KR850700273A - 정밀 주사형 전자 현미경 측정을 위한 방법 및 장치 - Google Patents
정밀 주사형 전자 현미경 측정을 위한 방법 및 장치Info
- Publication number
- KR850700273A KR850700273A KR1019850700317A KR850700317A KR850700273A KR 850700273 A KR850700273 A KR 850700273A KR 1019850700317 A KR1019850700317 A KR 1019850700317A KR 850700317 A KR850700317 A KR 850700317A KR 850700273 A KR850700273 A KR 850700273A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- indication
- display
- displacement
- scanning electron
- pedestal
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 개념에 따라 대상물을 측정하는 장치의 블록선도.
Claims (16)
- 대상물의 정확한 거리 측정을 하는 방법에 있어서, 측정하고자 하는 거리의 방향에서 대상물의 변위로 발생하는 알려진 기준 방향을 따라 정확히 알려진 거리로 변위된 대상물의 제2표시를 하는 단계와, 임의의 유니트에서 대상물의 변위에 대한 확실한 크기를 결정하도록 제1표시와 제2표시를 비교하는 단계와, 상기 변위의 확실한 크기를 대상물의 변위의 정확히 알려진 거리를 동일하게 하므로 임의의 유니트에 의하여 표시되는 거리를 결정하는 단계와, 제1표시 또는 제2표시중 어느 한 표시로부터 선택적으로 대상물의 정확한 거리 측정을 교정하는 단계들로 이루어지게한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제1항에 있어서, 제1표시를 하고 제2표시를 하는 각 단계가 대상물을 전자빔으로 방사하여 대상물의 표시를 결정할 수 있는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자현미경 측정방법.
- 제2항에 있어서, 제1표시와 제2표시를 표시장치 상에 표시하고 커서가 측정하고자 하는 거리를 설정하도록 하는 단계로 이루어지게한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제3항에 있어서, 표시장치상에 제1표시 또는 제2표시의 위치를 조정하는 단계로 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 정밀주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제1항에 있어서, 제1표시를 하고 제2표시를 하는 각 단계가 대상물을 여러번 주사하고 다수의 주사를 평균하여 제1표시와 제2표시를 얻도록한 단계를 포함하게한 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제1항에 있어서, 다수의 주사의 합을 일시적으로 기억하는 단계로 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제1항에 있어서, 대상물의 변위를 측정하는 단계로 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제7항에 있어서, 대상물의 변위로 대상물을 위치시킨 받침대에 의하여 수행되고 대상물의 변위를 측정하는 단계가 상기 받침대와 관계없이 상기 변위를 정확히 측정하고 받침대 변위 교정율을 교정하는 단계를 포함하게 한 것을 특징으로 하는 정밀주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제8항에 있어서, 받침대와 관계없이 상기 변위를 정확히 측정하는 단계가 레이저 간섭계에 의하여 상기 변위를 측정하는 단계로 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자현미경 측정방법.
- 제1항에 있어서, 제1표시와 제2표시를 비교하는 단계가 제1표시를 제2표시와 관련지우는 단계를 포함하게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 제10항에 있어서, 제1표시를 제2표시와 관련지우는 단계가 제1표시 또는 제2표시중 어느 하나를 임의의 유니트의 알려진 량에서 다른 표시에 대하여 반복 변이시키고 반복하여 변이된 제1표시와 제2표시중 어느 하나를 다른 표시와 비교하는 단계를 포함하게 한 것을 특징으로 하는 정밀주사형 전자 현미경 측정 방법.
- 제11항에 있어서, 변이된 제1표시 또는 제2표시 중 어느 하나를 다른 표시와 반복 비교하는 단계가 제1표시와 제2표시 사이의 차 크기를 최소로 할 경우 임의의 유니트 내에서 변이의 크기를 결정하는 단계를 포함하게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 측정방법.
- 대상물의 정확한 거리측정을 하게한 장치에 있어서, 대상물의 이동시키는 받침대와, 측정하고자 하는 거리의 방향에서 대상물의 변위로 야기되는 알려진 기준 방향을 따라 받침대를 정확히 알려진 거리만큼 변위하는 수단과, 전자빔을 대상물을 향하게 방향을 고정하고 대상물을 주사하여 제1위치에 있는 대상물의 제1표시와 제1위치로부터 받침대에 의하여 변위된 제2위치에 있는 대상물의 제2표시를 하게한 주사 전자 현미경(SEM)과, 주사전자 현미경으로부터 제1표시와 제2표시를 수신하고, 제1표시와 제2표시를 비교하여 임의의 유니트에서 대상물 변위의 확실한 크기를 결정하도록 하며, 상기 변위의 확실한 크기를 대상물의 상기 변위에 대한 정확히 알려진 거리와 동일하게 하고, 제1표시 또는 제2표시중의 어느 한가지로부터 선택적으로 대상물의 정확한 거리 측정을 계산하는 마이크로 프로세서들로 구성시킨 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 장치.
- 제13항에 있어서, 받침대가 압전 구동되게한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 장치.
- 제13항에 있어서, 변위 수단이 변위의 크기를 정확히 설정하는 레이저 간섭계로 이루어지게한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경 장치.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 마이크로 프로세서가 배율 제어 신호를 발생시키고, 주사형 전자 현미경이 마이크로 프로세서로부터 배율 제어신호를 수신하여 주사 전자 현미경의 배율을 가변 가능하게 선택하는 배율수단을 포함하게 하여, 검파기가 대상물을 충돌한 후의 전자빔을 수신하여 제1표시와 제2표시를 하게 하고, 표시장치가 검파기로부터 제1표시와 제2표시 신호를 수신하여 동일표시를 하게하며, 배율 제어신호를 수신하는 수단이 표시장치 상에 제1표시와 제2표시의 위치를 조정하게 한 것을 특징으로 하는 정밀 주사형 전자 현미경장치.※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US59161684A | 1984-03-20 | 1984-03-20 | |
US591616 | 1984-03-20 | ||
PCT/US1985/000461 WO1985004250A1 (en) | 1984-03-20 | 1985-03-20 | Method and apparatus for precision sem measurements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR850700273A true KR850700273A (ko) | 1985-12-26 |
Family
ID=24367175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019850700317A KR850700273A (ko) | 1984-03-20 | 1985-03-20 | 정밀 주사형 전자 현미경 측정을 위한 방법 및 장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4766311A (ko) |
EP (1) | EP0177566B1 (ko) |
JP (1) | JPS61502486A (ko) |
KR (1) | KR850700273A (ko) |
AT (1) | ATE70914T1 (ko) |
DE (1) | DE3585013D1 (ko) |
WO (1) | WO1985004250A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101281649B1 (ko) * | 2011-03-31 | 2013-07-03 | 경북대학교 산학협력단 | 이광자현미경 장치 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4733074A (en) * | 1985-04-17 | 1988-03-22 | Hitachi, Ltd. | Sample surface structure measuring method |
US4870352A (en) * | 1988-07-05 | 1989-09-26 | Fibertek, Inc. | Contactless current probe based on electron tunneling |
US5124927A (en) * | 1990-03-02 | 1992-06-23 | International Business Machines Corp. | Latent-image control of lithography tools |
US5155359A (en) * | 1991-04-05 | 1992-10-13 | Metrologix, Inc. | Atomic scale calibration system |
JP3345060B2 (ja) * | 1992-11-09 | 2002-11-18 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 |
JP2823450B2 (ja) * | 1992-11-19 | 1998-11-11 | 株式会社東芝 | 回路パターンの寸法測定方法 |
US5308974B1 (en) * | 1992-11-30 | 1998-01-06 | Digital Instr Inc | Scanning probe microscope using stored data for vertical probe positioning |
JP2802571B2 (ja) * | 1993-03-23 | 1998-09-24 | 株式会社日立製作所 | 電子線測長装置 |
US7095885B1 (en) | 2000-03-01 | 2006-08-22 | Micron Technology, Inc. | Method for measuring registration of overlapping material layers of an integrated circuit |
US6570157B1 (en) | 2000-06-09 | 2003-05-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Multi-pitch and line calibration for mask and wafer CD-SEM system |
US6573497B1 (en) | 2000-06-30 | 2003-06-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | Calibration of CD-SEM by e-beam induced current measurement |
US6573498B1 (en) | 2000-06-30 | 2003-06-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | Electric measurement of reference sample in a CD-SEM and method for calibration |
US6635874B1 (en) * | 2000-10-24 | 2003-10-21 | Advanced Micro Devices, Inc. | Self-cleaning technique for contamination on calibration sample in SEM |
US6852974B2 (en) * | 2001-03-06 | 2005-02-08 | Topcon Corporation | Electron beam device and method for stereoscopic measurements |
US6878935B2 (en) * | 2002-04-03 | 2005-04-12 | General Phosphorix | Method of measuring sizes in scan microscopes |
US6862545B1 (en) * | 2003-04-03 | 2005-03-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Linewidth measurement tool calibration method employing linewidth standard |
FR2877102A1 (fr) * | 2004-10-27 | 2006-04-28 | Tribvn Sa | Procede d'etalonnage mecanique par recalage de signal |
US8143763B2 (en) * | 2009-05-29 | 2012-03-27 | Rhk Technology, Inc. | Linear piezoelectric nano-positioner |
US8912488B2 (en) * | 2012-11-15 | 2014-12-16 | Fei Company | Automated sample orientation |
JP6080565B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2017-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP6548542B2 (ja) * | 2015-09-29 | 2019-07-24 | 株式会社ホロン | Sem画像取得装置およびsem画像取得方法 |
US10838191B2 (en) * | 2016-12-21 | 2020-11-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Method of operating a microscope |
JP6855271B2 (ja) * | 2017-02-18 | 2021-04-07 | 株式会社ホロン | 長寸法測定方法 |
DE102018204683B3 (de) * | 2018-03-27 | 2019-08-08 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Elektronenstrahlmikroskop |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4834347B1 (ko) * | 1969-08-11 | 1973-10-20 | ||
US4052603A (en) * | 1974-12-23 | 1977-10-04 | International Business Machines Corporation | Object positioning process and apparatus |
JPS51134558A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-22 | Hitachi Ltd | Measuring unit |
DD124091A1 (ko) * | 1975-09-24 | 1977-02-02 | ||
JPS5434673A (en) * | 1977-08-23 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Micro-distance measuring device for scan-type electronic microscope |
JPS5851664B2 (ja) * | 1979-03-28 | 1983-11-17 | 株式会社日立製作所 | 試料像表示装置 |
JPS58186009A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-29 | Jeol Ltd | 測長方法 |
-
1985
- 1985-03-20 AT AT85901788T patent/ATE70914T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-03-20 KR KR1019850700317A patent/KR850700273A/ko not_active Application Discontinuation
- 1985-03-20 JP JP60501423A patent/JPS61502486A/ja active Pending
- 1985-03-20 WO PCT/US1985/000461 patent/WO1985004250A1/en active IP Right Grant
- 1985-03-20 DE DE8585901788T patent/DE3585013D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-20 EP EP85901788A patent/EP0177566B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-02-13 US US07/014,198 patent/US4766311A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101281649B1 (ko) * | 2011-03-31 | 2013-07-03 | 경북대학교 산학협력단 | 이광자현미경 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4766311A (en) | 1988-08-23 |
JPS61502486A (ja) | 1986-10-30 |
EP0177566A1 (en) | 1986-04-16 |
WO1985004250A1 (en) | 1985-09-26 |
DE3585013D1 (de) | 1992-02-06 |
ATE70914T1 (de) | 1992-01-15 |
EP0177566A4 (en) | 1987-03-26 |
EP0177566B1 (en) | 1991-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR850700273A (ko) | 정밀 주사형 전자 현미경 측정을 위한 방법 및 장치 | |
US7923701B2 (en) | Charged particle beam equipment | |
US4818873A (en) | Apparatus for automatically controlling the magnification factor of a scanning electron microscope | |
US4801873A (en) | Waveform measuring apparatus with marker zone displaying function | |
Šiaudinytė et al. | Uncertainty evaluation of trigonometric method for vertical angle calibration of the total station instrument | |
EP0198955A1 (en) | Apparatus for and a method of measuring the width of a line | |
KR20000035099A (ko) | 전자프로브 마이크로 애널라이저 | |
GB2175394A (en) | Measuring dimensions of small objects | |
Albrecht | Estimation of the 2D measurement error introduced by in-plane and out-of-plane electronic speckle pattern interferometry instruments | |
Cripps et al. | Stereo height measurements in scanning electron microscopy | |
US4521686A (en) | Linewidth measuring with linearity calibration of the T.V. camera tube | |
GB1561615A (en) | Method of measuring the distance between differents points displayed on a fluorescent screen and equipment for carrying out said method | |
Li et al. | Laser scanning system testing—Errors and improvements | |
RU2097746C1 (ru) | Устройство и способ измерения геометрических размеров и коробления пластин | |
CA1203905A (en) | Scanning electron microscope calibration apparatus and method for making precise quantitative measurements on a scanned object | |
JPS595907A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JPH08233520A (ja) | 三次元形状測定装置 | |
Todorović Drakul et al. | Testing methods with different degrees of sampling in determining systematic influences and measurement uncertainties of linear measuring devices | |
Couchman | A method of evaluating cyclic errors in EDM equipment | |
Li et al. | Error analysis and improvements for using parallel-shift method to test a galvanometer-based laser scanning system | |
GB2116724A (en) | Microscope for measuring and displaying dimensions electrically | |
US1014143A (en) | Instrument for topographical surveying. | |
Postek et al. | Nanomanufacturing concerns about measurements made in the SEM I: imaging and its measurement | |
Bručas et al. | Methodology of calibration of vertical angle measurements | |
CN115615354A (zh) | 测量仪器的校准方法及其校准装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITB | Written withdrawal of application |