KR830005391A - 가스 와이핑 장치 및 그 사용방법 - Google Patents

가스 와이핑 장치 및 그 사용방법 Download PDF

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KR830005391A
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South Korea
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die
gas wiping
wire
orifice
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KR1019810001237A
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Inventor
제이. 스타브로스 앤터니
크랜달 로저엘.
Original Assignee
도날드 존슨 브리크웨드
베드리헴스틸 코오포레이숀
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/16Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
    • C23C2/18Removing excess of molten coatings from elongated material
    • C23C2/185Tubes; Wires
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Abstract

내용 없음

Description

가스 와이핑 장치 및 그 사용방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 와이어 와이핑 장치의 횡단면도.
제2도는 본 발명에 따른 다른 형태의 가스 와이핑 장치의 횡단면도.
제3도는 본 발명에 따른 또 다른 형태의 가스 와이핑 장치의 횡단면도.
제4도는 본 발명에 따라 구성된 장치에서 가스 와이핑 압력과 코팅두께의 일반적인 관계를 도시하는 도면.

Claims (3)

  1. 선형의 물질이 융용금속 피복조를 처음 통과한 후 그 물질을 와이핑 하기 위한 가스 와이핑 다이에 있어서, 다이 몸체부에, 선형물질이 통과하는 직경 0.50-1.50인치의 중앙 드로트 원주주위에서 용융금속 피복조의 표면위 1-15인치에 배치되는 가스 와이핑 오리피스가 설치되어 있고, 그 가스 와이핑 오리피스가 다이를 통과하는 선형물질의 표면에 수직인 선에 대해 약 10-45도 각도를 가지고 그 오리피스 폭이 약 0.010-0.080인치이며 평행한 측면들이 길이가 적어도 약 0.25인치인 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 다이.
  2. 와이엉 물질이 돌출하는 용융금속 피복조, 가압된 비산화 가스원, 및 상기 용융금속 피복조위에 배치된 가스 와이핑 다이를 포함하는, 와이어 물질의 표면에 적용된 금속피복재의 두께를 연속적으로 적용 및 조절하기 위한 장치에 있어서, 다이몸체부에, 용융금속 피복조의 표면위 0.5-15인치에 배치된 가스 와이핑 오리피스가 설치되어 있고, 와이핑 다이가 직경 0.50-1.50인치의 드로트를 가지고 있으며, 상기 가스 와이핑 오리피스가 다이를 통과하는 와이어 물질의 표면에 수직인 선에 대해 약 10-45 각도를 가지고 그 오리피스 폭이 약 0.010-0.080인치이며 평행한 측벽들의 길이가 적어도 0.25인치인 것을 특징으로 하는, 와이어물질의 표면에 적용된 금속피복재의 두께를 연속적으로 적용 및 조절하기 위한 장치.
  3. 약 0.010-0.080인치의 폭을 가지며 길이가 적어도 약 0.25인치인 평행한 만곡측벽들을 가지고 있고 다이를 통과하는 표면에 수직인 선에 대해 약 10-45도 각도로 하방으로 경사져 있고 와이어가 통과하는 0.50-1.50인치직경의 중앙 개구주위에 배치된 가스 와이핑 오리피스를 가진 가스 와이핑 다이를 통해 와이러를 통과시키고 와이핑 오리피스를 용융 금속 피복조의 표면위 0.5-15인치에 배치한 채 와이어상의 용금피복재상에 가스 와이핑 오리피스를 통해 비산화가스를 취부하여 와이어상의 용융금속 피복재를 와이핑하고 비산화가스의 압력을 변경시킴에 의해 피복두께를 조절하는 것으로 구성된 와이어상의 피복두께 조절방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019810001237A 1980-04-11 1981-04-11 가스 와이핑 장치 및 그 사용방법 KR830005391A (ko)

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GR (1) GR75197B (ko)
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