KR850005827A - 2-치환페닐-3-클로로테트라히드로-2h-인다졸류의 제조방법 - Google Patents

2-치환페닐-3-클로로테트라히드로-2h-인다졸류의 제조방법 Download PDF

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    • C07D231/54—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
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Abstract

내용 없음

Description

2 - 치환 페닐 - 3 - 클로로테트라히드로 - 2H - 인다졸류의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 하기 일반식(Ⅱ)의 헥사히드로인다졸 - 3 - 온을 용매중에서 탈수소 할로겐화제 존재 또는 부재하에 80∼200℃의 온도에서 염소화제와 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 3 - 클로로테트라히드로인다졸류의 제조방법.
    (상기 식중, R은 C2∼C3알킬기, C3∼C4알케닐기 또는 C3∼C4알키닐기이고, X는 염소원자 또는 브롬원자이다).
  2. 하기 일반식(Ⅴ)의 히드라진 설파이드를 용매중에서 50∼200℃에서, 필요하다면 탈수시키면서, 2 - 알콕시카르보닐시클로헥사논과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅱ)의 헥사히드로인다졸 - 3 - 온류의 제조방법.
    (상기 식중, R은 C2∼C3알킬기, C3∼C4알케닐기 또는 C3∼C4알키닐기이고, X는 염소원자 또는 브롬원자이다).
  3. 하기 일반식(Ⅳ)의 아미노 설파이드를 알칼리금속 아질산염과 반응시키고, 생성된 디아조늄염을 불활성 용매중에서 0∼ - 40℃의 온도에서 환원제로 환원시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅴ)의 히드라진 설파이드류의 제조방법.
    (상기 식중, R은 C2∼C3알킬기, C3~C4알케닐기 또는 C3~C4알키닐기이고, X는 염소원자 또는 브롬원자이다).
  4. 활성 성분으로서 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 0.03∼90중량% 및 불활성 담체 또는 희석제를 함유하는 제초성 조성물.
    (상기 식중, R은 C2~C3알킬기, C3∼C4알케닐기 또는 C3∼C4알키닐기이고, X는 염소원자 또는 브롬원자이다).
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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