KR900000890B1 - 티올 설폰산 유도체의 제조 방법 - Google Patents
티올 설폰산 유도체의 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 발명은 살충 및 살응애, 실진균작용을 가지며, 특히 살충제로서 농화학적 가치를 지닌 티올 설폰산 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
특히, 본 발명은 산성조건하에 하기 일반식(III)화합물 또는 그것의 염을 일반식(II)화합물 또는 그것의 염과 반응시켜 일반식(I)의 티올설폰산 유도체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
R3SO2H (II)
상기식들에서, R1과 R2는 각각 저급알킬그룹 또는 5 또는 6의 사이클로 알킬 그룹 또는 R1과 R2는 인접한 질소원자와 함께 산소, 황 또는 질소원자를 포함한는 5 내지 6원자의 헤테로사이클릭그룹을 형성하며 R3는 (1)저급알킬그룹, 할로겐, 저급알콕시그룹 또는 저급알킬티오그룹에 의해 임의 치환될 수 있는 아릴그룹, (2) 저급알콕시 그룹에 의해 임의 치환될 수 있는 저급알킬그룹, (3) 아르알킬그룹 또는 (4) 사이클로알킬그룹이다.
본 발명의 목적화합물(I)은 문헌에 공지되어 있으며, 예컨대 일본 특허출원 제 18847/1970과 36727/1970과 영국특허 제 1264207에서 화합물(I)이 강한 살충작용을 가지는 것으로 공표되어있다.
상기 일본특허 제18847/1970과 36727/1970은 N, N-디알킬디할로게노프로필아민을 아레네티오설폰산염 또는 알카네오티오설폰산염과 반응시키는 방법을 설명하고 있지만 그 방법은 목적화합물의 수득이 저조하고 부산물이 다량 생성되어 산업적 생산으로는 불만족스러운 단점을 가진다.
본 발명가들은 화합물(I)이 더욱 용이하게 향상된 순도로 고수득으로 생산되는 방법을 집중적으로 계속 연구한 결과, 화합물(III)이 예기치 않게 화합물(II)와 반응하여 고순도와 고수득으로 화합물(I)을 산출시킴을 밝혀내었다.
화합물(I)은 일본특허 제 18847/1970과 36727/1970에서 설명된 방법에 의해서 보다는 본 발명의 방법에 의해 더욱 큰 수득과 더욱 큰 순도로 더욱 용이하게 제공될 수 있다.
상기 일반식에서, R1과 R2는 각각 메틸, 에틸, n-프로필 , 이소프로필, n-부틸,이소부틸, 이차부틸 또는 삼차부틸 등의 1-4 탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알킬그룹, 또는 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실등의 5-6탄소의 사이클로알킬 그룹이며 또는 R1과 R2는 인접 질소원자와 함께 피롤리디노, 피페리디노, 피레라지노, 모르포리노, 또는 티아졸리디닐 등의 산소, 황 또는 질소원자를 포함할 수 있는 5 또는 6탄소수의 헤테로사이클릭 그룹을 형성한다.
R3는 (1) 페닐 또는 나프틸 등의 6 내지 10탄소원자의 아릴그룹으로 (a) 메틸,에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸 , 이소부틸, 이차부틸 또는 삼차부틸 등의 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄 저급알킬그룹 (b) 불소, 염소, 브롬 또는 요오드등의 할로겐 (c) 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시 , 이소부톡시, 이차부톡시 또는 삼차부톡시 등의 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알콕시그룹 또는 (d) 메틸티오, 에틸티오, n-프로필티오, 이소프로필티오, n-부틸티오, 이소부틸티오, 2차 부틸티오 또는 삼차부틸티오 등의 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알킬티오그룹에 의해 임의 치환될 수 있거나 또는(2) 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, 2차부틸 또는 3차부틸등의 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알킬그룹으로 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, 2차부톡시 또는 3차부톡시 등의 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알콕시 그룹으로 임의치환 될 수 있거나 또는 (3) 벤질, 페네틸 또는 페닐프로필 등의 바람직하게는 7 내지 10탄소원자의 아르알킬그룹이거나 또는 (4) 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 사이클로헵틸 등의 4내지 7탄소원자의 사이클로알킬그룹이다.
아릴그룹 R3는 아릴그룹의 어떠한 위치에서도 상술한 1 내지 3의 (a )- (d )치환체에 의해 임의 치환될 수 있다. 저급알킬그룹 R3는 저급알킬그룹의 어떠한 위치에서는 1 내지 3의 저급알콕시 그룹에 의해 임의 치환될 수 있다.
R3로 나타내는 저급알킬그룹, 할로겐, 저급알콕시기그룹 또는 저급알킬티오그룹에 의해 치환되는 아릴그룹의 예는 그중에서도, 특히 2-, 3- 또는 4-메틸페닐, 2-, 3- 또는 4-에틸페틸, 2-, 3- 또는 4-n-프로필페닐,2-, 3- 또는 4-t-부틸페닐, 2-, 3- 또는 4-클로로페닐, 2-, 3- 또는 4-브로모페닐, 2-, 3- 또는 4-메톡시페닐, 2-, 3- 또는 4-에톡시페닐, 2-, 3- 또는 4-이소프로폭시페닐, 2-, 3- 또는 4-n-부톡시페닐, 20-, 3-또는 4-메틸티오페닐, 2-, 3- 또는 4-에틸티오페닐, 2-, 3- 또는 4-n-프로필티오페닐, 2-, 3- 또는 4-이소부틸티오페닐, 2-메틸-4-클로로페닐, 3-에틸-4-브로모페닐, 2-클로로-4-메톡시페닐, 2,4-디클로로페닐, 2,4,6-트리메틸페닐과 2,4,6-트리클로로페닐, 1-메틸나프틸, 1-클로로나프틸, 4-메틸티오나프틸 등을 포함한다.
R3로 나타내는 , 저급알콕시그룹에 의해 치환된 저급알킬 그룹의 예는 그중 특히 메톡시메틸, 메톡시에틸, 1-메톡시프로필, 2-메톡시부틸, 에톡실메틸, 에톡실에틸, 2-에톡시프로필, 3-에톡시프로필, 1-에톡시-1-메틸프로필, 프로폭시메틸, 2-이소프로폭시에틸, t-부톡시부틸 등을 포함한다.
상기 언급중, 바람직하게 각각의 R1과 R2는 1 내지 4 탄소원자의 측쇄 또는 직쇄 저급알킬 그룹이며, R3는 (a) 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄 저급알킬그룹 또는 (b)할로겐 또는 (c) 1 내지 4탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알콕시그룹 또는 (d) 1 내지 4 탄소원자의 측쇄 또는 직쇄의 저급알킬티오 그룹에 의해 임의로 치환될 수 있는 아릴그룹이며 R3는 페닐이다.
본 발명화합물(I)의 염은 염산, 브롬산, 황산 또는 인산으로 예시되는 무기산 또는 벤젤설폰산, p-톨루엔설폰산, 옥살산, 아세트산 또는 말산으로 예시되는 유기산과의 산부가염들의 농학적 허용염으로 사용될 수 있다.
화합물(I) 또는 그것의 염은 화합물(II) 또는 그것의 염을 산 조건하에 즉 pH 5이하에서 화합물(III) 또는 그것의 염과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
본 반응에서 사용될 수 있는 출발화합물(III)염의 예는 염산, 브롬산, 황산, 인산 등의 유기산 또는 벤젤설폰산, p-톨루엔설폰산, 옥살산, 아세트산 또는 말산등의 유기산과의 산부가염을 포함하며 다른출발화합물(II)염의 예는 나트륨, 칼륨 등의 알카리금속, 칼슘 또는 알카리토금속과 암모늄 라디칼을 포함한다.
출발화합물(III) 또는 그것의 염은 그 분자에서 비대칭 탄소원자와 S=O (설폭시드)결합의 존재에 의해 4종류의 입체이성질체로 존재할 수 있다. 이들 입체이성질체의 4종류는 각각 광학적 활성이소머로 분리된 후에 사용되거나 또는 그 광학적 활성이소머의 혼합물로서 사용될수 있다.
이 반응에서, 출발화합물(II) 또는 그것의 염은 다른 출발화합물(III) 또는 그것의 염의 몰당 초과량의 약 2몰로 사용될 수 있다.
pH5 이하의 범위로 이반응을 유지시키기위하여, 염산, 브롬산, 황산 또는 인산 등의 무기산 또는 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 옥살산 또는 말산 등이 유기산등이 사용될 수 있다. 그 반응혼합물의 pH값을 5이하로 유지시키는 양의 산을 가한다. 예컨대, 물 또는 물의 혼합용매와 후술하는 유기용매중의 반응에서는 그 반응혼합물의 산농도가 약 0.1 내지 3 노르말 범위가 되도록 산을 부가하는 것이 바람직하다. 그 반응이 시작될 때, 산을 한번에 가하거나 또는 반응혼합물의 pH값을 그 산범위에서 유지시키는 방법으로 그 반응이 진행될 때 조금씩 가할수 있다. 그 반응은 일반적으로, 용매에서 수행된다. 적합한 용매는 반응에 역효과를 미치지 않는 어떠한 형태의 용매도 가능하다.
예컨대, 물 또는 아세트산 등의 유기용매, 메틸알콜, 에틸알콜 또는 이소프로필알콜 등의 1 내지 3 탄소원자의 저급알콜, 아세톤, 아세토 니트릴, 디메틸포름아미드 또는 디메틸설폭시드가 단독으로 또는 두개의 용매의 혼합으로 사용될 수 있다. 물론, 물, 아세트산과 물과 아세트산의 혼합용매가 바람직하다.
그 반응은 일반적으로 5℃ 내지 실온(약15℃)에서 진행되거나 약 60 내지 100 ℃ 에서 수행될 수 있다. 그 반응시간은 반응온도 등에 따라 달라지며 일반적으로는 30분 내지 4시간의 범위내이다.
산출된 화합물(I) 또는 그것의 염은 증류, 감압하의 증류, 용매추출, pH조절, 용매-변화, 농축, 감압하의 농축, 결정화, 재결정 및 또는 크로마토그래피 등의 공지방법으로 분리되고 정제된다. 더욱 구체적으로, 반응을 종결시킨 후, 그 반응혼합물을 냉각 또는 가열하에 pH4 내지 6으로 필요하다면 적합한 알칼리(예, 수산화나트륨, 수산화칼슘 등)의 수성용액으로 조절하고 화합물(I)을 고순도의 결정체로 분리할 수 있다.
또는, 그러한 경우에서, 반응혼합물은 유기용매의 종류에 의해 농축될 수 있고 그 잔사는 에테르, 클로로포름 또는 벤젠 등의 물과 친화될 수 있는 유기용매의 존재하에 적합한 알카리(예, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등)의 수성용액으로 중화시키고, 그 혼합물을 두 개의 상으로 분리, 유기층을 분리시키고 연속적으로 공지된 통상의 방법으로 화합물(I)을 결정화시킨다.
화합물(I)의 결정화가 어려울때는 화합물(I)은 염산 등의 무기산 또는 옥살산, p-톨루엔설폰산 또는 피크로산 등의 유기산을 상기 언급한 두개상으로 분리된 유기층에 가하여 결정체염으로 산출시킬 수 있다.
출발화합물(III) 또는 그것의 염은 공지방법, 예컨대 Agr, Biol, Chem, 34, 935-940(1974)에서 설명된 방법에 의해 제조할 수 있다.
그러므로, 일반식(IV)화합물의 산조건하에 산화제로 산화시킴으로써 화합물(III) 또는 그것의 염을 제조할 수 있다.
R1, R2는 상기 정의와 같다.
화합물(IV)염의 예에는 염산, 황산 또는 브롬산 등의 유기산 또는 말산, 옥살산, 푸마르산 또는 p-톨루엔설폰산 등의 유기산과의 염이 포함된다.
이 반응에서 산화제로서, 유기 및 유기과산을 사용할 수 있다. 더욱 구체적으로는 과카르복실산 등의 유기과산, 예컨데, 과포름산, 과아세트산, 트리플루오로아세트산, 과말산, 과벤조산, m-클로로과벤조산 또는 모노과프탈산 ; 또는 과황산, 예컨대 p-톨루엔과설폰산과 과산화수소, 과요오드산 또는 과황산 등의 무기과산 등이 사용될 수 있다. 이들 유기 및 무기과산은 단독으로 또는 두 종류 이상의 과산 혼합물로 사용될 수 있다.
이들 중, 과산화수소가 바람직하다. 산화제는 일반적으로 화합물(IV)의 몰당 최소한 약 1.1 내지 1.2몰의 양으로 사용될 수 있다. 그러나, 화합물(IV)의 몰당 과량의 3몰로 산화제가 사용될 수도 있다. 이 산화반응은 일반적으로는 불활성 용매하에서 수행될 수 있다.
용매선택은 출발물질의 용해성과 산화제의 형태에 따라 좌우되는데 예컨대, 디클로로메탄, 클로로포름, 디메틸포름아미드, 테트라하이드로푸란, 아세토니트릴, 물 아세트산, 에틸아세테이트 등이 단독으로 또는 혼합물의 용매로서 사용될 수 있다. 상기 용매중에서 특히 물과 아세트산이 바람직하다.
반응온도는 약 -10 내지 60 의 범위, 바람직하게는 약 0 내지 40℃이다. 반응시간은 약 1 내지 4시간이다
반응용매로서 유기용매혼합물을 사용한 반응을 종결시킨후, 그 반응혼합물은 후속반응에 사용될 수 있는데, 벤젠, 클로로포름 또는 에테르 등의 물과 섞일 수 없는 유기용매를 가한후 냉각하에 적합한 알카리(예, 수산화나트륨, 수산화칼륨등)의 수성용액으로 산출혼합물을 중화시키고 수성상과 유기상을 분리한 후 유기상을 수거하여 유리염기 형태로 화합물(III)을 분리시킨다. 또한, 상기 방법으로 분리된 화합물은 염산, 황산, 또는 브롬산 등의 무기산 또는 말산, 옥살산, 푸마르산, 또는 p-톨루엔설폰산 등의 유기산과의 염으로 공지방법에 의해 제조되어 후속반응에 사용될 수 있다. 출발화합물(II) 또는 그것의 염은 문헌에 공지되어 있으며 그 예로 유기합성 집대성 제4권(Organic Synthesis collective vol. IV)674페이지 또는 일본 특허출원 제 7753/ 1981에 설명된 방법으로 제조할 수 있다. 예컨대, 화합물(II)는 하기 방법에 의해 제조된다.
R3는 상기 정의와 같다.
출발화합물(IV)는 공지방법, 예로써 Agr, Biol, Chem., 34,935(1970)에 설명된 방법으로 제조된다.
그 산출된 출발화합물은 증류, 감압하의 증류, 용매 추출, pH조절, 용매변화, 결정화, 재결정 및 또는 크로마토그래프 등의 공지방법으로 분리, 정제된다.
본 발명은 하기 실시예에 의해 예시되며 그것으로써 본 발명이 국한되지는 않는다.
"%"는 다른 언급이 없는한 중량%이다. 실시예들에서 NMR 스펙트라는 60 MHz(용매 : d-트리플루오로아세트산)에서 측정되어 γ값으로 나타내며, 그에 사용되는 부호는 하기의미와 같다.
S, 단일 ; d, 이중 ; t, 삼중 ; qr, 사중 ; ABqr, AB페턴의 사중 ; m, 다중 ; J, 공역상수
[참조실시예1]
4- (N,N- 디메틸아미노)-1,2- 디티오란-1-옥시드하이드로클로라이드의 제조.
47.8g의 4-( N,N-디메틸아미노)-1,2-디티오란 옥살레이트를 200ml의 물에 용해한다.
75ml벤젠을 그 용액에 가하여 혼합물을 교반하에 35ml의 28% 수성수산화나트륨으로 중화시키면서 그 혼합물의 온도는 25 ℃ 부근으로 유지된다. 중화된 용액을 여과, 결정과여과물로 분리시킨다. 그 결정을 25ml의 벤젠으로 세척하고 그 세척물을 이전에 분리시킨 여과물과 결합시키고 벤젠층과 수성층으로 분리시킨다. 벤젠층을 58ml의 15%염산으로 추출시키고 수성추출물을 이전에 분리된 수성용액과 결합시킨다. 수성용액을 온도를 10℃ 로 유지시키면서, 22g의 30% 수성과산화 수소용액을 약 1시간동안 교반하면서 가한다. 그 부가를 종줄시킨 후, 교반을 실온에서 1시간동안 실시한다. 이 용액의 고성능액체크로마토그래피 분석은 표제화합물의 함량이 39.6g(수율98%)임을 나타낸다. 그 반응용액은 감압하에 거의 농축 건조되고 150ml 에탄올을 그 잔사에 가하면 슬러리 형태가 된후 여과로 산출된 분말은 건조되어 34.3g(수율 85%)의 표제화합물이 산출된다.
NMR : 5.7-6.5 (5H,m), 6.92(6H, S)
m.p : 152.5- 167℃ (분해)
상기의 방법에 의해 하기화합물이 제조된다.
4- (N,N- 디에틸아미노)-1,2 -디티오란-1-옥시드하이드로클로라이드 :
NMR : 5.52(1H, qn), 6.48(4H, d, J=5.5Hz), 6.56(4H, qr), 8.47(6H, t ,J=7.0Hz)
4-(N,N-메틸에틸아미노)-1,2- 디티오란 -1-옥시드하이드로클로라이드 :
NMR : 5.56(1H, qn), 6.44(4H, d, J=6.0 Hz), 6.65(2H, qr), 7.05(3H, S), 8.62(3H, t, J=7.0Hz).
4-(N,N-메틸사이클로헥실아미노)-1,2-디티오란-1-옥시드하이드로클로라이드 :
NMR ; 5.52(1H, m), 6.38(4H,d, J=7.0 Hz), 6.59(1H, m), 7.5-6.96(3H, d, J=5Hz), 7.5-8.5(10 H,m)
4-(N,N-디사이크로헥실아미노)-1,2-디티오란-1-옥시드하이드로클로라이드 ;
NME ; 5.55(1H,m), 6.40(4H, d, J=6.5Hz), 6.90(2H, m), 8.0-9.2(20H, m).
4-(N,N-피레리디노)-1,2- 디티오란-1-옥시드하이드로클로라이드 ;
NMR ; 5.58(1H,m), 6.46(4H, d, J=5.5 Hz), 5.9-7.1(4H, m), 7.98(6H, m).
4-모노포리노- 1,2-디티오란-1-옥시도하이드로클로라이드;
NMR ; 5.58(1H, m), 5.70(4H, m), 6.24(4H, m) 6.43(4H, d, J=5.0Hz).
[실시예 1]
S,S'-2[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-벤젠티오설표네이트의 제조.
150ml 물에 교반과 동시에 68.9g의 소듐벤젠설피네이트를 용해시킨다. 그 용액에 76.7ml의 20% 염산을 가하여 벤젠설핀산용액을 제조하고 4-(N,N-디메틸아미노)-1,2-디티오란-1-옥시드 하이드로클로라이드의 30w/v% 수성용액 134.4ml를 가한다.
그 혼합물에 97ml의 20% 염산을 가하고 4시간동안 50℃에서 교반시킨다. 반응완결후, 그 온도를 약 50℃ 로 유지시키면서 반응혼합물을 28% 수성 수산화나트륨용액으로 점차로 중화시켜서 pH를 4로 유지시킨다.
중성화의 최종점은 수성 수산화나트륨용액의 거의 소모되었을 때이며 소모된 28% 수성 수산화나트륨용액의 양은 약 140ml로 2 내지 3시간동안에 소요된다.
중화완결후, 분리된 결정을 여과, 200ml 물로 세척, 건조하여 표제화합물을 산출시킨다.
84.6g의 수득(98.0%의 수율). m.p : 82-83 ℃ .
[실시예 2]
S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스 -벤젠티오설표네이트의 제조
후술하는 용매의 각 100ml에 각 34.5g의 소듐벤젠설피네이트와 38.4ml의 20% 염산을 가하여 벤젠설핀산 용액을 제조한다. 16.5g의 4-(N,N-디메틸아미노)-1,2-디티오란-1-옥시드 하이드로클로라이드를 그 용액에 가하고 50ml의 20%염산을 다시 가한후 60℃ 에서 15시간동안 반응시킨다. 반응종식후, 그 용매를 감압하에 증류, 150ml의 물을 그 잔사에 가하여 슬러리를 형성시켜, 중성화를 위해 28% 수성수산화나트륨용액을 가한다.
이후로는 실시예1과 동일한 방법이 수행되어 표제화합물이 제공된다. 그 수득율과 함께 하용된 용매를 하기에 나타내다.
용매의 종류 아세트산 에탄올 아세토니트릴 디옥산 DMF
수득 1g 42.8 41.9 42.2 41.8 41.9
수율 1%99.2 97.1 97.7 96.8 97.0
[실시예 3]
실시예1에서 설명한 같은 방법으로 제공된 티오설폰산 유도체를 하기에 나타낸다.
(1) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-에틸티오설포네이트. 수율 95%, m.p. 78.5-80 ℃ (분해)
C11H27NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 28.62, H ; 5.89, N ; 3.03(%)
실측치 : C ; 28.62, H ; 5.90, N ; 3.03(%)
NMR ; 5.85(1H,m), 6.24(4H, d, J=6.0 Hz), 6.79(6H, d, J=5.0Hz), 6.39(4H, qr), 8.43(6H, t, J= 7.0Hz).
(2) S, S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-β-에톡시에틸- 티오설포네이트
C13H29NO6S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 36.86, H ; 6.90, N ; 3.30(%)
실측치 : C ; 36.42, H ; 7.05, N ; 3.70(%)
NMR ; 6.68(5H, S), 7.65(6H, S)
(3) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-벤질티오-설포네이트 옥살레이트. 수율 90%, m.p. 151℃ (분해).
C11H27NO8S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 45.88, H ; 4.95, N ; 2.55(%).
실측치 : C ; 45.58, H ; 4.90, N ; 2.51(%).
NME ; 2.43(10H, S), 5.23(4H, m), 6.60(1H, m), 7.15(4H, d, J= 6.0H,z), 7.19(6H,d, J=5.0Hz).
(4) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-p-톨루엔티오설포네이트. 수율 92%, m.p. 114-115℃ .
C19H25NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 49.64, H ; 5.48, N ; 3.05(%)
실측시 : C ; 49.74, H ; 5.69, N ; 3.03(%)
NMR ; 2.21, 2.26(8H, ABqr, J=8Hz), 6.99(5H, S), 7.55(6H, S), 7.83(6H, S).
(5) S,S'-[2-(디메탈아미노)트리메텔렌]비스 p-클로로벤젠티오설포네이트. 수율 95%, m.p. 143-144 ℃ .
C17H19Cl2NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 40.79, H ; 3.83, N ; 2.80(%)
실측치 : C ; 41.04, H ; 3.79, N ; 2.53(%)
NMR ; 2.13, 2.42,(8H, ABqr, J= 9.0Hz), 6.92(5H, S), 7.78(6H, S).
(6) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-p-메톡시 벤젠티오설포네이트. 수율 90%, m.p. 115.5- 117℃
C19H25NO6S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 48.53, H ; 5.62, N ; 2.69(%)
실측치 : C ; 48.33, H ; 5.59, N ; 2.58(%)
NMR ; 2.14, 2.94(8H, ABqr, J=9.0Hz), 6.08(6H, S), 6.79(5H, S), 7.80(6H, S).
(7) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-p-메틸벤젠 티오설포네이트. 수율 91%, m.p 102-104℃
C19H25NO4S6에 대한 원소분석
계산치 : C ; 43.57, H ; 4.81, N ; 2.67(%)
실측치 : C ; 43.34, H ; 4.76, N ; 2.54(%)
NMR : 2.22, 2.68(8H, ABqr), 6.97(5H, S), 7.46(6H, S), 7.82(6H, S)
(8) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-β-나프틸 티오설포네이트. 수율90%, m.p 100-115℃
C25H25NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 56.47, H ; 4.74, N ; 2.63(%)
실측치 : C ; 56.07, H ; 4.68, N ; 2.60(%)
NMR : 1.85-2.4(14H, m), 6.93(5H, S), 7.87(6H, S),
(9) S,S'-[2-(디메틸아미노)트리메틸렌]비스-p-톨루엔 티오설포네이트. 수율89%, m.p 97-98℃
C20H27NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 50.71, H ; 5.74, N ; 2.96(%)
실측치 : C ; 50.45, H ; 5.58, N ; 2.79(%)
NMR : 2.16, 2.61(4H, ABqr, J=8.5Hz), 6.92(5H, s), 7.58(2H, qr), 7.62(6H, S), 7.86(3H, S), 9.09(3H, t, J=7.0Hz)
(10) S,S'-[2-(메틸사이클로헥실아미노)트리메틸렌]
비스-p-톨루엔티오설포네이트. 수율91%, m.p 120-121℃
C26H35NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 50.55, H ; 5.71, N ; 2.27(%)
실측치 : C ; 50.32, H ; 5.73, N ; 2.31(%)
NMR : 2.07, 2.47(4H, ABqr, J=8.5Hz), 5.49(1H, m), 6.38(4H, d, J=7.0Hz), 6.59(1H, m), 6.96(3H, d, J=5.0Hz), 7.36(6H, S), 7.5-8.7(10H, m)
(11) S,S'-[2-(디사이클로헥실아미노)트리메틸렌]
비스-p-톨루엔티오설포네이트. 수율92%, m.p 104-106℃
C29H41NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 58.45, H ; 6.93, N ; 2.35(%)
실측치 : C ; 58.39, H ; 6.91, N ; 2.33(%)
NMR : 2.14, 2.60(4H, ABqr, J=8.5Hz), 6.90(5H, S), 6.90(2H, m), 7.52(6H, S), 8.0-9.2(20H, m)
(12) S,S'-[2-피페라디노-트리메틸렌]-비스-p-톨루엔티오설포네이트. 수율95%, m.p 122-123℃
C22H29NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 52.87, H ; 5.85, N ; 2.80(%)
실측치 : C ; 52.76, H ; 5.72, N ; 2.82(%)
NMR : 2.22, 2.65(4H, ABqr, J=8.5Hz), 6.96(5H, S), 7.68(4H, m), 8.60(6H, m).
(13) S,S'-[2-모르포리노-트리에틸렌]-비스-p-톨루엔티오설포네이트. 수율95%, m.p 124-125℃
C23H31NO4S4에 대한 원소분석
계산치 : C ; 53.77, H ; 6.08, N ; 2.73(%)
실측치 : C ; 53.55, H ; 6.33, N ; 2.67(%)
NMR : 2.21, 2.63(4H, ABqr, J=8.0Hz), 6.42(4H, m), 6.93(4H, m), 7.54(6H, S).
Claims (3)
- 일반식(III)화합물, 또는 그것의 염을 일반식( II)화합물 또는 그것의 염과 산조건하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(I)으 티올설폰산 유도체의 제조 방법.R3SO2H (II)상기식들에서, R1과 R2는 각각 저급알킬그룹 또는 5원자 또는 6원자의 사이클로알킬그룹 또는 R1과 R2는 인접한 질소원자와 함께 산소,황 또는 질소원자를 포함하는 5 내지 6의 헤테로사이클릭 그룹을 형성하며 R3는 (1) 저급알킬그룹, 할로겐, 저급알콕시그룹 또는 저급알킬티오그룹에 의해 임의 치환될 수 있는 아릴그룹, (2) 저급알콕시그룹에 의해 임의 치환될 수 있는 저급알킬그룹, (3) 아르알킬그룹 또는 (4)사이클릭알킬그룹이다.
- 제1항에 있어서, R1가 R2가 각각 메틸이며 R3가 페닐임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 산성조건이 pH5이하를 의미함을 특징으로 하는 방법.
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