KR840009107A - 헤테로 시클릴-저급 알킬페닐 화합물의 제조방법 - Google Patents

헤테로 시클릴-저급 알킬페닐 화합물의 제조방법 Download PDF

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KR840009107A
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Abstract

내용 없음

Description

헤테로 시클릴-저급 알킬페닐 화합물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 일반식(Ⅱ)의 일리드 화합물을 폐환시키거나 일반식(Ⅲ)의 화합물을 3가 포스포러스의 유기화합물로 처리하거나, 일반식(Ⅳ)의 화합물을 아자헤테로시클릴 라디칼 R3을 도입시키는 시약과 반응시키고, 경우에 따라 생성된 일반식(Ⅰ)의 화합물에서 R1에 존재하는 보호된 히드록시 그룹을 유리 히드록시 그룹으로 전환시키고/시키거나, 경우에 따라 생성된 일반식(Ⅰ)의 화합물에서 보호된 카복시그룹R2′을 유리카복시그룹, 생리적 조건하에서 분해될 수 있는 에스케르화된 카복시 그룹, 또는 상이한 보호된 카복시 그룹 R2로 전환시키고/시키거나, 경우에 따라 유리 카복시 그룹 R3를 생리적 조건하에서 분해될 수 있는 에스테르화된 카복시그룹, 또는 상이한 보호된 R로 전화시키고/시키거나, 경우에 따라 라디칼 R3에 존재하는 기타의 보호된 작용기를 유리 작용기로 전환시키고/시키거나, 경우에 따라 생성된 일반식(Ⅰ)의 화합물에서 라디칼 R3을 상이한 라디칼 R3로 전환시키고/시키거나, 경우에 따라 생성된 염-형성 그룹을 가진 화합물을 염으로 전환시키거나, 생성된 염을 유리 화합물이나 상이한 염으로 전환시키고/시키거나, 경우에 따라 생성된 이성체화합물의 혼합물을 개개의 이성체로 단리시킴을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 2-헤테로시클릴-저급알킬-2-페넴화합물, 그의 광학적 이성체, 광학적 이성체의 혼합물 및 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
    상기식에서 R1은 히드록시 또는 보호된 히드록시로 치환된 저급알킬이고, R2는 카복시 또는 변형된 카복시 작용기이며, R3는 3급 환 질소원자를 통해 라디칼-A-에 결합된 불포화 모노시클릭 아자헤테로 시클릴라디칼이고, A는 저급알킬로 치환된 직쇄 저급 알킬렌이고, R2′는 보호된 카복시 그룹이며. Z는 산소 또는 황이고, X+는 삼치환된 포스포니오그룹 또는 양이온과 함께 디에스테르화된 포스포노그룹을 나타내며. Q는 에스테르화된 반응성 히드록시 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 히드록시 또는 보호된 히드록시로 치환된 저급알킬이며, R2가 카복시, 생리적 조건전에 분해될 수 있는 에스테르화된 카복시, 또는 보호된 카복시 R2′이고, R3가 3급-환 질소원자를 통해 라디칼-A-에 결합된 1 내지 4개의 환 질소원자를 가진 임의로 부분 포화된 모노사이틀릭 5-원 헤테로 아릴 라디칼(예를들면 방향족성아자-, 디아자-, 트리아자-또는 테트라자-시클릭 라디칼 또는 상응하는 디하이드로 라디칼), 또는 1내지 3개의 환 질소원자를 가진 상응하는 부분적으로 포화된 6-원 헤테로아릴라디칼(예를들면, 상응하는 아자-, 디아자-또는 트리아자-시클릴 라디칼, 상응하는 디하이드로 또는테트라하이드로 라디칼)이고, 이들 라들칼은 비치환되거나 히드록시, 저급알콕시-저급 알카노일옥시. 할로겐, 메르캅토, 저급 알킬티오, 페닐티오, 저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급 알콕시,-저급 알킬, 카복시-저급알킬, 아미노-저급알킬, 디- 저급 알킬아미노,-저급알킬. 설포-저급알킬, 아미노, 저급알킬 아미노디-저급 알킬아미노, 저급알킬렌아미노, 저급 알카노일아미노, 카복시. 저급 알콕시카보닐, 임의로 N-모노-또는 N,N-디-저급알킬화된 카바모일, 시아노, 설포, 설파모일, 페닐(이는 저급알킬, 니트로, 저급알콕시 및/또는 할로겐에 의해 임으로 치환된다), 시클로 알킬, 니트로, 옥소 및 또는 옥시도에 의해 치환되며, A과 저급알킬로 치환된 직쇄 저급 알킬렌인 일반식(I)의 화합물, 그의 광학적 이성체, 광학적이성체의 혼합물 및 약제학적으로 허용될 수 있는 염의 제조하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, R1이 히드록시 또는 트리-저급알킬 실릴옥시로 치환된 저급 알킬이고, R2가 카복시 저급알케닐옥 시카보닐, 니트로에 의해 임의로 치환된 벤질옥시카보닐, 2-트리-저급알킬실릴에톡시카보닐 또는 생리적 조건하에서 분해될 수 있는 에스테르화된 카복시그룹, 예를들면 1-저급 알콕시카보닐옥시-저급 알콕시카보닐, 저급 알카노일옥시메톡시카보닐,-아미노-저급알카노일옥시메톡시카보닐 또는 프탈리딜옥시카보닐이며, R3가 각각 3급 환 질소원자를 통해 라디칼-A-에 결합된, 비치환되거나 저급알킬 또는 할로겐으로 치환된 피롤릴 예를들면, 1-피롤릴;비치환되거나 저급알킬로 치환된 이미다졸릴 또는 피라졸릴, 예를들면 1-이미다졸릴 또는 1-피라졸릴;비치환되거나 저급알킬, 카복시 저급알킬, 페닐로 치환된 트리아졸릴, 예를 들면 1H-1,2,3-트리아졸-1-일, 2H-1,2,3,-트리아졸-1-일, 1H-1,2,3-트리아졸-2일 또는 1H-1,2,4-트리아졸-1-일 또는 1H-1,3.4-트리아졸 -1-일 :비치환되거나 저급알킬, 카복시-저급알킬, 설포-저급알킬, 디저급 알킬아미노-저급 알킬, 아미노 또는 할로겐으로 임의 치환된 페닐에 의해 치환된 테트라졸릴, 예를들면 1H-테트라졸-1-일 또는 2H-테트라졸-2-일;비치환되거나 옥소 및 임의로 할로겐에 의해 추가 치환된 디하이드로-1-피리딜, 예를들면 2H-1,2-디하이드로-1-피리딜 또는 4H-1,4-디하이드로-1-피리딜;비치환되거나 옥소 및 임의로 저급알킬, 아미노, 디-저급알킬 아미노 또는 카복시에 의해 추가 치환된 디하이드로-1-피리미딜, 예를들면 2H-1,2-디하이드로-1-피리딜 또는 4H-1,4-디하이드로-1-피리디밀 또는 ;비치환되거나 저급알킬 및/또는 2개까지의 옥소그룹으로 치환된 디하이드로-또는 테트라하이드로-트리아지닐, 예를들면 2H-1,2-디하이드로-1,3,5-트리아진-1-일, 2H-1,2-디하이드로-1, 2,4-트리아진-1-일, 2H-1,2,5,6-테트라하이드로-1,2,4-트리아진-1-일, 또는 4H-1,4,5,6-테트라하이드로-1,2,4-트리아진-1-일 중의 하나이고, A가 저급알킬로 치환된 직쇄저급 알킬렌인 일반식(Ⅰ)의 화합물, 그의 광학적 이성체, 광학적 이성체의 혼합물 및 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, R1이 히드록시로 치환된 저급알킬이고,R2가 카복시, 1-저급 알콕시카보닐옥시-저급알콕시 카보닐 또는 저급알카노일옥시메톡시카보닐이며, R3가 각각 3급 환 질소원자를 통해 라디칼-A-에 결합된, 피롤릴, 이미다졸릴(예 1-이미다졸릴), 1H-트리아졸릴(예, 1H-1,2,4-트리아졸-1-일), 또는 비치환되거나 아미노, 카복시-저급알킬, 설포-저급알킬 또는 디-저급알킬아미노-저급 알킬로 치환된 1H-테트라졸릴(예 1H-테트라졸-1-일 또는 2H-테트라졸-2-일)중의 하나이고, A가 탄소수 1 또는 2의 저급알킬로 일-또는 이-치환된 탄소수 1내지 4의 저급 알킬렌인 일반식(Ⅰ)의 화합물, 그의 광학적이성체, 광학적 이성체의 혼합물 및 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, R1이 히드록시메틸 또는 1-히드록시에틸이고, R2가 카복시이며, R3가 피롤 -1-일 또는 1H-테트라졸-1-일이고, A가 1,2-프로필페인 일반식(Ⅰ)의 (5R,6S)-배위 화합물 및 그의 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, (5R,6S)-20[(2R,S)-2(피롤-1-일)-프로프-1-일]-6-히드록시메틸-2-페넴-3-카복실산 및 그의 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, (5R,6S)-20[(2R,S)-2(테트라졸-1-일)-프로프-1-일]-6-히드록시메틸-2-페넴-3-카복실산 및 그의 약제학적으로 허용될 수 있는 염을 제조하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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