KR900005634A - 집적 광소자 - Google Patents

집적 광소자

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Abstract

내용 없음

Description

집적 광소자
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 중합체 물질의 층을 지지하는 기재를 보인 부분사시도,
제2도는 제1도 구조의 선택적인 광선조사 상태를 보인 사시도,
제5도는 제4도 소자의 제조에 사용된 처리함수를 보인 그래프,
제6도는 제4도 소자로부터 유도된 다른 소자를 보인 부분사시도.

Claims (24)

  1. 적어도 일측면에 전기광학구조의 구성이 가능한 중합체 물질의 얇은 필름이 형성된 기재로 구성되는 집적광 소자에 있어서, 중합체 물질이 초분극율을 보이는 측쇄기가 결합된 지방족 또는 방향족 중합체 골격을 가지며, 이 중합체물질이 측쇄기의 전자흡수대역내의 파장을 갖는 광선의 근사로 유도되는 굴절지수패턴을 보임을 특징으로 하는 집적광소자
  2. 청구범위 1항에 있어서, 측쇄기가 다음 구조로 구성됨을 특징으로 하는 집적광소자 : -R1-(0i)k-(R2=R3)m-(0j)l-(R4=R5)n-R6
    여기에서
  3. 청구범위 2항에 있어서, 측쇄기가 45°아미노 또는 4-옥시치환형 4-니트로스틸벤 부분, 또는 4'-아미노 치환형 4-시아노스틸벤 부분, 또는 N-치환형 1-(4-아미노페닐)-4-(4-니트로페닐)부타-1,3-디엔부분으로 구성됨을 특징으로 하는 집적광소자.
  4. 청구범위 3항에 있어서, 측쇄기가 4'-아미노치환형 4-니트로스틸벤으로 구성됨을 특징으로 하는 집적 광소자
  5. 청구범위 1-4항의 어느 한 항에 있어서, 중합체물질이 약 230-65O㎜ 범위내의 파장을 갖는 광선으로 유도된 굴절지수패턴을 보임을 특징으로하는 집직광소자.
  6. 청구범위 5항에 있어서, 중합체물질이 약 250-570㎜ 범위내의 파장을 갖는 광선으로 유도된 굴절지수패턴을 보임을 특징으로하는 집적광소자.
  7. 청구범위 6항에 있어서, 중합체물질이 약 280-450㎜ 범위내의 파장을 갖는 광선으로 유도된 굴절지수패턴을 보임을 특징으로 하는 집적광소자.
  8. 적어도 일측면에 전기-광학 구조의 구성이 가능한 중합체 물질의 얇은 층이 형성된 기재로 구성되는 집적광소자의 제조방법에 있어서, 중합체 물질로서 초분극율을 보이는 측쇄기가 결합된 지방족 또는 방향족 중합체 골격을 갖는 것으로 선택하고 상기 중합체 물질내에 측쇄기의 전자흡수대역내의 파장을 갖는 광선으로 상기 물질을 선택노광하여 굴절지수패턴이 유도됨을 특징으로 하는 집적광소자의 제조방법
  9. 청구범위 8항에 있어서, 선택노광이 조사광선에 대하여 투명인 부분과 불투명인 부분을 갖는 마스크에 의하여 이루어짐을 특징으로 하는 집적광소자의 제조방법.
  10. 청구범위 8항에 있어서, 기재상에 전극물질의 제 1 층, 완충물질의 제 1 층, 중합체물질의 층, 완출물질의 제 2 층과, 전극물질의 제 2 층을 연속형성하는 단계, 예정패턴의 전극을 형성하기 위하여 전극물질의제 2 층을 엣칭하는 단계와, 예정패턴의 전극으로 덮히지않는 중합체 물질의 영역에서 굴절지수의 변화가 이루어지도록하기 위해 소자의 노출면에 측쇄기의 전자흡수대역내의 파장을 갖는 광선을 조사하는 단계를 포함하며, 적어도 제 2 완충물질층의 완충물질은 조사광선에 투명함을 특징으로하는 집적광소차의 제조방법.
  11. 청구범위 10항에 있어서, 상기 엣칭단계전에 제 1 및 제 2 전극물질사이에 유극처리전압을 인가하여 중합체 물질을 유곡처리하는 단계를 포함하며, 이로써 농동집적 광소자를 제조할 수 있음을 특징으로 하는 집적 광소자의 제조방법.
  12. 청구범위 17항에 있어서, 엣칭단계후에 제 1 및 제 2 전극물질층 사이에 유극처리전압을 인가하여 중합체 물질을 부분적으로 유극처리하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 집적광소자의 제조방법
  13. 수동집적광소자의 제조방법에 있어서, 이 방법이 기재상에 초분극율을 보이는 측쇄기가 결합된 지방족 또는 방향족중합체 물질의 층을 형성하는 단계, 노출된 중합체물질의 영역에서 굴절지수의 변화가 이루어지도록 측쇄기의 전자흡수대역내의 파장을 갖는 광선으로 제 1 예정패턴으로 제한된 중합체물질부분을 조사하는 단계, 지수변화물질의 노출된 영역을 용해하기 위하여 일정한 시간동안 상기 조사광선에 노출된 중합체 물질의 표면에 용매에 용해된 상기 중합체물질의 얇은 필름을 형성하는 단계와, 중합체물질에서 지수변화 물질이 없는 양각면구조를 남기고 나머지 얇은 필름부분을 세척하여 제거하는 단계로 구성됨을 특징으로 하는 수동집적광자의 제조방법.
  14. 능동집적광소자의 제조방법에 있어서, 기재상에 전극 물질의 제 1 층, 완충물질의 제 1 층, 초분극율을 보이는 측쇄기가 결합된 지방족 또는 방향족 중합체골격을 갖는 중합체 물질의 층을 연속형성하는 단계, 노출된 중합체 물질의 영역에서 굴절지수이 변화가 이루어지도록 측쇄기의 전자흡수대역내의 파장을 갖는 광선으로 제 1 예정패턴으로 제한된 중합체물질부분을 조사하는 단계, 지수변화물질의 노출된 영역을 용해하기위하여 일정한 시간동안 상기 조사광선에 노출된 중합체 물질의 표면에 용매에 용해된 상기 중합체 물질의 얇은 필름을 형성하는 단계, 중합체 물질에서 지수변화물질이 없는 양각면구조를 남기고 나머지 얇은 필름부분을 세척하여 제거하는 단계와, 전극물질의 제 1 및 제 2 층사이에 유극처리전압을 인가하여 중합체 물질을 유극처리하는 단계로 구성됨을 특징으로 하는 능동집적광소자의 제조방법.
  15. 청구범위 14항에 있어서, 유극처리단계전에 제 1 예정패턴에 대한 제 2 예정패턴으로 전극물질의 제 2 층을 엣칭하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  16. 집적광소자의 어레이 제조방법에 있어서, 이 방법이 청구범위 8항의 방법을 수행하여 선택노광이 소자 어레이를 형성하는 단계, 요구되지 않은 특성을 갖는 것을 확인하기 위하여 각 소자의 특성을 시험하는 단계와, 추가조사를 부분적으로 적용하여 각 소자가 요구된 특성을 갖도록 조정하는 단계로 구성됨을 특징으로 하는 방법.
  17. 청구범위 16항에 있어서, 선택노광이 조사광선에 대하여 투명한 부분과 불투명한 부분을 갖는 마스크에 의하여 이루어짐을 특징으로 하는 방법
  18. 청구범위 8-17항의 어느 한 항에 있어서, 중합체가 높은 온도에 있을때에 중합체 물질에 광선이 조사됨을 특징으로 하는 방법.
  19. 청구범위 8-18항의 어느 한 항에 있어서, 측쇄기가 다음 구조로 구성됨을 특징으로 하는 방법.
    -R1-(Oi)k-(R2=R3)m-(Oj)l-(R4=R5)n-R6여기에서
  20. 청구범위 19항에 있어서, 측쇄기가 4'-아미노 또는 4'-옥시치환형 4-니트로스틸벤부분, 또는 4'-아미노치환형 4-시아노 스틸벤부분, 또는 N-치환형 I-(4-아미노페닐)-4-(4-니트로페닐)부타-1, 3-디엔부분으로 구성됨을 특징으로 하는 방법.
  21. 청구범위 8-20항의 어느 한 항에 있어서, 조사광선이 약 230-650㎜ 범위내의 파장을 가짐을 특징으로 하는 방법.
  22. 청구범위 21항에 있어서, 조사광선이 약 250-570㎜ 범위내의 파장을 가짐을 특징으로 하는 방법.
  23. 청구범위 22항에 있어서, 조사광선이 약 280-450㎜ 범위내의 파장을 가짐을 특징으로 하는 방법
  24. 청구범위 8-23항의 어느 한 항에 청구된 방법으로 제조된 집적광소자
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100833517B1 (ko) * 2006-12-05 2008-05-29 한국전자통신연구원 광전 물질 및 그의 제조 방법

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05502950A (ja) * 1989-12-26 1993-05-20 アライド―シグナル・インコーポレーテッド 光学活性導波路の製造法
DE59106678D1 (de) * 1990-12-21 1995-11-16 Hoffmann La Roche Optisch nichtlineare Polymerschichten.
JP2827518B2 (ja) * 1991-01-16 1998-11-25 三菱電機株式会社 フォトレジストおよびレジストパターンの形成方法
US5289308A (en) * 1991-12-20 1994-02-22 Akzo N.V. Method of making a frequency doubling structure in an optically non-linear medium
US5282078A (en) * 1991-12-20 1994-01-25 Akzo Nv Method of making a frequency doubling structure in an optically non-linear medium, and a frequency doubling device
US5283685A (en) * 1991-12-23 1994-02-01 Akzo Nv Method of manufacturing an NLO-active device
EP0550105A3 (en) * 1991-12-30 1993-11-18 Akzo Nv Liquid-crystalline polyurethanes, compositions of said liquid-crystalline polyurethanes, and a device for optical data storage comprising a liquid-crystalline polyurethane
TW245772B (ko) * 1992-05-19 1995-04-21 Akzo Nv
EP0650502A1 (en) * 1992-07-06 1995-05-03 Akzo Nobel N.V. Non-linear optically active polyurethanes having high glass transition temperatures
JP2819488B2 (ja) * 1992-10-06 1998-10-30 日本電信電話株式会社 電界センサの製造方法
EP0617303A1 (en) * 1993-03-19 1994-09-28 Akzo Nobel N.V. A method of integrating a semiconductor component with a polymeric optical waveguide component, and an electro-optical device comprising an integrated structure so attainable
TW296392B (ko) * 1993-09-29 1997-01-21 Akzo Nobel Nv
US6280884B1 (en) * 1994-04-21 2001-08-28 International Business Machines Corporation Process for photorefractive index grating formation
EP0689067A3 (en) * 1994-06-22 1997-04-09 Fujitsu Ltd Manufacturing process for an optical waveguide system, optical component and optical coupler with its use, optical network and optical circuit board
US5854868A (en) * 1994-06-22 1998-12-29 Fujitsu Limited Optical device and light waveguide integrated circuit
EP0689094A1 (en) 1994-06-23 1995-12-27 Akzo Nobel N.V. Bleaching mask
US5465860A (en) * 1994-07-01 1995-11-14 Intel Corporation Method of forming an integrated circuit waveguide
TW243501B (en) * 1994-07-22 1995-03-21 Akzo Nobel Nv Bleachable optical waveguide component
TW281731B (ko) * 1994-08-26 1996-07-21 Akzo Nobel Nv
US5688896A (en) * 1994-09-26 1997-11-18 Akzo Nobel N.V. Non-linear optically active polycarbonate
ATE203554T1 (de) * 1995-03-13 2001-08-15 Jds Uniphase Photonics C V Vernetzte oder vernetzbare optische polycarbonate und optische komponenten enthaltend diese optische polycarbonate
DE69617946T2 (de) 1995-06-02 2002-08-01 Jds Uniphase Photonics C V Kaskadenartige thermooptische vorrichtung
WO1996042036A1 (en) * 1995-06-12 1996-12-27 California Institute Of Technology Self-trapping and self-focusing of optical beams in photopolymers
KR19990014683A (ko) * 1995-06-28 1999-02-25 샬크비즈크 피이터 코르넬리스, 페트 귄터 5층식 광학장치
US5932397A (en) * 1996-05-28 1999-08-03 Rvm Scientific, Inc. Multicolor lithography for control of three dimensional refractive index gradient processing
US6091879A (en) 1998-09-15 2000-07-18 Molecular Optoelectronics Corporation Organic photochromic compositions and method for fabrication of polymer waveguides
JP3706496B2 (ja) * 1999-03-25 2005-10-12 京セラ株式会社 光導波路の製造方法
US6828078B2 (en) * 2000-08-29 2004-12-07 Jsr Corporation Composition having refractive index sensitively changeable by radiation and method for forming refractive index pattern
US6510266B2 (en) 2000-11-30 2003-01-21 Institut National D'optique Tunable optoelectronic frequency filter
DE10104971A1 (de) * 2001-02-03 2002-09-12 Daimler Chrysler Ag Kombinierte elektrisch/optische Folienleitungen und -schaltungen
US6631228B2 (en) 2001-09-14 2003-10-07 Photon-X, Inc. Adhesive-free bonding method of fiber attachment for polymer optical waveguide on polymer substrate
FR2962814B1 (fr) * 2010-07-19 2013-05-10 Lovalite Procede d'epissure de fibres optiques et jonction obtenue par un tel procede
US9746622B2 (en) * 2014-04-24 2017-08-29 Empire Technology Development Llc Optical coupling with a rewritable photorefractive polymer layer

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4962160A (en) * 1986-01-24 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Side chain liquid crystalline polymers exhibiting nonlinear optical response
NL8600782A (nl) * 1986-03-26 1987-10-16 Nederlanden Staat Elektro-optisch geinduceerde optische golfgeleider, en actieve inrichtingen waarvan zulk een golfgeleider deel uitmaakt.
DE3704878A1 (de) * 1987-02-17 1988-08-25 Merck Patent Gmbh Wasserstoffbruecken ausbildende zusammensetzungen
ATE78266T1 (de) * 1987-04-03 1992-08-15 Akzo Nv Lineare additionspolymere mit hyperpolarisierbaren seitenketten.
US4879479A (en) * 1987-08-05 1989-11-07 Martin Marietta Corporation Poly-yne nonlinear optical materials
US4900127A (en) * 1987-09-28 1990-02-13 Eastman Kodak Company Optical article containing a linear polymer exhibiting a high level of second order polymerization susceptibility
US4796971A (en) * 1987-09-28 1989-01-10 Eastman Kodak Company Optical article containing a polymeric matrix exhibiting a high level of second order polarization susceptibility
US4828758A (en) * 1988-03-21 1989-05-09 Hoechst Gelanese Corp. Organic-inorganic composites with enhanced nonlinear optical response
DE68923114T2 (de) * 1988-04-14 1995-11-02 Hoechst Celanese Corp Nicht-lineares optisches Material mit einer stabilen nicht-zentrosymmetrischen Polymerstruktur.
US4959448A (en) * 1988-07-04 1990-09-25 Akzo N.V. Liquid crystalline side-chain polyesters prepared by polycondensation reactions
US5011623A (en) * 1988-07-20 1991-04-30 Canon Kabushiki Kaisha Nonlinear optical material and nonlinear optical device
US5075043A (en) * 1988-11-21 1991-12-24 Eastman Kodak Company Optical article containing a linear condensation polymer exhibiting a high level of second order polarization susceptibility
US5080764A (en) * 1989-11-27 1992-01-14 The Dow Chemical Company Novel polymeric nonlinear optical materials from anisotropic dipolar monomers
US5028109A (en) * 1990-01-26 1991-07-02 Lawandy Nabil M Methods for fabricating frequency doubling polymeric waveguides having optimally efficient periodic modulation zone and polymeric waveguides fabricated thereby
WO1992002856A1 (en) * 1990-08-03 1992-02-20 Hoechst Celanese Corporation Production of polymeric optical waveguides

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100833517B1 (ko) * 2006-12-05 2008-05-29 한국전자통신연구원 광전 물질 및 그의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
CA1339118C (en) 1997-07-29
KR0156546B1 (ko) 1999-02-01
DE68928746T2 (de) 1999-03-11
US5470692A (en) 1995-11-28
EP0358476B1 (en) 1998-07-22
ATE168790T1 (de) 1998-08-15
JPH02113210A (ja) 1990-04-25
EP0358476A3 (en) 1991-11-27
JP2827019B2 (ja) 1998-11-18
US5142605A (en) 1992-08-25
EP0358476A2 (en) 1990-03-14
DE68928746D1 (de) 1998-08-27

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