KR20240050255A - 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 및 이를 포함하는 표면 처리용 조성물 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 40
- -1 Silane Compound Chemical class 0.000 title abstract description 34
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 title abstract description 26
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 63
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 12
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 abstract description 6
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 abstract description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 59
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 33
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 32
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 26
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 6
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011928 denatured alcohol Substances 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-methoxyhexane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTQHJCOHNAFHRE-UHFFFAOYSA-N 1,10-dibromodecane Chemical compound BrCCCCCCCCCCBr GTQHJCOHNAFHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromobutane Chemical compound BrCCCCBr ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJSSBIMVTMYKPD-UHFFFAOYSA-N 3,5-difluorophenol Chemical compound OC1=CC(F)=CC(F)=C1 HJSSBIMVTMYKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 125000005564 oxazolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005704 oxymethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])O[*:1] 0.000 description 1
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 1
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005548 perfluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000005551 pyridylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005557 thiazolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005730 thiophenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004205 trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
본 발명은 아민 링커를 매개로 일 말단에 퍼플루오로폴리에테르기가 결합되고 다른 말단에 실릴기가 결합된 구조를 갖는 실란 화합물을 제공한다. 본 발명에 따른 화합물은 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 실란 화합물은 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제과 같은 표면 처리제로서 유리하게 사용될 수 있다.
Description
본 발명은 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 및 이를 포함하는 표면 처리용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 향상시킬 수 있어 표면 처리제로서 유리하게 사용될 수 있는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 및 이를 포함하는 표면 처리용 조성물에 관한 것이다.
불소 함유 실란 화합물은 기재의 표면 처리에 사용하면 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 불소 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물로부터 얻어지는 층은 예를 들어 유리, 플라스틱, 섬유, 건축 자재 등 다양한 기재에 적용될 수 있다.
예를 들어, 대한민국 등록특허 제10-0967981호는 불소 함유 실란 화합물로서, 퍼플루오로폴리에테르기를 분자 주쇄에 갖고, Si 원자에 결합한 가수분해 가능한 기를 분자 말단 또는 말단부에 갖는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 개시하고 있다.
한편, 최근에는 스마트폰이나 태블릿 단말기뿐만 아니라, 노트북형 퍼스널 컴퓨터, 가전제품, 자동차 내외장재 등 다양한 분야에 터치패널이 도입되어, 터치패널의 표면을 손가락 또는 펜으로 접촉하여 조작하는 것이 많아지고 있다.
따라서, 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 손가락 또는 펜으로 반복하여 마찰되어도 발수성 등이 유지되는 내마모성이 요구된다.
그러나, 여전히 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 더욱 향상시킬 수 있는 새로운 구조의 불소 함유 실란 화합물에 대한 개발이 요구되고 있는 실정이다.
본 발명의 한 목적은 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 향상시킬 수 있는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 표면 처리용 조성물을 이용하여 형성된 도막을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 도막을 포함하는 광학 부재 및 화상표시장치를 제공하는 것이다.
한편으로, 본 발명은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 식에서,
Z는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기이고,
Y는 -(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-를 나타내며, 이때 a, b, c 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 200의 정수이고, a, b, c 및 d의 합은 5 이상이며,
R1 및 R3는 각각 독립적으로 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기이고,
R2는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기, 또는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 옥시알킬렌기이며,
R4는 히드록시기, C1-C4의 알콕시기 또는 할로겐이고,
R5는 수소 원자 또는 C1-C20의 알킬기이며,
Ar은 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 아릴렌기이고,
n은 1 내지 3의 정수이며,
m은 1 내지 5의 정수이고,
p는 0 또는 1이다.
본 발명의 일 실시형태에서, Ar은 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 페닐렌기일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, R4는 C1-C4의 알콕시기이고, n은 3일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-3 및 2-1 내지 2-2 중 어느 하나로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 2-1]
[화학식 2-2]
상기 식에서,
m은 1 내지 5의 정수이다.
다른 한편으로, 본 발명은 상기 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 용매, 불소 함유 오일, 실리콘 오일 및 촉매에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용될 수 있다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 표면 처리용 조성물을 이용하여 형성된 도막을 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 도막을 포함하는 광학 부재를 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 도막을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.
본 발명에 따른 아민 링커를 매개로 일 말단에 퍼플루오로폴리에테르기가 결합되고 다른 말단에 실릴기가 결합된 구조를 갖는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 실란 화합물은 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제과 같은 표면 처리제로서 유리하게 사용될 수 있다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물에 관한 것이다.
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 식에서,
Z는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기이고,
Y는 -(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-를 나타내며, 이때 a, b, c 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 200의 정수이고, a, b, c 및 d의 합은 5 이상이며,
R1 및 R3는 각각 독립적으로 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기이고,
R2는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기, 또는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 옥시알킬렌기이며,
R4는 히드록시기, C1-C4의 알콕시기 또는 할로겐이고,
R5는 수소 원자 또는 C1-C20의 알킬기이며,
Ar은 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 아릴렌기이고,
n은 1 내지 3의 정수이며,
m은 1 내지 5의 정수이고,
p는 0 또는 1이다.
본 명세서에서 사용되는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 16개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 2-에틸헥실, 헵틸, 2-에틸헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 트리플루오로프로필, 트리플루오로부틸 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸렌, 모노플루오로메틸렌, 디플루오로메틸렌, 에틸렌, 모노플루오로에틸렌, 디플루오로에틸렌, 트리플루오로에틸렌, n-프로필렌, 이소프로필렌, n-부틸렌, 이소부틸렌, n-펜틸렌, n-헥실렌, n-헵틸렌, n-옥틸렌, n-노닐렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 옥시알킬렌기는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은, 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 탄화수소에서 사슬 탄소 중 하나 이상이 산소로 치환된 작용기를 의미하며, 예를 들어 옥시메틸렌, 옥시디플루오로메틸렌, 옥시에틸렌, 옥시트리플루오로에틸렌, 옥시프로필렌, 옥시부틸렌, 옥시펜틸렌, 옥시헥실렌, CF2CHFOCF2OCHFCF2, CF2CHFO(CF2)2OCHFCF2, CF2CHFO(CF2)3OCHFCF2, CF2CHFCF2O(CF2)3OCF2CHFCF2 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C4의 알콕시기는 탄소수 1 내지 4개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 알콕시기를 의미하며, 메톡시, 에톡시, n-프로판옥시 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C20의 알킬기는 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 2-에틸헥실, 헵틸, 2-에틸헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 스테아릴, 노나데실, 에이코사닐 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 아릴렌기는 2가의 아로메틱기와 헤테로아로메틱기 및 그들의 부분적으로 환원된 유도체를 모두 포함한다. 상기 아로메틱기는 5원 내지 15원의 단순 또는 융합 고리형이며, 헤테로아로메틱기는 산소, 황 또는 질소를 하나 이상 포함하는 아로메틱기를 의미한다. 대표적인 아릴렌기의 예로는 페닐렌, 나프틸렌, 피리디닐렌(pyridinylene), 푸라닐렌(furanylene), 티오페닐렌(thiophenylene), 인돌릴렌(indolylene), 퀴놀리닐렌(quinolinylene), 이미다졸리닐렌(imidazolinylene), 옥사졸릴렌(oxazolylene), 티아졸릴렌(thiazolylene), 테트라히드로나프틸렌 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에서, Z는 C1-C16의 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-C3의 퍼플루오로알킬기일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, Y는 -(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-를 나타내는 작용기로, 퍼플루오로폴리에테르기이다. 이때 a, b, c 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 200의 정수이고, a, b, c 및 d의 합은 5 이상이며, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 200 이하이다. 상기 각 반복 단위인 -(OC4F8)-, -(OC3F6)-, -(OC2F4)- 및 -(OCF2)-의 순서는 랜덤일 수 있다.
이들 반복 단위 중, -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 -(OCF2CF(C2F5))- 중 어느 하나일 수 있으며, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)-일 수 있다. 또한, -(OC3F6)-는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 -(OCF2CF(CF3))- 중 어느 하나일 수 있으며, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)-일 수 있다. 아울러, -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 -(OCF(CF3))- 중 어느 하나일 수 있으며, 바람직하게는 -(OCF2CF2)-일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, Ar은 초기 접촉각 및 내마모성면에서 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 페닐렌기일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, R4는 초기 접촉각 및 내마모성면에서 C1-C4의 알콕시기이고, n은 3일 수 있다.
특히, 본 발명의 일 실시형태에 따른 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-3 및 2-1 내지 2-2 중 어느 하나로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 2-1]
[화학식 2-2]
상기 식에서,
m은 1 내지 5의 정수이다.
상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 당해 분야에 알려진 방법으로 용이하게 제조할 수 있다.
예를 들어, 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 후술하는 합성예에 따라 제조할 수 있다.
상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 아민 링커를 매개로 일 말단에 퍼플루오로폴리에테르기가 결합되고 다른 말단에 실릴기가 결합된 구조를 가짐에 따라 표면 처리제로서 사용시 초기 접촉각을 높일 뿐만 아니라 내마모성을 향상시킬 수 있다. 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 아민 링커로 인해 글래스 피착체와의 졸겔 반응성이 높아 밀착성을 향상시키고 다수의 실란 작용기를 보유하여 내마모성을 개선할 수 있을 뿐만 아니라 장쇄의 불소 함유 작용기로 인해 초기 접촉각을 높일 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시형태는 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물에 관한 것이다.
상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 표면 처리용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.05 내지 1 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.7 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물이 표면 처리용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.05 중량% 미만의 양으로 포함되면 발수성 및 방오성이 저하될 수 있고, 1 중량% 초과의 양으로 포함되면 세정이 어려워 표면 결함 불량이 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 용매, 불소 함유 오일, 실리콘 오일 및 촉매에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
상기 용매로는 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, C6F13CH2CH3, 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄); 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C3F7OCH3), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C2F5CF(OCH3)C3F7) 등의 퍼플루오로알킬알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 됨), 혹은 CF3CH2OCF2CHF2 등을 사용할 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 불소 함유 오일은 비반응성의 플루오로폴리에테르 화합물, 바람직하게는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물로서, 표면 윤활성을 향상시키는 역할을 한다.
예를 들어, 상기 불소 함유 오일은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 3]
상기 식에서,
Z는 불소 원자에 의해 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기이고,
Y'는 -(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-를 나타내며, 이때 a', b', c' 및 d'는 각각 독립적으로 0 내지 300의 정수이고, a', b', c' 및 d'의 합은 1 이상이며,
Z'는 불소 원자에 의해 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기, 불소 원자 또는 수소 원자이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, Z 및 Z'는 각각 독립적으로 C1-C16의 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-C3의 퍼플루오로알킬기일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, Y'는 -(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-를 나타내는 작용기로, 퍼플루오로폴리에테르기이다. 이때 a', b', c' 및 d'는 각각 독립적으로 0 내지 300의 정수이고, a', b', c' 및 d'의 합은 1 이상이며, 바람직하게는 1 내지 300의 정수이고, 보다 바람직하게는 20 내지 300의 정수이다. 상기 각 반복 단위인 -(OC4F8)-, -(OC3F6)-, -(OC2F4)- 및 -(OCF2)-의 순서는 랜덤일 수 있다.
또한, 상기 불소 함유 오일은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 4]
상기 식에서,
Z"는 불소 원자에 의해 치환된 C5-C16의 알킬기이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, Z"는 C5-C16의 퍼플루오로알킬기일 수 있다.
상기 불소 함유 오일은 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여 0 내지 500 중량부, 바람직하게는 0 내지 400 중량부, 보다 바람직하게는 25 내지 400 중량부로 포함될 수 있다.
상기 실리콘 오일은 비반응성의 실리콘 화합물로서, 표면 윤활성을 향상시키는 역할을 한다.
상기 실리콘 오일은 실록산 결합이 2,000개 이하인 직쇄상 또는 환상의 실리콘 오일일 수 있다.
상기 직쇄상의 실리콘 오일로는 디메틸 실리콘 오일, 메틸페닐 실리콘 오일, 메틸히드로겐 실리콘 오일 등을 들 수 있다. 상기 직쇄상의 실리콘 오일은 알킬, 아르알킬, 폴리에테르, 고급 지방산 에스테르, 플루오로알킬, 아미노, 에폭시, 카르복실, 알코올 등에 의해 변성된 것일 수도 있다.
상기 환상의 실리콘 오일은 환상 디메틸실록산 오일 등을 들 수 있다.
상기 실리콘 오일은 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여 0 내지 300 중량부, 바람직하게는 50 내지 200 중량부로 포함될 수 있다.
상기 촉매는 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물의 가수분해 및 탈수 축합을 촉진하고, 표면 처리층의 형성을 촉진하는 역할을 한다.
상기 촉매로는 산(acid), 염기(base), 전이 금속, 또는 전이금속을 포함하는 금속계 촉매 등을 들 수 있다.
상기 산으로는 아세트산, 트리플루오로아세트산 등을 들 수 있고, 상기 염기로는 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸아민 등을 들 수 있다. 또한, 상기 전이 금속으로는 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 주석(Sn), 백금(Pt), 루테늄(Ru), 로듐(Rh) 등을 들 수 있으며, 상기 전이금속을 포함하는 금속계 촉매로는 테트라프로필티타네이트, 테트라프로필지르코네이트 등을 들 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 상술한 성분들 이외에도 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란 등의 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 발수성, 발유성, 방오성, 표면 윤활성 및 내마모성을 나타내므로 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 습윤 피복법 또는 건조 피복법에 적용할 수 있다.
습윤 피복법으로는 딥 코팅, 스핀코팅, 플로우 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등을 들 수 있으며, 건조 피복법으로는 증착(통상, 진공 증착), 스퍼터링, CVD 등을 들 수 있다. 증착법(통상, 진공 증착법)의 구체예로는 저항 가열, 전자 빔, 마이크로파 등을 사용한 고주파 가열, 이온빔 등을 들 수 있다. CVD 방법의 구체예로서는, 플라스마 CVD, 광학 CVD, 열 CVD 등을 들 수 있다. 또한, 상압 플라스마법에 의한 피복도 가능하다. 이들 방법 중에서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물은 특히 딥 코팅 또는 스프레이 코팅에 유리하게 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 표면 처리용 조성물을 습윤 피복법으로 적용시에는 용매를 필수적으로 포함하며, 건조 피복법으로 적용시에는 용매를 포함하거나 포함하지 않을 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 상술한 표면 처리용 조성물을 이용하여 형성된 도막에 관한 것이다.
또한, 본 발명의 일 실시형태는 상기 도막을 포함하는 광학 부재 또는 화상표시장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 표면 처리용 조성물의 도막 형성 방법은, 상기 표면 처리용 조성물을 상술한 습윤 피복법 또는 건조 피복법으로 기재 상에 도포하는 단계, 및 선택적으로 상기 도포된 표면 처리용 조성물을 후처리하는 단계를 포함한다.
상기 기재는 예를 들어 유리, 수지, 금속, 세라믹, 반도체, 섬유, 모피, 피혁, 목재, 석재 등의 재료로 구성될 수 있다.
상기 유리로는 사파이어 유리, 소다라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리, 크리스탈 유리, 석영 유리가 바람직하고, 화학강화 처리한 소다라임 유리, 화학강화 처리한 알칼리 알루미노실리케이트 유리 및 화학 결합한 붕규산 유리가 특히 바람직하다. 상기 수지는 천연 또는 합성 수지일 수 있으며, 예를 들어 아크릴 수지, 폴리카보네이트 등을 들 수 있다. 상기 금속은 알루미늄, 구리, 철 또는 이들의 합금일 수 있고, 상기 반도체는 실리콘, 게르마늄 등일 수 있다.
상기 후처리는 수분 공급 및 건조 가열을 순차적으로 또는 동시에 실시하는 것일 수 있다.
수분의 공급 방법은 기재와 주위 분위기와의 온도 차에 의한 결로나 수증기 분사 등일 수 있다. 상기 수분 공급은 0~250℃, 바람직하게는 60℃ 이상, 더 바람직하게는 100℃ 이상, 더욱더 바람직하게는 100~180℃의 분위기 하에서 실시할 수 있다. 이와 같은 온도 범위에서 수분을 공급함으로써, 가수분해를 진행시키는 것이 가능하다. 이때의 압력은 특별히 한정되지 않으나, 상압으로 수행할 수 있다.
상기 건조 가열은 60℃를 초과하는 건조 분위기 하에서 가열함으로써 실시할 수 있다. 상기 건조 가열은 바람직하게는 100℃ 초과, 예를 들어 100~250℃의 온도에서 불포화 수증기압의 분위기 하에 배치하여 수행할 수 있다. 이때의 압력은 특별히 한정되지 않으나, 상압으로 수행할 수 있다.
상기 수분 공급 및 건조 가열은 과열 수증기를 사용함으로써 연속적으로 수행할 수 있다.
상기 도막의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 광학 성능, 표면 윤활성, 내마모성 및/또는 방오성면에서, 1~50nm, 바람직하게는 1~30nm, 더욱 바람직하게는 1~15nm일 수 있다.
상기 광학 부재는 예를 들어, 화상표시장치의 전면 또는 후면 보호판, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대전화, 휴대정보 단말 등의 기기의 터치패널 시트 또는 커버 윈도우; 블루레이 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광디스크의 디스크 면; 광파이버; 안경 등의 렌즈; 자동차 내외장재; 거울 및 유리 등일 수 있다.
상기 화상표시장치는 예를 들어, 액정표시장치(LCD), 전계발광표시장치(EL), 플라스마표시장치(PDP), 전계방출표시장치(FED), 유기발광소자(OLED) 등일 수 있다.
이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
합성예 1: 화학식 1-1로 표시되는 화합물의 합성
합성예 1-1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OH[단, 혼합물 중에는 (CF2CF2CF2CF2O) 및/또는 (CF2CF2CF2O)의 반복 단위를 미량 포함하는 화합물도 포함되지만, 극소량이기 때문에 고려하고 있지 않음]로 표현되는 퍼플루오로폴리에테르 변성알코올체 24g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 400.0g, 1,4-다이브로모 부탄 48g 및 수산화칼륨 0.5g을 투입하고, 70℃에서 6시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 200g을 투입 후 분리정제하여 퍼플루오로폴리에테르에 브로모기가 치환된 화합물 22g을 얻었다.
합성예 1-2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 상기 합성예 1-1에서 합성한 화합물 4.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 80.0g을 투입하고, 30분간 교반했다. 계속해서, 비스(3-(트리메톡시실릴)프로필)아민 1.6g 및 포타슘카보네이트 0.2g을 첨가한 후, 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 화학식 1-1로 표시되는 아민 링커를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 화합물 4.0g을 얻었다.
합성예 2: 화학식 1-2로 표시되는 화합물의 합성
합성예 2-1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OH[단, 혼합물 중에는 (CF2CF2CF2CF2O) 및/또는 (CF2CF2CF2O)의 반복 단위를 미량 포함하는 화합물도 포함되지만, 극소량이기 때문에 고려하고 있지 않음]로 표현되는 퍼플루오로폴리에테르 변성알코올체 12g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 200.0g, 1,10-다이브로모데칸 48g 및 수산화칼륨 0.5g을 투입하고, 70℃에서 6시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 200g을 투입 후 분리정제하여 퍼플루오로폴리에테르에 브로모기가 치환된 화합물 22g을 얻었다.
합성예 2-2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 상기 합성예 2-1에서 합성한 화합물 5.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 80.0g을 투입하고 30분간 교반했다. 계속해서, 비스(3-(트리메톡시실릴)프로필)아민 1.6g 및 포타슘카보네이트 0.2g을 첨가한 후, 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 화학식 1-2로 표시되는 아민 링커를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 화합물 4.9g을 얻었다.
합성예 3: 화학식 2-1로 표시되는 화합물의 합성
합성예 3-1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 상기 합성예 1-1에서 합성한 화합물 4.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 80.0g을 투입하고, 30분간 교반했다. 계속해서, 3,5-다이플루오로페놀 2.0g 및 수산화칼륨 0.2g을 첨가한 후, 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 아릴기가 도입된 퍼플루오로폴리에테르 화합물 4.1g 얻었다.
합성예 3-2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 상기 합성예 3-1에서 합성한 화합물 4.1g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 80.0g을 투입하고 30분간 교반했다. 계속해서, 비스(3-(트리메톡시실릴)프로필)아민 1.6g 및 포타슘카보네이트 0.2g을 첨가한 후, 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 화학식 2-1로 표시되는 아민 링커를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 화합물 3.9g을 얻었다.
합성예 4: 화학식 2-2로 표시되는 화합물의 합성
합성예 4-1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OH[단, 혼합물 중에는 (CF2CF2CF2CF2O) 및/또는 (CF2CF2CF2O)의 반복 단위를 미량 포함하는 화합물도 포함되지만, 극소량이기 때문에 고려하고 있지 않음]로 표현되는 퍼플루오로폴리에테르 변성알코올체 10g에 헥사플루오로벤젠 200 g을 녹인 후 수산화칼륨 0.2g을 첨가한 후, 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 플루오로페닐기가 도입된 퍼플루오로폴리에테르 화합물 9.8g 얻었다.
합성예 4-2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 상기 합성예 3-1에서 합성한 화합물 9.8g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 80.0g을 투입하고 30분간 교반했다. 계속해서, 비스(3-(트리메톡시실릴)프로필)아민 3.0g 및 포타슘카보네이트 0.4g을 첨가 후 60℃에서 3시간 교반했다. 반응 후 상온까지 내린 후 메틸에틸케톤 80g을 투입 후 분리정제하여 화학식 2-2로 표시되는 아민 링커를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 화합물 9.2g을 얻었다.
합성예 5: 화학식 1-3으로 표시되는 화합물의 합성
합성예 5-1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 500mL의 사구 플라스크에 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OH[단, 혼합물 중에는 (CF2CF2CF2CF2O) 및/또는 (CF2CF2CF2O)의 반복 단위를 미량 포함하는 화합물도 포함되지만, 극소량이기 때문에 고려하고 있지 않음]로 표현되는 퍼플루오로폴리에테르 변성알코올체 19.1g, 20% KOH 수용액 0.3g, tert-부틸알코올 3.3g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 11g을 넣고, 퍼플루오로-1,3-디에테닐렌옥시프로판(CF2=CFO(CF2)3OCF=CF2) 1.8g을 첨가하였다. 질소 분위기하, 상기 혼합물을 40℃에서 20시간 교반하였다. 묽은 염산 수용액으로 1회 추출하고, 유기상을 회수하여, 이베퍼레이터로 농축함으로써 미정제 생성물 23.3g을 얻었다. 상기 미정제 생성물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 전개해 분취하여 퍼플루오로폴리에테르에 퍼플루오로-1,3-디에테닐렌옥시프로판이 치환된 화합물 약 5.2g을 얻었다.
합성예 5-2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 10mL의 삼구 플라스크에 상기 합성예 5-1에서 합성한 화합물 5.2g을 0.5ml THF에 투입하고, 비스(3-(트리메톡시실릴)프로필)아민 1.1g을 0℃에서 0.5시간 동안 투입하였다. 상기 혼합물을 0℃에서 1시간 동안 혼합시킨 후, 20℃에서 6시간 동안 교반하였다. 반응 후 상온까지 내린 후 이베퍼레이터로 농축한 후, 진공 상태에서 증류하여 화학식 1-3으로 표시되는 아민 링커를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 화합물 3.8g을 얻었다.
실시예 1
상기 합성예 1에서 얻은 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 농도 0.3 중량%가 되도록 히드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE7200)에 용해시켜 표면 처리제를 제조했다. 상기에서 제조한 표면 처리제에 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 유리, 두께 0.7㎜)를 딥 코팅(dip coating)한 후, 150℃ 분위기 하에서 30분간 건조하여 표면 처리층을 형성했다.
실시예 2
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신에 상기 합성예 2에서 얻은 화학식 1-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 표면 처리층을 형성했다.
실시예 3
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신에 상기 합성예 3에서 얻은 화학식 2-1로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 표면 처리층을 형성했다.
실시예 4
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신에 상기 합성예 4에서 얻은 화학식 2-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 표면 처리층을 형성했다.
실시예 5
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신에 상기 합성예 5에서 얻은 화학식 1-3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 표면 처리층을 형성했다.
비교예 1
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신에 하기 화학식 a로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 표면 처리층을 형성했다.
[화학식 a]
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
실험예 1:
상기 실시예 및 비교예에서 형성된 표면 처리층에 대하여 물의 정적 접촉각을 측정했다. 물의 정적 접촉각은 접촉각 측정 장치(교와 가이멘 가가쿠사제)를 사용하여, 물 3 ㎕로 실시했다.
먼저, 초기 평가로서, 표면 처리층 형성 후, 그 표면에 아직 아무것도 접촉하고 있지 않은 상태에서, 물의 정적 접촉각을 측정했다(마찰 횟수 0회). 그 후, 마찰 내구성 평가로서, 스틸 울 마찰 내구성 평가와 지우개 마찰 내구성 평가를 하기와 같이 실시했다.
<스틸 울 마찰 내구성 평가>
표면 처리층을 형성한 기재를 수평 배치하고, 스틸 울(번수＃0000, 치수 5㎜×10㎜×10㎜)을 표면 처리층의 노출 상면에 접촉시키고, 그 위에 1,000gf의 하중을 부여하고, 그 후 하중을 가한 상태로 스틸 울을 140㎜/초의 속도로 왕복시켰다. 왕복 횟수 2500회마다 물의 정적 접촉각(도)을 측정하고, 접촉각의 측정값이 100도 미만이 된 시점에서 평가를 중지했다.
<지우개 마찰 내구성 평가>
대성정밀사의 내마모 측정장비를 통해 측정을 하였다. 미노안사 경도 88, 직경 6mm의 지우개를 표면 처리층의 노출 상면에 접촉시키고, 1kg의 하중으로 왕복 마찰시켰다. 왕복 횟수 2500회마다 물의 정적 접촉각(도)을 측정하고, 접촉각의 측정값이 100도 미만이 된 시점에서 평가를 중지했다.
스틸 울 마찰 내구성 평가 결과를 하기 표 1에 나타내고, 지우개 마찰 내구성 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다(표 중, 기호 "-"는 측정하지 않은 경우를 나타냄).
| 마모횟수 (회) |
접촉각(도) | |||||
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 비교예 1 | |
| 0 | 115.2 | 114.8 | 114.7 | 113.8 | 114.3 | 113.5 |
| 2500 | 114.7 | 113.9 | 113.3 | 113.2 | 107.5 | 103.8 |
| 5000 | 113.8 | 113.3 | 112.4 | 111.6 | 104.8 | 79.2 |
| 7500 | 113.6 | 112.8 | 112.4 | 109.3 | 98.2 | - |
| 10000 | 113.3 | 111.2 | 108.0 | 107.6 | - | - |
| 12500 | 112.8 | 109.5 | 106.9 | 106.3 | - | - |
| 15000 | 112.1 | 108.1 | 106.1 | 104.1 | - | - |
| 17500 | 111.2 | 106.2 | 105.3 | 103.8 | - | - |
| 20000 | 119.4 | 105.1 | 104.7 | 102.7 | - | - |
| 22500 | 108.5 | 102.6 | 103.4 | 102.3 | - | - |
| 마모횟수 (회) |
접촉각(도) | |||||
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 비교예 1 | |
| 0 | 115.2 | 114.8 | 114.7 | 113.8 | 114.3 | 113.5 |
| 2500 | 113.6 | 112.4 | 113.3 | 112.1 | 113.1 | 102.1 |
| 5000 | 106.9 | 104.2 | 108.3 | 109.2 | 112.0 | 85.3 |
| 7500 | 104.6 | 103.5 | 105.3 | 103.6 | 109.8 | - |
| 10000 | 102.4 | 101.2 | 103.4 | 101.9 | 109.6 | - |
| 12500 | 95.6 | 94.8 | 91.1 | 94.8 | 105.2 | - |
| 15000 | - | - | - | - | 104.8 | - |
| 17500 | - | - | - | - | 101.6 | - |
| 20000 | - | - | - | - | 99.9 | - |
| 22500 | - | - | - | - | - | - |
상기 표 1 및 표 2를 통해, 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물로 표면 처리된 실시예 1 내지 5의 표면 처리층은, 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물로 표면 처리되지 않은 비교예 1의 표면 처리층에 비해 초기 접촉각이 높을 뿐만 아니라 스틸 울 및 지우개 내마모성도 더욱 우수한 것을 확인할 수 있다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.
Claims (10)
- 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 식에서,
Z는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C16의 알킬기이고,
Y는 -(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-를 나타내며, 이때 a, b, c 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 200의 정수이고, a, b, c 및 d의 합은 5 이상이며,
R1 및 R3는 각각 독립적으로 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기이고,
R2는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 알킬렌기, 또는 불소 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20의 옥시알킬렌기이며,
R4는 히드록시기, C1-C4의 알콕시기 또는 할로겐이고,
R5는 수소 원자 또는 C1-C20의 알킬기이며,
Ar은 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 아릴렌기이고,
n은 1 내지 3의 정수이며,
m은 1 내지 5의 정수이고,
p는 0 또는 1이다. - 제1항에 있어서, Ar은 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 페닐렌기인 화합물.
- 제1항에 있어서, R4는 C1-C4의 알콕시기이고, n은 3인 화합물.
- 제1항에 있어서, 하기 화학식 1-1 내지 1-3 및 2-1 내지 2-2 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 2-1]
[화학식 2-2]
상기 식에서,
m은 1 내지 5의 정수이다. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물.
- 제5항에 있어서, 용매, 불소 함유 오일, 실리콘 오일 및 촉매에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함하는 표면 처리용 조성물.
- 제5항에 있어서, 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는 표면 처리용 조성물.
- 제5항에 따른 표면 처리용 조성물을 이용하여 형성된 도막.
- 제8항에 따른 도막을 포함하는 광학 부재.
- 제8항에 따른 도막을 포함하는 화상표시장치.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220130022 | 2022-10-11 | ||
| KR20220130022 | 2022-10-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240050255A true KR20240050255A (ko) | 2024-04-18 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020230069367A KR20240050255A (ko) | 2022-10-11 | 2023-05-30 | 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 및 이를 포함하는 표면 처리용 조성물 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20240050255A (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100967981B1 (ko) | 2005-04-01 | 2010-07-07 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 개질제 |
-
2023
- 2023-05-30 KR KR1020230069367A patent/KR20240050255A/ko unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100967981B1 (ko) | 2005-04-01 | 2010-07-07 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 개질제 |
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