KR840006662A - 옥사졸리노 아제티디논의 제조방법 - Google Patents

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KR840006662A
KR840006662A KR1019830005402A KR830005402A KR840006662A KR 840006662 A KR840006662 A KR 840006662A KR 1019830005402 A KR1019830005402 A KR 1019830005402A KR 830005402 A KR830005402 A KR 830005402A KR 840006662 A KR840006662 A KR 840006662A
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hydroxy
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KR1019830005402A
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알프레드 홀(외 1) 데이비드
Original Assignee
아더 알 웨일
일라이 릴리 앤드 캄파니
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/04—Ortho-condensed systems

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

옥사졸리노 아제티디논의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 일반식(B)의 설핀산을 산화제와 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(A)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, Y는 수소 또는 하이드록실이며 ; H은 수소, 리튬, 칼륨, 나트륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고 ; R1은 수소, 리튬, 칼륨, 나트륨, 암모늄, 치환된 암모늄 또는 카복실산 보호 그룹이며 ; R은 (a) C1-C7알킬, C3-C7알케닐, 할로메틸, 4-카복시부틸, 3-포르밀프로필, 4-보호된 카복시부틸 또는 4-보호된 아미노-4-보호된카복시부틸 ; (b) R2그룹(R2는 1,4-사이클로헥사디에닐, 페닐 또는 클로로, 브로모, 하이드록시, 보호된 하이드록시, 트리플루오로메틸, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시, 카복시메틸, 하이드록시메틸, 아미노메틸 및 보호된 아미노메틸의 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 그룹으로 치환된 페닐이다) ; (c) 일반식 R2-(O)m-CH2-의 그룹(여기에서 R2는 전술한 바와같고, m은 0 또는 1이다 ; (d) 일반식의 그룹(여기에서 R3는 전술된 R2, 2-티에닐, 도는 3티에닐이고 W는 하이드록시, 보호된 하이드록시, 카복시, 보호된 카복시, 아미노, 또는 보호된 아미노이다) ; 또는 (e) 일반식 R4-CH2의 그룹(여기에서 R4는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티아졸릴, 5-테트라졸릴 또는 1-테트라졸릴이다)이다.
  2. 제1항에 있어서, 산화제가 Pb+4화합물인 방법.
  3. 제2항에 있어서, 산화제가 납 테트라아세테이트인 방법.
  4. 제1,2또는 3항에 있어서, 산화반응이 수성 매질 중에 수행되는 방법.
  5. 제1항 내지 4항중 어느 하나에 있어서, R1이 벤질, p-니트로벤질, p-메톡시벤질, 벤즈히드릴 및 2,2,2-트리클로로에틸의 그룹으로부터 선택된 방법.
  6. 제5항에 있어서, R1이 벤즈히드릴인 방법.
  7. 제6항에 있어서, R이 p-톨루일인 방법.
  8. 제1항 내지 7항중 어느 하나에 있어서, 설핀산이 다음 일반식을 갖는 방법.
  9. 제8항에 있어서, Y가 하이드록실인 방법.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019830005402A 1982-11-16 1983-11-15 옥사졸리노 아제티디논의 제조방법 KR840006662A (ko)

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