KR880002883A - 티타노센 및 그의 용도 - Google Patents
티타노센 및 그의 용도 Download PDFInfo
- Publication number
- KR880002883A KR880002883A KR1019870008513A KR870008513A KR880002883A KR 880002883 A KR880002883 A KR 880002883A KR 1019870008513 A KR1019870008513 A KR 1019870008513A KR 870008513 A KR870008513 A KR 870008513A KR 880002883 A KR880002883 A KR 880002883A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- titanocene
- substituted
- radical
- alkyl
- phenyl
- Prior art date
Links
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical compound [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 15
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 7
- -1 cyclopentadienyl- Chemical group 0.000 claims 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 6
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 3
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000004008 6 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BWHRGMZCKMZWFE-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)C1(C=CC=C1)[Ti](C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)(C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)C1(C=CC=C1)[Si](C)(C)C Chemical compound C[Si](C)(C)C1(C=CC=C1)[Ti](C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)(C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)C1(C=CC=C1)[Si](C)(C)C BWHRGMZCKMZWFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 claims 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- ZDJMMKJRHXFZJI-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene 5-methylcyclopenta-1,3-diene titanium(2+) Chemical compound [Ti++].c1cc[cH-]c1.C[c-]1cccc1 ZDJMMKJRHXFZJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/28—Titanium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F17/00—Metallocenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/126—Halogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/148—Light sensitive titanium compound containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (21)
- 하기 일반식(Ⅰ)이 티타노센.상기 식에서, 2개의 라디칼이 R'이 상호 독립적으로 비치환되거나, 또는 C1-C18알킬, C2-C18알켄일, 염소, 페닐 또는 시클로헥실로 치환된 시클로펜타디엔일이거나, 또는 2개의 라디칼 R1이 함께 일반식(Ⅱ)(이때 X는 n이 1,2 또는 3인 (CH2)n ; 2 내지 12개 C원자를 가지며, 또 비치환되거나 도는 페닐로서 치환된 알킬리덴 ; 또는 5 내지 7개 고리 탄소 원자를 갖는 시클로알킬리덴임)의 치환된 라디칼이고 ; R2는 금속-탄소 결합에 대한 2개의 오르토 위치 중 적어도 1개에서 F, CF3, C2F5, CF2Cl 또는 CF2CH3으로 치환되고, 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시, C2-C10알콕시카르보닐 및 12개 C원자까지의 아미노카르보닐기중의 1개 또는 그 이상으로 더 치환될 수 있거나 ; 또는 1급, 2급 또는 3급 아미노기 또는 20개 C원자까지의 아미노알킬기 또는 4급암모늄 또는 30개 C원자까지의 암모늄 알킬기로 치환되는 6-원 카르보시클릭 또는 5-또는 6-원 헤테로시킬릭 방향족 고리이거나, 또는 R2가 F로 치환된 방향족 고리인 경우, 방향족 고리에 직접 결합되거나 또는 브릿지기에 의해 결합될 수 있는 유리 또는 에테르화 또는 에스테르와 폴리옥사알킬렌라디칼 1개 이상으로 치환될 수 있거나, 또는 R2및 R3이 함께 하기 일반식(Ⅲ)-Q-Y-Q- (Ⅲ)(이때, Q는 Y기에 대하여 2-위치에서 티탄 원자에 결합되며 또 3-위치에서 플루오르로 치환되는 카르보시클릭 방향족고리이고 ; Y는 비치환되거나 또는 페닐, C5-C7시클로알킬리덴 또는 -NR5-, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO-, SiR2 4- 또는 SnR2 4-기(여기서, R5는 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 벤질이고 ; 또 라디칼 R4는 각각 독립적으로 C1-C12알킬, 시클로헥실, 페닐 또는 벤질임)로 치환되는 메틸렌, C2-C12알킬리덴임)의 라디칼이며 ; R3는 R2에서 주어진 의미 중의 1개를 가지거나 또는 알킨 라디칼에서 2-5개 C원자를 가지며 또 비치환되거나 또는 페닐라디칼에서 할로겐 또는 C1-C4알킬로 치환되는 C2-C12알킨일, 페닐알킨일이거나, 또는 라디칼 R4가 하기에서 정의한 바와 같이 -N3또는 -CH인 -SiR3 4, SnR3 4기이거나, 또는 R2가 CF3, -C2Fu, CF2Cl 또는 CF3CH3로 치환된 방향족 고리인 경우, R3는 추가적으로 할로겐, -NCO 또는 NCS이고 ; 이들 티타노센에서, 적어도 1개의 라디칼 R1이 하기 일반식(Ⅳ) 또는 (Ⅴ)(여기서, Z은 Si 또는 Ge이고 ; x는 1,2 또는 3이며 ; 또 각 라디칼 R6는 독립적으로 선형 또는 측쇄의 C1-C18알킬,C1-C4할로게노알킬, 페닐, C1-C18알콕시 또는 C1-C18알콕시메틸임)의 기 1개 이상의 치환된 시클로펜타디엔일-임.
- 제1항에 있어서, 일반식(I)중, 1개 라디칼 R1이 비치환 시플로펜타디엔일이고 또 다른 라디칼 R1이 3개까지의 치환체를 함유하거나 ; 또는 각 라디칼 R1이, 적어도 1개 치환체가 일반식(Ⅳ) 또는 (V)에 상응하는 치환된 시클로펜타디엔일인 티타노센.
- 제1항에 있어서, x가 1이고 또 Z이 Si인 티타노센.
- 제1항에 있어서, R2가 C1-C4알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4알콕시 또는 페닐인 티타노센.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅳ)중, 1개 라디칼 R6가 C1-C18알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4알콕시 또는 페닐이고 또 다른 2개 라디칼 R6가 미텔인 티타노센.
- 제1항에 있어서, 일반식 (Ⅳ)의 기가 트리메틸실릴인 티타노센.
- 제1항에 있어서, 1개 라디칼 R1이 일반식(Ⅳ) 또는 (V)의 기로 치환된 시클로펜타디엔일 음이온이고 또 다른 라디칼 R1이 동일한 의미를 갖거나 또는 시클로펜타디엔일 음이온 또는 메틸시클로펜타디엔일 음이온인 티타노센.
- 제1항에 있어서, 일반식(I)중 R2및 R3가 동일하고 또 금속-탄소결합에 대한 오르토위치의 1개 또는 2개 모두에서 F로 치환되거나 또는 오르토 위치중 1개에서 CF3,C2F5,CF2Cl 또는 CF2CH3로 치환되고 또 제1항에서 정의한 기타 치환체를 함유할 수 있는 6-원 카르보시클릭 또는 5-또는 6-원 헤테로 시클릭 방향족 고리인 티타노센.
- 제1항에 있어서, R2및 R3이 제1항에서 정의된 치환체를 1 내지 3개 함유할 수 있는 2,6-디플루오로펜-1-일인 티타노센.
- 제9항에 있어서, R2및 R3가 하기 일반식의 라디칼인 티타노센.상기 식에서, R7, R17및 R8은 상호 독립적으로 H, F, Cl 또는 Br이거나 ; 또는 R7및 R17이 상호독립적으로 H, F, Cl 또는 Br이고 ; 또 R8이 1급, 2급 또는 3급 아미노 또는 20개 C원자까지의 아미노알킬기, 또는 4급 암모늄 또는 30개 C원자까지의 암모늄알킬기 또는 R8이 유리, 에스테르화 또는 에테르화된 폴리옥사알킬렌 라디칼이고 또 페닐고리에 직접 또는 브릿지기를 통하여 결합됨.
- 제1항에 있어서, R2가 유리, 에테르화 또는 에스테르화된 폴리옥사알킬렌라디칼을 1개 이상 함유하며 또 아릴기에 직접 또는 브릿지기를 통하여 결합되는 티타노센.
- 제11항에 있어서, 폴리옥사알킬렌 라디칼이 하기 일반식과 상응하는 티타노센.(-C2H2ZO-)-R9상기 식에서, z이 2 내지 6의 수이고 ; o는 1 내지 20의 수이고 ; 또 R9는 H 또는 C1-C18알킬임.
- 제1항에 있어서, R2가 하기 일반식의 라디칼이고 ; 또 R3가 R2의미와 동일하거나 또는 할로겐 또는 -N3, -CN, -NCO 또는 -NCS인 티타노센.상기 식에서, R12, R13, R14및 R15는 상호 독립적으로 수소, -CF,브롬, 염소 또는 플루오르임.
- 제13항에 있어서, R12, R13및 R14가 수소이고 또 R15가 금속-탄소결합에 대하여 오르토 위치에 있고 또 플루오르 또는 수소인 티타노센.
- 제13항에 있어서, R3이 F, Cl, Br, N3, CN, NCO 또는 NCS인 티타노센.
- 제1항에 있어서, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스(펜타플루오로페닐)-티탄, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스〔4-(1′,4′,7′-트리옥사운데실)-2,3,5,6-테트라플루오로페닐〕-티탄, 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-0-트리플루오로메틸페닐-티타늄클로라이드 또는 비스(트리메틸실릴시클로펜타디엔일)-비스[3-(1′,4′,7′-트리옥사헨데실)-2,6-디플루오로메틸페닐]티탄인 티타노센.
- 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물 1몰을 R2및 R3가 제1항에서 정의한 바와 같은, LiR3또는 LiR21몰과 반응시키고 또 이어 LiR3또는 LiR21몰과 반응시키거나, 또는 LiR22몰과 반응시키는 것을 포함하는 다음 일반식(I)의 티타노센을 제조하는 방법.상기 식에서, R1은 제1항에서 정의한 바와 같고 ; 또 Hal은 할로겐, 특히 염소임.
- 광조사로 종합될 수 있고 또 (a) 1개 이상의 중합성 에틸렌형 불포화 이중결합을 갖는 1개 이상의 비휘발성 단량체, 올리고머 또는 중합체 화합물과 (b) 광개시제로서 1개 이상의 제1항에 따른 일반식(I)의 티타노센을 함유하는 조성물.
- 제18항에 있어서, 1개 이상의 기타 광개시제(c)를 추가적으로 함유하는 조성물.
- 제19항에 있어서, 성분(c)로 벤질 케탈, 4-아로일-1,3-디옥솔란, 디알콕시아세토페논, α-히드록시페논 또는 α-아미노아세토페논 또는 이들의 혼합물을 함유하는 조성물.
- 벤질케탈종류, 4-아로일-1,3-디옥솔란, 디알콕시아세토페논, α-히드록시페논 α-아미노아세토페논과 이들의 혼합물 및 제1항에 따른 일반식(I)의 티타노센을 을 함유하는 액체 광개시제 혼합물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH310086 | 1986-08-01 | ||
CH03100/86-0 | 1986-08-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR880002883A true KR880002883A (ko) | 1988-05-12 |
KR950008288B1 KR950008288B1 (ko) | 1995-07-27 |
Family
ID=4248619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870008513A KR950008288B1 (ko) | 1986-08-01 | 1987-08-01 | 티타노센 및 그의 용도 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4963470A (ko) |
EP (1) | EP0256981B1 (ko) |
JP (1) | JP2664684B2 (ko) |
KR (1) | KR950008288B1 (ko) |
BR (1) | BR8703937A (ko) |
CA (1) | CA1332949C (ko) |
DE (1) | DE3784199D1 (ko) |
ZA (1) | ZA875672B (ko) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4857654A (en) * | 1986-08-01 | 1989-08-15 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes and their use |
US5026625A (en) * | 1987-12-01 | 1991-06-25 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines |
DE3840772A1 (de) * | 1988-12-03 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung einer heterogenen metallocenkatalysatorkomponente |
DE3844282A1 (de) * | 1988-12-30 | 1990-07-05 | Hoechst Ag | Bisindenyl-derivat und verfahren zu seiner herstellung |
US5075467A (en) * | 1989-06-01 | 1991-12-24 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of titanocenes containing o,o'-difluoroaryl ligands |
DE59007807D1 (de) * | 1989-06-01 | 1995-01-12 | Ciba Geigy Ag | Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung. |
US5068371A (en) * | 1989-06-01 | 1991-11-26 | Ciba-Geigy Corporation | Novel nitrogen-containing titanocenes, and the use thereof |
CA2019693A1 (en) * | 1989-07-07 | 1991-01-07 | Karen Ann Graziano | Acid-hardening photoresists of improved sensitivity |
DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE4008815A1 (de) * | 1990-03-20 | 1991-09-26 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
TW237456B (ko) * | 1992-04-09 | 1995-01-01 | Ciba Geigy | |
DE4312270A1 (de) * | 1993-04-15 | 1994-10-20 | Witco Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Übergangsmetallkomplexen mit monosubstituierten Cyclopentadienyl-Liganden |
FR2715661B1 (fr) * | 1994-01-31 | 1996-04-05 | Rhone Poulenc Chimie | Nouveaux photoamorceurs organométalliques polymériques et les compositions polyorganosiloxanes qui les comprennent réticulables par voie cationique. |
DE4418645C1 (de) | 1994-05-27 | 1995-12-14 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial |
ATE188967T1 (de) | 1994-06-13 | 2000-02-15 | Targor Gmbh | Übergangsmetallverbindungen |
BR9510340A (pt) * | 1994-11-17 | 1998-06-02 | Ciba Geigy Ag | Processo para a polimerização de elefinas cíclicas e composição fotopolimerizável |
NL1003002C2 (nl) * | 1996-05-03 | 1997-11-06 | Dsm Nv | Siliciumfunctioneel cyclopentadieen. |
US6214915B1 (en) | 1998-12-10 | 2001-04-10 | General Electric Company | Stabilized thermoplastic compositions |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
DE19961355A1 (de) | 1999-12-17 | 2001-06-21 | S & C Polymer Silicon & Compos | Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren |
US6664025B2 (en) | 2002-02-12 | 2003-12-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Visible radiation sensitive composition |
DE10255667B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit |
WO2005019354A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Sartomer Technology Co., Inc. | High temperature stabilization of uv systems |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP5102454B2 (ja) | 2006-03-03 | 2012-12-19 | 富士フイルム株式会社 | チタノセン系化合物、感光性組成物、及び感光性転写シート |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
JP5374403B2 (ja) | 2009-02-13 | 2013-12-25 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
US9988539B2 (en) * | 2015-11-12 | 2018-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Active-energy-ray-curable composition, active-energy-ray-curable ink, composition stored container, two-dimensional or three-dimensional image forming apparatus, two-dimensional or three-dimensional image forming method, cured material, and structure |
CN115521344A (zh) * | 2021-06-25 | 2022-12-27 | 中国科学院化学研究所 | 一种金属位取代的二茂金属衍生物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4590287A (en) * | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
US4548891A (en) * | 1983-02-11 | 1985-10-22 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators |
US4713401A (en) * | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
GB8515475D0 (en) * | 1985-06-19 | 1985-07-24 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
-
1987
- 1987-07-27 EP EP87810431A patent/EP0256981B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-27 DE DE8787810431T patent/DE3784199D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-30 CA CA000543474A patent/CA1332949C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-31 JP JP62190550A patent/JP2664684B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-31 BR BR8703937A patent/BR8703937A/pt not_active Application Discontinuation
- 1987-07-31 ZA ZA875672A patent/ZA875672B/xx unknown
- 1987-08-01 KR KR1019870008513A patent/KR950008288B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-01-19 US US07/469,736 patent/US4963470A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2664684B2 (ja) | 1997-10-15 |
DE3784199D1 (de) | 1993-03-25 |
ZA875672B (en) | 1988-02-01 |
US4963470A (en) | 1990-10-16 |
BR8703937A (pt) | 1988-04-05 |
JPS6341483A (ja) | 1988-02-22 |
EP0256981B1 (de) | 1993-02-17 |
CA1332949C (en) | 1994-11-08 |
EP0256981A2 (de) | 1988-02-24 |
KR950008288B1 (ko) | 1995-07-27 |
EP0256981A3 (en) | 1990-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR880002883A (ko) | 티타노센 및 그의 용도 | |
KR890009953A (ko) | 티타노센, 그의 용도 및 n-치환된 플루오로아닐린 | |
US6355819B1 (en) | Substituted metallocene compounds for olefin polymerization catalyst systems, their intermediates and methods for preparing them | |
KR920004450A (ko) | 광중합성 조성물 및 이 조성물을 사용하여 제조한 광중합성 기록물질 | |
KR890009954A (ko) | 티타노센,그의 용도 및 n-치환된 피롤 | |
TWI244495B (en) | Process for producing coatings siloxane photoinitiators | |
ATE184627T1 (de) | Dentalharzmasse auf basis von polymerisierbaren polysiloxanen | |
KR910004641A (ko) | 모노-및 디-아실포스핀 옥사이드 | |
ATE117996T1 (de) | Flüssigkristalline cyclopropyl-alkyl- oder - alkenyl-heterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in flüssig- kristallinen mischungen. | |
KR930021588A (ko) | 폴리스티렌 기제 광내식막 물질 | |
KR910014411A (ko) | (메트)아크릴레이트 중합체를 기본으로 하는 uv-가교 결합성 물질 | |
KR930021649A (ko) | 플루오르를 함유하지 않는 티타노센 및 그의 용도 | |
KR900009935A (ko) | 액정 조성물 | |
EP0862068A3 (en) | Plastic articles for medical use | |
KR940014470A (ko) | 포지티브 포토레지스트로서 유용한 중합체 및 이를 포함하는 조성물 | |
CA2108885A1 (fr) | Monomeres derives de sultones perhalogenees et polymeres obtenus a partir de ces monomeres | |
WO2005003858A3 (en) | Compositions comprising photoacid generators | |
KR960011553A (ko) | 다관능 비닐 에테르 화합물을 포함하여 이루어지는 포토레지스트 수지 조성물 | |
KR850004609A (ko) | 비등방성 화합물을 포함하는 액정조성물 | |
KR960015086A (ko) | 중합체 | |
KR870010119A (ko) | 액체 광개시제 혼합물 | |
US4372835A (en) | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors | |
US5086192A (en) | Photopolymerizable compositions and photoinitiators therefor | |
US5712360A (en) | Method of manufacturing a cohydrolyzed polysiloxane charge transporting material | |
EP0321563A4 (en) | SPIROOXAZINE COMPOUNDS, PHOTO-SENSITIVE MATERIALS CONTAINING THEM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19980526 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |