KR890701222A - 전기전도성 도장액용 분사도장장치 - Google Patents
전기전도성 도장액용 분사도장장치Info
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 분사도장장치의 측면입면도, 제 2 도는 제 1 도의 분사도장장치의 정면도, 제 3 도는 제 2 정도의 Ⅲ-Ⅲ면을 따른 분사도장장치의 축단면도.
Claims (39)
- 분무기가 분무기에 의해 분산된 재료가 이에 의해 도장되는 물품족으로 이동하는 분무기 축을 포함하며, 분무기 축에 일반적으로 수직인 평면을 포함하며, 분무기에 의해 분무된 재료가 분산되는 위치는 일반적으로 평면에 놓이며, 분무기에 의해 분산된 재료는 일반적으로 평면의 제 1 면에서 떨어져 제 1 방향으로 투사되며, 전극조립부가 평면곡선을 한정하는 전극호울더, 다수의 전극을 포함하며, 전극호울더는 서로 이격된 배향으로 전극을 유지하며, 전극호울더는 그의 제 1 면에 반대로 평면쪽으로 평면의 제 2 면으로부터 제 1 방향으로 접하는 그의 면상에 그안의 제 1 개구부를 한정하는 수단을 포함하며, 제 1 개구부는 전극호울더를 따라 이격되며, 전극을 제 1 개구부로 연장하는 전극으로된 전극호울더에 고정하는 수단을 포함하며, 전극호울더를 제 1 방향으로 평면쪽으로 연장하는 전극으로된 분무기에 인접한 평면의 제 2 면상에 지지하며 실질적으로 전극을 분무기, 정전기적 전위 공급부로부터 전기적으로 절연하는 수단을 포함하며, 전극을 정전기적 전위공급부에 격합하는 수단을 포함하며, 대기압 이상에서 기체 또는 기체 혼합물을 제 1 개구부에 공급하는 수단을 포함하는 분무기용 전극 어셈블리.
- 제 1 항에 있어서, 전극호울더가 평면쪽으로 제 1 방향으로 서로쪽으로 경사진 제1 및 제 2 표면을 포함하고, 전극호울더에서 하나 이상의 제 2 개구부를 제 1 표면을 가로질러 대기압 이상에서 기체 또는 기체혼합물의 하나 이상의 제 2 직접흐름에 제공하는 수단을 포함하고, 전극호울더에서 하나 이상의 제 3 개구부를 제 2 표면을 가로질러 최대기압에서 기체 또는 기체혼합물의 하나 이상의 제 3 직접흐름에 제공하는 수단을 포함하며, 기체 또는 기체혼합물의 제2 및 제 3 흐름이 제 1 개구부의 부근에서 서로 마주치는 전극 어셈블리.
- 제 2 항에서 있어서, 분무기가 회전식 분무기를 포함하고 원동기를 포함하고, 회전식 분무기를 원동기에 결합하는 수단을 포함하며, 원동기의 조작이 회전식 분무기의 회전을 일으키며, 그리고 분무되는 재료를 회전식 분무기에 공급하는 수단을 포함하여, 축이 분무기의 회전축에 상응하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 분무기가 노즐과 분무되는 재료들 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제 4 항에 있어서, 대기압 이상에서 기체 또는 기체흡합물을 재료의 분무에서 보조하는 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 평면곡선이 닫힌 평면곡선을 포함하는 장치.
- 제 6 항에 있어서, 닫힌 평면곡선이 원인장치.
- 제 2 항에 있어서, 전극호울더가 실질적으로 균일하게 서로 이격된 배향으로 전극을 유지하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 분무기가 회전식 분무기를 포함하며, 원동기를 포함하며, 회전식 분무기를 원동기에 결합하는 수단을 포함하며, 원동기의 조작은 회전식 분사관의 회전을 일으키며, 분무되는 재료를 회전식 분무기에 공급하는 수단을 포함하며, 축이 분무기의 회전축에 상응하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 분무기가 노즐을 포함하며 분무되는 재료를 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제 10 항에 있어서, 대기압 이상에서 기체 또는 기체혼합물을 재료의 분무에서 보조하는 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 평면곡선이 닫힌 평면곡선을 포함하는 장치.
- 제 12 항에 있어서, 닫힌 평면곡선이 원인장치.
- 제 1 항에 있어서, 전극호울더가 실질적으로 균일하게 서로 이격된 배향으로 전극을 유지하는 장치.
- 분무기가 축을 따라 분무기에 의해 분무된 재료가 이에 의해 도장되는 물품쪽으로 이동하는 분무기 축을 포함하며, 일반적으로 분무기 축에 수직인 평면을 포함하며, 분무기에 의해 분무된 재료가 분산되는 위치는 일반적으로 평면에 놓이며, 분무기에 의해 분산된 재료는 일반적으로 평면의 제 1 면에서 떨어져 제 1 방향으로 축을 따라 투사되며, 전극 어셈블리가 평면곡선을 한정하는 전극호울더를 포함하며, 다수의 전극을 포함하며 전극호울더는 전극을 서로 이격된 배향으로 유지하는 수단을 포함하며, 전극호울더를 평면쪽으로 제 1 방향으로 연장하는 전극으로 된 분무기에 인접한 평면의 제 2 면상에 지지하는 수단을 포함하며, 전극을 정전기적 전위공급부에 결합하는 수단을 포함하며 실질적으로 전극을 분무기로부터 전기적으로 절연하는 수단을 포함하며, 전극호울더가 평면쪽으로 제 1 방향으로 서로쪽으로 경사진 제1 및 제 2 표면을 포함하며, 전극호울더에서 하나 이상의 제 1 개구부를 제 1 표면을 가로질러 대기압 이상에서 기체 또는 기체혼합물의 하나 이상의 직접 제 2 흐름에 제공하는 수단을 포함하며, 전극호울더에서 하나 이상의 제 2 개구부를 제 2 표면을 가로질러 대기압 이상에서 기체 또는 기체혼합물의 하나 이상의 직접 제 2 흐름에 제공하는 수단을 포함하여, 기체 또는 기체혼합물의 제 1 및 제 2 흐름이 전극부근에서 서로 만나는 전극 어셈블리.
- 제15항에 있어서, 전극을 서로 이격된 배향으로 유지하는 수단이 평면의 제 2 면으로부터 제 1 방향으로 접하는 그의 면에서 하나 이상의 제 3 개구부를 한정하는 수단을 포함하며, 전극을 하나 이상의 제 3 개구부로 연장하는 전극으로된 전극호울더에 고정하는 수단을 포함하는 전극 어셈블리.
- 제16항에 있어서, 분무기가 회전식 분무기를 포함하며, 원동기를 포함하고, 회전식 분무기를 원동기에 결합하는 수단을 포함하고, 분무되는 재료를 회전식 분무기에 공급하는 수단을 포함하며, 축이 분무기의 회전축에 상응하는 장치.
- 제17항에 있어서, 분무기가 노즐을 포함하고 도장되는 재료를 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제18항에 있어서, 대기압 이상에서 기체 또는 기체혼합물을 재료의 분무에서 보조하는 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제17항에 있어서, 평면곡선이 닫힌 평면곡선을 포함하는 장치.
- 제20항에 있어서, 닫힌 평면곡선이 원인장치.
- 제17항에 있어서, 전극호울더가 전극을 실질적으로 균일하게 서로 이격된 배향으로 유지하는 장치.
- 제15항에 있어서, 분부기가 회전식 분무기를 포함하며, 원동기를 포함하고, 회전식 분무기를 원동기에 결합하는 수단을 포함하고, 원동기의 조작이 회전식 분무기의 회전을 일으키며, 분무되는 재료를 회전식 분무기에 공급하는 수단을 포함하며, 축이 분무기의 회전축에 상응하는 장치.
- 제15항에 있어서, 분무기가 노즐을 포함하고 도장되는 재료를 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제24항에 있어서, 대기압 이상에서 기체 또는 기체 혼합물을 재료의 분무에서 보조하는 노즐에 공급하는 수단을 포함하는 장치.
- 제15항에 있어서, 평면곡선이 닫힌 평면곡선을 포함하는 장치.
- 제26항에 있어서, 닫힌 평면곡선이 원인장치.
- 제15항에 있어서, 전극호울더가 전극을 실질적으로 균일하게 서로 이격된 배향으로 배향으로 유지하는 장치.
- 도장재료를 그로부터 아래로 위치된 분사구름영역(8)을 통해 도장되는 물품상에 분사하는 분사헤드(6)를 특성짓는 분사장치를 가지고, 그로부터 방사상으로 이격되면서 분사장치(4)를 둘러싸고 분사구름영역(8) 외측상류에 위치되고 분무된 도장재료를 정전기적으로 충전하는 최소한 하나의 전극(28)을 특성짓는 전극배열(12)을 가지며, 전극(28), 분사구름영역(8) 외측상류, 고리(14)안의 제 1 기체통로(52,78)를 지지하는 고리(14)를 가지는 분사 도장장치에 있어서, 최소한 제 2 기체통로(56,66)가 구비되고 고리(14)의 외측표면(66,68)을 가로질러 분무기(4)의 분사구름영역(8)쪽으로 접하는 그의 하류단부(16)까지 기체를 통과함을 특징으로 하고, 고리(14)가 외측표면(60,68)과 하류단부부(16)를 통해 하류로 감소하는 단면크기를 가지며, 이로 인해 제 2 기체통로(56,66)의 기체가 외측표면(60,68)을 단부 (16)로부터 하류로 떠나며, 제 1 기체통로(52)로부터 기체와 혼합되고 상기기체와 함께 분사구름영역(8)으로 흐름을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항에 있어서, 전극(28)이 제 1 기체통로(52)를 통해 연장하고 그의 하류단부는 대략 상기 제 1 기체통로(5)의 기체방출 개구부에 위치하는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항에 있어서, 전극(28)이 제 1 기체통로(52)를 통해 연장하고 하류로, 제 1 기체통로(52)밖으로 돌출하는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항에 내지 재31항중 한 항에 있어서, 고리(14)가 하류로 쐐기모양으로 단면이 감소하는 형상을 갖는 분사도장장치.
- 제32항에 있어서, 축방향섹션에서 본 고리(14)가 하류로 공기역학적으로 쐐기형상형태를 가지는 것을 특징으로 하는 제 2 기체통로(들)(56,66)의 방출방향이 그들의 기체흐름고리(14)의 외측표면(60,68)을 가로질러 청소하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항에 내지 제33항중 한 항에 있어서, 제 2 기체통로(50)가 방사상으로 외측의 외측표면(60)상에 그리고 제 3 기체통로(66)가 고리(14)의 방사상으로 내측의 외측표면(68)상에 공간을 만드는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항 내지 제34항중 한 항에 있어서, 모든 전극(28)이 고리형상전도체(80)에 의해 전기전도성 재료로부터 서로와 연결되는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항 내지 제35항중 한 항에 있어서, 최소한 두개의 기체통로 (52,78,56,66)가 상기 기체통로에 공급된 기체가 분리적이고 독립적으로 조정되고 조절될 수 있는 분리기체공급선(48,49)에 연결되는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제29항 내지 제36항중 한 항에 있어서, 고리(14)가 기체통로(52,78,56,66)와 전극(28)이 배열되는 최소한 두개의 고리형상부분(40,42)으로 구성되는 것을 특징으로하는 분사도장장치.
- 제29항 내지 제37항중 한 항에 있어서, 최소한 하나의 제1 및 추가의 기체통로(52,78,56,66)가 고리형상호스(26/2,28/2,30/2) 또는 다수의 방출개구부가 형성되는 고리형상 튜브에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 분사도장장치.
- 제38항에 있어서, 호스((26/2,28/2,30/2) 또는 튜브가 기체통로마다 상이한 내측단면크기를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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