KR880002883A - 티타노센 및 그의 용도 - Google Patents

티타노센 및 그의 용도 Download PDF

Info

Publication number
KR880002883A
KR880002883A KR1019870008513A KR870008513A KR880002883A KR 880002883 A KR880002883 A KR 880002883A KR 1019870008513 A KR1019870008513 A KR 1019870008513A KR 870008513 A KR870008513 A KR 870008513A KR 880002883 A KR880002883 A KR 880002883A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
titanocene
substituted
radical
alkyl
phenyl
Prior art date
Application number
KR1019870008513A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950008288B1 (ko
Inventor
클린게르트 베른트
시테크 프란시스체크
렘볼트 만프레드
Original Assignee
아놀드 자일러, 에른스트 알테르
시바-가이기 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아놀드 자일러, 에른스트 알테르, 시바-가이기 아게 filed Critical 아놀드 자일러, 에른스트 알테르
Publication of KR880002883A publication Critical patent/KR880002883A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950008288B1 publication Critical patent/KR950008288B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/28Titanium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F17/00Metallocenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/148Light sensitive titanium compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

티타노센 및 그의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)이 티타노센.
    상기 식에서, 2개의 라디칼이 R'이 상호 독립적으로 비치환되거나, 또는 C1-C18알킬, C2-C18알켄일, 염소, 페닐 또는 시클로헥실로 치환된 시클로펜타디엔일이거나, 또는 2개의 라디칼 R1이 함께 일반식(Ⅱ)
    (이때 X는 n이 1,2 또는 3인 (CH2)n ; 2 내지 12개 C원자를 가지며, 또 비치환되거나 도는 페닐로서 치환된 알킬리덴 ; 또는 5 내지 7개 고리 탄소 원자를 갖는 시클로알킬리덴임)의 치환된 라디칼이고 ; R2는 금속-탄소 결합에 대한 2개의 오르토 위치 중 적어도 1개에서 F, CF3, C2F5, CF2Cl 또는 CF2CH3으로 치환되고, 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시, C2-C10알콕시카르보닐 및 12개 C원자까지의 아미노카르보닐기중의 1개 또는 그 이상으로 더 치환될 수 있거나 ; 또는 1급, 2급 또는 3급 아미노기 또는 20개 C원자까지의 아미노알킬기 또는 4급암모늄 또는 30개 C원자까지의 암모늄 알킬기로 치환되는 6-원 카르보시클릭 또는 5-또는 6-원 헤테로시킬릭 방향족 고리이거나, 또는 R2가 F로 치환된 방향족 고리인 경우, 방향족 고리에 직접 결합되거나 또는 브릿지기에 의해 결합될 수 있는 유리 또는 에테르화 또는 에스테르와 폴리옥사알킬렌라디칼 1개 이상으로 치환될 수 있거나, 또는 R2및 R3이 함께 하기 일반식(Ⅲ)
    -Q-Y-Q- (Ⅲ)
    (이때, Q는 Y기에 대하여 2-위치에서 티탄 원자에 결합되며 또 3-위치에서 플루오르로 치환되는 카르보시클릭 방향족고리이고 ; Y는 비치환되거나 또는 페닐, C5-C7시클로알킬리덴 또는 -NR5-, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO-, SiR2 4- 또는 SnR2 4-기(여기서, R5는 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 벤질이고 ; 또 라디칼 R4는 각각 독립적으로 C1-C12알킬, 시클로헥실, 페닐 또는 벤질임)로 치환되는 메틸렌, C2-C12알킬리덴임)의 라디칼이며 ; R3는 R2에서 주어진 의미 중의 1개를 가지거나 또는 알킨 라디칼에서 2-5개 C원자를 가지며 또 비치환되거나 또는 페닐라디칼에서 할로겐 또는 C1-C4알킬로 치환되는 C2-C12알킨일, 페닐알킨일이거나, 또는 라디칼 R4가 하기에서 정의한 바와 같이 -N3또는 -CH인 -SiR3 4, SnR3 4기이거나, 또는 R2가 CF3, -C2Fu, CF2Cl 또는 CF3CH3로 치환된 방향족 고리인 경우, R3는 추가적으로 할로겐, -NCO 또는 NCS이고 ; 이들 티타노센에서, 적어도 1개의 라디칼 R1이 하기 일반식(Ⅳ) 또는 (Ⅴ)
    (여기서, Z은 Si 또는 Ge이고 ; x는 1,2 또는 3이며 ; 또 각 라디칼 R6는 독립적으로 선형 또는 측쇄의 C1-C18알킬,C1-C4할로게노알킬, 페닐, C1-C18알콕시 또는 C1-C18알콕시메틸임)의 기 1개 이상의 치환된 시클로펜타디엔일-임.
  2. 제1항에 있어서, 일반식(I)중, 1개 라디칼 R1이 비치환 시플로펜타디엔일이고 또 다른 라디칼 R1이 3개까지의 치환체를 함유하거나 ; 또는 각 라디칼 R1이, 적어도 1개 치환체가 일반식(Ⅳ) 또는 (V)에 상응하는 치환된 시클로펜타디엔일인 티타노센.
  3. 제1항에 있어서, x가 1이고 또 Z이 Si인 티타노센.
  4. 제1항에 있어서, R2가 C1-C4알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4알콕시 또는 페닐인 티타노센.
  5. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅳ)중, 1개 라디칼 R6가 C1-C18알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4알콕시 또는 페닐이고 또 다른 2개 라디칼 R6가 미텔인 티타노센.
  6. 제1항에 있어서, 일반식 (Ⅳ)의 기가 트리메틸실릴인 티타노센.
  7. 제1항에 있어서, 1개 라디칼 R1이 일반식(Ⅳ) 또는 (V)의 기로 치환된 시클로펜타디엔일 음이온이고 또 다른 라디칼 R1이 동일한 의미를 갖거나 또는 시클로펜타디엔일 음이온 또는 메틸시클로펜타디엔일 음이온인 티타노센.
  8. 제1항에 있어서, 일반식(I)중 R2및 R3가 동일하고 또 금속-탄소결합에 대한 오르토위치의 1개 또는 2개 모두에서 F로 치환되거나 또는 오르토 위치중 1개에서 CF3,C2F5,CF2Cl 또는 CF2CH3로 치환되고 또 제1항에서 정의한 기타 치환체를 함유할 수 있는 6-원 카르보시클릭 또는 5-또는 6-원 헤테로 시클릭 방향족 고리인 티타노센.
  9. 제1항에 있어서, R2및 R3이 제1항에서 정의된 치환체를 1 내지 3개 함유할 수 있는 2,6-디플루오로펜-1-일인 티타노센.
  10. 제9항에 있어서, R2및 R3가 하기 일반식의 라디칼인 티타노센.
    상기 식에서, R7, R17및 R8은 상호 독립적으로 H, F, Cl 또는 Br이거나 ; 또는 R7및 R17이 상호독립적으로 H, F, Cl 또는 Br이고 ; 또 R8이 1급, 2급 또는 3급 아미노 또는 20개 C원자까지의 아미노알킬기, 또는 4급 암모늄 또는 30개 C원자까지의 암모늄알킬기 또는 R8이 유리, 에스테르화 또는 에테르화된 폴리옥사알킬렌 라디칼이고 또 페닐고리에 직접 또는 브릿지기를 통하여 결합됨.
  11. 제1항에 있어서, R2가 유리, 에테르화 또는 에스테르화된 폴리옥사알킬렌라디칼을 1개 이상 함유하며 또 아릴기에 직접 또는 브릿지기를 통하여 결합되는 티타노센.
  12. 제11항에 있어서, 폴리옥사알킬렌 라디칼이 하기 일반식과 상응하는 티타노센.
    (-C2H2ZO-)-R9
    상기 식에서, z이 2 내지 6의 수이고 ; o는 1 내지 20의 수이고 ; 또 R9는 H 또는 C1-C18알킬임.
  13. 제1항에 있어서, R2가 하기 일반식의 라디칼이고 ; 또 R3가 R2의미와 동일하거나 또는 할로겐 또는 -N3, -CN, -NCO 또는 -NCS인 티타노센.
    상기 식에서, R12, R13, R14및 R15는 상호 독립적으로 수소, -CF,브롬, 염소 또는 플루오르임.
  14. 제13항에 있어서, R12, R13및 R14가 수소이고 또 R15가 금속-탄소결합에 대하여 오르토 위치에 있고 또 플루오르 또는 수소인 티타노센.
  15. 제13항에 있어서, R3이 F, Cl, Br, N3, CN, NCO 또는 NCS인 티타노센.
  16. 제1항에 있어서, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스(펜타플루오로페닐)-티탄, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스〔4-(1′,4′,7′-트리옥사운데실)-2,3,5,6-테트라플루오로페닐〕-티탄, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-0-트리플루오로메틸페닐-티타늄클로라이드 또는 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스[3-(1′,4′,7′-트리옥사헨데실)-2,6-디플루오로메틸페닐]티탄인 티타노센.
  17. 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물 1몰을 R2및 R3가 제1항에서 정의한 바와 같은, LiR3또는 LiR21몰과 반응시키고 또 이어 LiR3또는 LiR21몰과 반응시키거나, 또는 LiR22몰과 반응시키는 것을 포함하는 다음 일반식(I)의 티타노센을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 제1항에서 정의한 바와 같고 ; 또 Hal은 할로겐, 특히 염소임.
  18. 광조사로 종합될 수 있고 또 (a) 1개 이상의 중합성 에틸렌형 불포화 이중결합을 갖는 1개 이상의 비휘발성 단량체, 올리고머 또는 중합체 화합물과 (b) 광개시제로서 1개 이상의 제1항에 따른 일반식(I)의 티타노센을 함유하는 조성물.
  19. 제18항에 있어서, 1개 이상의 기타 광개시제(c)를 추가적으로 함유하는 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 성분(c)로 벤질 케탈, 4-아로일-1,3-디옥솔란, 디알콕시아세토페논, α-히드록시페논 또는 α-아미노아세토페논 또는 이들의 혼합물을 함유하는 조성물.
  21. 벤질케탈종류, 4-아로일-1,3-디옥솔란, 디알콕시아세토페논, α-히드록시페논 α-아미노아세토페논과 이들의 혼합물 및 제1항에 따른 일반식(I)의 티타노센을 을 함유하는 액체 광개시제 혼합물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870008513A 1986-08-01 1987-08-01 티타노센 및 그의 용도 KR950008288B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH310086 1986-08-01
CH03100/86-0 1986-08-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880002883A true KR880002883A (ko) 1988-05-12
KR950008288B1 KR950008288B1 (ko) 1995-07-27

Family

ID=4248619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870008513A KR950008288B1 (ko) 1986-08-01 1987-08-01 티타노센 및 그의 용도

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4963470A (ko)
EP (1) EP0256981B1 (ko)
JP (1) JP2664684B2 (ko)
KR (1) KR950008288B1 (ko)
BR (1) BR8703937A (ko)
CA (1) CA1332949C (ko)
DE (1) DE3784199D1 (ko)
ZA (1) ZA875672B (ko)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4857654A (en) * 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
US5026625A (en) * 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
DE3840772A1 (de) * 1988-12-03 1990-06-07 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung einer heterogenen metallocenkatalysatorkomponente
DE3844282A1 (de) * 1988-12-30 1990-07-05 Hoechst Ag Bisindenyl-derivat und verfahren zu seiner herstellung
US5075467A (en) * 1989-06-01 1991-12-24 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of titanocenes containing o,o'-difluoroaryl ligands
DE59007807D1 (de) * 1989-06-01 1995-01-12 Ciba Geigy Ag Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung.
US5068371A (en) * 1989-06-01 1991-11-26 Ciba-Geigy Corporation Novel nitrogen-containing titanocenes, and the use thereof
CA2019693A1 (en) * 1989-07-07 1991-01-07 Karen Ann Graziano Acid-hardening photoresists of improved sensitivity
DE4007428A1 (de) * 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4008815A1 (de) * 1990-03-20 1991-09-26 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
TW237456B (ko) * 1992-04-09 1995-01-01 Ciba Geigy
DE4312270A1 (de) * 1993-04-15 1994-10-20 Witco Gmbh Verfahren zur Herstellung von Übergangsmetallkomplexen mit monosubstituierten Cyclopentadienyl-Liganden
FR2715661B1 (fr) * 1994-01-31 1996-04-05 Rhone Poulenc Chimie Nouveaux photoamorceurs organométalliques polymériques et les compositions polyorganosiloxanes qui les comprennent réticulables par voie cationique.
DE4418645C1 (de) 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
ATE188967T1 (de) 1994-06-13 2000-02-15 Targor Gmbh Übergangsmetallverbindungen
BR9510340A (pt) * 1994-11-17 1998-06-02 Ciba Geigy Ag Processo para a polimerização de elefinas cíclicas e composição fotopolimerizável
NL1003002C2 (nl) * 1996-05-03 1997-11-06 Dsm Nv Siliciumfunctioneel cyclopentadieen.
US6214915B1 (en) 1998-12-10 2001-04-10 General Electric Company Stabilized thermoplastic compositions
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
DE19961355A1 (de) 1999-12-17 2001-06-21 S & C Polymer Silicon & Compos Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren
US6664025B2 (en) 2002-02-12 2003-12-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Visible radiation sensitive composition
DE10255667B4 (de) 2002-11-28 2006-05-11 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit
WO2005019354A1 (en) * 2003-08-22 2005-03-03 Sartomer Technology Co., Inc. High temperature stabilization of uv systems
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP5102454B2 (ja) 2006-03-03 2012-12-19 富士フイルム株式会社 チタノセン系化合物、感光性組成物、及び感光性転写シート
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
US9988539B2 (en) * 2015-11-12 2018-06-05 Ricoh Company, Ltd. Active-energy-ray-curable composition, active-energy-ray-curable ink, composition stored container, two-dimensional or three-dimensional image forming apparatus, two-dimensional or three-dimensional image forming method, cured material, and structure
CN115521344A (zh) * 2021-06-25 2022-12-27 中国科学院化学研究所 一种金属位取代的二茂金属衍生物及其制备方法和应用

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4590287A (en) * 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
US4548891A (en) * 1983-02-11 1985-10-22 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators
US4713401A (en) * 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
GB8515475D0 (en) * 1985-06-19 1985-07-24 Ciba Geigy Ag Forming images

Also Published As

Publication number Publication date
JP2664684B2 (ja) 1997-10-15
DE3784199D1 (de) 1993-03-25
ZA875672B (en) 1988-02-01
US4963470A (en) 1990-10-16
BR8703937A (pt) 1988-04-05
JPS6341483A (ja) 1988-02-22
EP0256981B1 (de) 1993-02-17
CA1332949C (en) 1994-11-08
EP0256981A2 (de) 1988-02-24
KR950008288B1 (ko) 1995-07-27
EP0256981A3 (en) 1990-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880002883A (ko) 티타노센 및 그의 용도
KR890009953A (ko) 티타노센, 그의 용도 및 n-치환된 플루오로아닐린
US6355819B1 (en) Substituted metallocene compounds for olefin polymerization catalyst systems, their intermediates and methods for preparing them
KR920004450A (ko) 광중합성 조성물 및 이 조성물을 사용하여 제조한 광중합성 기록물질
KR890009954A (ko) 티타노센,그의 용도 및 n-치환된 피롤
TWI244495B (en) Process for producing coatings siloxane photoinitiators
ATE184627T1 (de) Dentalharzmasse auf basis von polymerisierbaren polysiloxanen
KR910004641A (ko) 모노-및 디-아실포스핀 옥사이드
ATE117996T1 (de) Flüssigkristalline cyclopropyl-alkyl- oder - alkenyl-heterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in flüssig- kristallinen mischungen.
KR930021588A (ko) 폴리스티렌 기제 광내식막 물질
KR910014411A (ko) (메트)아크릴레이트 중합체를 기본으로 하는 uv-가교 결합성 물질
KR930021649A (ko) 플루오르를 함유하지 않는 티타노센 및 그의 용도
KR900009935A (ko) 액정 조성물
EP0862068A3 (en) Plastic articles for medical use
KR940014470A (ko) 포지티브 포토레지스트로서 유용한 중합체 및 이를 포함하는 조성물
CA2108885A1 (fr) Monomeres derives de sultones perhalogenees et polymeres obtenus a partir de ces monomeres
WO2005003858A3 (en) Compositions comprising photoacid generators
KR960011553A (ko) 다관능 비닐 에테르 화합물을 포함하여 이루어지는 포토레지스트 수지 조성물
KR850004609A (ko) 비등방성 화합물을 포함하는 액정조성물
KR960015086A (ko) 중합체
KR870010119A (ko) 액체 광개시제 혼합물
US4372835A (en) Silane-functionalized ultraviolet screen precursors
US5086192A (en) Photopolymerizable compositions and photoinitiators therefor
US5712360A (en) Method of manufacturing a cohydrolyzed polysiloxane charge transporting material
EP0321563A4 (en) SPIROOXAZINE COMPOUNDS, PHOTO-SENSITIVE MATERIALS CONTAINING THEM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19980526

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee