KR870000377B1 - 무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법 - Google Patents
무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법 Download PDFInfo
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- G11B3/00—Recording by mechanical cutting, deforming or pressing, e.g. of grooves or pits; Reproducing by mechanical sensing; Record carriers therefor
- G11B3/02—Arrangements of heads
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- G11B3/12—Supporting in balanced, counterbalanced or loaded operative position during transducing, e.g. loading in direction of traverse
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
제1도는 본 발명 박막의 도금욕중 금속 ion농도비에 따른 막 조성의 변화도.
제2도는 본 발명 박막의 합금조성에 따른 보자력 및 잔류자속 밀도의 변화도.
자기기록용 매체는 크게 도포형과 연속박막형 2종류로 분류할 수 있다.
도포형은 자성분말과 바인다 혼합물을 기판상에 도포한 것으로 지금까지 대부분의 자기기록 재료가 이 종류에 속한다. 한편 연속박막형은 도포형과는 달리 바인더를 사용하지 않고 습식법 혹은 건식법을 이용해서 직접 기판상에 연속적으로 자성박막을 형성한 것이다.
연속박막형 자기기록재료의 제조방법은 즘착, 스파타링, 이온플레이팅 등과 같은 건식방법과 전해도금 무전해도금과 같은 습식방법으로 나눌 수가 있는데 양산성, 가격면에서 습식방법이 건식방법에 비해 훨씬 유리하며 균일한 큰면적의 박막을 용이하게 제조할 수 있는 이점도 있다.
습식방법은 다시 전해도금과 무전해 도금으로 나뉘는데 전해도금법에 비해 무전해 도금법은 장치비가 싸고 간단하며 PET와 같은 전기부도체에도 도금이 가능한 장점이 있기 때문에 본 발명에서는 이 무전해 도금법을 이용하여 연속박막을 제조하였다.
연속박막형 자기기록재료는 도포형 재료에 비해, 자기기록헤드에 대한 내마모성의 문제와 산화의 문제가 다소 있기는 하나 도포형에 비해 수십-수백배에 달하는 고기록밀도의 실현이 가능하고 전자기 특성 특히 고주파영역에서 재생특성 등이 우수하기 때문에 새로운 자기기록재료로서 각광을 받고 있다.
자기기록에 있어서 고밀도 기록을 위한 매체로서의 요구조건은 고 보자력, 고 잔류자속밀도, 박막화, 고각형비등으로서 무전해 도금법에 의한 Co-Ni-P 박막은 이러한 요구를 충분히 만족시키고 있다.
다음은 디스크제작에 있어서의 전처리 과정 및 자성도금조건으로서 디스크재는 PET나 Al합금(7075) 모두 다 가능하며 처리공정을 설명하면 다음과 같다.
[실시예]
주어진 도금조건을 사용해서 PET 및 Al합금상에 자성 Co-Ni-P박막을 도금한 결과 박막의 조성 (Co/Co+Ni×100(%))이 약 80∼40%였으며 인의 함량은 약1∼2%였다. 또한 박막의 조성에 따른 보자력 및 잔류자속밀도의 변화는 표 1과 같다.
[표 1]
이상의 표 1에서 보는 바와같이 현재는 훼라이트를 코팅한 것들로서 보자력이 250∼300Oe이고 잔류자속 밀도는 700∼800G인데 비해 훨씬 높게 나타나는 것을 알 수 있다. 따라서 본원 발명에 의한 제조공정에 따라 무전해 도금법에 의한 높은 보자력을 가질 수 있는 Co-Ni-P 박막 자기디스크를 제조할 수 있게 된 것이다.
Claims (1)
- 박막의 합금조성(Co/Co+Ni×100(%))(이 약 80∼40%이고 나머지가 P인 연속박막형 무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019850001661A KR870000377B1 (ko) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019850001661A KR870000377B1 (ko) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR860007627A KR860007627A (ko) | 1986-10-15 |
| KR870000377B1 true KR870000377B1 (ko) | 1987-03-06 |
Family
ID=19240118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019850001661A KR870000377B1 (ko) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 무전해 도금방법에 의한 Co-Ni-P 박막 자기디스크 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR870000377B1 (ko) |
-
1985
- 1985-03-15 KR KR1019850001661A patent/KR870000377B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR860007627A (ko) | 1986-10-15 |
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