹 시스템의 두 개의 모드를 수행하는 동작의 시퀀스를 나타내는 플로우차트.

Claims (20)

  1. 광학 마킹 시스템에 있어서, 소정의 파장을 지닌 광선(light beam)을 발생시키는 광원; 상기 광원에 의해 발생된 광선을 집광하고 집광된 광선을 소정의 방향으로 조사하는 광학 장치; 상기 광학 장치에 연결되어 있고 패턴 형성부와 비패턴 형성부를 포함하는 형성장치; 및 소정의 패턴을 형성하기 위하여 광선이 상기 형성장치의 상기 패턴 형성부로 향하게 되는 첫 번째 모드와 광선이 상기 형성장치의 상기 비패턴 형성부로 향하게 되는 두 번째 모드를 성취하기 위하여 상기 광학 장치에 연결되어 상기 광학장치를 제어하는 제어장치로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광학장치가 광선의 방향을 변환시키는 한쌍의 미러와 상기의 한쌍 미러를 구동시키는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 광선이 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  4. 제2항에 있어서, 상기 광학 장치가 광선을 상기 형성장치로 향하게 하는 릴레이 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 패턴 형성부에 의해 소정의 패턴의 이미지를 형성 하는 이미지 형성렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 형성 장치의 소정의 패턴이 에칭에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 형성 장치의 상기 비패턴 형성부가 오프닝인 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  8. 광학 마킹 시스템에 있어서, 대상물에 광학적으로 표식을 형성하기에 적당한 소정의 파장을 지닌 광선을 발생시키는 광원; 상기 광원에서 발생된 광선을 집광하고 집광된 광선을 소정의 방향으로 조사하는 첫번째 광학 장치들; 상기 첫번째 광학 장치에 연결되고 여러종류의 다양한 크기를 갖는 다수의 패턴을 포함하는 형성장치들; 상기 형성장치의 패턴들 중의 하나를 선택하도록 상기 첫번째 광학장치에 연결되어 제어하는 첫번째 제어장치들;상기 첫번째 제어장치들에 의해 선택된 패턴에 해당하는 광패턴을 수신하고 수신된 광패턴을 상기 대상물에 전송하는 두번째 광학장치들; 및 상기 첫번째 제어장치들에 의해 선택된 패턴에 따라 대상물에 표식을 형성하도록 상기 두번째 광학장치에 연결되어 상기 두번째 광학 장치를 제어하는 두번째 제어장치로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  9. 제8항에 있어서, 상기 첫번째 광학장치가 광선의 방향을 변환시키는 한쌍의 미러와 상기의 한쌍의 미러를 구동시키는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  10. 제8항에 있어서, 광선이 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  11. 제8항에 있어서, 상기 광학장치가 선택된 패턴에 해당하는 광패턴을 수신하는 한쌍의 미러와 상기 한쌍의 미러를 구동시키는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  12. 제8항에 있어서, 상기 첫번째 광학장치가 광선을 상기 형성장치들로 향하게 하는 릴레이 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  13. 제8항에 있어서, 한종류 이상의 상기 다수의 패턴들이 원형, 장방형, 5각형 및 6각형 패턴들을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  14. 제8항에 있어서, 상기 형성장치들이 적어도 하나의 고정된 사이즈 패턴(size pattern)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹시스템.
  15. 제8항에 있어서, 상기의 첫번째 제어장치들이 고정된 사이즈 패턴을 형성하는 첫번째 모드와 한종류 이상의 상기 다수의 패턴들을 형성하는 두번째 모드를 형성하기 위하여 상기 첫번째 광학 장치를 제어하고 상기 첫번째와 두번째 모드들이 소정의 순서대로 수행되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹시스템.
  16. 광학 마킹 방법에 있어서, 소정의 파장을 갖는 광선을 발생시키는 단계; 첫번째 모드에서 광선을 패턴발생기(generator)를 조사하여 소정의 패턴을 발생시키도록 광학 시스템을 제어하는 단계; 및 두번째 모드에서 상기 광학 시스템을 제어하여 광선을 대상물에 직접 투사하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 시스템.
  17. 제16항에 있어서, 상기 광선이 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 광학 마킹 방법.
  18. 광학 마킹 방법에 있어서, 소정의 파장을 갖는 광선을 발생시키는 단계; 광선을 한종류 이상의 상기 다수의 패턴들 중의 하나에 향하게 하여 해당하는 광패턴을 발생시키도록 첫 번째 광학 시스템을 제어하는 단계; 및 두 번째 광학 시스템을 제어하여 해당하는 광 패턴을 대상물로 향하게 하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 광선이 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 광학 마킹 방법.
  20. 제18항에 있어서, 광선을 적어도 하나의 고정된 사이즈 패턴에 향하게 하여 해당하는 광 패턴을 발생시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 마킹 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890008921A 1988-06-30 1989-06-28 마킹 모드 선택 기능을 지니고 있는 광학 마킹 시스템 및 그 방법 KR920006417B1 (ko)

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JP1-71940 1989-03-27
JP??01-71940 1989-03-27
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