KR20240072086A - 전파 산란체를 설계하기 위한 방법, 전파 산란체의설계 장치 및 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램 - Google Patents

전파 산란체를 설계하기 위한 방법, 전파 산란체의설계 장치 및 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램 Download PDF

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KR20240072086A
KR20240072086A KR1020237025576A KR20237025576A KR20240072086A KR 20240072086 A KR20240072086 A KR 20240072086A KR 1020237025576 A KR1020237025576 A KR 1020237025576A KR 20237025576 A KR20237025576 A KR 20237025576A KR 20240072086 A KR20240072086 A KR 20240072086A
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유야 마츠자키
가즈히로 후케
다쿠야 스즈키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

전파 산란체를 설계하기 위한 방법은, 목적 함수의 값(Q1)의 결정을 행하는 것을 포함한다. 목적 함수는, 설계 대상에 소정의 조건에서 전파(E)가 입사되었을 때의 설계 대상(T)의 전파 산란 특성을 나타낸다. 값(Q1)의 결정은, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값(P1)에 기초하여 작성된 설계 대상(T)을 포함하는 해석 모델(M)을 사용한 계산에 의해 행해진다.

Description

전파 산란체를 설계하기 위한 방법, 전파 산란체의 설계 장치 및 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램
본 발명은, 전파 산란체를 설계하기 위한 방법, 전파 산란체의 설계 장치 및 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램에 관한 것이다.
종래, 전파의 진행을 조정하기 위한 부재가 알려져 있다.
특허문헌 1에는, 레이더 트랜시버용 측방 실드가 기재되어 있다. 이 측방 실드의 전체에는, 불균일한 지연 구조가 배치되어 있다.
특허문헌 2에는, 제1 유전 재료로 이루어지는 매트릭스 중에, 제2 유전 재료로 이루어지는 일정 형상의 복수의 산란체가 주기적으로 배열되어 있는 전자파 흡수체가 기재되어 있다. 이 전자파 흡수체는, 예를 들어 평판상의 매트릭스와 평판상의 산란체가 교대로 적층된 배열을 갖는다(도 1(a) 참조).
국제 공개 제2021/058450호 일본 특허 공개 제2004-153135호 공보
불필요한 전파의 수신을 방지하는 관점에서 전파의 투과 및 산란을 이룰 수 있는 전파 산란체를 사용해서 전파를 감쇠시키는 것을 생각할 수 있다. 전파 산란체의 설계에 있어서, 시작과 평가를 반복함으로써, 시작품에서의 전파의 산란 특성을 원하는 산란 특성에 근접시키는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 이와 같은 방법에서는, 시작 및 평가를 몇 번이고 반복할 필요가 있어,많은 노동력 및 비용이 발생할 수 있다.
그래서, 본 발명은, 경제성의 관점에서 유리한 전파 산란체를 설계하기 위한 방법을 제공한다.
본 발명은,
전파 산란체를 설계하기 위한 방법이며,
연산 장치를 사용하여, 설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는 것을 포함하는,
방법을 제공한다.
또한, 본 발명은,
전파 산란체의 설계 장치이며,
연산 장치를 구비하고,
상기 연산 장치는,
설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는,
설계 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은,
전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램이며,
설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는 것을 컴퓨터에 실행시키기 위한
프로그램을 제공한다.
상기 전파 산란체를 설계하기 위한 방법은, 경제성의 관점에서 유리하다.
도 1은 본 발명에 관한 전파 산란체를 설계하기 위한 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 2는 본 발명에 관한 설계 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 3a는 설계 대상의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 3b는 도 3a에서의 B-B선을 절단선으로 하는 설계 대상의 단면도이다.
도 4a는 해석 모델을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 4b는 해석 모델을 모식적으로 도시하는 측면도이다.
도 4c는 해석 모델을 모식적으로 도시하는 측면도이다.
도 5는 응답 곡면을 결정하기 위한 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 6a는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6b는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6c는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6d는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6e는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6f는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6g는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6h는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6i는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6j는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 6k는 응답 곡면의 일례를 나타내는 그래프이다.
본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 발명은, 이하의 실시 형태에 한정되지는 않는다.
도 1은 전파 산란체의 설계 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다. 이 설계 방법은, 예를 들어 도 2에 도시하는 설계 장치(1)를 사용해서 실행된다. 설계 장치(1)는, 예를 들어 연산 장치(10)와, 주기억 장치(20)와, 보조 기억 장치(30)와, 입력 인터페이스(40)와, 표시부(50)를 구비하고 있다. 설계 장치(1)에 있어서, 연산 장치(10), 주기억 장치(20), 보조 기억 장치(30), 입력 인터페이스(40) 및 표시부(50) 각각은, 버스(2)에 접속되어 있다. 연산 장치(10)는, 예를 들어 제어 장치(도시 생략)와 함께 중앙 처리 장치(CPU)를 구성하고 있다. 주기억 장치(20)는, 예를 들어 RAM 등의 반도체 메모리이다. CPU는, 주기억 장치(20)를 구비하고 있어도 된다. 연산 장치(10)는, 주기억 장치(20)에 읽어들여진 데이터를 사용해서 연산을 실행한다. 보조 기억 장치(30)는, 예를 들어 HDD 및 플래시 메모리 등의 불휘발성 메모리이다. 보조 기억 장치(30)에는, 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램(32)이 저장되어 있다. 프로그램(32)은, 주기억 장치(20)에 읽어들여져 실행된다. 보조 기억 장치(30)에는, 예를 들어 연산 장치(10)에 의해 이루어진 연산 결과가 기억된다. 입력 인터페이스(40)는, 예를 들어 키보드, 마우스 및 터치 패널 등의 입력 디바이스이다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 스텝 S101에서, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값(P1)의 입력이 접수된다. 설정값(P1)의 입력은, 예를 들어 유저가 입력 인터페이스(40)를 조작함으로써 이루어진다. 설정값(P1)은, 예를 들어 CAD 데이터에 기초하여 자동적으로 생성된 값이어도 된다. 예를 들어, 보조 기억 장치(30)에 저장된 소정의 CAD 데이터가 읽어들여지도록 유저가 입력 인터페이스(40)를 조작함으로써 설정값(P1)이 결정된다.
이어서, 스텝 S102로 진행되어, 설정값(P1)을 사용해서 해석 모델(M)이 생성된다. 해석 모델(M)은, 설계 대상(T)을 포함한다. 해석 모델(M)은, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터 이외의 파라미터에 의해 정의되어도 된다. 예를 들어, 해석 모델(M)은, 설계 대상(T)의 비유전율을 나타내는 파라미터에 기초하여 작성되어 있어도 된다. 설계 대상(T)의 비유전율을 나타내는 파라미터는, 설계 대상(T)에 있어서 일정 값을 갖고 있어도 되고, 설계 대상(T)에 있어서 공간적으로 변동하는 값을 갖고 있어도 된다.
설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터는, 특정 파라미터에 한정되지 않는다. 그 파라미터는, 예를 들어 설계 대상(T)의 표면 형상을 나타내는 파라미터를 포함하고 있다. 이에 의해, 설계 대상(T)의 표면 형상이 고려된 해석 모델(M)을 생성할 수 있다.
설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터는, 예를 들어 설계 대상(T)의 표면에서의 입체적 형상을 나타내는 파라미터를 포함한다. 이에 의해, 설계 대상(T)의 표면에서의 입체적 형상이 고려된 해석 모델(M)을 생성할 수 있다.
도 3a 및 도 3b는, 설계 대상(T)의 일례를 도시한다. 이 예에서, 설계 대상(T)은, 평판상의 기초부(t1) 상에 복수의 돌출부(t2)가 배치되어 있다. 각 돌출부(t2)는, 예를 들어 정사각뿔대 형상이다. 설계 대상(T)의 평면으로 보았을 때, 복수의 돌출부(t2)는, 평행사변형 격자를 이루도록 배치되어 있다. 예를 들어, 설계 대상(T)의 평면으로 보았을 때, 복수의 돌출부(t2)의 측면이 제1 방향(m)으로 배열되어 있고, 복수의 돌출부(t2)의 대각선 상의 정점이 제1 방향(m)과 교차하는 제2 방향(n)으로 배열되어 있다. 이 예에서, 설계 대상(T)의 표면 형상을 나타내는 파라미터로서, 제1 방향(m)에서의 돌출부(t2)의 폭(w), 제1 방향(m)에 있어서 인접하는 돌출부(t2)끼리의 거리(d) 및 돌출부(t2)의 돌출 길이(h)가 사용된다. 예를 들어, 스텝 S101에서는, 폭(w)의 값, 거리(d)의 값 및 돌출 길이(h)의 설정값의 입력이 접수된다. 이와 같이, 설정값(P1)은, 복수의 파라미터의 설정값을 포함할 수 있다. 도 3a 및 도 3b에서, x축, y축 및 z축은 서로 직교하고 있다.
설계 대상(T)의 표면 형상을 나타내는 파라미터는, 설계 대상(T)의 표면 형상을 나타내는 것인 한 특정 파라미터에 한정되지 않는다. 예를 들어, 돌출부(t2)의 형상을 지정하는 값이어도 되고, 복수의 돌출부(t2)의 배치를 지정하는 값이어도 된다.
설계 대상(T)을 정의하기 위한 파라미터는, 설계 대상(T)의 표면 형상을 나타내는 파라미터 이외의 파라미터를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 설계 대상(T)을 정의하기 위한 파라미터는, 설계 대상(T)의 비유전율을 나타내는 파라미터를 포함하고 있어도 된다. 설계 대상(T)의 비유전율을 나타내는 파라미터는, 설계 대상(T)에 있어서 일정 값을 갖고 있어도 되고, 설계 대상(T)에 있어서 공간적으로 변동하는 값을 갖고 있어도 된다.
도 4a, 도 4b 및 도 4c는, 해석 모델(M)의 일례를 도시한다. 해석 모델(M)은, 예를 들어 설계 대상(T)에 입사되는 전파(E)의 조건에 관한 정보를 포함한다. 그 정보는, 예를 들어 전파(E)의 주파수, 전파(E)의 전계 방향, 설계 대상(T)에 대한 전파(E)의 입사 방향, 및 설계 대상(T)에 대한 전파의 입사 범위(Z)에 관한 정보를 포함한다. 도 4a, 도 4b 및 도 4c에서, x축, y축 및 z축은 서로 직교하고 있다. 전파(E)의 주파수는, 특정 값에 한정되지 않는다. 전파(E)의 주파수는, 예를 들어 10 내지 300GHz의 범위 내에서 설정된다.
해석 모델(M)에 있어서, 계산 대상 공간(V1) 및 계산 대상 공간(V2)이 정의되어 있다. 계산 대상 공간(V1)은, 설계 대상(T)이 존재하는 공간이다. 계산 대상 공간(V2)은, 설계 대상(T)으로부터 이격되어 있으며, 설계 대상(T)을 투과한 전파(E)의 강도가 평가되어야 하는 수신면(F)이 존재하는 공간이다. 수신면(F)은, 설계 대상(T)에서의 특정 점(K)을 중심으로 하는 반구면 상에 정의되어 있다. 이에 더하여, 수신면(F)은, 해석 모델(M)에서의 설계 대상(T)을 평면으로 보았을 때, 제1 방향(m) 및 제2 방향(n)을 따라 소정의 크기로 정의되어 있다. 특정 점(K)은, 예를 들어 설계 대상(T)의 출사면과, 전파(E)의 직진 방향으로 연장되는 직선이 교차하는 점이다.
스텝 S103으로 진행되어, 해석 모델(M)을 사용한 계산에 의해, 설계 대상(T)에 소정의 조건에서 전파(E)가 입사되었을 때의 설계 대상(T)의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값(Q1)이 결정된다. 값(Q1)의 결정은, 연산 장치(10)를 사용해서 이루어진다. 해석 모델(M)을 사용한 계산에 있어서, 예를 들어 계산 대상 공간(V1) 및 계산 대상 공간(V2)에서의 전파의 강도가 맥스웰 방정식을 수치적으로 풀어냄으로써 구해진다. 예를 들어, 계산 대상 공간(V1) 및 계산 대상 공간(V2)에서의 전파의 강도는, 유한 요소법 및 모멘트법에 따라서 계산된다. 모멘트법은, 예를 들어 유한 요소법이 적용되는 영역의 경계에 적용된다. 설계 대상(T)에서의 계산 및 수신면(F)에서의 계산에 유한 요소법을 적용하고, 설계 대상(T) 및 수신면(F) 이외의 영역에서의 계산에 모멘트법을 적용해도 된다. 이에 의해, 해석 모델(M)을 사용한 계산의 계산 비용이 낮아지기 쉽고, 계산 시간이 단축되기 쉽다.
스텝 S103에서 그 값(Q1)이 구해지는 목적 함수는, 설계 대상(T)의 전파 산란 특성을 나타내는 것인 한, 특정 함수에 한정되지 않는다. 값(Q1)은, 예를 들어 설계 대상(T)에 소정의 조건에서 전파(E)가 입사되었을 때의 투과 감쇠량의 계산값에 기초하여 결정된다. 예를 들어, 값(Q1)은, 수신면(F)에서의 투과 감쇠량의 최솟값으로서 결정된다.
투과 감쇠량은, 예를 들어 이하의 식 (1)로 나타내진다. 식 (1)에서, Ti[W]는, 해석 모델(M)을 사용한 상기 계산에 기초하는, 수신면(F)에서의 전파의 강도의 계산값이다. TN[W]은, 자유 공간에서의 전파의 기준 강도이다. TN은, 예를 들어 해석 모델(M)에 있어서 설계 대상(T)이 존재하지 않는 조건에서 전파(E)를 진행시켰을 때 직진하는 전파(E)와 수신면(F)이 교차하는 위치에서의 전파의 강도이다.
투과 감쇠량[dB]=-10log10(Ti/TN) 식 (1)
예를 들어, 설계 대상(T)의 특정 점(K)에 대응하는 영역의 직경 30mm의 범위에서 수직으로 전파(E)가 입사하도록 전파(E)의 입사 조건을 정한다. 이에 더하여, 특정 점(K)을 중심으로 하는 반경 120mm의 반구의 소정의 경선을 따라 30mm의 직경을 갖는 원이 이동해서 형성되는 궤적으로서 수신면(F)이 정해진다. 이 경우에, 예를 들어 특정 점(K)으로부터 전파(E)의 직진 방향으로 연장되는 직선과 수신면(F)의 교점에서의 투과 감쇠량이 4dB 이상이면, 설계 대상(T)을 전파 산란체로 간주할 수 있다.
전파 산란체는, 예를 들어 전파를 투과하고, 투과한 전파가 산란하는 것이어도 된다. 이러한 형상으로서, 예를 들어 전파를 입사시키기 위한 면에 요철 형상을 갖는 것이어도 된다.
이어서, 스텝 S104로 진행되어, 값(Q1)이, 설계 대상(T)에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정이 이루어진다. 이 판정은, 연산 장치(10)를 사용해서 이루어진다. 스텝 S104는, 경우에 따라서는 생략되어도 된다. 이 경우, 예를 들어 값(Q1)이 표시부(50)에 표시된다.
스텝 S104에서의 판정 결과가 긍정적인 경우, 스텝 S105로 진행되어, 긍정적인 판정 결과가 표시부(50)에 표시되고, 일련의 처리가 종료된다. 스텝 S105에서, 값(Q1)이 표시부(50)에 표시되어도 된다.
스텝 S104에서의 판정 결과가 부정적인 경우, 스텝 S106으로 진행되어, 부정적인 판정 결과가 표시부(50)에 표시됨과 함께, 설정값(P1)이 갱신된다. 스텝 S106에서, 값(Q1)이 표시부(50)에 표시되어도 된다. 설정값(P1)을 갱신하는 방법은, 특정 방법에 한정되지 않는다. 설정값(P1)은, 예를 들어 구배법 또는 유전적 알고리즘 등의 최적화 알고리즘에 따라서 갱신된다. 이어서, 스텝 S102로 돌아가서, 갱신된 설정값(P1)을 사용하여 스텝 S102 및 스텝 S103의 처리가 이루어지고, 스텝 S104의 판정이 행해진다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 목적 함수의 값(Q1)이 설계 조건을 만족한다고 판정될 때까지, 설정값(P1)의 갱신, 값(Q1)의 결정, 및 값(Q1)이 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정이 반복된다.
스텝 S103에서의 목적 함수의 값(Q1)의 결정에는, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터를 설계 변수로 하는 응답 곡면(R)이 사용되어도 된다. 도 5는, 응답 곡면(R)의 결정 방법의 일례를 나타낸다. 이 방법은, 설계 장치(1)를 사용해서 이루어진다.
스텝 S301에서, 샘플링용의, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값(P1)의 결정이 이루어진다. 샘플링용의 각 설정값(P1)은, 복수의 파라미터의 설정값을 포함할 수 있다. 예를 들어, 샘플링용의 설정값(P1)의 수는 20 이상이다.
샘플링용의 설정값(P1)의 결정은, 특정 방법에 한정되지 않는다. 예를 들어, 중심 복합 계획(Box-Wilson법) 등의 실험 계획법에 따라서 샘플링용의 설정값(P1)을 결정할 수 있다.
이어서, 스텝 S302로 진행되어, 스텝 S102 및 스텝 S103과 마찬가지로 하여, 각 설정값(P1)에 기초해서 해석 모델(M)을 생성하고, 각 해석 모델(M)을 사용한 계산에 의해, 각 설정값(P1)에 대응하는 목적 함수의 값(Q1)을 결정한다.
이어서, 스텝 S303으로 진행되어, 스텝 S301에서 결정된 파라미터의 설정값(P1)과, 스텝302에서 결정된 목적 함수의 값(Q1)에 기초하여, 파라미터를 설계 변수로 하는 응답 곡면(R)이 작성된다. 응답 곡면(R)을 작성하는 방법은, 특정 방법에 한정되지 않는다. 응답 곡면(R)은, 예를 들어 유전적 집합 등의 메타모델링 알고리즘을 사용해서 생성할 수 있다.
이어서, 평가용의, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값(P1)이 결정되고, 스텝 S304에서, 스텝 S102 및 스텝 S103과 마찬가지로 하여, 평가용의 설정값(P1)에 기초해서 생성된 해석 모델(M)을 사용한 계산에 의해, 평가용의 설정값(P1)에 대응하는 목적 함수의 값(Q1v)이 결정된다. 이에 더하여, 스텝 S305에서, 스텝 S303에서 생성된 응답 곡면(R)을 사용해서 평가용의 설정값(P1)에 대응하는 목적 함수의 값(Q1r)이 결정된다. 스텝 S304의 처리 및 스텝 S305의 처리는, 축차적으로 실행되어도 되고, 병렬적으로 실행되어도 된다.
이어서, 스텝 S306으로 진행되어, 스텝 S303에서 생성된 응답 곡면(R)의 적합도가 소정의 조건을 충족하는지 여부가 판단된다. 이 판단은, 예를 들어 값(Q1v)과 값(Q1r)의 차가 허용 범위인지 여부에 따라 결정된다. 예를 들어, 값(Q1v)에 대한 값(Q1r)의 오차가 15％ 이하인 경우에, 응답 곡면(R)의 적합도가 소정의 조건을 충족한다고 판단된다.
스텝 S306에서의 판단이 긍정적일 경우, 스텝 S307로 진행되어, 스텝 S303에서 생성된 응답 곡면(R)이, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터를 설계 변수로 하는 응답 곡면으로서 결정된다. 이 응답 곡면(R)을 나타내는 데이터가 보조 기억 장치(30)에 저장된다. 스텝 S103에서, 보조 기억 장치(30)에 저장된 응답 곡면(R)을 사용해서 목적 함수의 값(Q1)이 결정될 수 있다.
스텝 S306에서의 판단이 부정적일 경우, 추가 샘플링용의, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값(P1)이 결정된다. 추가 샘플링용의 설정값(P1)으로서, 예를 들어 응답 곡면(R)에 있어서 값(Q1v)에 대한 오차가 비교적 큰 값(Q1r)에 대응하는 파라미터의 설정값에 가까운 값이 선택된다. 그 후, 스텝 S302의 처리로 돌아가서, 추가 샘플링용의 설정값(P1)도 사용하여, 스텝 S302 내지 스텝 S306의 처리가 다시 실행된다. 이에 의해, 목적 함수의 값(Q1)의 예측 정밀도가 높은 응답 곡면(R)을 결정할 수 있다. 이러한 응답 곡면(R)을 사용하여, 설계 대상(T)의 형상을 나타내는 파라미터의 최적값의 근사값을 결정할 수 있다.
도 6a 내지 도 6k는, 도 3a 및 도 3b의 설계 대상(T)에서의 폭(w)[m], 거리(d)[m] 및 돌출 길이(h)[m]를 설계 변수로 하는 응답 곡면(R)이다. 도 6a 내지 도 6k의 응답 곡면(R) 각각에 있어서 돌출 길이(h)는 일정 값을 갖는다. 도 6a 내지 도 6k에 걸쳐서 돌출 길이(h)가 일정 증분으로 증가하고 있다.
설계 장치(1)는, 다양한 관점에서 변경 가능하다. 예를 들어, 설계 장치(1)는, 인터넷 회선 등의 네트워크 회선에 접속된 서버에 프로그램(32)이 실행 가능하게 저장된 구성이어도 된다. 이 경우, 예를 들어 그 서버는, 네트워크 회선을 통해서, 그 네트워크 회선에 접속된 클라이언트로부터 입력된 설정값(P1)을 취득한다. 이에 더하여, 스텝 S104에서의 판정 결과를 나타내는 정보가 서버로부터 클라이언트를 향해서 송신되고, 그 정보를 수신한 클라이언트의 표시부에 판정 결과가 표시된다. 혹은, 스텝 S103에서 결정된 목적 함수의 값(Q1)이 클라이언트의 표시부에 표시된다.

Claims (21)

  1. 전파 산란체를 설계하기 위한 방법이며,
    연산 장치를 사용하여, 설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는 것을 포함하는,
    방법.
  2. 제1항에 있어서, 연산 장치를 사용하여, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하는 것을 더 포함하는, 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 파라미터는, 상기 설계 대상의 표면 형상을 나타내는 파라미터를 포함하는, 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 파라미터는, 상기 설계 대상의 표면에서의 입체적 형상을 나타내는 파라미터를 포함하는, 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 목적 함수의 상기 값은, 상기 설계 대상에 상기 소정의 조건에서 상기 전파가 입사되었을 때의 투과 감쇠량의 계산값에 기초하여 결정되는, 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 해석 모델은, 상기 설계 대상의 비유전율을 나타내는 파라미터에 기초하여 작성되어 있는, 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 값의 결정은, 상기 설계 대상의 표면 형상을 나타내는 상기 파라미터를 설계 변수로 하는 응답 곡면을 사용해서 이루어지는, 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 연산 장치를 사용하여, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하는 것과,
    상기 판정의 결과를 표시하는 것을 더 포함하는, 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 연산 장치를 사용하여, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하는 것을 더 포함하고,
    상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 조건을 충족하지 않는다고 판정되었을 때, 상기 파라미터의 상기 값의 갱신을 행하고, 상기 갱신 후의 상기 파라미터의 값에 기초하여 상기 결정 및 상기 판정을 행하는, 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 조건을 충족한다고 판정될 때까지, 상기 갱신, 상기 결정 및 상기 판정을 반복하는, 방법.
  11. 전파 산란체의 설계 장치이며,
    연산 장치를 구비하고,
    상기 연산 장치는,
    설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는,
    설계 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 연산 장치는, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하는, 설계 장치.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 파라미터는, 상기 설계 대상의 표면 형상을 나타내는 파라미터를 포함하는, 설계 장치.
  14. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 파라미터는, 상기 설계 대상의 표면에서의 입체적 형상을 나타내는 파라미터를 포함하는, 설계 장치.
  15. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 목적 함수의 상기 값은, 상기 설계 대상에 상기 소정의 조건에서 상기 전파가 입사되었을 때의 투과 감쇠량의 계산값에 기초하여 결정되는, 설계 장치.
  16. 제11항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 해석 모델은, 상기 설계 대상의 비유전율을 나타내는 파라미터에 기초하여 작성되어 있는, 설계 장치.
  17. 제11항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 값의 결정은, 상기 설계 대상의 표면 형상을 나타내는 상기 파라미터를 설계 변수로 하는 응답 곡면을 사용해서 이루어지는, 설계 장치.
  18. 제11항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 연산 장치는, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하고,
    상기 판정의 결과를 표시하는, 설계 장치.
  19. 제11항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 연산 장치는, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 대상에서의 전파의 산란 특성에 관한 미리 정해진 설계 조건을 충족하는지 여부의 판정을 행하고,
    상기 연산 장치는, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 조건을 충족하지 않는다고 판정되었을 때, 상기 파라미터의 상기 값의 갱신을 행하고, 상기 갱신 후의 상기 파라미터의 값에 기초하여 상기 결정 및 상기 판정을 행하는, 설계 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 연산 장치는, 상기 목적 함수의 상기 값이 상기 설계 조건을 충족한다고 판정될 때까지, 상기 갱신, 상기 결정 및 상기 판정을 반복하는, 설계 장치.
  21. 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램이며,
    설계 대상의 형상을 나타내는 파라미터의 설정값에 기초하여 작성된 상기 설계 대상을 포함하는 해석 모델을 사용한 계산에 의해, 상기 설계 대상에 소정의 조건에서 전파가 입사되었을 때의 상기 설계 대상의 전파 산란 특성을 나타내는 목적 함수의 값의 결정을 행하는 것을 컴퓨터에 실행시키기 위한
    프로그램.
KR1020237025576A 2021-09-30 2022-09-29 전파 산란체를 설계하기 위한 방법, 전파 산란체의설계 장치 및 전파 산란체를 설계하기 위한 프로그램 KR20240072086A (ko)

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