KR840003359A - 기판 피막의 불균일성 검출방법 및 장치 - Google Patents

기판 피막의 불균일성 검출방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

기판 피막의 불균일성 검출방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 편광에 노출된 도드라진 구조의 개략적인 부분 단면도, 제4도는 본 발명의 한 실시예에 따른 장치에 대한 개략 단면도, 제5도는 한가지 가능한 주사패턴을 도시한 캡의 상부에 대한 개략 단면도.

Claims (31)

  1. 광학분산 센터를 포함하는 기판 피막의 불균일성을 검출하기 위한 방법에 있어서, 기판상에 입사하는 복사선이 원래의 편광으로 반사되고 분산센터상에 입사하는 복사선이 분산됨으로써, 분산된 복사선을 편광소거시키게끔 편광된 전자기 복사선으로 피막을 비추는 단계와 , 이 반사되고 분산된 복사선을 반사된 복사선을 없애기 위한 소자를 통하여 전달하는 단계와, 전달 분산된 복사선을 받아들이는 단계와, 전달된 복사선 강도의 최소치를 검출함으로써 피막의 불균일성의 존재를 검출하도록 받아들인 복사선을 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 피막의 불균일성 검출방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반사된 복사선이 반사된 복사선의 전계 백터의 축에 실질적으로 수직인 통과축을 가지는 폴라로이드 필터를 통하여 전송되고 반사된 복사선을 통과함으로써 없어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 빛을 비추는 단계가 편광된 복사선으로써 미리 정해진 패턴으로 피막을 주사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 분석 단계가 전송된 복사선의 강도를 측정하고, 또 피막의 주사될때 측정된 강도의 불연속적인 변동을 검출함으로써 불균일성의 여부를 확인하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기 빛을 비추는 간계가 레이저 방출로써 피막을 비추는 단계를 포함하고 상기 전달 단계가 상기 레이저 방출의 주파수 대역내에 있는 복사선만을 통과시키도록 수신된 복사선을 여파시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 전달 단계가 전달된 복사선을 확산시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 패턴이 나선 패턴인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 패턴이 라스터 주사패턴인 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 패턴이 극성 주사 패턴인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제7,8 또는 9항에 있어서, 상기 기판이 그 부분이 주사가 상기 분석단계에서 측정된 강도의 연속적인 변동으로 되는 비평면형 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1 항에 있어서, 빛을 비추는 단계가 편광된 전자기 복사선으로 상기 피막을 실질적으로 연속적으로 균일하게 비추는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 분석단계가 전송된 복사선을 비데오 카메라속으로 이입시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제12 항에 있어서, 상기 분석단계가 또한 불균일성을 나타내는 신속한 비데오 신호 레벨 변화를 결정하도록 상기 비데오 카메라의 출력 신호를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
  14. 제1 항에 있어서, 상기 빛을 비추는 단계가 상기 편광된 전자기 복사선으로 상기 피막을 일정한 입사각으로 비춤으로써, 상나 반사된 복사선이 일정한 반사각으로 반사되게끔 하는 단계를 포함하며, 상기 전달단계가 상기 반사각으로 반사된 상기 복사선을 반사된 복사선을 없애기위한 상기 소자를 통하여 전달되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제1항에 있어서, 상기 전자기 복사선이 가시 광선인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제1 항에 있어서, 상기 빛을 비추는 단계가 오염물질 상에 입사하는 광선이 원래의 편광으로 반사되게끔 상기 피막상의 오염물질을 비추는 단계를 포함하며, 상기 전달단계가 반사된 복사선을 없애기 위한 소자를 통하여 상기 오염물질로 부터 반사된 복사선을 전달함으로써, 상기 오염물질로부터 반사된 복사선을 없애는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 광학 분산센터를 포함한 기판 피막의 불균일성을 검출하기 위한 장치에 있어서, 기관상에 입사한 복사선이 원래의 편광으로 반사되고 분산센터상에 입사하는 복사선이 분산됨으로써, 분산된 복사선을 편광소 거시키게끔 편광된 전자기 복사선으로써, 피막을 비추기 위한 수단과, 반사되고 분산된 복사선으로 부터 반사되고 편광된 복사선을 없애는 한편 무편광 분산된 복사선을 전달하기 위한 수단과, 전달된 분산 복사선을 받아들이기 위한 수단과, 전달된 복사선 강도의 최소치를 검출함으로써 피막의 불균인성 존재여부를 검출하도록 수신된 복사선을 분석하기 위한 수단을 구비한 것은 특징으로 하는 기판 피막의 불균일성 검출장치.
  18. 제17항에 있어서, 반사된 편광 복사선을 없애는 수단이 반사된 편광 복사선의 전계 백터의 축에 실질적으로 수진인 통과출을 가지는 폴라로이드 필터인 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제17항에 있어서, 상기 빛을 비추는 사단이 편광 복사선으로써 피막을 미리 정해진 패턴으로 주사하기 위한 수단은 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 분석수단이 전달된 복사선의 강도를 측정하고 또 피막이 주사될 때 측정된 강도의 연속적인 변동을 검출함으로써 불균일성의 존재여부를 확인하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 제19항에 있어서, 상기 빛을 비추는 수단이 레이저 방출로써 피막을 비추기 위한 수단을 포함하고, 아울러 상기 장치가 상기 레이저 방출의 주파수에 근사한 주파수 대역인 복사선만을 통과시키도록 수신된 복사선을 여파시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  22. 제21 항에 있어서, 상기 장치가 상기 수신된 복사선을 확산시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  23. 제19항에 있어서, 상기 패턴이 나선 패턴인 것을 특징으로 하는 장치.
  24. 제19항에 있어서, 상기 패턴이 라스터 주사 패턴인 것을 특징으로 하는 장치.
  25. 제17항에 있어서, 상기 패턴이 극성 패턴인 것을 특징으로 하는 장치.
  26. 제23,24,25항중 어느 한항에 있어서, 그 부분의 주사가 상기 분석 수단에 의해검 출된 바와 같이 강도의 연속적인 변동으로 되는 비평면형 부분을 기판이 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  27. 제17항에 있어서, 상기 빛을 비추는 수단이 편광된 전자기 복사선으로써 피막을 실질적으로 연속적으로 균일하게 비추는 것을 특징으로 하는 장치.
  28. 제27항에 있어서, 상기 분석 수단이 비데오 카메라를 구비한 것을 특징으로 하는 장치.
  29. 제28항에 있어서, 상기 분석 수단이 또한 상기 불균일성을 나타내는 신속한 비데오 신호 레벨변화를 결정하도록 상기 비데오 카메라의 출력신호를 검출하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  30. 제17 항에 있어서, 상기 빛을 비추는 수단이 일정한 입사각으로 상기 피막을 비춤으로써 상기 반사된 복사선이 일정한 반사각으로 반사되게 하며, 반사된 편광 복사선을 없애기 위한 상기 수단이 상기 반사각으로 방위되는 것을 특징으로 하는 장치.
  31. 제17항에 있어서, 상기 빛을 비추는 수단이 상기 피막을 가시광선으로 비추는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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