KR840002409A - 잡초류 억제용 신화합물의 제조법 - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (29)
- 구조식(A)에 의한 잡초류 억제용 산화합물의 제조법여기에서 R는 하이드로겐, 아미노, 클로로, 시아노 또는 니트로, n는 0 또는 1; n는 1,2 또는 3, R1은 하이드로겐, 저급알킬, 저급할로알킬, 페닐 또는 벤질, 단 R1은 n가 0일 때 R1은 하이드로겐이 아닌 것으로 한다.R2는 (1), (2) 또는 (3)군으로 선택된다.(1)(2)또는 (3) 하이드로겐, 금속이온, 저급알킬, 저급할로알킬, 저급할로알킬, 저급시아노알킬, 시클로알킬, 시클로알칼킬, 헤테로시클로알칼킬, 저급알켄일, 저급할로알켄킬, 저급알킨일, 저급할로알킨일, 저급알콕시알킬, 저급알킬 티오알킬, 저급디알킬아미노알킬 또는 대응 또는 대응 아닌 아릴는 저급알킬, 저급할로알킬, 저급알켄일, 저급할로알켄일, 시클로알킬, 시클로알칼킬, 대응 또는 대응 아닌 아릴 또는 2에서 4개의 탄소원자의 알킬렌군으로부터 같이 취해진 R3및 R4; R4및 R6은 각각 독립으로 하이드로겐, 저급알킬, 저급할로알킬, 저급알켄일, 저급알킨일, 저급알콕시 또는 저급알킬티오, R7은 R2의 그룹 (3)에서 선택 O는 CH 또는 N W는 산소, 술퍼, 술핀일, 술폰일 또는 NR5이 경우 R5는 하이드로겐 또는 저급알킬, W1, W3의 각각과 W4는 독립으로 옥시겐 또는 술퍼, W2는 옥시겐, 술퍼, 술핀일, 술픈일, 메틸렌, 카본일 또는 NR5, X, X1의 각각과 X2는 독립으로 옥시겐, 술퍼 또는 NR5, X3는 옥시겐, 술퍼, 메틸렌 또는 NR5, Y 및 Z의 각각은 독립으로 하이드로겐, 저급알킬, 저급할로알킬, 할로겐, 할로알콕시, 저급할로알콕시, 시아노 또는 니트로, 그리고 t는 1 또는 2.
- 제1항에 있어서 다음 구조식에 의한 화합물,
- 제2항에 있어서 W, X 및 X′가 옥시겐에 의한 화합물.
- 제3항에 있어서 R6은 하이드로겐 또는 메틸, n′는 one, X하이드로겐 또는 클로로 그리고 Z는 클로로 또는 트리플루오르메틸에 의한 화합물.
- 제4항에 있어서 Q는 CH에 의한 화합물.
- 제1항에 있어서 다음 구조식에 따른 화합물여기에서는 Y독립으로 하이드로겐 또는 크로로 그리고 Z는 클로로 또는 트리플루오로메틸.
- 제6항에 있어서 n′는 one, R6는 하이드로겐 또는 메틸 그리고 X 및 X1은 각각 옥시겐에 의한 화합물.
- 제7항에 있어서 R는 니트로, Z는 트리플루오르메틸, 그리고 Y는 클로로에 의한 화합물.
- 제4항에 있어서 Q는 N에 의한 화합물.
- 제4항에 있어서 R는 니트로, 그리고 Q는 N에 의한 화합물.
- 제10항에 있어서 Z는 트리플루오르메틸에 의한 화합물.
- 제1항에 있어서 다음 구조식에 의한 화합물이때, R1는 저급알킬, 저급할로알킬, 페닐 또는 벤질이다.
- 제12항에 있어서 W는 옥시겐이고 R는 니트로, R1은 메틸 또는 에틸, R6은 하이드로겐 또는 메틸, n′는 one, Y는 하이드로겐 또는 클로로 그리고 Z는 클로로 또는 트리플루오르메틸에 의한 화합물.
- 제13항에 있어서 R2가 다음 그룹에 의한 화합물.그리고 X는 옥시겐이다.
- 제14항에 있어서 W는 옥시겐, n는 one, X3는 옥시겐 n′는 one, R4는 하이드로겐 또는 메틸 R7는 저급알킬, 그리고 Z는 트리플루오르메틸에 의한 화합물.
- 제15항에 있어서 Q는 CH에 의한 화합물
- 제14항에 있어서 Q는 CH, H는 zero, W3는 옥시겐, R4는 하이드로겐 또는 메틸, R2 7는 저급알킬, Z는 트리플루오르메틸에 의한 화합물
- 제13항에 있어서, R가 다음의 그룹에 의한 화합물그리고 X는 옥시겐이다.
- 제18항에 있어서 W4및 X2의 각각은 옥시겐, n′는 one, R11는 하이드로겐 또는 메틸 R3는 저급알킬, 그리고 Z는 트리플루오르메틸에 의한 화합물.
- 제19항에 있어서 Q는 CH에 의한 화합물.
- 제19항에 있어서 Q는 N에 의한 화합물.
- 제13항에 있어서 X는 옥시겐이고, R2는 옥시겐, 금속이온 또는 저급알킬에 의한 화합물.
- 제22항에 있어서 Z는 트리플루오르메틸, R2는 하이드로겐 또는 메틸. R6는 메틸, Y는 클로로이고 Q는 CH에 의한 화합물.
- 제1항에 있어서 구조식(A) 화합물의 제초효과를 가진 만큼의 양으로써 잡초 또는 그 장소를 처리하는 잡초제어의 방법.
- 제1항에 있어서 구조식(A) 화합물의 제초효과를 가진 만큼의 양으로서의 잡초제어 성분비와 적절한 액체 및 고체증량제(增量劑).
- 제1항에 있어서 구조식(A) 화합물의 제조 과정.
- 구조식(XIII)의 화합물여기에서 W는 옥시겐 또는 술퍼, n′는 1, 2 또는 3, n는 0 또는 1, R는 니트로, 하이드로겐, 클로로 또는 시아노, R1은 저급알킬, R2는 저급알킬, R6는 하이드로겐 또는 저급알킬, 그리고 R11은 브로모, 클로로 또는 하이드록시.
- 제27항에 있어서 R11이 클로로, R가 니트로, W가 옥시겐이고, R6가 하이드로겐이거나 메틸에 의한 화합물.
- 제28항에 있어서 n′가 one, n가 zero, R1이 메틸 또는 에틸에 의한 화합물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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1982
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