KR830008965A - 테트라하이드로 나프탈렌 및 인단 유도체의 제조방법 - Google Patents

테트라하이드로 나프탈렌 및 인단 유도체의 제조방법 Download PDF

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KR830008965A
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쿠르트 네셀보쉬, 한스 스튀클린
에프ㆍ호프만-라롯슈 앤드 캄파니 아크티엔 게젤샤프트
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Abstract

내용 없음

Description

테트라하이드로 나프탈렌 및 인단 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 다음 일반식(II)의 화합물을 다음 일반식(III)의 화합물과 반응시키거나, 다음 일반식(IV)의 화합물을 강염기 존재하에 이산화황과 반응시키거나, 다음 일반식(V)의 화합물을 염기로 처리하거나 복합금속 수소화물로 환원시키고, 필요한 경우 수득된 일반식(I) 화합물에서 Z그룹을 기능적으로 변형시켜 다음 일반식(I)의 화합물 및 일반식(I) 화합물의 설폰산 및 설핀산의 약학적으로 무독한 염을 제조하는 방법.
    상기 일반식에서
    n은 1 또는 2이고
    Z는 메르캅토 또는 -S(O)mR그룹이고
    m은 0,1 또는 2이고
    R은 저급알킬, 저급알케닐, 저급알콕시-저급알킬, 저급알카노일-저급알킬, 하이드록시-저급알킬, 할로-저급알킬, 저급카브알콕시-저급알킬이거나, m이 1 또는 2일 경우 저급알콕시, 하이드록시, 모노-저급알킬아미노 또는 디-저급알킬아미노이고
    Z'는 -SO3 -M+, SO2 -M+, 저급알킬티오, 저급알킬설피닐 또는 저급알킬설포닐이고
    A는 일반식의 트리아릴포스포늄메틸그룹이고, B는 포르밀이거나
    A는 아세틸이고, B는 일반식의 디알콕시포스포닐메틸그룹이고
    Q는 아릴이고
    T는 저급알콕시이고
    Y-는 유기 또는 무기산의 음이온이고
    M+는 양이온이고
    X는 할로겐이고
    X' 는 디-저급알킬 카바모일티오이다.
  2. 제1항에 있어서, R이 저급알킬, 저급알케닐, 하이드록시-저급알킬, 할로-저급알킬, 저급카브알콕카브알콕시-저급알킬이거나, m이 1 또는 2일 경우 저급알콕시, 하이드록시, 모노-저급알킬아미노 또는 디-저급알킬아미노인 일반식(I) 화합물을 제조하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, n이 2인 일반식(I) 화합물을 제조하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, Z이 -SO2R인 일반식(I) 화합물을 제조하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, Z이 -S(O)mR 그룹이고 R이 저급알킬, 하이드록시, 저급알콕시, 저급알킬아미노, 하이드록시-저급알킬 또는 저급카브알콕시-저급알킬인 일반식(I) 화합물을 제조하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 에틸 p-[2-(5,6,7,8-테트라하이드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸)프로페닐]벤젠설포네이트를 제조하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 에틸 p-[2-(5,6,7,8-테트라하이드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸)프로페닐]페닐설폰을 제조하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 에틸 p-[2-(5,6,7,8-테트라하이드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸)프로페닐]페닐 설폭사이드를 제조하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 에틸 p-[2-(5,6,7,8-테트라하이드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸)프로페닐]페닐설폭사이드를 제조하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 이소프로필 p-[2-(5,6,7,8-테트라하이드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸)프로페닐]페닐설폰을 제조하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR8200640A 1981-02-13 1982-02-13 테트라하이드로 나프탈렌 및 인단 유도체의 제조방법 KR870001331B1 (ko)

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