KR20240040604A - 묘화 시스템 및 묘화 방법 - Google Patents
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Abstract
묘화 시스템 (7) 은, 기판에 묘화를 실시하는 묘화 유닛 (11) 과, 묘화 유닛 (11) 을 제어함으로써, 대상 기판으로의 패턴의 묘화와, 당해 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 대상 기판 상의 소정 위치로의 묘화를 묘화 유닛 (11) 에 실행시키는 제어부 (12) 를 구비한다. 이로써, 기판 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅에 유용한 정보를 용이하고 또한 단시간에 취득할 수 있다.
Description
본 발명은 묘화 시스템 및 묘화 방법에 관한 것이다.
[관련 출원의 참조]
본원은 2022년 9월 21일에 출원된 일본 특허출원 JP2022-149684 로부터의 우선권의 이익을 주장하고, 당해 출원의 모든 개시는 본원에 받아들여진다.
최근, 마스크를 사용하지 않고, 프린트 기판 등의 기판 상의 감광 재료에 패턴을 묘화하는 묘화 장치 (직접 묘화 장치) 가 실용화되고 있다. 묘화 장치를 이용하는 제조 공정에 있어서도, 다른 공정과 동일하게 트러블이 발생하는 경우가 있다. 당해 트러블은 주로 2 종류 있고, 하나는 묘화 장치 자체의 에러에 의한 동작의 정지이다. 또 하나는, 패턴의 묘화가 정상 종료된 후에 발각되는 기판 상의 패턴 불량이다.
또한, 일본 공개특허공보 2011-66340호 (문헌 1) 에서는, 반도체 제품의 제조 공정에서 발생한 불량 원인을 신속하게 구명하는 수법이 제안되어 있다. 당해 수법에서는, QFP (Quad Flat Package) 의 각 제조 공정에 있어서의 제조 조건이 QFP 의 식별 번호와 관련지어 메인 서버에 격납됨과 함께, 식별 번호에 대응하는 이차원 바코드가 QFP 의 표면에 각인된다. 이로써, QFP 에 불량이 발생한 경우, QFP 의 이차원 바코드를 판독하여, 식별 번호를 특정하고, 메인 서버에 격납된 QFP 의 제조 조건이 추적된다.
그런데, 상기 2 종류의 트러블 중, 묘화 장치 자체의 에러에 대해서는, 디스플레이의 화면에 표시되는 에러 메세지를 읽음으로써, 묘화 장치의 복구나 트러블 슈팅이 가능하다. 그러나, 감광 재료의 막의 박리나, 묘화시의 변형 보정의 이상, 패턴의 위치 정밀도나 선폭 정밀도의 불량 등, 기판 상의 패턴 불량에 대해서는 트러블 슈팅이 곤란한 경우가 많다. 이유로는, 묘화 동작 그 자체는 정상적으로 종료되고, 현상 후에 불량이 발각되는 경우가 많기 때문에, 묘화로부터 시간이 경과되어 있어, 묘화시의 조건을 알 수 없거나, 또는, 당해 기판에 연결되는 묘화 동작의 로그 정보의 취득에 시간이 걸리는 등을 들 수 있다. 또, 묘화 장치에서는, 복수의 스테이지가 형성되는 경우가 있고, 이 경우, 당해 기판을 어느 스테이지에서 묘화했는가 하는 정보도 필요해지기 때문에, 기판 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅이 더욱 곤란해진다.
묘화 장치를 이용하는 제조 공정에 있어서도, 상기 문헌 1 과 동일하게, 기판에 부여된 식별자를 판독하고, 묘화시의 각종 조건을 당해 식별자와 관련지어 서버에 기억시키는 것이 생각된다. 그러나, 이 경우, 패턴을 묘화할 때, 기판에 부여된 식별자의 판독이 필요하여, 처리가 번잡해진다. 따라서, 기판 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅에 유용한 정보를, 용이하고 또한 단시간에 취득하는 것이 가능한 신규한 수법이 요구되고 있다.
본 발명은, 기판 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅에 유용한 정보를, 용이하고 또한 단시간에 취득하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명의 양태 1 은, 묘화 시스템으로서, 기판에 묘화를 실시하는 묘화 유닛과, 상기 묘화 유닛을 제어함으로써, 대상 기판으로의 패턴의 묘화와, 상기 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 상기 대상 기판 상의 소정 위치로의 묘화를 상기 묘화 유닛에 실행시키는 제어부를 구비한다.
본 발명에 의하면, 기판 상의 묘화 관련 정보를 참조함으로써, 기판 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅에 유용한 정보를, 용이하고 또한 단시간에 취득할 수 있다.
본 발명의 양태 2 는, 양태 1 의 묘화 시스템으로서, 상기 묘화 유닛에 의한 각 기판으로의 패턴의 묘화 동작에 대해 로그 식별자가 할당되어 있고, 상기 각 기판에 대한 상기 묘화 동작에 관해서 취득된 로그 정보를 상기 로그 식별자에 관련지어 기억하는 기억부를 추가로 구비하고, 상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판에 대한 상기 묘화 동작의 상기 로그 식별자를 포함한다.
본 발명의 양태 3 은, 양태 1 또는 2 의 묘화 시스템으로서, 상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판으로의 상기 패턴의 묘화 일시, 상기 패턴의 묘화시에 참조한 상기 대상 기판의 신축률, 상기 패턴의 묘화에 사용한 패턴 데이터명, 상기 대상 기판 상의 감광 재료의 정보, 및 상기 대상 기판의 종별 정보의 적어도 하나를 포함한다.
본 발명의 양태 4 는, 양태 1 또는 2 (양태 1 내지 3 중 어느 하나여도 된다.) 의 묘화 시스템으로서, 상기 묘화 유닛을 포함하는 복수의 묘화 유닛을 구비하고, 상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판으로의 상기 패턴의 묘화를 실시하는 상기 묘화 유닛의 식별자를 포함한다.
본 발명의 양태 5 는, 양태 1 또는 2 (양태 1 내지 4 중 어느 하나여도 된다.) 의 묘화 시스템으로서, 상기 묘화 유닛이, 기판을 각각 유지하는 복수의 스테이지를 갖고, 상기 묘화 관련 정보가, 상기 패턴의 묘화시에 상기 대상 기판을 유지하는 스테이지의 식별자를 포함한다.
본 발명의 양태 6 은, 양태 1 또는 2 (양태 1 내지 5 중 어느 하나여도 된다.) 의 묘화 시스템으로서, 상기 묘화 관련 정보의 적어도 일부가, 이차원 코드로서 상기 대상 기판에 묘화된다.
본 발명의 양태 7 은, 묘화 방법으로서, 기판에 묘화를 실시하는 묘화 유닛에 대상 기판을 반입하는 공정과, 상기 대상 기판으로의 패턴의 묘화와, 상기 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 상기 대상 기판 상의 소정 위치로의 묘화를 상기 묘화 유닛에 실행시키는 공정을 구비한다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 분명해진다.
도 1 은 묘화 시스템의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 2 는, 묘화 장치를 나타내는 사시도이다.
도 3 은, 묘화 유닛, 제어부 및 데이터 생성 장치를 나타내는 블록도이다.
도 4 는, 묘화 시스템이 기판에 묘화를 실시하는 동작의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 5 는, 최종 묘화 데이터가 나타내는 화상을 대상 기판에 겹쳐서 나타내는 도면이다.
도 2 는, 묘화 장치를 나타내는 사시도이다.
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도 5 는, 최종 묘화 데이터가 나타내는 화상을 대상 기판에 겹쳐서 나타내는 도면이다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 묘화 시스템 (7) 의 구성을 나타내는 블록도이다. 묘화 시스템 (7) 은, 기판에 대한 패턴의 묘화를 실시하는 시스템이다. 묘화 시스템 (7) 은, 복수의 묘화 장치 (1) 와, 지시용 단말 (70) 을 구비한다. 각 묘화 장치 (1) 는, 공간 변조된 광을 기판 상의 감광 재료에 조사하고, 당해 광의 조사 영역을 기판 상에서 주사함으로써 패턴의 묘화를 실시하는 직접 묘화 장치이다. 묘화 시스템 (7) 의 설계에 따라서는, 1 개의 묘화 장치 (1) 만이 형성되어도 된다.
지시용 단말 (70) 은, 복수의 묘화 장치 (1) 와 유선 또는 무선으로 통신 가능하게 접속된다. 지시용 단말 (70) 은, CPU, 메모리 등을 갖는 컴퓨터이고, 소정의 프로그램 (CAM 소프트웨어를 포함한다.) 을 실행함으로써 묘화 지시부 (71) 로서의 동작을 실시한다. 묘화 지시부 (71) 의 기능의 일부 또는 전부가, 전기 회로에 의해 실현되어도 된다. 묘화 지시부 (71) 는, 처리 대상의 각 기판 (9) 에 대해, 패턴의 묘화에 사용하는 하나의 묘화 장치 (1) 를 복수의 묘화 장치 (1) 에서 선택하고, 당해 묘화 장치 (1) 에 대해 패턴의 묘화에 필요한 정보를 송신한다. 당해 정보는, 당해 기판 (9) 에 묘화해야 할 패턴을 나타내는 설계 데이터, 및 당해 묘화 장치 (1) 가 실행해야 할 묘화 처리의 내용을 나타내는 묘화 지시 정보를 포함한다. 묘화 지시 정보의 상세한 것에 대해서는 후술한다.
도 2 는, 하나의 묘화 장치 (1) 를 나타내는 사시도이다. 다른 묘화 장치 (1) 의 구조도, 도 2 에 나타내는 것과 대략 동일하다. 도 2 에서는, 서로 직교하는 3 개의 방향을 X 방향, Y 방향 및 Z 방향으로 하여 화살표로 나타내고 있다. 도 2 에 나타내는 예에서는, X 방향 및 Y 방향은 서로 수직인 수평 방향이고, Z 방향은 연직 방향이다.
묘화 장치 (1) 에 있어서의 처리 대상의 기판 (9) 은, 예를 들어, 평면에서 보았을 때 대략 직사각형상의 판상 부재이다. 기판 (9) 은, 예를 들어, 프린트 기판이다. 기판 (9) 의 (+Z) 측의 주면 (이하, 「상면 (91)」 이라고도 부른다.) 에서는, 감광 재료에 의해 형성된 막 (레지스트막) 이 구리층 상에 형성된다. 묘화 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 의 당해 막에 회로 패턴 등이 묘화된다. 또한, 기판 (9) 의 종류 및 형상 등은 여러 가지로 변경되어도 된다.
묘화 장치 (1) 는, 묘화 유닛 (11) 과, 제어부 (12) 와, 데이터 생성 장치 (13) 를 구비한다. 묘화 유닛 (11) 은, 복수의 반송 기구 (2a, 2b) 와, 촬상부 (3) 와, 패턴 묘화부 (4) 와, 프레임 (5) 을 구비한다. 프레임 (5) 은, 묘화 장치 (1) 의 각 구성이 장착되는 본체 베이스부이다. 프레임 (5) 은, 대략 직방체상의 기대 (基臺) (51) 와, 기대 (51) 를 걸치는 문형의 제 1 갠트리부 (52) 및 제 2 갠트리부 (53) 를 구비한다. 기대 (51) 상에는 복수의 반송 기구 (2a, 2b) 가 장착된다. 제 2 갠트리부 (53) 는, 제 1 갠트리부 (52) 의 (+Y) 측에 근접하여 배치된다. 제 1 갠트리부 (52) 는 촬상부 (3) 를 지지한다. 제 2 갠트리부 (53) 는 패턴 묘화부 (4) 를 지지한다.
도 2 의 예에서는, 복수의 반송 기구 (2a, 2b) 는, 제 1 반송 기구 (2a) 와, 제 2 반송 기구 (2b) 를 포함한다. 반송 기구의 개수는, 1 또는 3 이상이어도 된다. 제 1 반송 기구 (2a) 및 제 2 반송 기구 (2b) 는, 촬상부 (3) 및 패턴 묘화부 (4) 의 하방 (즉, (-Z) 측) 에서 기판 (9) 을 유지 및 이동하는 기구이다. 제 2 반송 기구 (2b) 는, 제 1 반송 기구 (2a) 의 (+X) 측에 인접하여 배치된다. 제 1 반송 기구 (2a) 와 제 2 반송 기구 (2b) 는 대략 동일한 구조를 갖는다.
제 1 반송 기구 (2a) 는, 제 1 스테이지 (21a) 와, 제 1 이동 기구 (22a) 를 구비한다. 제 1 스테이지 (21a) 는, 대략 수평 상태의 기판 (9) 을 하측으로부터 유지하는 대략 평판상의 기판 유지부이다. 제 1 스테이지 (21a) 는, 예를 들어, 기판 (9) 의 하면을 흡착하여 유지하는 버큠 척이다. 제 1 스테이지 (21a) 는, 버큠 척 이외의 구조를 가지고 있어도 된다. 제 1 스테이지 (21a) 상에 재치 (載置) 된 기판 (9) 의 상면 (91) 은, Z 방향 (즉, 상하 방향) 에 대해 대략 수직이고, X 방향 및 Y 방향에 대략 평행이다.
제 1 이동 기구 (22a) 는, 제 1 스테이지 (21a) 를 촬상부 (3) 및 패턴 묘화부 (4) 에 대해 대략 수평 방향 (즉, 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대략 평행한 방향) 으로 상대적으로 이동하는 스테이지 이동 기구이다. 도 2 의 예에서는, 제 1 이동 기구 (22a) 는, 촬상부 (3) 및 패턴 묘화부 (4) 의 하방에서, 제 1 스테이지 (21a) 를 Y 방향으로 직선 이동한다. 이로써, 제 1 스테이지 (21a) 에 유지된 기판 (9) 이 Y 방향으로 이동한다. 제 1 이동 기구 (22a) 의 구동원은, 예를 들어, 리니어 서보 모터, 또는 볼 나사에 모터가 장착된 것이다. 제 1 이동 기구 (22a) 의 구조는 여러 가지로 변경되어도 된다.
제 2 반송 기구 (2b) 는, 제 2 스테이지 (21b) 와, 제 2 이동 기구 (22b) 를 구비한다. 제 2 스테이지 (21b) 는, 제 1 스테이지 (21a) 와 동일한 구조이고, 제 2 이동 기구 (22b) 는, 제 1 이동 기구 (22a) 와 동일한 구조이다. 제 2 이동 기구 (22b) 에 의한 제 2 스테이지 (21b) 의 이동 방향은, 제 1 이동 기구 (22a) 에 의한 제 1 스테이지 (21a) 의 이동 방향과 대략 평행이다. 이미 서술한 바와 같이, 제 1 이동 기구 (22a) 와 제 2 이동 기구 (22b) 는 X 방향으로 나열되어 배치된다.
촬상부 (3) 는, 복수 (도 2 의 예에서는, 2 개) 의 촬상 헤드 (31) 와, 촬상 헤드 이동 기구 (32) 를 구비한다. 복수의 촬상 헤드 (31) 는, X 방향으로 배열되고, 제 1 갠트리부 (52) 의 들보부에 이동 가능하게 장착된다. 각 촬상 헤드 (31) 는, 예를 들어, CCD (Charge Coupled Device) 등의 촬상 소자를 갖고, 기판 (9) 의 상면 (91) 을 촬상하여, 촬상 화상을 취득한다. 촬상 헤드 이동 기구 (32) 는, 당해 들보부에 장착되고, 복수의 촬상 헤드 (31) 를 당해 들보부를 따라 X 방향으로 이동한다. 촬상 헤드 이동 기구 (32) 의 구동원은, 예를 들어, 리니어 서보 모터, 또는 볼 나사에 모터가 장착된 것이다. 도 2 의 예에서는, 2 개의 촬상 헤드 (31) 의 X 방향에 있어서의 간격은 변경 가능하다. 묘화 장치 (1) 에서는, 촬상 헤드 이동 기구 (32) 에 의해, 복수의 촬상 헤드 (31) 가 제 1 반송 기구 (2a) 의 상방의 제 1 촬상 위치와, 제 2 반송 기구 (2b) 의 상방의 제 2 촬상 위치에 선택적으로 배치된다.
패턴 묘화부 (4) 는, 복수 (도 2 의 예에서는, 6 개) 의 묘화 헤드 (41) 와, 묘화 헤드 이동 기구 (42) 를 구비한다. 복수의 묘화 헤드 (41) 는, X 방향으로 배열되고, 제 2 갠트리부 (53) 의 들보부에 이동 가능하게 장착된다. 묘화 헤드 이동 기구 (42) 는, 당해 들보부에 장착되고, 복수의 묘화 헤드 (41) 를 당해 들보부를 따라 X 방향으로 일체적으로 이동한다. 묘화 헤드 이동 기구 (42) 의 구동원은, 예를 들어, 리니어 서보 모터, 또는 볼 나사에 모터가 장착된 것이다. 묘화 장치 (1) 에서는, 묘화 헤드 이동 기구 (42) 에 의해, 복수의 묘화 헤드 (41) 가 제 1 반송 기구 (2a) 의 상방의 제 1 묘화 위치와, 제 2 반송 기구 (2b) 의 상방의 제 2 묘화 위치에 선택적으로 배치된다.
각 묘화 헤드 (41) 는, 도시 생략된 광원, 광학계 및 공간 광변조 소자를 구비한다. 공간 광변조 소자로는, DMD (Digital Micro Mirror Device) 나 GLV (Grating Light Valve) (실리콘·라이트·머신즈 (서니베일, 캘리포니아) 의 등록상표) 등의 여러 가지 변조 소자를 이용 가능하다. 광원으로는, LD (Laser Diode) 등의 여러 가지 광원을 이용 가능하다. 복수의 묘화 헤드 (41) 는, 대략 동일한 구조를 갖는다.
제 1 스테이지 (21a) 상의 기판 (9) 에 대해 패턴을 묘화할 때에는, 복수의 묘화 헤드 (41) 가 제 1 묘화 위치에 배치되고, 당해 복수의 묘화 헤드 (41) 로부터, 하방의 제 1 스테이지 (21a) 상의 기판 (9) 을 향하여, 공간 변조된 광이 조사된다. 그리고, 당해 광의 조사와 병행하여, 제 1 스테이지 (21a) 가 제 1 이동 기구 (22a) 에 의해 Y 방향으로 이동된다. 이로써, 복수의 묘화 헤드 (41) 로부터의 광의 조사 영역이 기판 (9) 상에서 Y 방향으로 주사되고, 기판 (9) 에 대한 패턴 (예를 들어, 회로 패턴) 의 묘화가 실시된다.
도 2 의 예에서는, 기판 (9) 에 대한 묘화는, 이른바 싱글 패스 (원 패스) 방식으로 실시된다. 구체적으로는, 제 1 이동 기구 (22a) 에 의해, 제 1 스테이지 (21a) 가 복수의 묘화 헤드 (41) 에 대해 Y 방향으로 상대 이동되고, 복수의 묘화 헤드 (41) 로부터의 광의 조사 영역이, 기판 (9) 의 상면 (91) 상에서 Y 방향으로 1 회만 주사된다. 이로써, 기판 (9) 에 대한 묘화가 완료된다. 또한, 묘화 장치 (1) 에서는, 제 1 스테이지 (21a) 의 Y 방향으로의 이동과 X 방향으로의 스텝 이동이 반복되는 멀티패스 방식에 의해, 기판 (9) 에 대한 묘화가 실시되어도 된다. 제 2 스테이지 (21b) 상의 기판 (9) 에 대한 패턴의 묘화에서는, 복수의 묘화 헤드 (41) 가 제 2 묘화 위치에 배치되고, 상기와 동일한 동작이 실시된다.
도 3 은, 하나의 묘화 장치 (1) 의 묘화 유닛 (11), 제어부 (12) 및 데이터 생성 장치 (13) 를 나타내는 블록도이다. 도 3 에서는, 묘화 지시부 (71) 도 도시되어 있다. 제어부 (12) 및 데이터 생성 장치 (13) 의 각각은, CPU, 메모리 등을 갖는 컴퓨터가 소정의 프로그램을 실행함으로써 실현된다. 제어부 (12) 및 데이터 생성 장치 (13) 의 각각의 기능의 일부 또는 전부가, 전기 회로에 의해 실현되어도 된다. 또, 하나의 컴퓨터에 의해, 제어부 (12) 및 데이터 생성 장치 (13) 가 실현되어도 된다.
후술하는 묘화 시스템 (7) 의 동작에서는, 묘화 장치 (1) 의 묘화 유닛 (11) 에 하나의 기판 (9) 이 반입됨과 함께, 당해 기판 (9) 에 대한 설계 데이터 및 묘화 지시 정보가, 묘화 지시부 (71) 로부터 묘화 장치 (1) 에 입력된다. 데이터 생성 장치 (13) 는, 벡터 형식의 설계 데이터를 변환하여, 래스터 형식의 묘화 데이터를 생성한다. 제어부 (12) 는, 묘화 데이터 및 묘화 지시 정보에 기초하여 묘화 유닛 (11) 을 제어하여, 당해 기판 (9) 에 대한 패턴의 묘화를 실행시킨다. 또, 제어부 (12) 에는, 다수의 로그 정보 (122) 를 기억하는 기억부 (121) 가 형성된다. 로그 정보 (122) 는, 각 기판 (9) 에 대한 묘화 동작에 관해서 취득되는 정보이고, 상세한 것에 대해서는 후술한다.
도 4 는, 묘화 시스템 (7) 이 기판 (9) 에 묘화를 실시하는 동작의 흐름을 나타내는 도면이다. 묘화 시스템 (7) 에서는, 처리 대상의 복수의 기판 (9) 에 대해 패턴이 묘화된다. 이하, 하나의 기판 (9) 을 「대상 기판 (9)」 이라고 부르고, 대상 기판 (9) 에 주목하여, 묘화 시스템 (7) 의 동작을 설명한다. 이하의 동작은, 다른 기판 (9) 에 대해서도 동일하다.
먼저, 묘화 지시부 (71) 에서는, 대상 기판 (9) 에 묘화해야 할 패턴으로서 미리 지정된 하나의 설계 데이터 (이하, 「선택 설계 데이터」 라고 한다.) 가, 도시 생략된 설계 데이터 기억부에서 선택되어 취득된다. 또, 복수의 묘화 장치 (1) 중, 대상 기판 (9) 에 대한 패턴의 묘화에 사용하는 하나의 묘화 장치 (1) (이하, 「선택 묘화 장치 (1)」 라고 한다.) 가 선택된다. 또한, 선택 묘화 장치 (1) 의 복수의 스테이지 (21a, 21b) 중, 대상 기판 (9) 에 대해 사용하는 하나의 스테이지 (이하, 「선택 스테이지」 라고 한다.) 가 선택된다. 스테이지의 선택은, 반송 기구의 선택이기도 하다. 묘화 시스템 (7) 에서는, 복수의 묘화 장치 (1) 의 각각에 대해 식별자 (예를 들어, 장치 번호) 가 부여되어 있고, 복수의 스테이지 (21a, 21b) 의 각각에도 식별자가 부여되어 있다. 묘화 장치 (1) 및 스테이지 (21a, 21b) 의 선택에서는, 선택 묘화 장치 (1) 의 식별자, 및 선택 스테이지의 식별자가 특정된다. 선택 묘화 장치 (1) 의 식별자, 및 선택 스테이지의 식별자는, 예를 들어, 문자, 숫자, 기호 등에 의해 구성된다.
묘화 장치 (1) 및 스테이지 (21a, 21b) 의 선택은, 오퍼레이터의 입력에 의해 실시되어도 되고, 묘화 지시부 (71) 에 의해 자동적으로 실시되어도 된다. 일례에서는, 복수의 묘화 장치 (1) 의 가동 상태를 감시하는 감시 시스템 (도시 생략) 이 묘화 시스템 (7) 에 형성되고, 당해 감시 시스템에 의해, 현재 실행 중의 패턴의 묘화가 가장 빨리 종료되는 하나의 묘화 장치 (1), 및 스테이지 (21a, 21b) 가 특정된다. 그리고, 당해 묘화 장치 (1) 및 당해 스테이지 (21a, 21b) 가, 선택 묘화 장치 (1) 및 선택 스테이지로서 결정된다.
선택 묘화 장치 (1) 및 선택 스테이지가 결정되면, 묘화 지시부 (71) 에서는, 선택 묘화 장치 (1) 가 실행해야 할 묘화 처리의 내용을 나타내는 묘화 지시 정보가 작성된다. 묘화 지시 정보는, 예를 들어, 패턴이 묘화되는 기판 (9) 상의 감광 재료의 종류, 및 패턴의 묘화를 실시할 예정의 묘화 장치 (1) 고유의 특성 등에 맞추어, 당해 묘화 장치 (1) 에 의한 당해 감광 재료로의 묘화 처리가 바람직하게 실행되도록 설정된 묘화 조건 (이하, 「묘화 파라미터」 라고도 부른다.) 을 포함한다. 묘화 파라미터는, 예를 들어, 각 묘화 헤드 (41) 로부터 출사되는 광의 강도 등을 포함한다. 또, 각 묘화 헤드 (41) 에 서로 상이한 파장의 광을 출사하는 복수의 광원이 형성되어 있는 경우, 묘화 지시 정보는, 예를 들어, 당해 복수의 광원으로부터 출사되는 광의 강도비 등을 포함한다.
일례에서는, 묘화 지시부 (71) 에 있어서, 묘화 장치 (1) 의 장치 번호 (식별자) 및 감광 재료의 종류의 복수의 조합과, 당해 복수의 조합에 각각 대응하는 복수의 묘화 파라미터의 관계를 나타내는 테이블이 미리 준비된다. 묘화 지시부 (71) 에는, 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 종류가 입력되어 있고, 선택 묘화 장치 (1) 의 장치 번호 및 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 종류를 사용하여 당해 테이블을 참조함으로써, 하나의 묘화 파라미터가 취득된다. 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 종류는, 선택 설계 데이터에 포함되어 있어도 되고, 오퍼레이터에 의해 입력되어도 된다.
묘화 지시부 (71) 에서는, 취득된 묘화 파라미터가 묘화 지시 정보에 포함된다. 묘화 지시 정보에는, 묘화 파라미터 이외의 정보가 포함되어도 된다. 본 처리예에서는, 묘화 지시 정보는, 선택 스테이지의 식별자, 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 정보, 및 대상 기판 (9) 의 종별 정보를 포함한다. 감광 재료의 정보는, 예를 들어 감광 재료의 종류, 및 감광 파장역 등을 나타낸다. 감광 재료의 특성 등이 상세하게 기재된 데이터 파일이 지시용 단말 (70) 등에 별도로 기억되고, 감광 재료의 정보가 당해 데이터 파일의 파일명을 나타내는 것이어도 된다 (대상 기판 (9) 의 종별 정보에 있어서 동일). 대상 기판 (9) 의 종별 정보는, 대상 기판 (9) 의 종별 (리지드 기판, 플렉시블 기판 등) 을 나타낸다. 대상 기판 (9) 의 종별 정보는, 사이즈, 두께 등을 포함해도 된다.
묘화 지시 정보가 작성되면, 선택 설계 데이터 및 묘화 지시 정보가 선택 묘화 장치 (1) 에 송신된다 (스텝 S11). 묘화 시스템 (7) 에서는, 외부의 반송 장치 또는 오퍼레이터에 의해, 선택 묘화 장치 (1) 의 묘화 유닛 (11) 에 대상 기판 (9) 이 반입되고, 선택 스테이지 상에 재치된다 (스텝 S12).
여기서, 대상 기판 (9) 의 상면 (91) 에는, 복수의 얼라인먼트 마크가 형성되어 있다 (묘화 시스템 (7) 에 있어서의 처리 대상의 다른 기판 (9) 에 있어서 동일). 도 2 의 묘화 유닛 (11) 에서는, 선택 스테이지 상의 대상 기판 (9) 의 각 얼라인먼트 마크의 촬상 화상이, 촬상부 (3) 에 의해 취득된다. 제어부 (12) 에서는, 예를 들어, 패턴 매칭에 의해, 촬상 화상 중에 있어서의 얼라인먼트 마크의 위치가 구해진다. 이로써, 선택 스테이지 상의 대상 기판 (9) 의 위치가 특정된다. 또, 변형이 발생하고 있지 않은 이상적인 기판 (9) 에 있어서의 복수의 얼라인먼트 마크의 위치가 기준 위치로서 이미 알려져 있고, 촬상 화상으로부터 구해지는 복수의 얼라인먼트 마크의 위치와 기준 위치가 비교된다. 이로써, X 방향 및 Y 방향의 각각에 있어서의 대상 기판 (9) 의 신축률 (얼라인먼트 배율) 이 구해진다.
한편, 선택 묘화 장치 (1) 의 데이터 생성 장치 (13) 에서는, RIP 처리가 실시되고, 벡터 형식의 선택 설계 데이터로부터 래스터 형식의 묘화 데이터가 생성된다. 제어부 (12) 에서는, 당해 묘화 데이터가, 선택 스테이지 상의 대상 기판 (9) 의 위치, 및 대상 기판 (9) 의 신축률에 맞추어 보정된다 (즉, 얼라인먼트 처리가 실시된다.). 실제로는, 기판 (9) 은 복잡한 형상으로 변형되는 경우가 있고, 대상 기판 (9) 의 신축률은, X 방향 및 Y 방향에 있어서의 전체의 신축률에는 한정되지 않는다. 예를 들어, 기판 (9) 이 사다리꼴로 변형되어 있는 경우에, 당해 사다리꼴의 상바닥 및 하바닥에 각각 대응하는 부위의 신축률이 구해져도 된다. 또, 기판 (9) 에 복수의 개편 영역이 설정되는 경우에, 개편 영역마다 신축률이 구해져도 된다. 어느 경우에도, 구해지는 신축률에 맞추어 묘화 데이터가 보정된다.
제어부 (12) 에서는, 또한, 보정이 끝난 묘화 데이터가 나타내는 전체 화상에 있어서, 일부의 영역에 묘화 관련 정보의 화상을 부가함으로써, 새로운 묘화 데이터 (실제의 패턴의 묘화에 사용되는 데이터이고, 이하, 「최종 묘화 데이터」 라고 한다.) 가 취득된다 (스텝 S13).
도 5 는, 최종 묘화 데이터가 나타내는 화상을 대상 기판 (9) 에 겹쳐서 나타내는 도면이다. 최종 묘화 데이터가 나타내는 화상은, 패턴 영역 (81) 과, 묘화 관련 정보 영역 (82) 을 갖는다. 패턴 영역 (81) 은, 회로 패턴 등, 선택 설계 데이터가 나타내는 패턴을 포함하는 영역이다. 묘화 관련 정보 영역 (82) 은, 선택 설계 데이터가 나타내는 패턴을 포함하지 않는 영역이고, 묘화 관련 정보의 화상을 나타낸다. 묘화 관련 정보 영역 (82) 은, 패턴 영역 (81) 내에 있어서 회로 패턴에 영향을 미치지 않는 영역에 형성되어도 된다.
묘화 관련 정보 영역 (82) 은, 예를 들어, 로그 식별부 (821) 와, 장치 식별부 (822) 와, 스테이지 식별부 (823) 와, 이차원 코드부 (824) 를 갖는다. 로그 식별부 (821) 는, 로그 식별자를 나타낸다. 로그 식별자는, 대상 기판 (9) 에 대한 묘화 동작을 식별하기 위해서, 당해 묘화 동작에 대해 개별적으로 (즉, 다른 기판 (9) 의 묘화 동작과 구별하여) 할당된 것이고, 묘화 시스템 (7) 에 있어서 결정된다. 로그 식별자는, 예를 들어, 문자, 숫자, 기호 등에 의해 구성된다. 로그 식별자의 일례는 로그 번호이다. 장치 식별부 (822) 는, 이미 서술한 선택 묘화 장치 (1) 의 식별자를 나타낸다. 스테이지 식별부 (823) 는, 이미 서술한 선택 스테이지의 식별자를 나타낸다. 도 5 의 예에서는, 장치 식별부 (822) 는, 선택 묘화 장치 (1) 의 번호 「3」 을 나타내고, 스테이지 식별부 (823) 는, 선택 스테이지가 좌측 「L」 의 스테이지인 것을 나타낸다.
이차원 코드부 (824) 는, 이차원 코드를 나타낸다. 이차원 코드는, 예를 들어, QR 코드 (등록상표) 등이다. 이차원 코드가 나타내는 정보는, 예를 들어, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화 일시, 패턴의 묘화시에 참조한 대상 기판 (9) 의 신축률, 패턴의 묘화에 사용한 패턴 데이터명, 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 정보, 및 대상 기판 (9) 의 종별 정보를 포함한다. 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화 일시는, 패턴의 묘화에 관련된, 어느 처리가 실시된 일시여도 되고, 예를 들어, 최종 묘화 데이터의 생성 일시여도 된다. 패턴의 묘화시에 참조한 대상 기판 (9) 의 신축률은, 대상 기판 (9) 의 얼라인먼트 마크를 촬상함으로써 취득된 신축률이다. 패턴의 묘화에 사용한 패턴 데이터명은, 선택 설계 데이터가 나타내는 패턴에 부여된 명칭, 또는 선택 설계 데이터의 파일명 등이다. 이미 서술한 바와 같이, 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 정보, 및 대상 기판 (9) 의 종별 정보는, 묘화 지시부 (71) 로부터 송신되는 묘화 지시 정보에 포함된다. 이차원 코드를 사용함으로써, 많은 복잡한 정보를 작은 영역에 넣는 것이 가능해진다.
이상과 같이, 보정이 끝난 묘화 데이터에 부가되는 묘화 관련 정보 (즉, 최종 묘화 데이터에 포함되는 묘화 관련 정보) 는, 패턴의 묘화에 관련되는 여러 가지 정보이다. 묘화 관련 정보는, 전형적으로는, 대상 기판 (9) 에 대해 묘화 장치 (1) 에 의해 취득 또는 생성되는 정보, 그리고, 대상 기판 (9) 에 관해서 외부 (본 처리예에서는, 묘화 지시부 (71)) 로부터 묘화 장치 (1) 에 입력되는 정보를 포함한다. 로그 식별자, 선택 묘화 장치 (1) 의 식별자, 및 선택 스테이지의 식별자의 일부 또는 전부가, 이차원 코드에 포함되어도 된다. 또, 상기의 이차원 코드가 나타내는 정보의 일부 또는 전부가 문자열로 묘화 관련 정보 영역 (82) 에 포함되어도 된다. 묘화 관련 정보는, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화에 관련되는 상기 이외의 정보 (예를 들어, 묘화 파라미터 등) 를 포함해도 된다. 본 처리예에서는, 묘화 관련 정보에 포함시켜야 할 항목, 및 묘화 관련 정보 영역 (82) 의 위치가, 각 묘화 장치 (1) 의 제어부 (12) 에 미리 설정되지만, 묘화 지시부 (71) 에 있어서 당해 항목 및 위치가 설정되고, 묘화 지시 정보에 포함되어 묘화 장치 (1) 에 송신되어도 된다.
최종 묘화 데이터가 취득되면, 최종 묘화 데이터 및 묘화 지시 정보에 기초하여, 제어부 (12) 에 의해 묘화 유닛 (11) 이 제어되어, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화와, 대상 기판 (9) 상의 소정 위치로의 묘화 관련 정보의 묘화가 실행된다 (스텝 S14). 대상 기판 (9) 으로의 묘화에서는, 선택 묘화 장치 (1), 및 대상 기판 (9) 상의 감광 재료에 적합한 묘화 파라미터가 적용되기 때문에, 바람직한 묘화가 실현된다.
이미 서술한 바와 같이, 선택 묘화 장치 (1) 에서는, 대상 기판 (9) 에 대한 묘화 동작에 대해 로그 식별자가 할당되어 있고, 당해 묘화 동작에 관해서 취득된 로그 정보 (122) 가, 로그 식별자에 관련지은 (연결된) 상태로 제어부 (12) 의 기억부 (121) 에 기억된다 (스텝 S15). 로그 정보 (122) 는, 로그 데이터이고, 묘화 유닛 (11) 의 각 구성 (반송 기구 (2a, 2b), 촬상부 (3) 및 패턴 묘화부 (4) 등) 의 동작, 데이터 생성 장치 (13) 의 처리, 및 제어부 (12) 의 처리 등의 이력 정보 및 에러 정보를 포함한다. 예를 들어, 로그 정보 (122) 는, 실제로 사용한 묘화 파라미터의 값 등을 포함한다. 본 처리예에서는, 로그의 이벤트와 함께 로그 식별자가 기록됨으로써, 로그 정보 (122) 가 로그 식별자에 직접적으로 관련지어진다. 로그 정보 (122) 는, 로그 식별자와 관련짓는 것이 가능하다면, 로그 식별자와는 상이한 식별자를 포함하고 있어도 된다. 환언하면, 로그 정보 (122) 는, 로그 식별자에 간접적으로 관련지어져 있어도 된다. 또한, 도 4 에서는, 스텝 S14 와 스텝 S15 를 직렬로 접속하고 있지만, 실제로는, 스텝 S14 와 스텝 S15 가 병행하여 실시된다.
선택 묘화 장치 (1) 에서는, 대상 기판 (9) 에 대한 묘화에 병행하여, 로그 정보 (122) 가 차례차례로 취득되어, 기억부 (121) 에 기억된다. 최종 묘화 데이터가 나타내는 화상의 전체가 대상 기판 (9) 에 묘화되면, 대상 기판 (9) 으로의 묘화 동작이 완료된다. 대상 기판 (9) 은, 묘화 유닛 (11) 으로부터 반출되어, 외부의 현상 장치에 있어서 감광 재료의 현상이 실시된다.
실제의 묘화 장치 (1) 에서는, 제 1 스테이지 (21a) 및 제 2 스테이지 (21b) 중 일방의 스테이지 상에 유지된 기판 (9) 에 대해 묘화가 실시되고 있는 동안에, 타방의 스테이지 상에 기판 (9) 이 반입되어 이미 서술한 얼라인먼트 처리가 실시된다. 그리고, 상기 일방의 스테이지 상에 유지된 기판 (9) 에 대한 묘화가 종료되면, 상기 타방의 스테이지 상에 유지된 기판 (9) 에 대한 묘화가 개시된다. 또, 당해 타방의 스테이지 상의 기판 (9) 에 대해 묘화가 실시되고 있는 동안에, 일방의 스테이지 상으로부터 묘화가 끝난 기판 (9) 이 반출되고, 새로운 기판 (9) 이 당해 일방의 스테이지 상에 반입되어 얼라인먼트 처리가 실시된다.
여기서, 기판 (9) 에 대해 묘화 관련 정보의 묘화가 실시되지 않는 비교예의 묘화 시스템을 상정한다. 비교예의 묘화 시스템에 의해 패턴이 묘화된 기판 (9) 에 있어서, 감광 재료의 막의 박리나, 묘화시의 변형 보정의 이상, 패턴의 위치 정밀도나 선폭 정밀도의 불량 등 (즉, 기판 (9) 상의 패턴 불량) 이 현상 후에 발각된 경우, 트러블 슈팅을 위해, 당해 기판 (9) 에 대한 패턴의 묘화에 관련되는 정보가 필요해진다. 당해 정보를 취득하기 위해서는, 당해 기판 (9) 의 정확한 묘화 일시나, 당해 기판 (9) 에 대해 묘화를 실시한 묘화 장치 (1) 의 번호 등이 필요하지만, 묘화 일시나 묘화 장치 (1) 의 번호 등이 정확하게 관리되어 있지 않은 경우가 있고, 이 경우, 기판 (9) 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅이 곤란해진다.
이에 대해, 상기 묘화 시스템 (7) 에서는, 제어부 (12) 가 묘화 유닛 (11) 을 제어함으로써, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화와, 당해 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 대상 기판 (9) 상의 소정 위치로의 묘화를 묘화 유닛 (11) 에 실행시킨다. 이로써, 대상 기판 (9) 상의 패턴 불량이 발각된 경우에도, 대상 기판 (9) 상의 묘화 관련 정보를 확인함으로써, 트러블 슈팅에 유용한 정보를, 용이하고 또한 단시간에 취득할 수 있다. 그 결과, 대상 기판 (9) 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅을 신속하게 실시할 수 있어, 동일한 패턴 불량이 반복되는 것에 의한 재료의 낭비 등을 삭감할 수 있다.
바람직한 묘화 시스템 (7) 에서는, 묘화 유닛 (11) 에 의한 각 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화 동작에 대해 로그 식별자가 할당되고, 당해 기판 (9) 에 대한 묘화 동작에 관해서 취득된 로그 정보 (122) 가 로그 식별자에 관련지어 기억부 (121) 에 기억된다. 또, 대상 기판 (9) 상에 묘화되는 묘화 관련 정보가, 대상 기판 (9) 에 대한 묘화 동작의 로그 식별자를 포함한다. 따라서, 대상 기판 (9) 상의 로그 식별자를 사용하여 로그 정보 (122) 를 대조함으로써, 묘화 장치 (1) 에 있어서의 트레이서빌리티를 향상시킬 수 있다. 그 결과, 대상 기판 (9) 상의 패턴 불량에 관한 고도의 트러블 슈팅을 실시할 수 있다.
바람직하게는, 대상 기판 (9) 상에 묘화되는 묘화 관련 정보가, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화 일시, 패턴의 묘화시에 참조한 대상 기판 (9) 의 신축률, 패턴의 묘화에 사용한 패턴 데이터명, 대상 기판 (9) 상의 감광 재료의 정보, 및 대상 기판 (9) 의 종별 정보의 적어도 1 개를 포함한다. 이들의 정보는, 원칙적으로 로그 정보 (122) 에 포함되지만, 당해 정보를 대상 기판 (9) 상에 묘화함으로써, 대상 기판 (9) 을 확인하는 것만으로 (즉, 실제의 로그 정보 (122) 를 확인하는 일 없이), 트러블 슈팅에 유용한 정보를 신속하게 취득할 수 있다.
묘화 시스템 (7) 이 복수의 묘화 유닛 (11) 을 구비하는 경우에는, 상기 묘화 관련 정보가, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화를 실시하는 묘화 유닛 (11) 의 식별자 (묘화 장치 (1) 의 식별자와 동일하다.) 를 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 대상 기판 (9) 으로의 패턴의 묘화를 실시한 묘화 유닛 (11) 을 용이하게 특정할 수 있어, 대상 기판 (9) 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅을 신속하게 실시할 수 있다.
묘화 유닛 (11) 이, 기판 (9) 을 각각 유지하는 복수의 스테이지 (21a, 21b) 를 갖는 경우에는, 상기 묘화 관련 정보가, 패턴의 묘화시에 대상 기판 (9) 을 유지하는 스테이지의 식별자를 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 패턴의 묘화시에 대상 기판 (9) 을 유지한 스테이지를 용이하게 특정할 수 있어, 대상 기판 (9) 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅을 적절히 실시할 수 있다.
바람직하게는, 묘화 관련 정보의 적어도 일부가, 이차원 코드로서 대상 기판 (9) 에 묘화된다. 이로써, 묘화 관련 정보가 묘화되는 영역을 작게 하면서, 대상 기판 (9) 에 많은 정보를 기록할 수 있다. 또한, 이차원 코드의 판독에서는, 공지된 이차원 코드 리더를 사용하여, 이차원 코드가 나타내는 정보를 신속하게 취득하는 것이 가능하다.
한편, 이미 서술한 스테이지의 식별자나, 묘화 유닛 (11) 의 식별자 등의 단순한 정보에 대해서는, 이차원 코드를 사용하지 않고, 문자, 숫자, 기호 등으로서 묘화하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 도 2 의 묘화 장치 (1) 에 있어서, 좌측에 배치되는 스테이지 (21a) 를 대상 기판 (9) 에 대해 사용하는 경우에는, 식별자 「L」 이 대상 기판 (9) 에 묘화되고, 우측에 배치되는 스테이지 (21b) 를 대상 기판 (9) 에 대해 사용하는 경우에는, 식별자 「R」 이 대상 기판 (9) 에 묘화된다. 이로써, 오퍼레이터가 육안 또는 현미경 등을 이용함으로써, 패턴의 묘화시에 대상 기판 (9) 을 유지한 스테이지를 신속하게 특정하는 것이 가능해진다.
상기 묘화 시스템 (7) 및 묘화 방법에서는 여러 가지 변형이 가능하다.
묘화 시스템 (7) 의 설계에 따라서는, 묘화 관련 정보가 로그 식별자를 포함하지 않아도 된다. 이 경우에도, 묘화 유닛 (11) 의 식별자 등의 다른 묘화 관련 정보가 기판 (9) 에 묘화됨으로써, 기판 (9) 상의 패턴 불량의 트러블 슈팅에, 어느 정도 유용한 정보를 취득하는 것이 가능하다.
로그 정보 (122) 를 기억하는 기억부 (121) 는, 지시용 단말 (70) 등, 제어부 (12) 이외에 형성되어도 된다.
기판 (9) 에 있어서, 최종 제품에서 절단 및 폐기되는 부위에, 묘화 관련 정보가 묘화되어도 된다. 기판 (9) 상의 묘화 관련 정보는, 적어도 제조 도중에 있어서 이용 가능하면 된다.
묘화 장치 (1) 는, 전자선 등을 이용하여 묘화를 실시하는 직접 묘화 장치여도 된다. 또, 묘화 장치 (1) 에 있어서, 하나의 스테이지만이 형성되어도 된다.
기판 (9) 은, 프린트 기판 이외에, 반도체 기판이나 유리 기판 등이어도 되고, 플렉시블 기판 등의 필름상의 기판이어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 서술한 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.
7 : 묘화 시스템
9 : 기판
11 : 묘화 유닛
12 : 제어부
21a, 21b : 스테이지
82 : 묘화 관련 정보 영역
121 : 기억부
122 : 로그 정보
S11 ∼ S15 : 스텝
9 : 기판
11 : 묘화 유닛
12 : 제어부
21a, 21b : 스테이지
82 : 묘화 관련 정보 영역
121 : 기억부
122 : 로그 정보
S11 ∼ S15 : 스텝
Claims (7)
- 묘화 시스템으로서,
기판에 묘화를 실시하는 묘화 유닛과,
상기 묘화 유닛을 제어함으로써, 대상 기판으로의 패턴의 묘화와, 상기 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 상기 대상 기판 상의 소정 위치로의 묘화를 상기 묘화 유닛에 실행시키는 제어부를 구비하는 묘화 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 묘화 유닛에 의한 각 기판으로의 패턴의 묘화 동작에 대해 로그 식별자가 할당되어 있고, 상기 각 기판에 대한 상기 묘화 동작에 관해서 취득된 로그 정보를 상기 로그 식별자에 관련지어 기억하는 기억부를 추가로 구비하고,
상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판에 대한 상기 묘화 동작의 상기 로그 식별자를 포함하는, 묘화 시스템. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판으로의 상기 패턴의 묘화 일시, 상기 패턴의 묘화시에 참조한 상기 대상 기판의 신축률, 상기 패턴의 묘화에 사용한 패턴 데이터명, 상기 대상 기판 상의 감광 재료의 정보, 및 상기 대상 기판의 종별 정보의 적어도 하나를 포함하는 묘화 시스템. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 묘화 유닛을 포함하는 복수의 묘화 유닛을 구비하고,
상기 묘화 관련 정보가, 상기 대상 기판으로의 상기 패턴의 묘화를 실시하는 상기 묘화 유닛의 식별자를 포함하는 묘화 시스템. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 묘화 유닛이, 기판을 각각 유지하는 복수의 스테이지를 갖고,
상기 묘화 관련 정보가, 상기 패턴의 묘화시에 상기 대상 기판을 유지하는 스테이지의 식별자를 포함하는 묘화 시스템. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 묘화 관련 정보의 적어도 일부가, 이차원 코드로서 상기 대상 기판에 묘화되는 묘화 시스템. - 묘화 방법으로서,
기판에 묘화를 실시하는 묘화 유닛에 대상 기판을 반입하는 공정과,
상기 대상 기판으로의 패턴의 묘화와, 상기 패턴의 묘화에 관련되는 묘화 관련 정보의 상기 대상 기판 상의 소정 위치로의 묘화를 상기 묘화 유닛에 실행시키는 공정을 구비하는 묘화 방법.
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| JPJP-P-2022-149684 | 2022-09-21 | ||
| JP2022149684A JP2024044259A (ja) | 2022-09-21 | 2022-09-21 | 描画システムおよび描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240040604A true KR20240040604A (ko) | 2024-03-28 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020230082782A KR20240040604A (ko) | 2022-09-21 | 2023-06-27 | 묘화 시스템 및 묘화 방법 |
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