KR900006502A - 표백제 및 광학적 광택제를 함유하는 입자형 조성물 및 이의 제조 방법 - Google Patents

표백제 및 광학적 광택제를 함유하는 입자형 조성물 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

표백제 및 광학적 광택제를 함유하는 입자형 조성물 및 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 과산화수소 50중량% 내지 80중량%의 수용액에 비스(스티릴) 방향족 형광 표백제(이 형광 표백제는 배합물에 혼입될때 0.1중량% 내지 5.0중량%를 제공하기에 효과적인 양으로 혼입된다), 하기 일반식을 갖는 디포스폰산 또는 그의 염(이 디포스폰산 또는 그의 염은 조성물중의 이용가능한 물 각 몰에 대해 1 내지 5몰의 탄산나트륨을 제공하기에 효과적인 양으로 조성물에 존재한다)을 혼입시켜 혼합된 용액을 제조하고; 상기 혼합된 용액을 초기에 무수 탄산나트륨 입자를 실질적으로 포함하는 입자형 고형 반응 혼합물에 균일하게 적용하고; 동시에 반응 혼합물의 표면으로부터 수증기를 제거하고; 반응 혼합물의 온도를 35℃ 내지 80℃사이에서 유지시킴을 특징으로하는 소다회 과산소 담체 조성물의 제조방법 :
    상기식에서, Y는 수소 또는 하이드록실이고, R은 수소 또는 탄소수 1 내지 6개의 지방족 탄화수소 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 형광 표백제를 세제 배합물에 0.1중량% 내지 0.5중량%를 제공하기에 충분한 양으로 과산화수소에 혼입시킴을 특징으로하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)비페닐 형광 표백제임을 특징으로하는 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)비페닐 형광 표백제임을 특징으로하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 형광 표백제가 1,4-비스(스티릴-2-설폰산)벤젠과 4,4'-비스(스티릴-2-설폰산)비피리딜 및 그의 염으로 구성된 군중에서 선택됨을 특징으로하는 방법.
  6. 제2항에 있어서, 상기 형광 표백제가 1,4-비스(스티릴-2-설폰산)벤젠과 4,4'-비스(스티릴-2-설폰산)비피리딜 및 그의 염으로 구성된 군중에서 선택됨을 특징으로하는 방법.
  7. 탄산나트륨 과수화물, 배합물에 0.1중량% 내지 5중량%를 제공하기에 효과적인 양의 비스(스티릴)방향족 형광 표백제 및 하기 일반식을 갖는 디포스폰산, 또는 그의 염 0.1중량% 내지 약 3중량%을 포함하고, 조성물중의 이용가능한 물 각 몰에 대해 1내지 5몰의 탄산나트륨을 제공하기에 충분한 양의 탄산나트륨이 존재하는 "입자형 고형물"임을 특징으로 하는 안정화된 소다회 과산소 담체 조성물 :
    상기식에서, Y는 수소 또는 하이드록실이고, R은 수소 또는 탄소수 1 내지 6개의 지방족 탄화수소 그룹이다.
  8. 제7항에 있어서, 상기 형광 표백제가 0.1중량% 내지 0.5중량%를 제공하기에 충분한 양으로 배합물에 존재함을 특징으로하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)벤젠임을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제8항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)벤젠임을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제7항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)비피리딜임을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제8항에 있어서, 상기 형광 표백제가 비스(스티릴)비피리딜임을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제7항에 있어서, 상기 형광 표백제가 1,4-비스(스티릴-2-설폰산) 벤젠과 4,4'-비스(스티릴-2-설폰산)비피리딜 및 그의 염으로 구성된 군중에서 선택됨을 특징으로하는 조성물.
  14. 제7항에 있어서, 상기 형광 표백제가 1,4-비스(스티릴-2-설폰산) 벤젠과 4,4'-비스(스티릴-2-설폰산)비피리딜 및 그의 염으로 구성된 군중에서 선택됨을 특징으로하는 조성물.
  15. 제7항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  16. 제8항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  17. 제9항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  18. 제10항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  19. 제11항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  20. 제12항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  21. 제13항에 있어서, 조성물이 45% 내지 75%의 탄산나트륨 과산화물을 함유함을 특징으로하는 조성물.
  22. 탄산나트륨 과수화물, 1,4-비스(스티릴-2-설폰산)벤젠 및 4,4'-비스(스티릴-2-설폰산)비피리딜 및 그의 염으로 구성된 군중에서 선택된 형광 표백제 0.2중량% 내지 10중량% 및 하기 일반식을 갖는 디포스폰산 또는 그의 염 0.1중량% 내지 약 3중량%을 포함하고, 조성물중의 이용가능한 물 각 몰에 대해 1내지 5몰의 탄산나트륨을 제공하기에 충분한 양의 탄산나트륨이 존재하는 "입자형 고형물"임을 특징으로 하는 안정화된 소다회 과산소 담체 조성물 :
    상기식에서, Y는 수소 또는 하이드록실이고, R은 수소 또는 탄소수 1 내지 6개의 지방족 탄화수소 그룹이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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