KR20240056633A - 에나멜링된 미네랄 기재 및 그의 제조 방법 - Google Patents
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- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 151
- 239000011707 mineral Substances 0.000 title claims abstract description 151
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 127
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims abstract description 137
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000010411 cooking Methods 0.000 claims description 21
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 13
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 24
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 54
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 241000562569 Riodinidae Species 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 9
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 8
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006129 Eurokera Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 6
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004534 enameling Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 3
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000795655 Canis lupus familiaris Thymic stromal cotransporter homolog Proteins 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000502 Li-aluminosilicate Inorganic materials 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)CO CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N aluminum;lithium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Li+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005347 annealed glass Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000006064 precursor glass Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000500 β-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052644 β-spodumene Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
- C03C17/04—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass by fritting glass powder
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
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- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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- C03C8/20—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions containing titanium compounds; containing zirconium compounds
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Abstract
표면 중 적어도 하나 상에 금속 마찰을 견딜 수 있는 무기 에나멜을 포함하는 미네랄 기재가 개시된다. 무기 에나멜은 2 μm 이하의 총 조도를 갖고, 유리-세라믹 기재의 표면으로부터 돌출된 무기 에나멜의 가장자리는 1.4% 이하의, 백분율로서 표현된 지형학적 기울기 값을 갖는다.
Description
본 발명은 표면 중 적어도 하나 상에 금속 마찰에 내성인 무기 에나멜을 포함하는 미네랄 기재에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 기재의 제조 방법에 관한 것이다.
유리-세라믹 또는 착색된 특수 유리와 같은 미네랄 기재는 심미적 품질 및 물리적/화학적 특성, 특히 낮은 열 팽창 계수 및 열 충격에 대한 내성으로 인해 수많은 분야에서 인기가 있다.
이들은 특히 주방 장비에서, 특히 편평한 기재의 형태로, 예를 들어 조리 장치에서의 조리 표면, 글레이징된(glazed) 오븐 벽, 및 음식의 준비를 위한 작업 표면, 테이블 또는 가구에서의 작업 표면으로서 사용된다.
예를 들어, 주방 장비에서, 결정질 상이 분산되어 있는 무정형 상을 포함하는 복합 물질인 유리-세라믹은 열 충격에 대한 매우 우수한 내성, 매우 낮은 팽창 계수 및 기계적 강도로 인해 매우 널리 인식되는 미네랄 기재이다. 조리 장치에서 조리 표면 및/또는 작업 표면으로서, 이들은 일반적으로 리튬 알루미노실리케이트를 기초로 하고, 이들의 무정형 매트릭스에 β-석영 및/또는 β-스포듀민을 기초로 하는 결정질 상의 분산물을 갖는다.
주방 장비의 원하는 용도에 따라, 미네랄 기재는 가열 및/또는 조명 수단과 같은 전기 및/또는 전자 장치와 연계될 수 있고, 그리고/또는 이들 기재가 결합되어 있는 장치와 사용자 사이의 상호 작용을 허용하는 제어부, 센서 및 디스플레이와 같은 특정 수의 액세서리를 구비할 수 있다.
장식 목적을 위해서 미네랄 기재의 표면의 에나멜링을 실시하는 것 및/또는 조리 장치를 위한 제어, 신호전달 및/또는 가열 구역과 같은 특정 기능적 구역을 경계 짓는 것은 일반적이다. 에나멜링은 통상적으로 스크린 프린팅 또는 잉크젯 프린팅 방법을 사용하여 수행된다.
조리 장치 내에서 및/또는 그 부근에서 사용되는 미네랄 기재의 분야에서, 내구성 및 심미적인 이유로, 에나멜은 바람직하게는 그가 증착되는 기재에 적절하게 부착되고, 조리 장치가 사용되는 조건 하에서 겪을 수 있는 기계적 및/또는 화학적 스트레스에 대해 상당한 내성을 갖는다.
특히, 식품 및/또는 화학 제품에 대한 반복적인 노출뿐만 아니라, 포트 또는 팬과 같은 주방 기구의 반복적인 움직임에 의해서 유발되는 금속 마찰과 같은 기계적 스트레스를 견딜 수 있는 에나멜이 일반적으로 추구된다.
최신 기술은 에나멜 조성, 미네랄 잉크 및/또는 미네랄 페이스트의 수많은 예 뿐만 아니라 적합한 에나멜링 방법의 예를 제공한다.
FR 2 858 974 A1 [SCHOTT AG [DE]] 25.02.2005에는 매우 거칠지는 않은 강렬한 인공 검은색 장식 효과가 제공된 유리-세라믹 조리 표면이 기재되어 있다.
WO 2016/008848 A1 [SCHOTT AG [DE]] 21.01.2016에는 낮은 팽창 계수를 갖는 유리-세라믹 기재 상에 장식 효과를 프린팅하기에 적합한 미네랄 잉크가 기재되어 있다. 이러한 미네랄 잉크는 구부러짐 및 박편화에 대해 보다 우수한 내성을 갖는 에나멜을 획득하는 것을 가능하게 한다.
WO 2016/110724 A1 [FENZI SPA [IT]] 14.07.2016에는 유리-세라믹 기재 상에 장식 효과를 프린팅하기 위한 미네랄 잉크 조성이 기재되어 있다. 이 미네랄 잉크는 산, 염기 및 방사선에 화학적으로 내성이 있고 마모 및 층간박리에 기계적으로 내성이 있는 에나멜을 획득하는 것을 가능하게 한다.
EP 3 067 334 A1 [SCHOTT AG [DE]] 14.09.2016에는 에나멜의 표면 상에서의 주방 기구의 움직임에 의해 발생되는 소음을 감소시키는 것을 가능하게 하는 유리-세라믹 기재를 위한 장식용 에나멜이 기재되어 있다.
WO 2019/219691 A1 [EUROKERA [FR]] 21.11.2019는 유리-세라믹 기재를 프린팅하기 위한 미네랄 잉크를 기재한다. 이 잉크는 식품, 세제, 이들 제품에 대한 반복된 노출 및 가열 사이클의 조합된 영향, 및 유리-세라믹 기재의 제조 동안 사용되는 800℃ 초과의 온도에 대해 내성인 에나멜을 획득하는 것을 가능하게 한다.
조리 장치 내의 및/또는 그 부근의 미네랄 기재의 표면 상에서의 포트 또는 팬과 같은 주방 기구의 반복적인 움직임과 관련된 금속 마찰은 장식용 에나멜 상에 금속 마크(mark) 또는 트레이스(trace)의 출현을 유발한다. 이들 금속 마크 또는 트레이스는 일반적으로 에나멜 상의 금속 기구의 반복된 마찰의 영향 하에서, 상기 금속 기구로부터 떨어져나가서, 기재 또는 에나멜의 표면 내에 매립되는 금속 입자이다. 이러한 현상은 알루미늄 또는 스테인리스강 하단을 갖는 포트 또는 팬과 같이 연한 밝은 색상의 금속을 기초로 하는 기구에서 특히 두드러진다.
시간이 지남에 따라, 이들 매립된 입자는 에나멜, 특히 미네랄 기재와의 콘트라스트(contrast) 수준이 낮은 에나멜, 예컨대 어두운 또는 검은색 미네랄 기재 상의 어두운 또는 검은색 에나멜의 심미적 외관을 저하시키게 된다. 장기적으로, 이러한 심미적 열화는 제품에 대한 소비자의 긍정적인 인식에 해롭다.
다른 한편으로, 소위 "플렉시블" 조리 표면, 즉 조리 기구가 가열되기 위해 어디에나 배치될 수 있는 표면, 또는 달리 말하면 전용 가열 구역이 없는 표면의 개발로, 기구는 조리 표면 상에서 더 빈번하게 이동된다. 금속 마찰에 의해 유발되는 심미적 열화는 이후 더 현저해지거나 더 빠르게 발생한다.
마지막으로, 매립된 금속 입자의 축적은, 특히 가시적이 될 때, 사용자가 유리-세라믹 기재 및 에나멜의 표면을 더 빈번하게 그리고 더 격렬하게 세정하게 한다. 이러한 세정은 일반적으로 가시적인 금속 마크 및 트레이스를 사라지게 하려는 목적을 갖는다. 그러나, 이러한 세정의 빈도 및 강도는 에나멜에 초기에 상당한 손상을 유발하는 부정적인 결과를 갖는다. 이러한 손상은 결국 장식용 에나멜의 심미적 외관을 열화시키고 조리 표면의 내구성을 감소시킨다.
따라서, 금속 마크 또는 트레이스의 출현을 제한할 수 있는 장식용 에나멜을 포함하는 유리-세라믹 기재가 필요하다.
본 발명의 제1 측면에 따르면, 청구항 1에 따른 미네랄 기재(1001)가 제공되며, 종속 청구항은 유리한 실시양태이다.
본 발명의 제2 측면에 따르면, 본 발명의 제1 측면에 따른 기재의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 주목할 만한 장점은 에나멜(들)에 대한 금속 기구의 반복적인 마찰의 영향으로부터의 가시적인 금속 마크 및 트레이스의 수의 명확한 감소이다. 이러한 감소는 표준 에나멜을 포함하는 유리-세라믹 기재와 비교하여 50%, 또는 심지어 70% 이상에 도달할 수 있다.
두 번째 장점은, 특히 알루미늄 또는 스테인리스강과 같은 일반적인 가장 밝은-색상의 금속을 기초로 하는 기구에서, 가시적인 금속 마크 또는 트레이스의 수의 감소가 관찰된다는 것이다.
세 번째 장점은 가시적인 금속 마크 및 트레이스의 수의 감소가 어두운 또는 검은색 미네랄 기재 상의 어두운 또는 검은색 에나멜과 같은, 미네랄 기재와의 콘트라스트 수준이 낮은 장식용 에나멜에서 특히 주목할 만하다는 것이다.
네 번째 장점은 에나멜의 임의의 화학적 조성에 본 발명을 적용할 수 있다는 가능성과 함께 본 발명을 쉽게 구현할 수 있다는 것이다.
도 1은 에나멜을 포함하는 미네랄 기재의 개략적인 직각 개략도이다.
도 2는 에나멜을 포함하는 미네랄 기재의 단면의 개략적인 직각 개략도이다.
도 3은 본 발명에 따른 미네랄 기재 상의 무기 에나멜의 표면 프로파일의 예이다.
도 4는 본 발명의 의미 내에서 무기 에나멜에 의해 형성된 패턴의 실시예의 개략도이다.
도 5는 본 발명에 따른 실시예에 대한 지형학적 프로파일의 3D 표현의 제1 예이다.
도 6은 본 발명에 따른 실시예에 대한 지형학적 프로파일의 3D 표현의 제2 예이다.
도 7은 본 발명에 따른 실시예 및 대조예에 대한 지형학적 기울기의 함수로서의 총 조도의 그래프 표현이다.
도 2는 에나멜을 포함하는 미네랄 기재의 단면의 개략적인 직각 개략도이다.
도 3은 본 발명에 따른 미네랄 기재 상의 무기 에나멜의 표면 프로파일의 예이다.
도 4는 본 발명의 의미 내에서 무기 에나멜에 의해 형성된 패턴의 실시예의 개략도이다.
도 5는 본 발명에 따른 실시예에 대한 지형학적 프로파일의 3D 표현의 제1 예이다.
도 6은 본 발명에 따른 실시예에 대한 지형학적 프로파일의 3D 표현의 제2 예이다.
도 7은 본 발명에 따른 실시예 및 대조예에 대한 지형학적 기울기의 함수로서의 총 조도의 그래프 표현이다.
본 발명의 의미 내에서, "에나멜"은 충전제, 작용제 및/또는 착색 및/또는 구조화 안료가 선택적으로 분산될 수 있는 어닐링된 유리 프릿(frit)을 일반적으로 포함하는 유리질 또는 복합 물질을 의미하는 것으로 이해된다.
본 발명의 의미 내에서, "패턴"은 상기 패턴에 의해 커버된 미네랄 기재의 주어진 표면에 대해, 상기 표면의 커버율이 엄격하게 100% 미만, 바람직하게는 90% 미만인 불연속적인 장식용 그리드를 의미하는 것으로 이해된다.
본 발명의 의미 내에서, 미네랄 기재의 주어진 표면 상에 패턴을 형성하는 에나멜의 "커버율"은 상기 패턴에 의해 커버된 상기 주어진 표면의 비율을 의미하는 것으로 이해된다. 다시 말해서, 이는, 백분율로서 표현되는, 상기 주어진 표면 상의 패턴에 의해서 커버된 표면의 비율에 상응한다.
이들 마지막 두 정의에 따르면, 균일한, 즉 연속적인 그리드로 이루어지고, 미네랄 기재의 주어진 표면에 대해 상기 표면의 100%의 커버율을 갖는 "고체"는 패턴이 아니다.
본 발명의 의미 내에서, "잉크 커버리지율"은 잉크젯 프린팅 분야에서 공지되고 정의된 바와 같은 잉크 커버리지율을 의미한다. 주어진 개별 잉크에 대해, 그것은 인쇄가능한 픽셀의 총 수에 대한 실제로 인쇄된 픽셀의 수에 대응한다. 잉크젯 프린팅의 경우에, 이는 사용되는 프린팅 장치의 해상도에 의존할 수 있다.
본 발명의 의미 내에서, "지형학적 기울기"는 상이한 고도에 위치한 표면의 두 지점 사이의 경사의 탄젠트(tangent)로서, 또는 심지어 일반적으로 수평인 기준 레벨에 대한 중력 각도의 탄젠트로서 정의되는 경사도의 현재 측정치를 의미하는 것으로 이해된다. 측정치는 일반적으로 백분율로 표현된다.
본 발명의 의미 내에서, "총 조도"는 ISO 4287:1997 표준의 섹션 4.1.5에 정의된 바와 같은 Rt로 표시되는 총 조도를 의미하는 것으로 이해된다. 이는 프로파일의 샘플링 길이에 걸쳐 가장 큰 프로파일 피크 높이 Zp와 가장 큰 프로파일 밸리 깊이 Zv의 합으로서 정의된다.
예시적인 예로서, 도 1을 참조하면, 조리 장치의 표면으로서 사용되는 것과 같은 미네랄 기재(1001)는 그의 표면 중 적어도 하나에 무기 에나멜(1002)이 제공된 미네랄 기재(1001) 자체를 포함한다. 도 1에서, 에나멜(1002)은 패턴의 일부를 형성하는 선 형태로 도시되어 있다. 이는 임의의 적합한 패턴을 형성할 수 있다.
두께가 1 내지 3 μm이고 0.75 mm 이격된, 각 변이 약 1.25 mm인 정사각형들의 주기적인 패턴 형태의 패턴의 일 예시. 기재의 표면 상의 무기 에나멜의 커버율은 40%이다.
본 발명의 제1 측면에 따르면, 도 1 및 도 2를 참조하면, 패턴을 형성하는 무기 에나멜(1002)을 표면 중 적어도 하나 상에 포함하는 미네랄 기재(1001)에 있어서,
- 상기 무기 에나멜(1002)은 그의 표면(1002-S)의 총 조도 Rt가 2 μm 이하이고,
- 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S)으로부터 돌출된 무기 에나멜(1002)의 가장자리(1002a, 1002b)는 1.4% 이하의, 백분율로서 표현된 지형학적 기울기 값을 갖는다.
본 발명을 축소시키는 이론적 또는 실제적 고려사항이 아닌, 본 발명이 제공하는 현저한 이점에 대한 가능한 설명은, 무기 에나멜과 관련하여, 2 μm 미만의 총 표면 조도와 1.4% 미만의 지형학적 기울기 사이의 상승작용이 상기 무기 에나멜의 표면 상에서의 금속 기구, 특히 연질 금속의 활주를 개선하고, 따라서 금속 입자가 떨어져나갈 위험을 감소시키는 것을 가능하게 한다는 것일 수 있다.
앞선 정의에 따라, 지형학적 기울기는 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S)으로부터 돌출된 패턴을 형성하는 무기 에나멜(1002)의 가장자리(1002a, 1002b)의 경사도의 탄젠트에 상응한다. 다시 말해서, [도 2]를 참조하면, 이는 상기 고도 변화의 거리에 대한 고도 변화의 탄젠트, 즉, 고도 차이에 대해 고려된 두 지점 사이의 거리(l)에 대한 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S)과 무기 에나멜(1002)의 상부 표면(1002-S) 사이의 고도 차이(h)의 비 h/l에 상응한다. 백분율로 표현하려면, 비율 h/l에 100을 곱한다.
패턴을 형성하는 유기 에나멜의 지형학적 기울기는, 미네랄 기재의 표면 상에의 증착 방법 및 파라미터에 따라, 상기 유기 에나멜의 두께, 그의 화학적 조성, 및/또는 혼합물, 예를 들어 그것을 형성하는 데 사용된 미네랄 유리 프릿 및/또는 미네랄 안료의 혼합물의 입자의 크기, 특히 그의 조합에 따라 달라질 수 있다. 그러나, 이들 특성만으로는 주어진 지형학적 기울기 값을 규정하기에 충분하지 않다. 다시 말해서, 동일한 혼합물로 획득되고 동일한 두께를 갖는 동일한 조성의 2개의 무기 에나멜은 이들이 미네랄 기재 상에 증착되는 방법에 따라 상이한 지형학적 기울기를 가질 수 있다.
무기 에나멜(1002)의 상부 표면(1002-S)은 일반적으로 가장 큰 표면이고 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S)에 실질적으로 평행하다.
라디안으로 표현되는 경사도 각도는 각도 형태의 지형학적 기울기의 표현이다. 이어서, 경사도 각도 α는 탄젠트 함수의 역함수(arctan 또는 tan-1로 나타냄)를 비율 h/l에 적용함으로써 획득된 값, 즉 아래의 값에 상응한다.
이 비율에 180/π를 곱하면 각도를 도 단위로 변환할 수 있다.
지형학적 기울기의 값은 바람직하게는 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S) 상에 돌출된 무기 에나멜(1002)의 가장자리(1002a, 1002b)의 상이한 장소 또는 상이한 위치에서 측정된 개별의 지형학적 기울기의 값의 산술 평균이다.
패턴을 형성하는 에나멜은 일반적으로 장식, 신호전달 및/또는 설명 목적을 위해, 특히 예를 들어 조리 장치 또는 조리대의 가열 및/또는 제어 구역과 같은 특정 기능적 구역을 설명하기 위해 미네랄 기재의 표면 상에 증착된 장식 및/또는 기능적 코팅의 기능을 갖는다.
글레이징(glazing) 또는 보다 간단하게 장식용이라고도 불리는 다양한 에나멜링 방법, 및 상기 에나멜링 방법의 목적을 위해 사용되는 미네랄 또는 세라믹 페이스트, 잉크 또는 페인트의 조성은 선행 기술로부터, 특히 유리-세라믹과 같은 미네랄 기재를 위한 에나멜 분야에서 공지되어 있다.
에나멜은 일반적으로 적합한 방법을 사용하여, 예를 들어 스크린 프린팅 또는 잉크젯 프린팅에 의해 미네랄 기재의 표면 상에 증착된 페이스트, 잉크 또는 미네랄 또는 세라믹 페인트의 열 처리에 의해 획득된다.
페이스트, 잉크 또는 미네랄 또는 세라믹 페인트는 다소 점성인 유기 매질에 미세하게 분리되고 분산된 고체 미네랄 상을 포함한다. 유기 매질은 고체 상이 적절한 증착 방법으로 적용되도록 한다. 이는 또한 장식, 신호전달 및/또는 설명 구역에서의 미네랄 상의 균질하고 균일한 분포를 보장하기 위해 미네랄 상을 현탁 및/또는 분산시키는 기능을 갖는다.
미네랄 기재(1001)는 금속 기구에 의해 응력을 받을 수 있는 임의의 미네랄 기재, 특히 주방 기구가 사용되는 환경에서 예를 들어 조리대 및/또는 장치 및/또는 조리 유닛의 표면으로서 사용될 수 있는 미네랄 기재일 수 있다.
일부 실시양태에서, 미네랄 기재(1001)는 유리-세라믹 기재 또는 미네랄 유리 기재일 수 있다. 예로서, 이는, 리튬 알루미노실리케이트-기초의 유리-세라믹과 같은, 조리대 및/또는 장치 및/또는 조리 유닛의 표면으로서 사용하기에 적합한 임의의 유형의 유리-세라믹일 수 있다. 또한 보로실리케이트 또는 알루미노실리케이트 유리와 같은, 동일한 적용분야에 적합한, 선택적으로 템퍼링된(tempered) 임의의 유형의 미네랄 유리일 수 있다.
본 발명에 따르면, 무기 에나멜(1002)의 총 표면 조도의 값은 2 μm 이하이다. 특정 무기 에나멜 조성의 경우, 더 낮은 총 조도 값에 도달할 수 있다. 따라서, 특정 유리한 실시양태에서, 상기 총 표면 조도의 값은 1.5 μm 이하, 바람직하게는 1 μm 이하일 수 있다. 총 표면 조도의 감소는 금속 마크 및 트레이스의 가시성을 더 감소시킬 수 있다는 것이 관찰되었다.
본 발명에 따르면, 유리-세라믹 기재(1001)의 표면(1001-S)에서 돌출된 무기 에나멜(1002)의 가장자리(1002a, 1002b)의 지형학적 기울기 값은 1.4% 이하이다. 특정 무기 에나멜 조성(1002)의 경우, 더 낮은 값에 도달할 수 있다. 따라서, 특정 유리한 실시양태에서, 상기 지형학적 기울기의 값은 1.2% 이하일 수 있다. 지형학적 기울기의 감소는 무기 에나멜 상에서의 금속 물체 또는 기구의 활주를 추가로 촉진할 수 있고, 따라서 금속 마크 및 트랙의 가시성을 추가로 감소시키는 것을 가능하게 하는 것으로 관찰되었다.
금속 마크 및 본 발명이 허용하는 마크의 가시성의 감소로 인해, 금속 입자의 매립 및/또는 사용자에 의한 반복된 세정에 의해 유발되는 에나멜에 대한 가능한 손상을 보상할 필요성이 덜 중요해지거나 심지어 존재하지 않기 때문에 무기 에나멜의 두께를 유리하게 감소시킬 수 있다.
따라서, 특정 실시양태에서, 무기 에나멜(1002)의 두께는 유리하게는 1.5 μm 내지 3.5 μm, 또는 심지어 1.5 μm 내지 2 μm일 수 있다.
금속 마크 및 트레이스는 미네랄 기재(1001)와의 콘트라스트 수준이 낮은 무기 에나멜(1002)에 대해, 특히 검은색의 어두운 외관을 갖든, 또는 예를 들어 백색의 밝은 색상의 외관을 갖든, 상당히 감소된다. 따라서, 특히 유리한 실시양태에서, 미네랄 기재(1001) 상의 무기 에나멜(1002)의 반사로 측정된 휘도 L*(에나멜/기재)와 무기 에나멜(1002)이 없는 미네랄 기재(1001)의 반사로 측정된 휘도 L*(기재) 사이의 차이로서 정의되는 상대 휘도 차이 ΔL*는 50 이하, 바람직하게는 35 이하이다. 이는 특히 2 내지 45, 선택적으로 5 내지 35일 수 있으며, 이들 값은 미네랄 기재(1001)에 대해 상당히 낮은 콘트라스트의 무기 에나멜(1002)에 상응하는 값이다.
상대 휘도 차이 ΔL*는 또한 다음의 식의 형태로 표현될 수 있다:
용어 "휘도"는 ISO 11664-4 표준에서 규정되고 측정되는 바와 같은, L*로 표시되는 휘도를 의미하는 것으로 이해된다. L*(기재)로 표시되는 미네랄 기재(1001)의 휘도는 반사로 측정된다. L*(에나멜/기재)로 표시된, 미네랄 기재(1001) 상에 증착된 무기 에나멜(1002)의 휘도는 반사로 측정된다.
조리 장치 또는 조리대에서, 무기 에나멜과의 콘트라스트 차이가 낮은 미네랄 기재는 일반적으로 어두운 외관, 선택적으로 검은색, 약한 투과성 및 낮은 산란성의 기재이다. 또한, 특정 실시양태에서, 미네랄 기재(1001)의 광 투과율 Tl은 17% 이하, 바람직하게 10% 이하, 또는 심지어 5% 이하이다. 비-유백색 표준 검은색 유리-세라믹과 같은 검은색 미네랄 기재는 5% 미만, 특히 0.2% 내지 2%의 광 투과율을 갖는다.
"광 투과율"은 광원 D65 및 표준 관찰자를 사용하여 표준 EN 410:1999의 섹션 4.2에서 규정되고 측정되는 바와 같은, Tl로 표시되는 광 투과율을 의미하는 것으로 이해된다.
특히 특정 실시양태에서, 미네랄 검은색 기재, 상기 미네랄 기재(1001)의 반사로 측정된 휘도 L*(기재)은 추가로 5 이하, 바람직하게는 2 이하일 수 있다. 예를 들어, 유로케라(Eurokera) 사에 의해 케라블랙(KeraBlack)® 또는 케라블랙+(KeraBlack+)®이라는 명칭으로 판매되는 유리-세라믹과 같은 검은색 미네랄 기재는 이러한 휘도 수준을 갖는다.
본 발명의 장점 중 하나는 상기 무기 에나멜의 표면 상에서의 금속 기구, 특히 연질 금속의 활주를 촉진하고, 따라서 금속 입자가 떨어져나갈 위험을 감소시키는 것이다.
유리한 실시양태에서, 상기 무기 에나멜(1002)이 제공된 미네랄 기재(1001)의 표면의 정적 및/또는 동적 마찰 계수라고도 불리는 마찰 계수는 0.30 이하, 바람직하게는 0.25 이하이다. 이러한 정적 및/또는 동적 마찰 계수 값을 갖는 본 발명에 따른 미네랄 기재는 일반적으로 금속 기구의 반복된 마찰의 영향으로부터의 가시적인 금속 마크 및 트레이스의 수를 감소시키는 측면에서 최상의 성능을 갖는다.
마찰 계수는 표준 ASTM D1894, ISO 8295:1995 및 ISO 15359:1999에 규정된 바와 같은 정적 및/또는 동적 마찰 계수를 의미하는 것으로 이해된다.
정적 마찰 계수는, 접촉 및 활주를 유지하기 위해서 2개의 표면에 수직으로 적용되는 힘에 대한 정적 마찰력, 즉 하나의 표면이 다른 표면 상에서 활주하는 움직임을 개시하는 데 필요한 힘 사이의 비율로 정의된다.
동적 마찰 계수는, 접촉 및 활주를 유지하기 위해서 2개의 표면에 수직으로 적용되는 힘에 대한, 동적 마찰력, 즉 하나의 표면이 다른 표면 상에서 활주하는 움직임을 유지하는 데 필요한 힘 사이의 비율로 정의된다.
상기 무기 에나멜(1002)이 제공된 미네랄 기재(1001)의 표면의 정적 및/또는 동적 마찰 계수는 무기 에나멜(1002)이 존재하는 미네랄 기재(1001)의 표면 상에서 측정될 수 있는 정적 및/또는 동적 마찰 계수를 의미하는 것으로 이해된다.
설명된 실시양태 중 임의의 실시예에 따른 미네랄 기재(1001)는 유리하게는 조리 장치, 특히 소위 "플렉스(flex)" 표면을 갖는 인덕션 조리 장치, 또는 조리대, 특히 음식 준비를 위한 테이블 또는 작업 캐비닛과 같은 가구 장비의 조리대로서 사용될 수 있다.
본 발명의 제2 측면에 따르면, 앞서 설명된 실시양태 중 어느 하나에 따른 미네랄 기재(1001)의 제조 방법이 제공되며, 상기 방법은 미네랄 잉크를 미네랄 기재(1001) 상에 잉크젯 프린팅함으로써 무기 에나멜(1002)을 증착시키는 단계를 포함하며, 여기서 잉크 커버리지율은 적어도 45% 및 최대 85%이고, 잉크젯 프린팅에 사용되는 미네랄 잉크 중 고체 분획의 중량 백분율은 상기 미네랄 잉크의 40% 이하이다.
예시적인 예로서, 800 dpi에서의 잉크젯 프린팅 작업의 경우, 평방 인치의 정사각형 패턴 상의 프린팅가능한 픽셀의 수는 640,000 픽셀이다. 주어진 개별의 잉크에 대해, 단지 200,000개의 픽셀만이 실제로 프린팅되면, 주어진 단일 잉크에 대한 잉크 커버리지율은 200,000/640,000, 또는 백분율로서 표현 시 31.5%이다.
여러 개의 개별의 잉크, 예를 들어 상이한 색의 잉크가 사용되는 경우, 잉크 커버리지율은 이들 개별의 잉크 각각의 잉크 커버리지율의 합이다.
전형적으로 20 내지 100 Pa.s인 잉크의 점도 및 전형적으로 12 내지 84 pL인 잉크 액적의 부피가 또한 잉크 커버리지율에 영향을 미칠 수 있다. 매우 유동적인 잉크 및/또는 큰 부피의 액적은, 특히 선택된 해상도에서 잉크젯 프린팅 장치에 의해서 실제로 프린팅된 것 주변의 픽셀을 커버함으로써, 프린팅된 표면의 더 큰 커버리지를 유발할 수 있다. 이들 파라미터는 일반적으로 잉크젯 프린팅 장치에서 잉크 커버리지율을 정의할 때 고려된다.
"미네랄 잉크"는 잉크젯 프린팅에 의해 에나멜을 증착시키기에 적합한 미네랄 잉크를 의미하는 것으로 이해된다. 일반적으로 미네랄 잉크는 일반적으로 유기 액체 상 중의 미세하게 분리된 고체 미네랄 상의 현탁액 또는 콜로이드 분산액의 형태이다. 콜로이드 현탁액의 고체 미네랄 상은 일반적으로 유리 프릿 및 선택적으로 미네랄 안료를 포함한다.
미네랄 잉크는 잉크젯 프린팅 방법과 호환성 있는 밀도, 점도 및 표면 장력을 갖는다. 이들 파라미터의 값은 사용되는 잉크젯 프린팅 장치에 따라 달라지며, 획득되는 장식용 패턴의 품질에 영향을 미친다.
고체 미네랄 상을 구성하는 입자의 크기는 일반적으로 마이크로미터, 또는 심지어 서브-마이크로미터 단위이다. 액체 상은 주로 일반적으로 유기 용매를 포함한다. 용매의 유형 및 양은 미네랄 잉크의 유변학적 특성, 표면 장력 및 건조 거동에 부분적으로 영향을 미친다. 고체 상의 응집 및/또는 침강을 방지하기 위한 분산제, 뿐만 아니라 미네랄 잉크의 표면 장력을 조정하기 위한 계면활성제를 첨가하는 것이 또한 가능하다.
유기 용매, 분산제, 계면활성제 및 유리 프릿의 중량 비율은 미네랄 잉크의 특성이 잉크젯 프린팅에 사용되는 장치에 적합하도록 조정될 수 있다. 유기 용매는 일반적으로 미네랄 잉크의 유기 용매, 분산제 및 계면활성제의 혼합물의 80 중량%를 나타낼 수 있다. 유기 용매의 유형 및 양은 사용되는 잉크젯 프린팅 장치의 기술적 제약 및 제조 제약에 따라 조정될 수 있다.
잉크젯 프린팅에 의해 증착된 미네랄 잉크를 사용하여 에나멜을 형성하기 위해, 미네랄 잉크가 건조되는 온도는 25 내지 180℃일 수 있다. 에나멜 전구체 유리의 소성 열처리 온도는 650℃ 이상일 수 있다. 바람직하게는, 온도는 1100℃를 초과하지 않는다.
유기 용매는 실온에서 액체인 유기 화합물 또는 1개 이상의 알코올 작용기를 포함하는 실온에서 액체인 유기 화합물의 혼합물일 수 있다.
알코올 작용기를 포함하는 유기 화합물의 선택은 잉크젯 프린팅에 사용되는 방법 및/또는 장치에 따라 달라진다. 미네랄 기재 상의 미네랄 잉크의 증착이 느린 경우, 방법 및/또는 장치의 압력 및 온도의 사용 조건 하에 낮은 포화 증기압을 갖는 용매 또는 용매의 혼합물을 사용하는 것이 유리하다. 다시 말해서, 표준 온도 및 압력 조건 하에, 용매 또는 용매의 혼합물이 너무 빨리 증발하는 것을 방지하기 위해, 그의 끓는점이 더 높을 수 있다.
유기 용매의 비제한적 예는 메틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 글리콜 에테르 예컨대 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 또는 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르이다.
분산제는 바람직하게는 적어도 1개의 산 작용기를 포함하는 공중합체 또는 공중합체의 혼합물이다. 분산제는 고체 상의 응집 및/또는 침강을 방지하는 것을 가능하게 한다. 이는 바람직하게는 유기 용매, 분산제 및 계면활성제의 질량 백분율의 합계의 3 내지 7 중량%, 최대 10 중량% 이하를 나타낸다. 하나 이상의 산 작용기를 포함하는 공중합체의 알킬암모늄 염은 분산제의 비제한적 예이다.
계면활성제는 바람직하게는 폴리에테르 또는 폴리에테르의 혼합물이다. 이는 바람직하게는 유기 용매, 분산제 및 계면활성제의 질량 백분율의 합계의 0.05 중량% 내지 0.5 중량%를 나타낸다.
미네랄 잉크는 착색 미네랄 안료를 포함하지 않을 수 있다. 대안적으로, 에나멜 색조 또는 색상을 제공하기 위해 미네랄 안료를 포함할 수 있다. 미네랄 안료는 미네랄 잉크 및 에나멜의 색상을 조정하는 것을 가능하게 한다. 미네랄 안료는 에나멜을 형성하기 위해 미네랄 잉크의 열 처리 동안 산화될 수 있는 금속 산화물 및/또는 금속 또는 금속 합금을 기초로 할 수 있다. 미네랄 안료의 비제한적 예는 산화티타늄, 산화세륨, 산화코발트, 산화철, 산화지르코늄, 산화망가니즈, 스피넬, 또는 도핑된 알루미나이다.
일 실시양태에서, 미네랄 잉크의 고체 분획의 입자 크기 분포의 D90은 최대 2 μm, 바람직하게는 1 μm 내지 2 μm이다. D90은 ISO 13320:2009 표준에 따라 레이저 회절 방법에 의해 결정된 입자 크기 분포로부터 계산된다. 이는 혼합물의 입자의 총 부피의 90%를 나타내는 입자의 크기에 상응한다. 다시 말해서, 유리 프릿 및 미네랄 안료의 혼합물의 입자의 부피의 90%는 최대 2 μm, 바람직하게는 1 내지 2 μm의 크기를 갖는 입자로 이루어진다. 유리한 실시양태에서, 미네랄 잉크의 표면 장력은 25℃에서 약 26 mN/m이다. 25℃에서 약 26 mN/m의 표면 장력을 갖는 미네랄 잉크가 본 발명의 제1 측면에 따라 미네랄 기재 상에 무기 에나멜을 획득하는 것을 용이하게 할 수 있는 것으로 밝혀졌다.
기재된 모든 실시양태는, 이들이 본 발명의 제1 측면에 관한 것이든 제2 측면에 관한 것이든, 서로 조합될 수 있다.
실시예
본 발명에 따른 미네랄 기재의 4개의 실시예 E1, E2, E3 및 E4에서, 3개의 상이한 무기 에나멜 A, B 및 C가 유로케라 에스.엔.씨.사에 의해 판매되는 유리-세라믹 플레이트 케라블랙+® (KB+) 상에 증착된다.
에나멜 A는 표 1에 기재된 조성을 갖는 유리 프릿 F 60-70%, 코발트 및 규소의 혼합 산화물 15-20% 및 철, 크로뮴, 코발트 및 니켈의 혼합 산화물 15-20%를 포함하는 검은색 에나멜이다.
에나멜 B는 에나멜 A 75 질량%, 및 표 1에 기재된 조성을 갖는 유리 프릿 F 70-75% 및 산화티타늄 25-30%를 포함하는 에나멜 25 질량%의 혼합물로 형성된 짙은 회색 에나멜이다.
에나멜 C는 에나멜 A 50 질량%, 및 표 1에 기재된 조성을 갖는 유리 프릿 F 70-75% 및 산화티타늄 25-30%를 포함하는 에나멜 50 질량%의 혼합물로 형성된 회색 에나멜이다.
[표 1]
실시예 E1, E2 및 E3에서, 무기 에나멜을 본 발명의 제2 측면에 따른 방법에 따라, 보다 특히 55%의 잉크 커버리지율 Te로 미네랄 잉크의 잉크젯 프린팅에 의해 현상하였다. 미네랄 잉크 중의 고체 분획은 40 중량% 이하이다. 미네랄 잉크의 고체 분획의 입자 크기 분포의 D90은 약 1.3-1.5 μm이다.
실시예 E4에서, 무기 에나멜을 고체 분획의 입자 크기 분포의 D90이 약 1.6 μm인 스크린-프린팅 페이스트를 사용하여 비표준 스크린-프린팅 방법에 의해 증착시켰다.
본 발명에 따르지 않는 제1 대조예 CE1에서, 무기 에나멜 A는 유로케라 에스.엔.씨.사에 의해 시판되는 케라블랙+® (KB+)으로 공지된 유리-세라믹 플레이트 상에 표준 스크린-프린팅 방법에 의해 증착된다. 스크린-프린팅 페이스트의 고체 분획의 입자 크기 분포의 D90은 약 5.1 μm이다.
본 발명에 따르지 않는 제2 대조예 CE2에서, 무기 에나멜 A는 40%의 잉크 커버리지율 Te로, 유로케라 에스.엔.씨.사에 의해 시판되는 케라블랙(KeraBlack)+® (KB+)로 공지된 유리-세라믹 플레이트 상에 미네랄 잉크를 프린팅하는 방법에 의해 증착된다. 미네랄 잉크의 고체 분획의 입자 크기 분포의 D90은 약 1.4 μm이다.
실시예 E1, E4 및 대조예 CE1에서, 에나멜은 [도 4]에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 약 1.25 mm의 변, 1 내지 3 μm의 두께를 가지며 0.75 mm 이격된 정사각형들의 주기적 패턴의 형태로 증착된다. 기재의 표면 상의 무기 에나멜의 커버율은 40%이다.
실시예 E2 및 E3 및 대조예 CE2에서, 에나멜은 기재 상의 에나멜의 커버율이 약 25%인 랜덤 유닛의 형태로 증착된다.
실시예 E1, E2, E3 및 E4 및 대조예 CE1 및 CE2의 특징을 표 2에 요약하였다.
[표 2]
무기 에나멜이 없는 미네랄 기재 단독의 광 투과율은 광원 D65 및 표준 관찰자를 사용하여 EN 410:1999 표준의 섹션 4.2에 따라 퍼킨 엘머 람다 950 분광광도계를 사용하여 측정하였다. 실시예 E1, E2, E3 및 E4, 및 대조예 CE1 및 CE2에 대한 미네랄 기재 단독의 측정된 광 투과율 Tl은 약 1.5%이다.
L*로 표시되는 휘도는 45°의 조명 각도 및 0°에서의 관찰 각도로 BYK 가드너 SPC008 분광광도계를 사용하여 ISO 11664-4 표준에 따라 측정되었다.
무기 에나멜이 없는, L*(기재)으로 표시된 미네랄 기재 단독의 휘도는 흰색 배경, 이 경우 BYK 가드너에 의해 공급된 표준 배경 차트 2810 상에서의 반사로 측정된다 (L*=92.07; a*= -0.75; b*= 4.91).
L*(에나멜/기재)로 표시되는 미네랄 기재 상에 증착된 무기 에나멜의 휘도는 반사로 측정된다. 미네랄 기재의 표면은 무기 에나멜에 의해 완전히 커버된다.
상대 휘도 차이 ΔL*는 하기 식을 사용하여 계산된다:
각각의 실시예 E1, E2, E3 및 E4, 및 대조예 CE1 및 CE2의 무기 에나멜의 총 표면 조도 Rt를 ISO 표준 4287:1997의 섹션 4.1.5에 따라 미투토요(Mitutoyo) SJ-400 기계적 프로브를 사용하여 측정하였다.
유리-세라믹 기재의 표면으로부터 돌출된 무기 에나멜의 지형학적 기울기 Pt는 표면 프로파일을 사용하여 계산된다. 표면 프로파일은 파라미터 Wt에 적용된 PC75, 비-가우시안 필터가 장착된 미투토요 SJ-400 기계적 프로브를 사용하여 측정된다.
본 발명에 따른 미네랄 기재의 표면 상의 무기 에나멜 상의 표면 프로파일 측정의 예시적인 예가 도 3에 도시되어 있다.
프로파일은 15 mm의 길이에 걸쳐 미네랄 기재의 표면에 돌출된 에나멜의 가장자리에서 측정된다. 에나멜은 다각형 기하학적 형상을 갖는다. 미네랄 기재의 표면과 에나멜의 소위 유효 표면 사이의 고도 변화의 탄젠트에 상응하는 지형학적 기울기는 하기 식을 사용하여 계산된다:
여기서 h는 미네랄 기재의 표면과 무기 에나멜의 유효 표면 사이의 높이 차이이고, 일반적으로 미네랄 기재의 표면에 대한 에나멜의 두께에 상응하고, l은 고도 변화의 길이이다.
이는 동일한 무기 에나멜 상에서 미네랄 기재의 표면으로부터 돌출하는 에나멜의 가장자리의 상이한 위치 또는 상이한 위치에서의 지형학적 기울기의 적어도 3회의 측정으로 진행된다. 지형학적 기울기의 산술 평균 값 Ptm은 이들 적어도 3개의 측정치로부터 계산된다.
도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 실시예에서 아메텍(AMETEK)사로부터의 테일러 홉슨(Taylor Hobson) 3D 표면 조면계를 사용하여 측정된 지형학적 프로파일의 3D 표현의 예이며, 이로부터 표면 프로파일 측정이 수행될 수 있다.
금속 마찰의 가시성을 아래의 프로토콜을 사용하여 평가하였다. 20 cm의 직경 및 3 kg의 중량을 갖는 스테인리스강 또는 알루미늄으로 제조된 포트를 무기 에나멜이 제공된 미네랄 기재 상에 경사지게 위치시키고, 이어서 10회의 앞뒤 움직임으로 약 0.40 m/s의 속도로 움직이게 한다. 스테인리스강 포트는 200 HV의 비커스 경도를 갖는다.
금속 마찰 마크의 레벨은 2개의 상이한 방법, 즉 시각적 분석 평가 방법 및 이미지 분석 평가 방법에 따라 평가된다.
제1 시각적 분석 방법에 따르면, 에나멜의 열화 D는 정상 관찰 조건 하에서 60 cm의 거리에서 0 내지 5의 스케일에 따라 시각적으로 평가된다. 정도 5는 매립된 금속 입자의 상당한 가시성에 해당하고, 정도 0은 가시적인 금속 마크 또는 트레이스가 부재함에 해당한다. 다시 말해서, 정도가 낮을수록, 육안에 가시적인 금속 마찰 트레이스 또는 마크가 적다.
제2 이미지 분석 평가 방법에 따르면, 먼저 이러한 목적에 적합한 라이트 박스 내의 3색 발광 다이오드의 인공광 아래에서 에나멜의 규정된 영역에서 디지털 사진 이미지가 촬영된다.
이어서, 디지털 사진 이미지는 회색 스케일로 이미지를 변환하는 디지털 처리를 받게 되고, 그로부터 회색 레벨의 평균값 Vm이 계산된다.
이와 동일한 작업이, 금속 마찰을 겪은 에나멜의 영역 및 금속 마찰을 겪지 않은 에나멜의 영역에 대해 수행되었다. 이들 2개의 영역 각각에 대해 획득된 값 Vm 사이의 차이 ΔVm가 계산된다. 파라미터 ΔVm의 값이 높을수록, 에나멜에 매립된 금속 입자의 수가 많다.
동시에, 동일한 사진 이미지가 디지털 이진화 처리를 거치며, 이로부터 픽셀의 총 수에 대한 더 큰 강도, 즉 값 1의 픽셀의 수의 비율로서 정의되는 가시성 지수 Iv가 계산된다. 이 비율 Iv이 높을수록, 에나멜 내의 매립된 금속 입자의 가시성이 높아진다.
이미지 크기는 400,000 및 450,000 픽셀로 구성된 에나멜 분석 구역 크기에 대해 3264x2448 픽셀이다. 이는 실시예 E1, E4 및 대조예 CE1에 대한 패턴의 약 10x13 정사각형에 상응한다.
각각 Fs 및 Fd로 표시되는 정적 및 동적 마찰 계수는 하나텍 인스트루먼츠(Hanatek Instruments)®사에 의해 시판되는 마찰 계수를 측정하는 AFT 기기 상에서 표준 ASTM D1894, ISO 8295:1995 및 ISO 15359:1999에 따라 측정되었다. 마찰 헤드는 베르너(Berner)®사로부터의 직경 36 mm 및 두께 2 mm의 스테인리스강 워셔 NFE 25.513이다. 측정은 50 mm의 이동 길이에 걸쳐 500 mm/min의 마찰 헤드의 이동 속도로 수행되었다.
마찰 계수의 임의의 측정 전에, 샘플을 래보러토리즈 프로덴 클린트(Laboratoires Prodene Klint)®사에 의해 시판되는 클린 글래스(Clin'Glass) 세제를 사용하여 미리 세정한다. 각각의 샘플에 대해 4회 측정을 수행하고, 그 평균을 계산한다.
이들 측정을 위해, 기재 표면 상의 무기 에나멜은 실시예 E2 및 E3 및 대조예 CE2에 대해 랜덤 패턴을 갖고, 실시예 E1, E4 및 대조예 CE1에 대해 한 변이 약 1.25 mm인 정사각형들의 주기적 패턴을 갖는다.
모든 결과는 표 3에 정리되어 있다. 파라미터 D, ΔVm 및 Iv의 값이 스테인리스강 (스테인리스) 및 알루미늄 (알루) 포트를 사용한 금속 마찰에 대해 보고되고, 각각 "스테인리스" 및 "알루"로 주석이 달렸다.
[표 3]
표 3의 결과는 금속 마크 및 트레이스의 수, 및 그에 따라 가시성이 대조예 CE1 및 CE2에 대한 것보다 본 발명에 따른 실시예 E1, E2, E3 및 E4에서 더 감소된다는 것을 보여준다. 실제로, 스테인리스강(스테인리스) 또는 알루미늄(알루) 포트를 사용한 마찰에 대해 고려되는 파라미터 D, ΔVm 및 Iv에 관계없이, 값은 본 발명에 따른 실시예에서 더 낮다. 파라미터 ΔVm 및 Iv의 값은 75%에서 92%로 감소하는데, 이는 금속 마크 및 트레이스의 가시성이 가능한 한 많이 감소된다는 것을 의미한다.
실시예 E1의 결과와 실시예 E4의 결과의 비교는 본 발명의 제2 측면에 따른 제조 방법이 사용될 때 파라미터 값 D, ΔVm 및 Iv가 더 낮다는 것을 보여준다. 따라서, 본 발명에 따른 제조 방법은 마크 및 금속 마크의 가시성을 감소시키는 관점에서 스크린 프린팅 방법보다 더 우수한 성능을 획득하는 것을 가능하게 한다. 스크린 프린팅 방법의 사용은 여전히 가능하다.
실시예 E1, E2 및 E3의 결과의 비교는, 특히 35 미만의 ΔL*를 갖는 어두운 외관, 특히 15 미만의 ΔL*를 갖는 검은색의, 미네랄 기재와의 콘트라스트 수준이 낮은 무기 에나멜의 경우에도 금속 트레이스 및 마크의 가시성이 매우 감소된 채로 남아있음을 보여준다.
본 발명의 특색 및 이점의 추가적인 예시로서, 선행 기술로부터 유래된 여러 실시예를 대조예의 형태로 재현하였으며, 그의 특징은 표 4에 보고되어 있다.
대조예 CE3-CE8은 EP 3 067 334 A1 [SCHOTT AG [DE]] 14.09.2016으로부터 입수하였다. 한편으로는 실시예 CE3-CE5, 및 다른 한편으로는 대조예 CE6-CE8은 각각 3종의 상이한 에나멜 조성 (파르베 1, 파르베 1a 및 파르베 6)을 갖는다. 이들 두 시리즈의 대조예는 2개의 상이한 패턴 (punkmuster 11 및 punkmuster 12)에 따라 증착된다.
대조예 CE7 및 CE9는 FR 2 858 974 A1 [SCHOTT AG [DE]] 25.02.2005로부터 취한 것과 동일한 에나멜 조성을 갖는다. 비교 목적을 위해, 이들은 EP 3 067 334 A1 [SCHOTT AG [DE]] 14.09.2016으로부터 입수한 2개의 상이한 유닛 (punkmuster 11 및 punkmuster 12)에 따라 증착된다.
대조예 CE11 및 CE12는 각각 WO 2019/219691 A1 [EUROKERA [FR]] 21.11.2019의 실시예 E1 및 E2의 조성을 제시한다. 비교 목적을 위해, 이들은 55%의 커버율로 0.6 mm의 폭의 라인의 패턴에 따라 증착된다.
대조예 CE3-CE12의 에나멜은 본 발명에 따른 실시예 E1-E4와 유사하게, 이를 형성하는 데 사용된 혼합물, 예를 들어 미네랄 유리 프릿 및/또는 미네랄 안료의 혼합물의 화학적 조성 및/또는 입자 크기를 가질 수 있다.
실시예 CE3-CE8의 에나멜은 이들이 추출된 문헌에 기재된 방법에 따라 증착시켰다.
대조예 CE1-CE3의 총 조도 및 지형학적 기울기는 실시예 E1-E4 및 대조예 CE1 및 CE2에 대해 사용된 것과 동일한 방법에 따라 측정 및/또는 결정하였다. 결과는 [도 7]에 나타낸 표 5에 보고되어 있다.
도 7에서, 본 발명에 따른 실시예 E1 내지 E4는 실선 둥근 기호로, 대조예 CE3-CE5는 빈 다이아몬드형으로, 대조예 CE6-CE8은 별모양으로, 대조예 CE9-CE10은 빈 정사각형으로, 대조예 CE11 및 CE12는 빈 삼각형으로 나타내었다. 시각적 가이드로서, 2.00 μm의 총 조도 값 Rt 및 1.40%의 지형학적 기울기 Ptm이 각각 수직 파선 및 수평 파선에 의해 나타내어진다.
도 7은 본 발명에 따른 실시예만이 수평선 아래 및 수직선 우측의 규정된 구역에 위치되는 것을 나타낸다. 대조예 CE3-CE12는 모두 이 구역 밖에 있다. 따라서, 도면은 본 발명에 따른 실시예만이 각각 2.00 μm 이하 및 1.4% 이하의 총 조도 Rt 및 지형학적 기울기 값 Ptm을 갖는다는 것을 명확하고 모호하지 않게 보여준다.
Claims (12)
- 패턴을 형성하는 무기 에나멜(1002)을 표면 중 적어도 하나 상에 포함하는 미네랄 기재(1001)이며,
- 상기 무기 에나멜(1002)은 그의 표면(1002-S)의 총 조도 Rt가 2 μm 이하이고,
- 미네랄 기재(1001)의 표면(1001-S)으로부터 돌출된 상기 무기 에나멜(1002)의 가장자리(1002a, 1002b)는 1.4% 이하의, 백분율로서 표현된 지형학적 기울기 값을 갖는,
미네랄 기재(1001). - 제1항에 있어서,
총 표면 조도의 값이 1.5 μm 이하, 바람직하게는 1 μm 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 지형학적 기울기의 값이 1.2% 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
무기 에나멜(1002)의 두께가 1.5 μm 내지 3.5 μm, 또는 1.5 μm 내지 2 μm인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
미네랄 기재(1001) 상의 무기 에나멜(1002)의 반사로 측정된 휘도 L*(에나멜/기재)와 무기 에나멜(1002)이 없는 미네랄 기재(1001)의 반사로 측정된 휘도 L*(기재) 사이의 차이로서 정의되는 상대 휘도 차이 ΔL*가 50 이하, 바람직하게는 35 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 미네랄 기재의 투과율로 측정된 휘도 L*(기재)가 5 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
미네랄 기재의 광 투과율이 17% 이하, 바람직하게는 10% 이하, 또는 5% 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
무기 에나멜(1002)이 제공된 상기 미네랄 기재(1001)의 표면의 정적 및/또는 동적 마찰 계수가 0.30 이하, 바람직하게는 0.25 이하인, 미네랄 기재(1001). - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
미네랄 기재가 유리-세라믹 기재 또는 미네랄 유리 기재인, 미네랄 기재. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 미네랄 기재(1001)의 제조 방법이며, 상기 방법은 미네랄 잉크를 미네랄 기재(1001) 상에 잉크젯 프린팅함으로써 무기 에나멜(1002)을 증착시키는 단계를 포함하고, 여기서 잉크 커버리지율은 적어도 45% 및 최대 85%이고, 잉크젯 프린팅에 사용되는 미네랄 잉크 중 고체 분획의 중량 백분율은 상기 미네랄 잉크의 40% 이하인, 방법.
- 제10항에 있어서,
미네랄 잉크의 표면 장력이 25℃에서 약 26 mN/m인, 제조 방법. - 조리 장치 또는 조리대의 표면으로서의, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 미네랄 기재(1001)의 용도.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR2111100A FR3128217A1 (fr) | 2021-10-19 | 2021-10-19 | Substrat minéral émaillé et méthode de fabrication d’un tel substrat |
| FRFR2111100 | 2021-10-19 | ||
| PCT/EP2022/078994 WO2023066945A1 (fr) | 2021-10-19 | 2022-10-18 | Substrat minéral émaillé et méthode de fabrication d'un tel substrat |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240056633A true KR20240056633A (ko) | 2024-04-30 |
Family
ID=79831610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020247012713A KR20240056633A (ko) | 2021-10-19 | 2022-10-18 | 에나멜링된 미네랄 기재 및 그의 제조 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP4204373B1 (ko) |
| KR (1) | KR20240056633A (ko) |
| CA (1) | CA3233491A1 (ko) |
| DE (1) | DE202022002828U1 (ko) |
| FR (1) | FR3128217A1 (ko) |
| PL (1) | PL4204373T3 (ko) |
| WO (1) | WO2023066945A1 (ko) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10338165B4 (de) * | 2003-08-20 | 2011-04-28 | Schott Ag | Glaskeramik-Kochfläche mit schwarz anmutender Dekorierung mittels einer Dekorfarbe |
| DE102011115379B4 (de) * | 2011-10-10 | 2018-09-27 | Schott Ag | Beschichtetes Glas- oder Glaskeramik-Substrat mit haptischen Eigenschaften und Glaskeramik-Kochfeld |
| DE102014010335A1 (de) | 2014-07-14 | 2016-01-14 | Schott Ag | Keramische Tintenstrahldrucktinte für Glas und/oder Glaskeramik, Verfahren für deren Herstellung und der Verwendung |
| EP3242915B1 (en) | 2015-01-07 | 2021-09-08 | Fenzi SPA | Glass frit composition and ceramic inkjet ink comprising the same |
| DE102015103461B4 (de) * | 2015-03-10 | 2018-08-02 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines Glas- oder Glaskeramikartikels mit einer farbigen glasbasierten Beschichtung, beschichteter Glas- oder Glaskeramikartikel und dessen Verwendung |
| DE102015103460A1 (de) | 2015-03-10 | 2016-09-15 | Schott Ag | Beschichtetes Substrat mit einem geräuschoptimierten Dekor auf Glasbasis und Verfahren zur Herstellung eines solchen |
| FR3081164B1 (fr) * | 2018-05-15 | 2020-04-24 | Eurokera S.N.C. | Encre minerale pour impression par jet d'encre sur subtrat mineral |
-
2021
- 2021-10-19 FR FR2111100A patent/FR3128217A1/fr active Pending
-
2022
- 2022-10-18 DE DE202022002828.8U patent/DE202022002828U1/de active Active
- 2022-10-18 WO PCT/EP2022/078994 patent/WO2023066945A1/fr active Application Filing
- 2022-10-18 CA CA3233491A patent/CA3233491A1/fr active Pending
- 2022-10-18 EP EP22805827.7A patent/EP4204373B1/fr active Active
- 2022-10-18 KR KR1020247012713A patent/KR20240056633A/ko active Search and Examination
- 2022-10-18 PL PL22805827.7T patent/PL4204373T3/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4204373C0 (fr) | 2024-01-03 |
| PL4204373T3 (pl) | 2024-04-29 |
| EP4204373A1 (fr) | 2023-07-05 |
| CA3233491A1 (fr) | 2023-04-27 |
| FR3128217A1 (fr) | 2023-04-21 |
| EP4204373B1 (fr) | 2024-01-03 |
| WO2023066945A1 (fr) | 2023-04-27 |
| DE202022002828U1 (de) | 2023-08-17 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A302 | Request for accelerated examination |