KR890008234A - 분진방지 피복용 조성물, 이 조성물로 피복한 생성물 및 이 생성물의 제조방법 - Google Patents

분진방지 피복용 조성물, 이 조성물로 피복한 생성물 및 이 생성물의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

분진방지 피복용 조성물, 이 조성물로 피복한 생성물 및 이 생성물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. A) 하나이상의 아크릴 또는 메타크릴산 모노머 40 내지 80중량%, B) 하나이상의 아크릴 또는 메타크릴산 에스테르 모노머 20 내지 60중량%, C) 모노모(A) 및 (B)의 총중량을 기준하여, 가교결합제 1 내지 15중량% 및 D) 모노머(A) 및 (B)의 총중량을 기준하여, 자외선조사의 작용에 의한 중합 개시제 0.1 내지 5중량%를 함유함을 특징으로 하는, 내마모성, 분진 방지 피복용 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 모노머(B)가 일반식[여기에서, R은 수소원자 또는 메틸 라디칼이고, R'은 탄소수 1 내지 4의 저급 알킬 라디칼 또는 저급 하이드록시알킬 라디칼(여기에서 알킬그룹은 탄소수 1 내지 4를 갖는다)이다]임을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 가교결합제가 다작용성 아클릴성 올리고머 또는 모노머임을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 가교결합제가 1,4-부탄디올 디아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜디아크릴레이트 및 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트에 의해 형성된 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 중합 개시제가 벤질 디메틸케탈, (하이드록시-1-사이클로헥실)-페닐케톤, 벤조페논 및 2-디메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온에 의해 형성된 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항 내지 5항중 어느 한항에 있어서, 모노머(A) 50 내지 60중량%, 모노머(B) 40 내지 중량% 및, 모노머(A) 및 (B)의 총중량을 기준하여 가교결합제 5 내지 10중량% 및 중합개시제 0.1 내지 0.5중량%를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 아크릴산 50중량%, 메틸 메타크릴레이트 50중량%, 1,4-부탄디올 디아크릴레이트 5중량% 및 벤질 디메틸 케탈 0.2중량%를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 아크릴산 60중량%, 메틸 메타크릴레이트 40중량%, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 10중량% 및 벤젠 디메틸 케탈 0.2중량%를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  9. 피복물이 제1항 내지 8항중 어느 한항에 따른 조성물에 의해 형성되고, 자외선조사 작용에 의해 가교결합됨을 특징으로 하여, 지지물 및 하나이상의 분진 방지 피복물을 함유하는 내마모성 및 분진 방지 특성을 갖는 생성물.
  10. 제9항에 있어서, 지지물이 유리 또는 폴리메틸 메타크릴레이트임을 특징으로 하는 생성물.
  11. 1) 습윤성으로 만들기 위해 피복할 지지물의 표면(들)을 세정하고, 2) 균질 피복물을 수득하기 위해 제1항 내지 8항중 어느 한항에 따른 조성물을 지지물의 표면(들)에 적용하고, 3) 조성물을 중합시키고 가교결합시키기 위해 피복된 표면(들)을 자외선조사에 노출시킴을 특징으로 하는, 제9항 및 10항중 어느 한항에 따른 생성물을 제조하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 자외선조사에 노출시킨후, 표면 이온 교환을 수득하기 위해 피복 표면들을 염기로 처리함을 특징으로 하는 방법.
  13. 제12항에 있어서, 피복된 자외선조사-노출표면을 암모니아 또는 소다 수용액으로 처리함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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