KR880011237A - 반 결정질 중합체의 표면 개질 방법 - Google Patents

반 결정질 중합체의 표면 개질 방법 Download PDF

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도날드 밀러 셀
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Abstract

내용없음

Description

반 결정질 중합체의 표면 개질 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
본 도면은 결합 강도와 방사의 펄스/플루엔스수의 대한 관계를 나타낸 것이다.

Claims (54)

  1. 준-무정형 상태의 반결정질 중합체이 두께가 적어도 5nm인 적어도 하나의 표면부위를 지닌 반결정질 중합체로 구성된 중합제품.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 표면의 적어도 1%는 준-무정형이며 준-무정형 부위에서 원자/원자, 산소/탄소 비는 반결정질 중합체의 원자/원자, 산소/탄소 비보다 작거나 동일한 것을 특징으로 하는 중합제품.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 부위는 적어도 10nm이 깊이를 지니며 적어도 하나이 상기 표면의 5 내지 100%인 것을 특징으로 하는 중합제품.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 반결정질 중합체는 층, 시이트, 필름 또는 코팅형태인 것을 특징으로 하는 중합제품.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 부위는 적어도 하나의 상기 표면의 30 내지 100%이며, 준-무정형 부위의 원자/원자, 산소/탄소 비는 반결정질 중합체에서의 원자/원자, 산소/탄소 비와 같거나 작은 것을 특징으로 하는 중합제품.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 부위는 적어도 하나의 상기 표면의 80-100%인 것을 특징으로 하는 중합제품.
  7. 제 1항에 있어서, 준-무정형 부위는 상기 중합체의 물품이 표면에서부터 적어도 5nm이 깊이를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  8. 제 6항에 있어서, 준-무정형 부위는 적어도 5nm이 두께를 지니며, 무정형 부위에 원자/원자, 산소/탄소 비는 반결정질 중합쳉서의 원자/원자, 산소/탄소 비보다 작거나 동일한 것을 특징으로 하는 중합제품.
  9. 제 1항에 있어서, 준-무정형 부위는 적어도 10nm의 두께를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  10. 제 7항에 있어서, 준-무정형 부위는 20 내지 500nm의 두께를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  11. 제 2항에 있어서, 준-무정형 부위는 20 내지 500nm의 두께를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  12. 제 6항에 있어서, 상기 준-무정형 부위는 5 내지 10,000nm의 두께를 지니며, 준-무정형 부위는 원자/원자, 산소/탄소 비는 반결정질 중합체에서의 원자/원자, 산소/탄소 비보다 작거나 동일한 것을 특징으로 하는 중합제품.
  13. 제 1항에 있어서, 상기 준-무정형 부위는 20 내지 500nmdm 두께를 지니며, 안료 또는 염료의 부재하에서 전자기 스팩트럼의 가시광선영역에서 반결정질 중합체에 광학밀도와 0.1 이하만큼 다른 광하밀도를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  14. 제 1항에 있어서, 상기 준-무정형 부위는 20 내지 250nmdm 두께를 지니며, 안료 또는 염료의 부재하에서 전자기 스팩트럼의 가시광선 영역에서 반결정질 중합체에 광학밀도와 0.1 이하만큼 다른 광하밀도를 지니며, 준-무정형 원자/원자, 산소/탄소 비는 반결정질 중합체의 원자/원자, 산소/탄소 비보다 작거나 동일한것을 특징으로 하는 중합제품.
  15. 제 7항에 있어서, 상기 반결정질 중합체는 적어도 0.05중량%이 방사선 흡광안료 또는 염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  16. 제 1항에 내지 제15항중 어는 한 하에 있어서, 상기 반결정질 중합체는 폴리(비닐 클로라이드), 폴리(비닐리덴 클로라이드), 폴리테트라플루오로에틸렌, 나일론, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리올레핀 및 이것의 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 중합체인 것을 특징으로 하는 중합제품.
  17. 제 16항에 있어서, 상기 표면은 원만하고, 80 내지 90`의 입사각 및 550nm이 방사선에 대해 9% 또는 그 이하의 반사율을 갖는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  18. 반결정질 중합체의 두께가 표면으로부터 적어도 5nm은 적어도 하나의 표면 부위를 지닌 반결정질 중합체로 구성되며, 상기 부위가 상기 중합체의 비결정질 상태와 일치하는 단-범위 배향 중합체와 상기 중합체의 반결정질 상태와 일치하는 장-범위 배향중합체를 지니는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  19. 반결정질 중합체 조성물의 적어도 한 표면상에 상기 중합체에 의해 흡광될 수 있는 방사선을 방사하고, 상기 표면상의 반결정질 중합체가용융도고 용융된 상기중합체의 범위 내에서 중합체 총중량의 1% 이하의 휘발이 일어나도록 상기 방사선 방사의 세기 및 변량을 주절하고, 상기 용융 중합체를 상기 적어도 하나의 표면상에 무정형 중합체 부위를 형성할 수 있는 속도로 냉각시키는 단계로 구성도는 반결정질 중합체의 표면을 개질시키는 방법.
  20. 제 1항에 있어서, 용융이 최소한 10nm의 깊이에서 일어나며 및 용융이 상술한 최소한 한쪽표면의 30-100%이 면적에 걸쳐 일어남을 특징으로 하는 방법.
  21. 제 19항 또는 제20항에 있어서, 상술한 방사선이 자외선, 가시광선 및 적외선으로 구성된 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  22. 제19항 또는 제20항에 있어서, 염료 또는 안료가 상술한 중합체 내에 존재하여 상술한 방사선을 흡수함을 특징으로 하는 방법.
  23. 반결정질 중합체 표면의 최소한 한쪽표면에 상술한 조성에 의해 흡수된는 방사선을 1회이상 조사하고, 이어사 용융 및 냉각에 의해 형성된 준-부정형 표면 내엥서 분자 배향도의 일부가 유지될 수 있을정도로 충분히 급속하게 상기 표면상의 반결정질 중합체가 용융 및 냉각되도록 상술한 방사선이 방사강도 및 플루엔스를 조절함을 특징으로 하는 반결정질 중합체의 표면을 변형시키는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상술한 최소한 한쪽표면의표면적의 80 내지 100%가 20 내짖 250nm깊이로 준-무정형을 이루게되며 및 상기 반결정질 중합체가 폴리(비닐클로라이드), 폴리에스테르, 폴리(비닐리덴클로라이드), 폴리(테트라플루오로 에틸렌), 나일론, 폴리우레탄 및 폴리올레핀으로 구성된 군으로부터 선택된 중합체임을 특징으로 하는 방법.
  25. 제24항에 있어서, 표면에 대한 준-무정형 처리를 실시한후에 상술한 중합체의 전자 스팩트럼의 가시 영역내의 광학밀도가, 상기 반결정질 중합체 내의 염료 또는 안료들에 의한 광학효과를 무시할 때, 표면을 준-무정형 처리하기전의 광학밀도의 0.1 이내이도록 상술한 최소한 한쪽표면에 준-무정형 처리를 실시함을 특징으로 하는 방법.
  26. 제19항에 있어서, 표면에 대한 준-무정형 처리를 실시한후에 상술한 중합체의 전자 스팩트럼의 가시 영역내의 광학밀도가, 상기 반결정질 중합체 내의 염료 또는 안료들에 의한 광학효과를 무시할 때, 표면을 준-무정형 처리하기전의 광학밀도의 0.1 이내이도록 상술한 최소한 한쪽표면에 준-무정형 처리를 실시함을 특징으로 하는 방법.
  27. 제19항, 제20항, 제23항, 제24항 또는 제25항에 있어서, 준-무정형면저의 원자/원자, 산소/탄소 비가반결정질 중합체 내의 그것과 동일하거나 또는 보다 작음을 특징으로 하는 방법.
  28. 제19항, 제20항, 제23항, 제24항 또는 제25항에 있어서, 사용하는 방사선이자외선임을 특징으로 하는 방법.
  29. 제27항에 있어서, 방사하는 동안 중합체를 30℃이상으로 가열함을 특징으로 하는 방법.
  30. 제19항, 제20항, 제23항, 제24항 또는 제25항에 있어서, 준-무정형면을 갖는 표면을 방사후 코로나 방전처리함을 특징으로 하는 방법.
  31. 제19항, 제20항, 제23항, 제24항 또는 제25항에 있어서, 방사처리를 100마이크로초보다 낮은 펄스에 의해 실시함을 특징으로 하는 방법.
  32. 제19항에 있어서, 상술한 표면층을 상기 준-무정형 면적내의 결정화를 촉진시키거나 또는 하층에 있는 반결정질 중합체가 노출되어 있는 물질에 노출시킴을 또한 특징으로 하는 반결정질 중합체의 표면을 개질시키는 방법.
  33. 제23항에 있어서, 상술한 표면층을 상기 준-무정형 면적내의 결정화를 촉진시키거나 또는 하층에 있는 반결정질 중합체가 노출되어 있는 물질에 노출시킴을 또한 특징으로 하는 반결정질 중합체의 표면을 개질시키는 방법.
  34. 제32항 또는 제33항에 있어서, 용융이 상술한 최소한 한쪽 표면의 최소한 30 내지 100%의 면적에 걸쳐 최소한 10nm이 깊이로 일어난며 상기 중합체가 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 이루어지고 및 상술한 방사선이 자외선, 가시광선 및 적외선으로 구성된 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  35. 제 1항에 따랄 중합제품을 얻고, 이어서 최소한 한쪽 표면을 상술한 면적내의 결정화를 촉진시키는 물질에 노출시킴을 특징으로 하는 중합체 표면의 운동 및 정적 마찰계수를 감소시키는 방법.
  36. 상술한 최소한 한쪽 표면상의 부착물질을, 상기 부착물질을 다른쪽 표면에 부착시키기에 충분한 가열, 가압 또는 기타 다른 에너지를 가한 조건하에서 다른쪽 표면과 접촉시킴을 특징으로 하는, 최소한 한쪽 표면상에 부착물질을 갖는 제 1항 내지 제15항의 중합제품을 결정시키는 방법.
  37. 제 1항 내지 제15항에 있어서, 상술한 최소한 한쪽 표면상의 유기중합체 및 상기 유기 중합체의 부착된 부착물질로 이루어진 연속필름을 갖는 중합제품.
  38. 제37항에 있어서, 상술한 반결정질 중합체가가소제를 함유하며 상술한 유기중합체가 상기 반결정질 중합체보다 상기 가소제에 의해 덜 투과됨을 특징으로 하는 중합제품.
  39. 제38항에 있어서, 상술한 반결정질 중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 이루어지고 및 상술한 부착물질이 압감성 부착 물질임을 특징으로 하는 중합제품.
  40. 제39항에 있어서, 상술한 압감성 부착물질이 폴리아크릴레이트 또는 폴리우레탄으로 특징으로 하는 중합제품.
  41. 최소한 1개의 제 1항 내지 제15항에 따른 중합제품을 얻고, 이어서 상기 중합제품을 또 다른 중합제품과 접촉시키면서 상기 중합제품이 최소한 한쪽 표면을 임을 특징으로 하는 2개의 중합제품을 함께 가열용봉하는방법.
  42. 최소한 1개의 제 1항 내지 제15항에 따른 중합제품을 얻고, 이어서 상기 중합제품을 또 다른 중합제품과 접촉시키면서 상기 중합제품의 최소한 한쪽 표면을 가열하며, 이때 중합체에 대한 Tg이상의 온도로 가열하고 및 상술한 준-무정형 중합체의 면들이 냉각시 결정화됨을 특징으로 하는 2개의 중합제품을 함께 가열용봉하는방법.
  43. 제 1항 내지 제15항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 중합제품의 적어도 한표면이 적어도 0.2의투과 또는 반사성 광학밀도를 제공하는 적어도 일부분의 표면위에 영상이, 불연속 분산물질을 가지는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  44. 제43항에 있어서, 물질이 잉크, 토너, 염로 및 안료로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  45. 반결정성 중합체 조성물의 적어도 한표면을 상기 조성물로 흡착된 복사선으로 방사하고, 상기 복사선의 세기 및 플루엔스를 조절한 다음 노출시켜, 상기 표면위에 반결정성 중합체르 용융 시키고, 중합체 전중향중 0.1중량% 미만을 용발 또는 휘산시키고, 상기 적어도 한 표면위에 준-무정형 중합면적을 형성하는 비율로 상기 용융 중합체를 냉각한 다음, 적어도 0.2의 투과 또는 반사성 광학밀도를 제공하는 적어도 한 표면에 물질을 접착하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 반결정성 중합체표면의 조절방법.
  46. 적어도 하나의 이동 성분을 함유한 제1항 내지 제15항중의 반결정성 중합체 또는 공중합체로 구성되고, 상기 반결정성 중합체 도는 공중합체보다 이도성분에 의해 덜 투과성인 2차 중합체를 상기 적어도 하나의 표면에 접착시키는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  47. 제46항에 있어서, 상기 중합체 또는 공중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 구성되는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  48. 제46항에 있어서, 상기 중합체 또는 공중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 구성되고, 상기 이동물질이 가소제로 구성되는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  49. 반결정성 중합 조성물의 적어도 한 표면을 상기 조성물로 흡착된 복사선으로 조사하여 반결정중합체의 표면을 조절하고, 상기 복사선의 세기 및 플루엔스를 조절한 다음 노출시켜, 상기 표면위에 반결정성 중합체를 용융 시키고,용융면적에서 중합체 전중량중 0.1중량% 미만을 용발 또는 휘산시키고, 상기 적어도 한 표면위에 준-무정형 중합면적을 형성하는 비율로 상기 용융 중합체를 냉각한 다음, 상기 조성물보다 이동성분에 의해 덜 투과성인 중합체로 상기 적어도 한 표면을 코팅시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 반결정성 중합체로 구성된 필름으로부터 이동물질의 이동을 감소하는 방법.
  50. 제49항에 있어서, 적어도 5nm의 깊이로 용융이 일어나고, 상기 중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  51. 제49항에 있어서, 적어도 10nm의 깊이로 용융이 일어나고, 상기 중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 구성되며, 상기 이동 물질이 가소제로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  52. 제49항에 있어서, 상기 2차 중합체가 아크릴 중합체 또는 폴리우레탄으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  53. 제 1항 내지 제15항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 반결정성 중합체가 무정형, 용발된, 또는 준-무정형 상태에서 적어도 5nm 두께의 동일한 중합체를 가진 면적을 적어도 한 표면위에 지닌 적어도 하나의 이동 성분을 함유하는 반결정성 중합체 또는 공중합체이며, 상기 반결정성 중합체 또는 공중합체보다 가소제의 의해 덜 투과성인 2차 중합체를 상기 적어도 한 표면에 접착하는 것을 특징으로 하는 중합제품.
  54. 제53항에 있어서, 상기 중합체 또는 공중합체가 폴리(비닐클로라이드)로 구성되고, 상기 이동 물질이 가소제로 구성되는 것을 특징으로 하는 중합제품.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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