KR850001289B1 - 철금속의 침탄 방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

철금속의 침탄 방법

본 발명은 제1철의 개스침탄법에 관한 것이며, 특히 로분위기가 산소와 화합된 탄화수소와 함께 불활성 개스를 주입시킴에 의해 로를 통한 흐름의 양을 유지하는 동안 산소와 화합된 퇀화수소의 주입속도를 감소시킴으로써 침탄의 최종 단계 동안에서 분위기의 조절에 따르는 급속침탄 시기에 로속에 산소와 화합된 탄화수소를 주입시킴에 의해 분위기를 생성하는 방법에 관한 것이다.

로 분위기의 탄소 포텐셜은 침탄주기 동안 혼합물에 농축물에 조절된 양이나 탄화수소 침탄제를 부가시킴에 의해 유지된다.

침탄은 강을 표면강화시키는 공지의 방법이다. 개스침탄에서 강은 탄소를 강의 표면으로 이송시켜 본체 내부로 확산하는 성분을 포함하는 분위기에 노출된다. 이 때에 여러가지의 분위기가 사용되어 왔으나, 가장 일반적으로 많이 쓰여온 것은 공기 중에서 천연 개스의 부분적인 연소에 의해 파생된 소위 흡열분위기이다. 이때에 탄소포텐셜을 높이기 위하여 분위기에 작은 양의 또 다른 조성, 대체로 천연개스를 첨가하는 것이 필요하다.

종래 기술의 철저한 검토는 어메리칸 소사이어티 포 메탈스(American Society for Metals)에 의해 1964년에 출판된 금속핸드북의 제2권의 67페이지에서 92페이지에 실린 "로분위기와 탄소조절"과 93페이지에서 128페이지에 실린 "강의 표면경화"에 잘 나타나 있다. 이 금속 핸드북의 제목은 "열처리, 세척과 마무리"이다. 금속 핸드북 제2권의 90에는 아래 서술된 본 발명에 관한 로분위기의 탄소포텐셜 결정에 관한 것이있다.

미합중국 특허 제4,049,472호 역시 명세서 참조자료로 반영된 종래의 기술에 관한 것이다. 여기서 침탄되어야할 강은 탄소침투가 바라는 깊이에 이루어질 때까지 보통 1600 F(871℃) 범위의 고온에 노출시킨다. 다음에 강을 완성된 제품에서의 물리적 성질과 표면강화를 좋게 하기 위해 로, 공기중 혹은 급냉 각제에 넣어 실온까지 냉각시킨다. 기본 흡열 분위기는 40% N₂40% H₂와 20% CO로 구성되는 공기중에서 천연개스의 불완전 연소에 의해 생성된다. 강의 표면에 침적된다고 믿어지는 탄소에 의한 작용은 다음식(1)으로 표시된다.

H₂+CO=C+H₂O………(1)

식 (1)에서 생성된 물은 수성개스 반응식(2)에 따라 많은 CO와 부분적으로 즉시 반응한다.

H₂O+CO=CO₂+H₂………(2)

식 (1)과 (2)가 합쳐져 식 (3)을 만든다.

2CO=C+CO₂…………(3)

따라서, 흡열분위기에 의한 침탄의 실질적인 결과는 금+표면 위의 초기 탄소의 분해와 동시에 같은 양의 CO₂나 H_2O의 생성이다. 이 두 가지 생성물 CO₂와 H_2O는 반응식(1)과 (3)의 역반응을 일으키고, 이 생성물이 축적되면 상기 생성물질은 침탄공정을 증단시킬 것이다. 전술한 탄화수소의 첨가목적은 H_2O와 CO₂를 제거하기 위한 것이고 따라서 반응식(4a)와 (4b)에 따라 활성의 반응개스를 재생시킨다. 즉,

CO₂+CH₄=2CO+H₂………(4a)

H_2O+CH₄=3H₂+CO………(4b)

최근에 개발된 또 다른 침탄분위기의 방법은 식(5)에 따라 메탄올을 단독으로 혹은 메탄올에 질소를 조합한 것의 분해를 포함한다.

CH₃OH=2H₂+CO………(5)

여기서 H₂대 CO의 비는 2 대 1이며, 이는 천연개스의 부분적인 연소에 의한 흡열분위기에서 생성된 것과 같다.

질소와 메탄올의 적절한 양을 선택함으로써 천연개스의 부분적인 연소에 의해 생성되는 조성과 동일한 합성분위기를 발생시키는 것이 가능하다. 그리고 이러한 합성분위기를 사용하는 것은 몇배의 잇점이 있다. 즉, 첫째 값 비싸고 복잠한 흡열 개스발생기의 필요성이 제거되었다. 흡열개스는 지속성과 작동자의 주의가 요구되며, 또한 마음대로 켜고 끌수가 없다. 한 번 작동되기만 하면 흡열분위기르 위한 필요사항이 최대하중으로 부터 영까지 변화할지라도, 작동을 유지시킬 필요가 있고, 따라서 이의 생산을 위해 필요한 흡열개스와 천연개스는 요구가 필요하지 않은 상태에서 소모되어 버린다.

한편 질소와 메탄올의 사용은 이들이 필요하게 될 때까지 액체질소 혹은 기체질소 및 액체 메탄올을 저장하기 위한 적절한 저장설비를 필요로 할 뿐이다.

또한, 질소와 메탄올 양자는 분리된 개스 발생기를 사용할 필요없이 로에 바로주입시킬 수 있다.

메탄올은 로에서 마주치는 고온에 의해 바로 분해된다. 메탄올-질소 시스템의 또 다른 장점은 천연개스가 메탄, 폭 넓은 변화량을 갖는 에탄, 프로판과 부분적인 연소반응의 화학양론(化學量論)에 영향을 미치는 다른 고급 탄화수소를 함유하고, 아울러 침탄공정 자체의 불규칙하고 엉성하게 조절된 자공을 차례로 유발하는 다양한 변화의 구성을 갖는 분위기를 발생시킬 소지가 있는 반면, 메탄올의 구성은 균일하다는 점이다.

이는 미합중국 특허 제4,145,232호에 메탄올과 질소는 흡열개스와 같은 조성을 가지는 담체기체를 제공하는데 사용된다고 나타나 있다.

또, 미합중국 특허 제3,201,290호에는 순수한 메탄올은 CO와 H₂로만 구성되는 담체기체를 제공하는데 사용된다고 나타나 있다. 다수의 잇점은 후자의 분위기를 위해 청구되었다.

첫째 탄소의 유용성(반응을 위한 분위기의 단위 체적당 적용되는 탄소의 유용성)은 흡열개스 조정에서 보다도 순수 에탄올의 분위기에서 67%로 더 크다. 이 큰 유동성은 예를 들면 로에서 여러가지 작업물이 분위기의 자유로운 흐름을 방해하는 정체점(blindnd spot)에서와 같이 개스 순환이 잘 이루어지지 않는 지역에서 탄소가 고갈되는 분위기의 가능성이 적기 때문에 작업물의 균일한 침탄을 일으키는 결과를 가져온다.

순수 메탄올이 기본 조성인 분위기의 다른 잇점은 탄소이동에 있어서의 동역학적 성질이 크게 증가된다는 것이다. 탄소가 이동되는 싯점에서의 속도는 다음식에 나타나 있다.

R=K×P_CO×P_H2

2/3H₂와 1/3CO로 구성되는 개스로 부터 탄소이동속도는 40%H₂와 20%CO만 함유하는 흡열분위기에서 보다 거의 2.8배나 된다. 이로써, 순수 메탄올로 구성된 담체기체의 사용으로 빠른 침탄과 낮아진 주기시간을 성취하는 것이 가능하다.

그러나, 순수 메탄올이 기본조성인 분위기는 메탄올로부터 부분적으로 파생된 분위에서 보다 비용이 좀더 비싸고 생산하는데 에너지가 많이 든다. 예를들면, 1700°F(927℃)에서 기본개스질소의 100SCF를 생산하는데 필요한 전에너지는 37,200BTU인 반면, 순수 메탄올의 분해에 의해 2/3H₂와 1/3CO로 구성되는 기본개스의 동일체적을 생산하기 위해 필요한 전에너지는 61,800BTU가 필요하다.

이는 순환온도로 부터 1700°F(927℃)까지 개스를 가열시키는데 필요한 질소의 경우에 공기로부터 질소를 분리시키는데 필요한 에너지, 메탄올 경우에 메탄올을 생산하기 위한 원료의 에너지 해당량과 이의 합성과 분해에 요구되는 에너지를 포함한다. 메탄올과 질소로 부터 합성흡열 개스 100SCF 해당량을 생산하는데 필요한 에너지는 51,900BTU이다.

이로써 순수한 메탄올로 부터 파생된 분위기가 참탄을 균일하고 빠른 속도로 진행시킴에도 불구하고 메탄올과 질소의 조합으로부터 파생된 분위기의 경우보다 더욱 비싸고 많은 에너지를 소모한다는 것이 명백한 것이다.

순수한 메탄올 분위기로 성취된 빠른 침탄은 주어진 깊이까지 침탄을 성취시키기 위한 시간이 짧게 걸리기 때문에 유용하며, 이로써 로벽을 통해 상실되는 에너지량을 낮춘다. 그러나, 에너지 보존에서의 이들은 합성 흡열분위기와 비교하여 전자의 수소함량이 크게 때문에 순수 메탄올로 부터 파생된 분위기의 높은 열전도성에 의해 어느 정도 상쇄된다. 이 증가된 수소농도는 순수 메탄올로 부터 파생된 분위기에서 9-14% 정도 더 큰 열손실율을 가져온다.

탄소와 수소와 산소로 구성되며, 1-3개의 탄소원자를 함유하고 적어도 1개 이상의 탄소대 탄소의 결합을 포함하며, 1 내지 2의 탄소대 산소의 조성비를 갖고 아울러 침탄 주기의 제1부에서 순수메탄올에서 파생된 분위기를 갖는 알코올류, 알데히드류, 에테르류, 에스테르류와 또 이들의 복합물과 같은 산소와 화합된 탄화수소의 사용이 전체 주기시간을 감소시키는 초기의 높은 침탄속도의 잇점을 제공한다는 것이 발견되었다. 그러나, 주기시간 후 비싼 메탄올부는 주어진 깊이까지 침탄을 성취시키는데 필요한 시간을 증가시킴이 없이 저렴한 가격의 질소로 대체시키는 것이 가능하다는 것이 또한 발견되엇다.

따라서, 양 분위기의 조합의 장점은 전체 필요 에너지량을 낮추는 단일 공정으로 조합시킬 수 있다는데 있다.

분위기의 탄소 포텐셜은 로에 농축제나 탄화수소제(예, 메탄)의 적정양을 첨가시킴으로써 침탄중에 유지될 수 있다.

종래의 흡열공정에서, 담체기체 혼합물은 CO 20%, H₂40%와 N₂40%로 구성되는 탄화수소(예, 천연개스)의 촉매작용의 부분산화에 의해 얻어졌었다. 탄화수소(예, 과잉 천연개스)는 요구되는 탄소를 제공하기 위하여 항상 첨가된다. 침탄의 정도를 결정하는 탄소 포텐셜은 로의 개스에서 CO₂나 H₂O의 농도를 조정함에 의해 조절된다. 이론적으로 적절한 조절변수는 P_CO ²/P_CO2와 P_COP_H2/P_H2O이다. 그러나 P_CO와 P_H2가 실질적으로 상수로 유지되기 때문에, P_CO2나 P_H2O에 의한 일성분만의 조절이 가능하다.

담체가스를 촉매작용으로 발생시키는 대신에 산소와 화합된 탄화수소(예, 메탄올)와 질소와의 혼합물의 열분해에 의해 발생시킬 수도 있다.

탄소원자를 1에서 3개까지 함유하며, 적어도 하나이상의 탄소대 탄소의 결합을 포함하고 1 내지 2의 탄소 대 산소비와 100℃ 이하의 비등점을 가지는 알코올류, 알데히드류, 에테르류와 에스테르류와 같은 전탄소-수소산소-화합물은 이러한 분위기를 구성하는 요소가될 것이다. 메탄올이 본 공정을 위해 가장 적당한 산소화합 탄화수소이나 에탄올, 아세트알데히드 디메틸에테르, 메틸 포르메이트, 메틸 아세테이트는 높은 CO와 H₂의 값을 만들기 위해 예로 들었다. 지금까지의 노력은 온도에서의 비교 결과를 얻기 위하여 흡열개스 혼합물만의 조성을 모방하는데 그쳐 왔다. 이는 흡열 씨스템(즉, 종래의 일성분 탄소 조절)으로 사용되는 것과 똑같은 탄소조절 기구를 사용하는 것을 가능하게 한다.

본 발명은 흡열과정에 의해 얻어지는 결과를 개선하는 것에 관한 것이나, 동시에 단일 탄소 조절기구를 유지시키는 것에 관한 것이다. 탄소 이동속도를 증가시킴에 따라 더 좋은 결과가 얻어진다. 이는 주로 타소이동 반응 속도를 높이는 높은 CO와 H₂농도에 의해 얻어진다.

CO+H₂=H₂O+C

매우 급격한 탄소구배 때문에 확산속도가 매우 높은 침탄주기의 제1부에서 대부분의 탄소가 필요하기 때문에, 개선책은 침탄주기의 제1부에서만 성취될 수 있다. 주기의 호반부에서, 확산속도는 늦게되어 높은 CO와 H₂농도에 의한 탄소이동 속도의 개선책은 차이가 없다.

그러므로, 본 발명은 탄소이동속도를 증가시키고 주기의 후부에서 CO와 H₂농도를 종래의 일성분 탄소조절의 사용을 가능하게 하는 흡열 성분으로 감소시키기 위해 주기의 제1부에서 흡열성분 높은 CO와 H₂농도를 유지시키는데 있다.

높은 CO와 H₂의 값은 열분해될 질소-산소와 화합된 탄화수소 혼합물에서 질소농도를 감소시킴에 의해 얻어질 수 있다.

아래의 표 1의 요약된 시험을 위하여 8ft³(0.227m³)의 체적을 가지는 밀폐된 회분식 열처리로가 사용되었다. 로에는 술환팬과 자동온도 조절장치에 의해 조절되는 전기 가열기가 설치되었다. 설비는 질소 개스와 메탄올액체(후에 분사됨)의 유입을 위해 만들어졌다. 로는 화염층으로 이어지는 작은 파이프를 통해 개구가 형성되어 있다. 로에는 또한 능축개스(예, 천영개스)를 유입시키기 위한 설비가 제공되어 있다.

출구라인은 출구기류에서 일산화탄소와 이산화탄소의 농도를 측정하는 샘플채취 장치와 분석장치가 설치되어 있다. 출구개스탄 의소 포텐셜은 우리가 이미 알고 있는 화학 평형식에 따라 계산되고, 로에 유입되는 농축개스의 양은 로내의 바람직한 탄소포텐셜(cp)을 유지시키기 위하여 변화한다.

농축개스(예, 천연개스) 흐름의 증가는 탄소포텐셜을 증가시키고, 아울러 농축개스의 감소는 탄소포텐셜의 감소를 가져온다.

각 시험에서 로에는 1010강 제품의 리벳을 15파운드 정도 채우고 질소로 정화시킨 다음 1700°F(927℃)의 최종온도까지 도달시킨다. 질소나 메탄올은 로 분위기의 시간당 약 3-5회의 표준 용적변화에 따른 조합속도로 로내에서 통과하게 된다.

세개의 다른 기본 분위기를 여러가지 시험에서 독립하여 혹은 조합하여 사용하였다. 이중 100% 분위기라 불리우는 첫번째 것은 로에 메탄올을 단독으로 유입시켜 발생하고, 로분위기는 약 2/3의 수소와 1/3의 일산화 탄소의 혼합물로 구성되어 있다. 흡열분위기로 알려진 제2분위기는 체적의 2/3의 질소와 1/3의 메탄올증기의 조합으로 부터 파생하고, 최종에 약 40%의 질소, 40%의 수소와 20%의 일산화탄소의 조성을 갖는다.

10% 분우기로 알려진 제3분위기는 약 10% 메탄올과 90% 질소로 구성된 혼합물을 로에 유입시킴에 의해 발생한다. 이의 조성은 약 75% 질소, 16.7% 수소와 8.3% 일산화탄소로 되어 있다.

여러 시험에서 천연개스는 각기 다른 회수와 농도로 유입되었으나, 각 시험의 최종 부분에는 로에서 목표된 탄소 포텐셜을 유지시키기 위하여 천연개스의 유입 조절을 포함한다.

각 시험은 30분간 리벳을 채운후에 열 회복기간을 포함하는 3시간의 전주기를 갖는다. 마지막회에서 리벳은 로로부터 꺼내져 급냉되고 표면깊이와 경도를 결정하기 위해 금속시험을 행한다. 탄소 포텐셜조절의 효율성은 리벳과 함께 로중에 설치될 쐐기형 시편의 분석에 의해 결정된다.

실시예 Ⅰ-1에서 Ⅰ-5까지에서 천연개스는 전체 개스흐름 속도의 약 10%에 상응하는 초기속도로 유입되고, 로가 최종온도인 1700°F(927℃)에 이를때 1.0%의 목표탄소 포텐셜을 주기위해 조절된다. 우선 Ⅰ-1에서 Ⅰ-3까지의 시험에서는, 전주기를 통하여 100%, 분위기 그리고 흡열분위기와 10% 분위기가 사용되었다.

분위기의 질소농도가 증가됨에 따라 효과적인 탄소이동에 미치는 능력에서의 감소는 제1표의 침탄 표면 깊이에 대한 자료를 보면 확실히 알 수 있다. 즉, 흡열분위기에서의 침탄 표면깊이는 100% 분위기에서의 침탄 표면깊이에 비해 약 87%의 효과를 나타내고, 반면에 10% 분위기에서의 침탄깊이는 100% 분위기에 대해 단지 64%에 불과하다.

시험 Ⅰ-4와 Ⅰ-5에서 작용의 처음 한시간 동안에는 100%분위기를 사용하고 나머지 2시간 동안은 각기 흡열과 10% 분위기로 바꾸었다. 시험 Ⅰ-4에서 100%와 흡열분위기의 조합은 100% 분위기에서 나타내는 표면깊이의 96%의 효과를 갖는다. 시험 Ⅰ-5에서 100%와 10% 분위기의 조합은 흡열분위기만에서의 경우와 같이 100%의 표면깊이에 대해 약 84% 효과를 갖는다.

시험 Ⅰ-6과 Ⅰ-7은 이들 시험의 조건(가열시 10%의 천연개스)하에서 처음 100% 분위기로 작동되는 1.5시간 동안은 침탄이 약간만 이루어지며 그 이후 나머지 1.5시간 동안 대부분의 침탄이 달성된다.

그러나 이것이 작동의 최상 에너지 효율성은 아니다.

[표 Ⅰ]

표 Ⅱ는 처음 1.5시간 동안의 작동 중에 전흐름의 10% 속도로 천연개스를 유지시키고, 다음에 1.1%의 탄소포텐셜을 산출하기 위해 조절되는 한쌍의 실험을 나타낸다. 시험 Ⅱ-1에서 100% 기본분위기가 시험을 통해 사용되는 반면, 시험 Ⅱ-2에서는 흡열분위기가 사용된다. 흡열 분위기보다 다소 덜 효과적(93%) 이다. 양시험에서 최종표면 깊이는 첫번째의 일련의 시험에서 보다 어느 정도 깊다.

이는 천연개스 흐름이 높은 수준으로 유지되는 동안의 더 긴시가과 약간 더 큰 목표 탄소포텐셜을 적용한 까닭이다.

[표 Ⅱ]

표 Ⅲ은 로온도가 1600°F(871℃)에 도달할 때까지 100% 메탄올 분위기가 유지되는 일련의 시험을 나타낸다. 이때 천연개스를 탄소 포텐셜이 1.1%로 유지되도록 하는 속도로 유입시킨다.

[표 Ⅲ]

기험 Ⅲ-3 Ⅲ-4는 분위기가 흡열 분위기의 조합으로 성취될 수 있는 침탄의 정도가 100% 분위기 단독으로 정취되는 것과 실제적으로 같다는 것을 나타낸다. 표 Ⅲ에 나타난 시험에서 얻어진 결과는 메탄이 주기의 초기에 높은 수준으로 유입되는 표 Ⅰ과 Ⅱ에 나타난 상응하는 결과보다 모든 경우에 있어서 우수하다. 표 Ⅰ과 Ⅱ시험에서는 침탄을 억제하는 그을음 전착이 일어난다. 표 Ⅲ의 일련의 시험에서 표면은 그을음 전착을 시키는 탄소포텐셜이 도달되지 않기 때문에 깨끗하게 남는다.

작업이 최종 참탄온도에 도달할 때까지 천연개스를 유입시킴에 의한 어떤 잇점도 나타나지 않았다.

이 시간 이전의 천연개스의 유입은 낭비를 초래할 뿐만 아니라, 더 이상의 침탄을 억제하는 그을음을 일으킨다.

질소로 희석되는 메탄올의 정도 또한 변화한다. 시험 Ⅲ-1에서 Ⅲ-4를 통해 조성에 관한 희석은 유용한 것으로 발견되었다. 시험 Ⅰ-4와 Ⅰ-5에서 흡열개스 조성이하의 희석은 유용한 것으로 발견되었다. 시험 Ⅰ-4와 Ⅰ-5에서 100% 분위기에서 1시간 노출시킨 후의 흡열 조성이하의 희석은 낮은 표면깊이를 나타내지만, 시험 Ⅰ-6과 Ⅰ-7에서 10% 분위기는 100% 분위기에 1.5시간 노출시킨 후의 흡열분위기와 똑 같은 효과를 나타낸다.

정확한 시간과 희석의 정도는 작업물의 표면에 바라는 탄소수준, 표면 깊이와 또한 침탄이 진행되는 온도에 의존한다. 대개, 깊은표면 깊이와 이에 상응하는 긴 침탄시간은 분위기의 더 큰 희석화를 행한다.

긴 침탄 시간과 갚은 표면깊이로 표면경사와 금속한 탄소이동에 영양을 미치는 분위기로 부터의 확산속도는 필요로 하지 않는다.

실용적인 목적을 위해서는 10%H2와 5%CO 보다 낮은 희석은 종래의 열처리로로 누입되는 소량의 산소를 배기시키기 위해 충분한 반응개스를 제공할 필요가 있기 때문에 바람직하지 못하다. 그러나, 모든 경우에서 주기의 처음에는 메탄올을 전체로 하고, 나중단계에서 질소로 희석되는 분위기의 사용은 주기의 길이를 감소시키는 잇점과 동시에 에너지를 보존하는 잇점이 있다. 정밀한 공정은 표면에의 탄소 이동속도가 표면으로부터 떨어진 탄소확산 속도와 같도록, 주기의 공정으로써 계단식으로 증가하는 희석을 포함한다.

비록 본 발명의 실시예가 산소와 화합된 탄화수소가 액체상태로 로에 분사되는 시험으로 부터 이끌어진 것일지라도, 이는 질소와 혼합되거나, 또는 분리되어 로에 주입되거나 증기화될 수 있다.

본 발명에 따라 개스상의 암모니아를 정1철의 침탄질화를 성취시키기 위해 분위기에 가해질 수 있다.

본 발명에 따른 방법은 회분식로에서 현존하는 개스침탄공정에 적용될 수 있고 연속로에서는 적절한 로조절장치를 설치하여 사용될 수 있다. 현존하는 로는 탄소 포텐셜을 측정하는데 사용되는 씨스템의 변경없이 그리고 탄화수소와 개스급여를 조절하기 위한 극히 필요한 부가 장치만 설치함으로써, 본 발명에 쉽게 적용시킬 수 있다.

Claims (1)

1. 816-930℃ 온도로 유지되는 로에 처리될 제품을 장임하는 제1철의 침탄방법에 있어서, 한개에서 세개까지의 탄소원자를 함유하며 탄소대 산소비가 1에서 2이고 비등점이 100℃이하이며 로에서 침탄분위기를 형성하고 작용시키기 위해 알코올류, 알데히드류, 에테르류 및 이들의 혼합물로 부터 선택한 산소와 화합된 탄화수소를 시간당 1-10의 표준 용적비율로 로에 주입시키고, 급속한 침탄이 일어나는 전침탄공정의 일부를 위해 침탄 분위기에서 0.8-1.1%의 탄소 포텐셜을 유지하기 위해 산소와 화합된 탄화수소의 주입속도를 안정시키고 유지시키며 메탄, 프로판, 천연개스 등의 농축개스를 첨가시키고, 종래의 침탄분위기와 바라는 표면깊이까지 제품의 완전한 침탄이 이루어지는 시간을 위한 탄소 포텐셜과 유사한 탄소 포텐셜로 로의 컴탄분위기를 유지시키기 위해 질소주입으로 전체 주입속도를 유지시키면서 산소와 화합된 탄화수소 주입속도를 감소시키고, 로로부터 제품을 꺼내어 희망하는 물리적 성질에 의해 결정되는 속도로 냉각시키는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 철금속의 침탄방법.