KR880013660A - 연 마 포 - Google Patents

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KR880013660A
KR880013660A KR1019880005622A KR880005622A KR880013660A KR 880013660 A KR880013660 A KR 880013660A KR 1019880005622 A KR1019880005622 A KR 1019880005622A KR 880005622 A KR880005622 A KR 880005622A KR 880013660 A KR880013660 A KR 880013660A
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쇼오지 노로
야마시게미 무까이
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에리 마사요시
아사히가세이고오교가부시끼가이샤
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
    • B24D11/02—Backings, e.g. foils, webs, mesh fabrics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L—DOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L13/00—Implements for cleaning floors, carpets, furniture, walls, or wall coverings
    • A47L13/10—Scrubbing; Scouring; Cleaning; Polishing
    • A47L13/16—Cloths; Pads; Sponges
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L—DOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L13/00—Implements for cleaning floors, carpets, furniture, walls, or wall coverings
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    • A47L13/28—Polishing implements

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

연 마 포
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 및 제2도는 발포 생성물의 단면의 셀 구조를 나타내는 전자 현미경 사진을 도시한 도이다.

Claims (16)

  1. 셀구조를 갖고, 발포율이 1.5배 내지 30배이며, 300㎛ 이하의 평균 셀 직경을 갖는 거의 균일한 셀이 발포 생성물의 단면내에 분포되어 있고, 0.5㎛ 내지 45㎛의 미발포 수지상의 3이상의 셀로 둘러싸여 있으며, 상기 미발포상의 비율이 발포 생성물 단면내의 0.01% 내지 70%의 면적비로 존재하는 발포 열가소성 수지 생성물을 함유함을 특징으로 하는 연미포.
  2. 제1항에 있어서, 발포율이 1.5배 내지 15배이고, 평균 셀 크기가 1㎛ 내지 90㎛인 연마포.
  3. 제1항에 있어서, 셀 구조를 갖고, 발포율이 1.5배 내지 15배이며, 평균 셀 직경이 1㎛내지 90㎛이고, 0.5㎛내지 45㎛의 미발포 수지상이 3이상의 셀로 둘러싸여 있으며, 상기 미발포상의 비율이 발포 생성물 단면내에 0.01% 내지 10%의 면적비로 존재하는 연마포.
  4. 제1항에 있어서, 셀의 단면이 발포 열가소성 수지 생성물의 하나이상의 표면상에 노출된 연마포.
  5. 제1항에 있어서, 셀의 단면이 발포 열가소성 소지 생성물의 하나이상의 표면상에 노출되고 발포면의 최외부면의 기복이 50㎛이하인 연마포.
  6. 제1항에 있어서, 발포 열가소성 수지 생성물의 하나 이상의 표면이 격자, 마름모 또는 수자형태로 1내지 50㎜의 간격으로 고르게 형성된 폭 0.1내지 2㎜, 깊이 0.1 내지 2㎜의 홈을 갖는 연마포.
  7. 제1항에 있어서, 셀의 단면이 열가소성 수지의 발포 생성물의 하나이상의 표면상에 노출되고, 노출된 표면이 격자, 마름모 또는 수자형태로 1 내지 50㎜의 간격으로 고르게 형성된 폭 0.1 내지 2㎜, 깊이 0.1 내지 2㎜의 홈을 갖는 연마포.
  8. 제1,2,3,4,5,6 또는 7항에 있어서, 셀의 크기 및 형태가 거의 균일하고, 발포 열가소성 수지 생성물의 단면내에 함유된 비정상적인 형태의 셀 또는 기공이 존재하지 않는 연마포.
  9. 제8항에 있어서, 비정상적인 형태의 셀이 실린더 또는 배모양이고 기공이 평균 셀 크기보다 3배 이상 큰 거대 기공인 연마포.
  10. 제1,2,3,4,5,6 또는 7항에 있어서, 발포 열가소성 수지 생성물이 주성분으로서 폴리올레핀 또는 플루오로-수지를 함유하는 연마포.
  11. 제8항에 있어서, 발포 열가소성 수지 생성물이 주성분으로서 폴리올레핀 또는 플루오로-수지를 함유하는 연마포.
  12. 제1,2,3,4,5,6 또는 7항에 있어서, 발포 열가소성 수지 생성물이 주성분으로 폴리올레핀 또는 플루오로-수지를 함유하고 교차결합 구조를 갖는 연마포.
  13. 제8항에 있어서, 발포 열가소성 수지 생성물이 주성분으로서 폴로올레핀 또는 플로오로-수지를 함유하고 교차 결합구조를 갖는 연마포.
  14. 셀 구조를 갖고, 발포율이 1.5배 내지 30배이며, 300㎛이하의 평균 셀 직경을 갖는 거의 균일한 셀이 발포 생성물의 단면내에 분포되어 있고, 0.5㎛내지 45㎛의 미발포상이 3이상의 셀로 둘러싸여 있으며, 상기 미발포상의 비율이 발포 생성물 단면내에 0.01% 내지 70%의 면적비로 존재하는 발포 열가소성 수지 생성물을 함유하는 연마포를 그 표면상에 연마액을 공급하면서 가공할 재료에 대해 이동시켜서 가공할 재료를 경면 연마시킴을 특징으로 하는 연마법.
  15. 제14항에 있어서, 연마액이 가공할 재료를, 쉽게 용해되거나 용해 또는 반응에 의해 유리되는 화합물로 전환시키는 능력을 갖는 무기 또는 유기 액체인 연마법.
  16. 제14또는 15항에 있어서, 가공할 재료의 표면이 표면 조도 100Å 이하로 연마된 경면인 연마법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880005622A 1987-05-15 1988-05-14 연마포 KR910006346B1 (ko)

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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01193166A (ja) * 1988-01-28 1989-08-03 Showa Denko Kk 半導体ウェハ鏡面研磨用パッド
DE3926673A1 (de) * 1989-08-11 1991-02-14 Wacker Chemitronic Verfahren und vorrichtung zur poliertuchaufbereitung beim chemomechanischen polieren, insbesondere von halbleiterscheiben
JPH06124948A (ja) * 1992-08-31 1994-05-06 Sony Corp 配線形成方法
TW367551B (en) * 1993-06-17 1999-08-21 Freescale Semiconductor Inc Polishing pad and a process for polishing
EP0908487B1 (en) * 1994-05-10 2002-06-05 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Preparation of expanded fluorine type resin products
US5814409A (en) * 1994-05-10 1998-09-29 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Expanded fluorine type resin products and a preparation process thereof
US5562530A (en) * 1994-08-02 1996-10-08 Sematech, Inc. Pulsed-force chemical mechanical polishing
US5783497A (en) * 1994-08-02 1998-07-21 Sematech, Inc. Forced-flow wafer polisher
JP3317330B2 (ja) * 1995-12-27 2002-08-26 信越半導体株式会社 半導体鏡面ウェーハの製造方法
AU730858B2 (en) * 1996-10-22 2001-03-15 Owens Corning Intellectual Capital, Llc The manufacture of non-CFC cellular resol foams using perfluorinated ethers
US5876268A (en) * 1997-01-03 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method and article for the production of optical quality surfaces on glass
WO1998039142A1 (en) * 1997-03-07 1998-09-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US5888119A (en) * 1997-03-07 1999-03-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for providing a clear surface finish on glass
US5910471A (en) * 1997-03-07 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US6231629B1 (en) 1997-03-07 2001-05-15 3M Innovative Properties Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US6277464B1 (en) * 1997-05-16 2001-08-21 Pall Corporation Polymeric integral net
US5817706A (en) * 1997-08-27 1998-10-06 Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. Manufacture of non-CFC cellular resol foams using perflurinated ethers
US6121143A (en) * 1997-09-19 2000-09-19 3M Innovative Properties Company Abrasive articles comprising a fluorochemical agent for wafer surface modification
US6066030A (en) * 1999-03-04 2000-05-23 International Business Machines Corporation Electroetch and chemical mechanical polishing equipment
US7637801B2 (en) * 2000-09-28 2009-12-29 Sharp Kabushiki Kaisha Method of making solar cell
JP4554799B2 (ja) * 2000-11-08 2010-09-29 聰 井上 フッ素樹脂をベースとした研磨工具
US20050266226A1 (en) * 2000-11-29 2005-12-01 Psiloquest Chemical mechanical polishing pad and method for selective metal and barrier polishing
US6846225B2 (en) * 2000-11-29 2005-01-25 Psiloquest, Inc. Selective chemical-mechanical polishing properties of a cross-linked polymer and specific applications therefor
JP4875810B2 (ja) * 2001-08-10 2012-02-15 日立造船株式会社 フッ素樹脂ボンド研磨用砥石および製造方法
CN100592474C (zh) * 2001-11-13 2010-02-24 东洋橡胶工业株式会社 研磨垫及其制造方法
US8845852B2 (en) * 2002-11-27 2014-09-30 Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. Polishing pad and method of producing semiconductor device
JP3885800B2 (ja) * 2004-01-15 2007-02-28 ダイキン工業株式会社 摺動部材及びその製造方法
US7578023B2 (en) 2004-04-30 2009-08-25 3M Innovative Properties Company Applicator pad
US7514480B2 (en) * 2005-06-21 2009-04-07 Arkema Inc. Low level radiation treatment for improving polymer properties
US7445847B2 (en) * 2006-05-25 2008-11-04 Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. Chemical mechanical polishing pad
JP6067481B2 (ja) * 2013-05-23 2017-01-25 株式会社東芝 研磨パッド、研磨方法、および研磨パッドの製造方法
DE102013008984A1 (de) * 2013-05-28 2014-12-04 Carl Freudenberg Kg Reinigungstuch
US10946495B2 (en) * 2015-01-30 2021-03-16 Cmc Materials, Inc. Low density polishing pad
KR20170125872A (ko) * 2015-02-27 2017-11-15 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 스크러빙 물품 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL296361A (ko) * 1962-08-13 1900-01-01
US3504457A (en) * 1966-07-05 1970-04-07 Geoscience Instr Corp Polishing apparatus
JPS572343A (en) * 1980-06-04 1982-01-07 Furukawa Electric Co Ltd:The Foam of crosslinked vinyl chloride resin and its preparation
US4600469A (en) * 1984-12-21 1986-07-15 Honeywell Inc. Method for polishing detector material
US4645561A (en) * 1986-01-06 1987-02-24 Ampex Corporation Metal-polishing composition and process
EP0254705A3 (fr) * 1986-07-25 1990-03-14 Fina Research S.A. Procédé de production de mousse de polyoléfines réticulées et mousses ainsi obtenues
ATE93437T1 (de) * 1987-08-25 1993-09-15 Rodel Inc Material mit invertierter zellstruktur fuer schleif-, laepp-, form- und poliervorgaenge.

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EP0291100B1 (en) 1995-01-18
JPH048186B2 (ko) 1992-02-14

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