KR860004047A - 옥소화합물의 질소유도체의 제조방법 - Google Patents

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KR860004047A
KR860004047A KR1019850008785A KR850008785A KR860004047A KR 860004047 A KR860004047 A KR 860004047A KR 1019850008785 A KR1019850008785 A KR 1019850008785A KR 850008785 A KR850008785 A KR 850008785A KR 860004047 A KR860004047 A KR 860004047A
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샤프너 칼 (외 4)
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아놀드 자일러, 에른스트 알테르
시바-가이기 에이지
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Abstract

내용 없음

Description

옥소화합물의 질소유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 일반식(Ⅱ)의 화합물을 일반식 H2N―R(Ⅲ)화합물과 반응시키고, 경우에 따라서는 생성된 화합물을 본 발명에 따른 다른 화합물로 전환시키고, 시키거나, 경우에 따라서는 생성된 염을 유리 화합물 또는 다른 염으로 전환시키거나, 생성된 염형성 그룹을 갖는 유리화합물을 염으로 전환시켜 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 염 형성 특성을 갖는 일반식(Ⅰ)화합물의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 수소, 저급 알킬 또는 아릴이거나, R1과 R2가 함께 저급알킬렌이고; R3와 R4중의 하나는 =N―R 그룹(Ia)이고, 그 나머지는 다른 하나와 동일하거나 옥소이고〔여기서, R은 ―O―Ra그룹(Ib)(여기서, Ra는 수소, 저급 알킬카복시―저급알킬 또는 저급알콕시카보닐―저급알킬이다) 또는 ―N(Rb)―Rc그룹(Ic) {여기서, Rb와 Rc는 각각 독립적으로 수소 또는 저급 알킬이거나, Rb와 Rc중의 하나가 수소이고 그 나머지가 ―C(=X)―Rd그룹(여기서, X는 옥소이고, Rd는 저급알콕시, 디―저급알킬아미노―저급알킬, 트리―저급알킬암모니오―저급알킬, 저급알킬렌아미노―저급알킬, 옥시―저급알킬렌아미노―저급알킬, 티아―저급알킬렌 아미노―저급알킬, 아자그룹상에서 저급알킬로 임의 치환된 아자―저급알킬렌―아미노―저급알킬, 또는 피리디니오―저급알킬이거나, 또는 X가 옥소 또는 티옥소이고, Rd가 아미노이다)이거나, 또는 Rb와 Rc가 함께 저급알킬렌, 옥사―저급알킬렌, 티아―저급알킬렌 또는 아자그룹상에서 저급알킬로 임의 치환된 아자―저급알킬렌이다}이다〕; 환 A는 더 이상 치환되지 않거나, 저급알킬, 저급알콕시 및 또는 할로겐으로 치환되며, Rx와 Ry중 하나는 옥소이고, 다른 하나는 옥소 또는 =N―R그룹(Ia)이다.
  2. 제1항에 있어서, R1은 수소 또는 저급알킬이고; R2는 수소, 저급알킬 또는 페닐이며; R3및 R4중의 하나는 =N―R그룹(Ia)이고, 다른 하나는 옥소이며〔여기서, R은 ―O―Ra그룹(Ib)(여기서, Ra는 수소, 저급 알킬카복시―저급알킬 또는 저급알콕시카보닐―저급알킬이다) 또는 ―N(Rb)―Rc그룹(Ic) {여기서, Rb와 Rc는 각각 독립적으로 수소 또는 저급 알킬이거나, Rb와 Rc중의 하나가 수소이고 그 나머지가 ―C(=X)―Rd그룹(여기서, X는 옥소이고, Rd는 저급알콕시, 디―저급알킬아미노―저급알킬, 트리―저급알킬암모니오―저급알킬, 저급알킬렌아미노―저급알킬, 4―모르폴리노―저급알킬, 4―저급알킬―1―피페라지노―저급알킬 또는 피리디니오―저급알킬이거나, X가 옥소 또는 티옥소이고, Rd가 아미노이다)이거나, 또는 Rb와 Rc가 함께 저급알킬렌, 3―옥사―1.5―펜틸렌 또는 3―저급알킬―3―아자―1,5―펜틸렌이다}이다〕; 환 A는 더 이상 치환되지 않거나, 저급알킬, 저급알콕시 및 또는 할로겐으로 치환되며, 이때 "저급" 라디칼은 1 또는 2개의 탄소원자를 함유하고, 저급알킬렌 라디칼은 4 또는 5개의 탄소원자를 함유하며, 할로겐의 원자번회가 최대 35이하이고; Rx와 Ry가 옥소인 방법.
  3. 제1항에 있어서, R1은 수소 또는 저급알킬이고; R2는 저급 알킬 또는 페닐이며; R3는 =N―R그룹(Ia)이고〔여기서, R은 ―O―Ra그룹(Ib)(여기서, Ra는 저급알킬 카복시―저급알킬 또는 저급알콕시카보닐―저급알킬이다) 또는 ―N(Rb)―Rc그룹(Ic) {여기서, Rb와 Rc중의 하나가 수소이고 그 나머지가 ―C(=X)―Rd그룹(여기서, X는 옥소이고 또는 티옥소이고, Rd는 아미노이다)이거나, 또는 Rb와 Rc가 함께 저급알킬렌, 3―옥사―1.5―페틸렌 또는 3―저급알킬―3―아자―1,5―펜틸렌이다}이다〕; R4는 옥소이며; 이때 "저급" 라디칼은 1 또는 2개의 탄소원자를 함유하고, 저급알킬렌 라디칼은 4 또는 5개의 탄소원자를 함유하며; Rx와 Ry가 옥소인 방법.
  4. 제1항에 있어서, R1은 수소 또는 메틸이고; R2는 메틸 또는 페닐이며; R3는 =N―R그룹(Ia)이고,〔여기서, R은 ―N(Rb)―Rc그룹(Ic) {여기서, Rb와 Rc중의 하나는 수소이고, 그 나머지는 ―C(=X)―Rd그룹(여기서, X는 옥소이고, Rd는 아미노이다)이다}이다〕; 이때 "저급" 라디칼은 특히 1 또는 2개의 탄소원자를 함유하고; Rx와 Ry가 옥소인 방법.
  5. 제1항에 있어서, β―라파콘의 세미카바지드―하이드로클로라이드와 반응시켜 2,2―디메틸―3,4―디하이드로―2H―나프토〔1,2―b〕피란―5,6―디온―6―세미카바존을 제조하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, β―라파콘을 티오세미카바지드와 반응시켜 2,2―디메틸―3,4―디하이드로-2H―나프토〔1,2―b〕피란―5,6―디온―6―티오세미카바존을 제조하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, β―라파콘을 N,N―디메틸―글리신하이드라지드와 반응시켜, 2,2―디메틸―3,4―디하이드로-2H―나프토〔1,2―b〕피란―5,6―디온―6―(2―디메틸아미노―아세메하이드라존) 및 이의 염을 제조하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, β―라파콘을 트리메틸암모니오―아세틸하이드라지드―하이드로클로라이드와 반응시켜, 2,2―디메틸―3,4―디하이드로-2H―나프토〔1,2―b〕피란―5,6―디온―6―(2―트리메틸암모니오아세틸―하이드라존)을 제조하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, β―라파콘을 1―(2―하이드라지노―2―옥소―에틸)―피리디니오클로라이드와 반응시켜, 2,2―디메틸―3,4―디하이드로-2H―나프토〔1,2―b〕피란―5,6―디온―6―(2―피리디니오아세틸하이드라존)을 제조하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850008785A 1984-11-26 1985-11-25 옥소화합물의 질소유도체의 제조방법 KR860004047A (ko)

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