JP3345060B2 - 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 - Google Patents
走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置Info
- Publication number
- JP3345060B2 JP3345060B2 JP32358592A JP32358592A JP3345060B2 JP 3345060 B2 JP3345060 B2 JP 3345060B2 JP 32358592 A JP32358592 A JP 32358592A JP 32358592 A JP32358592 A JP 32358592A JP 3345060 B2 JP3345060 B2 JP 3345060B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image data
- electron microscope
- scanning electron
- pilot
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 44
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 71
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 71
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 21
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 208000033999 Device damage Diseases 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 238000005309 stochastic process Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/226—Image reconstruction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/282—Determination of microscope properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
M)における画像信号処理方法およびその装置に関する
ものであり、特に、走査形電子顕微鏡を用いて半導体デ
バイスなどの検体についての画像データを採取して検体
の検査を行う場合に、走査形電子顕微鏡から検体への一
次電子ビームの照射量を極力減少させるとともに画像デ
ータの画質を向上しうる走査形電子顕微鏡における画像
信号処理方法およびその装置に関する。
導体デバイスなどの微細な検査を行うことはすでに知ら
れている。たとえば、64メガビットダイナミックラン
ダムアクセスメモリ(64MDRAM)などの実現にと
もなって、0.5μmルール、あるいは、さらに0.3
5μmルールもの微細ルールによる半導体デバイスの実
現が試みられており、走査形電子顕微鏡による微細かつ
正確な半導体デバイスの検査が要望されている。微細か
つ正確な半導体デバイスなどの検査を可能にする方法と
しては、走査形電子顕微鏡自体の改善方法と、走査形電
子顕微鏡で得られる画像データを改善する方法とが知ら
れている。本発明は特に後者に関する。
改善するには、ノイズ、主としてサーマルノイズを低減
させるため、通常、検査対象となる半導体デバイスなど
の検体への走査形電子顕微鏡の走査回数を多くする。
検体への走査形電子顕微鏡の走査回数を増加させると、
半導体デバイスなどへの一次電子照射量が過剰になり、
半導体デバイス自体を劣化させるという問題が発生す
る。特に、64メガビットもの高密度のDRAMなどの
検査においては、半導体デバイス内の線幅、種々の層の
厚さが薄くなっており、走査形電子顕微鏡の過剰な一次
電子の照射による劣化は顕著になる。また、検体に対す
る走査形電子顕微鏡の走査回数を増加させると検査時間
が長くなり、検査能率が低下するという問題がある。
の走査回数を増加させることなく、また、検体の損傷ま
たは劣化を生じさせることなく、走査形電子顕微鏡で検
体を走査して得られる画像データの画質の改善が可能な
走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその
装置を提供することを目的とする。また本発明は、検査
時間を短縮可能な走査形電子顕微鏡における画像信号処
理方法およびその装置を提供することを目的とする。
め、本発明においては、パイロット検体と本来の検査対
象となる検体とが同一条件として形成され、走査形電子
顕微鏡でパイロット検体と検査対象の検体とを同じ条件
で走査して走査画像データを採取したとき、それぞれの
走査における走査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定相
対特性関数がエルゴード性(定常不規則過程)を持つこ
とを前提として、まず、(1)パイロット検体について
走査形電子顕微鏡を用いて多数回の走査を行って電子光
学鏡筒の推定相対特性関数を算出し、ついで、(2)検
査対象とする検体についてパイロット検体よりも少ない
回数の走査を行い、得られた画像データを電子光学鏡筒
の推定相対特性関数で補償し、電子光学鏡筒による劣化
画像を復元して画像データの改善を図る。
顕微鏡をパイロット検体について複数回走査して得られ
たパイロット画像データから前記走査形電子顕微鏡の電
子光学鏡筒の推定相対特性関数を算出する段階と、前記
走査形電子顕微鏡を検査対象とする検体について前記パ
イロット検体を走査した回数より少ない回数だけ走査し
て検体画像データを得る段階と、前記検体画像データを
前記推定相対特性関数を用いて修正する段階と、を有す
る走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法が提供さ
れる。
パイロット検体について複数回走査して得られたパイロ
ット画像データを周波数空間のデータに変換し、該周波
数空間のデータのスペクトラムを計算して前記走査形電
子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定特性関数を算出する手段
と、前記走査形電子顕微鏡を検査対象とする検体につい
て前記パイロット検体を走査した回数より少ない回数だ
け走査して検体画像データを得る手段と、該検体画像デ
ータを周波数空間のデータに変換する手段と、該周波数
空間に変換した前記検体画像データに含まれるノイズ成
分を前記推定相対特性関数を用いて抑制する手段と、ノ
イズ成分が抑制された周波数空間の検体画像データを実
空間のデータに戻す手段とを有する走査形電子顕微鏡に
おける画像信号処理装置が提供される。
半導体デバイス(パイロットウェーハ)に対して複数
回、走査形電子顕微鏡を走査してそのパイロット半導体
デバイスに対する走査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推
定相対特性関数を推定する。この電子光学鏡筒の推定相
対特性関数は一種の電子光学鏡筒の特徴を示すものであ
り、画像データの劣化の様相を示す。パイロット検体に
は多数回、走査形電子顕微鏡を走査させてより正確な走
査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定相対特性関数を算
出する。次いで、パイロット検体と同じ条件で製造され
た検査対象とする検体について、上記パイロット検体に
対する走査回数より少なく、即ち一次電子の照射量がパ
イロット検体よりもはるかに少ない程度の回数だけ走査
形電子顕微鏡を走査して、その検体についての走査形電
子顕微鏡による画像データを採取する。この検体につい
ての画像データを、上記パイロット検体を用いて算出し
た電子光学鏡筒の推定相対特性関数を用いて、劣化画像
の修正を行う。これにより、電子光学鏡筒に依存する劣
化画像が復元できる。
学鏡筒の特性を推定するには、パイロット検体について
の多数回走査の画像データを、離散コサイン変換(DC
T)処理して周波数空間のデータに変換し、パワースペ
クトラムなどのスペクトラムを算出して上記電子光学鏡
筒の推定相対特性関数を算出する。また、上記処理に対
応して、上記画像復元処理は、後続検体について複数回
走査して得られた画像データについて、DCT処理によ
り周波数空間のデータに変換し、この周波数空間に変換
したデータを上記電子光学鏡筒の推定相対特性関数を用
いて修正し、さらに、逆DCT処理をして周波数空間領
域における画像データを実空間領域における画像データ
に変換する。このように画質改善された画像データが、
CRT表示装置などの表示装置に表示されて検体の検査
に使用される。
像信号処理装置の第1実施例の構成図を示す。この走査
形電子顕微鏡を用いた画像信号処理装置は、走査形電子
顕微鏡(SEM)1、走査形電子顕微鏡駆動制御部3、
画像データを入力する画像データ入力部5、推定SEM
電子光学鏡筒相対特性関数演算処理部7(以下、相対特
性関数とは電子光学鏡筒特性関数を示す。)、全体制御
処理部10、後続半導体デバイス画像処理部12、およ
び、画像表示部14を有する。推定SEM相対特性関数
演算処理部7は、DCT演算部7a、パワースペクトラ
ム(PS)計算部7b、SEM相対特性関数計算部7
c、および、推定SEM相対特性関数記憶部7dを有す
る。後続半導体デバイス画像処理部12は、画像データ
記憶部12a、DCT演算部12b、劣化画像復元処理
部12c、および、IDCT演算部12dを有する。
てのパイロット半導体デバイス(パイロットウェーハ)
または後続半導体デバイス(後続ウェーハ)を走査す
る。走査形電子顕微鏡駆動制御部3は、全体制御処理部
10の制御のもとに、走査形電子顕微鏡1の走査を駆動
制御する。画像データ入力部5は走査形電子顕微鏡1を
走査して得られた画像データを入力する。推定SEM相
対特性関数演算処理部7は、パイロット半導体デバイス
について走査形電子顕微鏡1を走査して得られた画像デ
ータからその走査形電子顕微鏡1の電子光学鏡筒の相対
特性関数ERFFを推定する。後続半導体デバイス画像
処理部12は、推定SEM相対特性関数演算処理部7に
よる電子光学鏡筒の推定特性が算出された後、検査対象
としての検体、すなわち、パイロット半導体デバイスに
後続するパイロット半導体デバイスと同じ条件で製造さ
れた半導体デバイスについて、走査形電子顕微鏡1を走
査して得られた画像データを、上記電子光学鏡筒の推定
特性を用いて、電子光学鏡筒によって劣化した劣化画像
を復元する。画像表示部14は、推定SEM相対特性関
数演算処理部7および後続半導体デバイス画像処理部1
2で処理された画像データを表示する。全体制御処理部
10は上記走査形電子顕微鏡を用いた画像信号処理装置
における全体制御を行う。
スの検査は、半導体デバイスの製造段階の種々の段階に
おいて行うことができる。たとえば,ステッパで描画し
た後のエッチング処理の前の段階など、ウェーハの状態
において行う。このように検査対象は、半導体デバイス
の製造段階途中の半製品(ウェーハ)または半導体デバ
イスとして完成品の段階などで検査されるが、本実施例
において、検査段階を特定せず述べるので、以下、本明
細書においては、検体となる半導体デバイスまたはウェ
ーハは半製品、完成品を問わず、便宜的に半導体デバイ
スと呼ぶ。
置の概略動作を図2を参照して述べる。図2は走査形電
子顕微鏡における画像信号処理装置の基本処理動作を示
すフローチャートである。 ステップS01:パイロット半導体デバイスを用いた推
定SEM電子光学鏡筒の相対特性関数ERFF(Evalua
ted Relative Feature Function)の算出 まず、パイロット半導体デバイスを複数回(多数回)、
走査形電子顕微鏡1で走査して画像データを採取し、こ
れらの画像データから推定SEM相対特性関数演算処理
部7において推定SEM電子光学鏡筒の相対特性関数E
RFFを算出する。走査形電子顕微鏡1を用いたパイロ
ット半導体デバイスの走査回数は、走査形電子顕微鏡1
の電子光学鏡筒の相対特性関数が充分推定可能な程度だ
け、多数回、たとえば、64回程度とする。 ステップS02:検査対象とする後続半導体デバイスに
ついての画像データの劣化画像データを推定SEM電子
光学鏡筒の相対特性関数を用いて復元 その後、パイロット半導体デバイスと同じ条件(工程)
で製造された検査対象となる後続半導体デバイスについ
て、複数回、走査形電子顕微鏡1を走査させて画像デー
タを採取し、これらの画像データの劣化画像を上記電子
光学鏡筒の推定特性で修正して正確な画像データを得
る。この後続半導体デバイスに対する走査形電子顕微鏡
1の走査回数は、走査形電子顕微鏡1の走査による後続
半導体デバイスの劣化が最小限ですむ程度の回数とす
る。この走査回数は当然、パイロット半導体デバイスに
対する走査回数より少ないものとなり、たとえば、3〜
4回程度の回数となる。 ステップS03:画像表示による検査 以上のように劣化画像を復元して得られた検査対象とす
る半導体デバイスの正確な画像データを表示装置に表示
してその半導体デバイスの検査または評価を行う。
顕微鏡1の電子光学鏡筒の特性をパイロット半導体デバ
イスを用いて算出してその特性依存性を補償することに
より、後続半導体デバイスについて採取した画像データ
における電子光学鏡筒に依存する画像劣化を改善する。
このように、検査対象とする後続半導体デバイスに対し
て走査形電子顕微鏡1の一次電子のドーズ量を少なくで
き、しかも、画質改善ができる。走査回数が少なくてす
むから、検査時間も短縮できる。上記ステップS03に
おいて述べた表示による検査は従来と同様であるから、
以下の記述においてその詳細は述べない。
画像信号処理装置の信号処理の詳細を述べる。まず、下
記の記述において使用する記号の説明を行う。
処理の詳細を述べる。以下の考察においては、走査形電
子顕微鏡1によって採取されるパイロット観測画像デー
タfi とノイズ画像データni との間には相関がないも
のとする。パイロット観測画像データfi を線形ローパ
スフィルタを通して高周波成分を取り除いた処理画像デ
ータhi とパイロット観測画像データfi との差(hi
−fi )の二乗平均を式1で示す。
タ(最適線形フィルタ)関数Gi は、真値画像データの
パワースペクトラムPSi とノイズ画像データのパワー
スペクトラムPNi とを用いて式2で与えられる。ウィ
ーナー・フィルタは、ノイズと真値とのパワースペクト
ラムが既知であるという理想的なフィルタである。
トラムPSi とノイズ画像データのパワースペクトラム
PNi とが、各画素が他の画素の影響を受けないという
確率過程でエルゴード性を有すると仮定すると、換言す
れば、集合平均と時間平均とが一致すると仮定すると、
式3および式4に示すように、真値画像データのパワー
スペクトラムPSi とノイズ画像データのパワースペク
トラムPNi とがそれぞれ、真値画像データsi のDC
T値Si の二乗とノイズ画像データのDCT値Ni の二
乗とに一致する。
理)空間の画像データから周波数空間の画像データに変
換することを意味する。また、後述する逆DCT処理を
行うことは、周波数空間の画像データから実空間の画像
データに戻すことを意味する。
ペクトラムPSi は未知である。ノイズは主としてサー
マルノイズであり、画像信号とは相関がないと仮定する
から、式2を下記式5と置くことができる。
ド性を考慮すると、式5は下記式6として表すことがで
きる。
データfi としてパイロット半導体デバイスについて走
査形電子顕微鏡を64回の走査した(i=64)パイロ
ット観測画像データf64を得ており、64回走査したパ
イロット観測画像データのDCT値F64についてのウィ
ーナー・フィルタ関数G64と、1回走査のパイロット観
測画像データのDCT値F1 のウィーナー・フィルタ関
数G1 を示すと、式6からそれぞれ、下記式7および式
8が得られる。
デバイスについて走査形電子顕微鏡を64回走査して得
られたパイロット観測画像データにおける真値画像デー
タs64と1回走査した得られたパイロット観測画像デー
タにおける真値画像データs1 とは一致するから、下記
式10で示す関係が成立する。
64回走査した場合と1回走査した場合のそれぞれのノ
イズ自身は測定できないが、それぞれのパイロット観測
画像データfi のDCTの二乗の差を算出することによ
り、ノイズの絶対値の差が検出できることを意味してい
る。信号論上でのノイズは、観測系(オブザーバ)での
伝達関数に対応するから、ノイズの絶対値の差は観測系
における特性関数のエネルギの差として扱うことと等価
である。すなわち、下記式12
64回走査したときのパイロット観測画像データと1回
走査したときのパイロット観測画像データとの推定SE
M電子光学鏡筒の相対特性関数ERFFとして考えるこ
とができる。
の差を整合させるための因子として係数k1 を考慮する
と、下記式13が得られる。
となる。
(Coefficient of ERFF)を示しており、係数k1 と係数
k2 とを実験から求める。この係数k1 ,k2 は、ER
FFを所望の値にするためのものである。
性関数ERFFの算出方法を図3にフローチャートとし
て示す。この演算は、まず図1に示す走査形電子顕微鏡
駆動制御部3により走査形電子顕微鏡1を駆動してパイ
ロット半導体デバイスを64回連続して走査し、この6
4回走査によって得られた画像データを画像データ入力
部5に入力し、推定SEM相対特性関数演算処理部7に
おいて上述した演算処理を行う。 ステップS11:パイロット半導体デバイスについて6
4回、走査形電子顕微鏡1を走査して得られたパイロッ
ト観測画像データfi を入力する。 ステップS12:DCT演算部7aにおいて、上記パイ
ロット観測画像データfi についてDCT処理を行い、
そのDCT値Fi を算出する。 ステップS13:パワースペクトラム計算部7bにおい
て、パイロット観測画像データのDCT値Fi からパワ
ースペクトラムPFi を計算する。 ステップS14:SEM相対特性関数計算部7cにおい
て、式14に基づいて推定SEM電子光学鏡筒の相対特
性関数ERFFを算出する。 この算出された推定SEM電子光学鏡筒の相対特性関数
ERFFが推定SEM相対特性関数記憶部7dに記憶さ
れる。
た処理の詳細な内容を述べる。パイロット検体(パイロ
ット半導体デバイス)と後続検体(半導体デバイス)と
が同一デバイスとして同一条件で形成され、走査形電子
顕微鏡でパイロット検体と後続検体とを同じ条件で走査
して走査画像データを採取したとき、それぞれの走査に
おける走査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定相対特性
関数にはエルゴード性が成立する。したがって、上述し
て算出した推定SEM電子光学鏡筒の相対特性関数ER
FFを用いて、電子光学鏡筒に依存して劣化した後続半
導体デバイスの画像データの劣化画像データを復元(改
善)できる。
周波数領域で考えると、信号域の周波数成分である場
合、走査形電子顕微鏡1による後続半導体デバイスを走
査する走査回数を増加させることは、2次電子像のコン
トラストを向上させることに寄与するから、下記式15
が成立する。
ノイズの単調な減少は期待できないと同時に、信号域の
多数回走査による強度の程度が推定可能であることを示
している。つまり、式15が成立する周波数領域におい
て、パイロット半導体デバイスについてのパワースペク
トラムが強調された分だけ、以下に述べる処理によって
信号域を強調する。
た空間周波数領域で考えたとき、信号域のノイズ成分で
ある場合、走査形電子顕微鏡1による後続半導体デバイ
スを走査する走査回数を増加させることは、信号域とは
逆に、2次電子像のコントラストを低下させることに寄
与するから、つまり、走査回数の増加にともなってノイ
ズのエネルギは単調に減少するから、下記式17が成立
する。
して平方根をとると、式18が得られる。
成立する。
ズの符号状態は推定できないが、少なくとも、ノイズ域
と判断された周波数に関してはそのエネルギを抑制し、
複数回走査して得られたパイロット画像データのノイズ
域状態に接近させる必要がある。そこで、ノイズ域と判
断された周波数の画像データについて、そのエネルギが
小さくなるように、上述した得られた推定SEM電子光
学鏡筒の相対特性関数ERFFを用いて劣化画像データ
を復元(補正)する。走査回数i=1の場合、式13を
参照して、
回)走査したときの画像データのノイズ状態に近似す
る。
CT(IDCT)処理を行って、周波数空間の画像デー
タを実(物理)空間の画像データ、つまり、実画像デー
タに戻す。この実画像データを表示装置に表示して、後
続半導体デバイスの検査に使用する。この実画像データ
は劣化画像が改善されているから、検査に好適に使用で
きる。
フローチャートである。図1に示した走査形電子顕微鏡
における画像信号処理装置の動作に関連させてその処理
内容を述べる。 ステップS21:後続半導体デバイスについて数回、た
とえば、3〜4回程度、走査形電子顕微鏡1を走査して
得られた後続観測画像データoi を入力する。入力され
た後続観測画像データoi は後続半導体デバイス画像処
理部12内の画像データ記憶部12aに記憶される。画
像データ入力部5はこの実施例では、パイロット半導体
デバイスの画像データを入力する場合とこの後続半導体
デバイスの画像データを入力する場合の両者に使用す
る。 ステップS22:後続半導体デバイス画像処理部12内
のDCT演算部12bにおいて、画像データ記憶部12
aに記憶された後続観測画像データoi についてDCT
処理を行い、そのDCT値Oi を算出する。 ステップS23:劣化画像復元処理部12cは、推定S
EM相対特性関数記憶部7dに記憶されている推定SE
M電子光学鏡筒の相対特性関数ERFFを読み出し、D
CT演算部12bにおいて計算した後続観測画像のDC
T値Oi を補正する。これにより、電子光学鏡筒によっ
て劣化した劣化画像データの復元が行われる。 ステップS24:IDCT演算部12dにおいて、復元
された画像データについて逆DCT処理を行い、実空間
の画像データに戻す。 上記各ステップの処理の後、画像表示部14に得られた
実空間の画像データを表示する。
ては走査形電子顕微鏡1の走査回数は少なくてすむか
ら、走査形電子顕微鏡1からの一次電子の後続半導体デ
バイスに対するドーズ量は少なくてすみ、後続半導体デ
バイスの損傷が少ない。しかも、推定SEM電子光学鏡
筒の相対特性関数ERFFを用いることで、鮮明な画像
データが得られる。後続半導体デバイスに対する走査形
電子顕微鏡1の走査回数は少なくてすむから、複数(多
数)の後続半導体デバイスに対する検査時間が短縮でき
る。また、本発明においては、走査形電子顕微鏡1自体
を改造したり、複雑な調整を行う必要がなく、上述した
画像信号処理で実現できるので、容易に実施することが
できる。
号処理方法の実施に際しては、上述した実施例に限ら
ず、種々の変形態様をとることができる。たとえば、図
1に示した走査形電子顕微鏡における画像信号処理装置
に代えて、図5に示す特定的な走査形電子顕微鏡におけ
る画像信号処理装置にも適用できる。この走査形電子顕
微鏡における画像信号処理装置を使用するに当たって
は、事前にパイロット半導体デバイスについて推定SE
M電子光学鏡筒の相対特性関数ERFFを算出してお
く。この走査形電子顕微鏡における画像信号処理装置
は、走査形電子顕微鏡1からの2次電子像画像データg
(x,y)をDCT処理して物理空間のデータから周波
数空間のデータに変換するDCT回路101、DCT処
理して周波数空間に変換された画像データの平均を演算
する平均演算回路102、平均した周波数空間の画像デ
ータを走査形電子顕微鏡1の推定SEM電子光学鏡筒の
相対特性関数ERFFだけ並列的に低減させる演算回路
111〜119、周波数空間のデータを物理空間のデー
タに戻す逆DCT処理回路121〜129、統計的な手
法で物理空間のノイズ成分を減少させる処理回路131
〜139、物理空間のデータを周波数空間のデータに変
換するDCT回路141〜149、ウィーナー・フィル
タによるノイズ低減処理を行う回路151〜159、平
均値計算回路161、周波数空間の画像データを物理空
間の画像データに戻す逆DCT回路162を有する。図
5に示した走査形電子顕微鏡における画像信号処理装置
によっても、上述した走査形電子顕微鏡における画像信
号処理装置と同様に、走査形電子顕微鏡1で走査した画
像データの画質を向上させることができる。
体デバイスまたはウェーハを例示したが、本発明の走査
形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置
は、半導体デバイスまたはウェーハに限らず、電子光学
鏡筒の特性による画像データへの影響を防止して高い精
度の2次電子像データを必要とする、他の種々の検体の
検査に適用できる。
信号処理方法によれば、本来の検体への走査形電子顕微
鏡からの一次電子の照射量を低減した状態で、走査形電
子顕微鏡の電子光学鏡筒の特性に依存されずに、鮮明な
画質の画像データを得ることができる。また本発明の走
査形電子顕微鏡における画像信号処理方法によれば、走
査形電子顕微鏡の検体への走査回数が少ないので、検体
の検査時間が短縮でき、検査能率が向上する。
理装置の第1実施例の構成図である。
号処理装置の基本処理動作を示すフローチャートであ
る。
子顕微鏡の推定SEM電子光学鏡筒の相対特性関数を算
出する処理を示すフローチャートである。
M電子光学鏡筒の相対特性関数を用いて後続半導体デバ
イスについての劣化画像データ改善処理を示すフローチ
ャートである。
理装置の第2実施例の構成図である。
Claims (2)
- 【請求項1】走査形電子顕微鏡をパイロット検体につい
て複数回走査して得られたパイロット画像データから前
記走査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定相対特性関数
を算出する段階と、 前記走査形電子顕微鏡を検査対象とする検体について前
記パイロット検体を走査した回数より少ない回数だけ走
査して検体画像データを得る段階と、 前記検体画像データを前記推定相対特性関数を用いて修
正する段階と、 を有する走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法。 - 【請求項2】走査形電子顕微鏡をパイロット検体につい
て複数回走査して得られたパイロット画像データを周波
数空間のデータに変換し、該周波数空間のスペクトラム
を計算して前記走査形電子顕微鏡の電子光学鏡筒の推定
特性関数を算出する手段と、 前記走査形電子顕微鏡を試験対象とする検体について前
記パイロット検体を走査した回数より少ない回数だけ走
査して検体画像データを得る手段と、 該検体画像データを周波数空間のデータに変換する手段
と、 該周波数空間に変換した前記検体画像データに含まれる
ノイズ成分を前記推定相対特性関数を用いて抑制する手
段と、 ノイズ成分が抑制された周波数空間の検体画像データを
実空間のデータに戻す手段とを有する走査形電子顕微鏡
における画像信号処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32358592A JP3345060B2 (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 |
US08/149,577 US5523568A (en) | 1992-11-09 | 1993-11-09 | Image signal processing method in scanning electron microscope and device thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32358592A JP3345060B2 (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06150866A JPH06150866A (ja) | 1994-05-31 |
JP3345060B2 true JP3345060B2 (ja) | 2002-11-18 |
Family
ID=18156355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32358592A Expired - Fee Related JP3345060B2 (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5523568A (ja) |
JP (1) | JP3345060B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5729631A (en) * | 1993-11-30 | 1998-03-17 | Polaroid Corporation | Image noise reduction system using a wiener variant filter in a pyramid image representation |
EP0795197B1 (en) * | 1995-10-03 | 2000-02-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of reconstructing an image in a particle-optical apparatus |
US6556703B1 (en) * | 1997-10-24 | 2003-04-29 | Agere Systems Inc. | Scanning electron microscope system and method of manufacturing an integrated circuit |
US6459818B1 (en) * | 1999-03-01 | 2002-10-01 | University Of Rochester | System for recovery of degraded images |
US6538249B1 (en) * | 1999-07-09 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Image-formation apparatus using charged particle beams under various focus conditions |
KR100489659B1 (ko) * | 2003-03-17 | 2005-05-17 | 삼성전자주식회사 | 미세 구조의 치수 측정 방법 및 측정 장치 |
JP5455694B2 (ja) * | 2010-02-09 | 2014-03-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5335827B2 (ja) | 2011-01-04 | 2013-11-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及びその検出信号の補正方法 |
JP6668278B2 (ja) * | 2017-02-20 | 2020-03-18 | 株式会社日立ハイテク | 試料観察装置および試料観察方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59112217A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-28 | Toshiba Corp | 寸法測定方法 |
ATE70914T1 (de) * | 1984-03-20 | 1992-01-15 | Vickers Plc | Verfahren zum praezisionsmessen mittels eines abtastelelektronenmikroskops. |
FR2613834A1 (fr) * | 1987-04-13 | 1988-10-14 | Pechiney | Methode de dosage a l'aide du numero atomique moyen de phases contenant un element leger a l'aide d'un microscope a balayage et d'un analyseur d'images |
US4818873A (en) * | 1987-10-30 | 1989-04-04 | Vickers Instruments (Canada) Inc. | Apparatus for automatically controlling the magnification factor of a scanning electron microscope |
JP2786207B2 (ja) * | 1988-08-26 | 1998-08-13 | 株式会社日立製作所 | 走査型顕微鏡における表面形状算出方法 |
-
1992
- 1992-11-09 JP JP32358592A patent/JP3345060B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-11-09 US US08/149,577 patent/US5523568A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5523568A (en) | 1996-06-04 |
JPH06150866A (ja) | 1994-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110603626B (zh) | 使用差异图像的晶片检验 | |
JP3588290B2 (ja) | デジタル画像のサブピクセル・アライメント方法 | |
US20060284088A1 (en) | Focus correction method for inspection of circuit patterns | |
US7633061B2 (en) | Method and apparatus for measuring pattern dimensions | |
EP2293239B1 (en) | Line noise reduction apparatus and method | |
JP3345060B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡における画像信号処理方法およびその装置 | |
KR20050013245A (ko) | 감지된 이미지 및 비디오의 선명도를 추정하는 방법 및시스템 | |
CN112019751B (zh) | 基于标定信息的自动聚焦方法 | |
JP2019204618A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2005317818A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
CN110120068B (zh) | 一种改进的欠焦系列迭代波函数重构方法 | |
Panfilova et al. | Correlation-based quality measure for blind deconvolution restoration of blurred images based on Lucy-Richardson method | |
JPH06160067A (ja) | 回路パターンの寸法測定方法 | |
WO2020090206A1 (ja) | 画像処理方法及び画像処理装置 | |
JP3720201B2 (ja) | 走査電子顕微鏡システムおよび集積回路の製造方法 | |
US20100046828A1 (en) | Measurement of critical dimensions of semiconductor wafers | |
KR20210124915A (ko) | 토포그래픽 이미지 데이터에서 방향 드리프트를 보정하기 위한 장치 및 방법 | |
JPH02236938A (ja) | 画像復元方法並びに走査型電子顕微鏡及びパターン外観検査装置及び走査像検出装置 | |
Okuda et al. | Comparison between supervised and self-supervised deep learning for SEM image denoising | |
Mahmood et al. | Measuring focus quality in vector valued images for shape from focus | |
US11995848B2 (en) | Image generation for examination of a semiconductor specimen | |
Ma et al. | A family of simplified geometric distortion models for camera calibration | |
JP2007060464A (ja) | 中間調画像の推定方法及びシステム | |
CN117651217A (zh) | 一种半导体检测图像自聚焦方法、装置、设备和存储介质 | |
TW202427370A (zh) | 檢查裝置及檢查圖像的產生方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020806 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070830 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080830 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090830 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |