KR20240039164A

KR20240039164A - 광학 글라스, 글라스 프리폼, 광학 소자 및 광학 기기

Info

Publication number: KR20240039164A
Application number: KR1020247006308A
Authority: KR
Inventors: 보 쿠앙
Original assignee: 시디지엠 글라스 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2021-09-07
Filing date: 2022-08-17
Publication date: 2024-03-26
Also published as: WO2023035887A1; CN113735436B; CN113735436A; TW202311184A

Abstract

본 발명은 광학 글라스를 제공하는데, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 12~30%; Nb₂O₅: 6~20%; TiO₂: 15~35%; BaO: 15~35%; ZrO₂: 1~10%를 포함한다. 합리적인 구성 성분 분배비율을 통해 본 발명의 광학 글라스는 규산염(붕산염) 시스템에서 굴절률이 1.89~1.96, 아베수가 20~28인 광학 글라스를 수득하며, 해당 광학 글라스는 원료 원가와 생산 원가가 비교적 낮고, 환경 부하가 비교적 작다.

Description

광학 글라스, 글라스 프리폼, 광학 소자 및 광학 기기

본 발명은 광학 글라스에 관한 것이며, 더욱이 굴절률이 1.89~1.96이고 아베수(Abbe number)가 20~28인 광학 글라스에 관한 것이다.

굴절률이 1.89~1.96, 아베수가 20~28인 글라스는 고굴절 플린트 글라스(flint glass)로, 해당 종류의 글라스는 비교적 높은 굴절률과 분산성으로 관상 글라스(coronal glass)와 결합하면 색수차와 이차 스펙트럼을 효과적으로 제거할 수 있다. 동시에 렌즈의 총 광학 길이를 효과적으로 단축하여 이미징 시스템을 소형화할 수 있다. 따라서, 광학 설계에서 해당 유형의 글라스는 광범위한 응용 전망을 갖고 있다.

기존 기술에서 고굴절 플린트 글라스는 일반적으로 P₂O₅―Nb₂O₅―TiO₂―RO 글라스 시스템(즉, 인산염 시스템)을 채택하는데, 예를 들어 CN200710088277.4에 공개된 굴절률이 1.80~1.95이고 아베수가 19~28인 선택적인 글라스가 있다. 인산염 시스템 글라스는 규산염(붕산염) 글라스 시스템과 비교할 경우, 아래와 같은 문제를 가진다: 1) 인산염 시스템 글라스의 생산 난이도는 규산염(붕산염) 글라스보다 크고, 생산원가가 높으며; 2) 인산염 시스템 글라스의 원료 원가는 규산염(붕산염) 글라스 원료 원가보다 높고; 3) 인산염 글라스는 생산 과정에서 사용되는 백금 용기 부식(소비)이 규산염(붕산염) 글라스보다 크며, 동시에 인산염의 글라스를 생산한 백금 용기는 재활용 시 특별 정제 처리를 해야 하므로 생산 비용을 더욱 증가시키고; 4) 인산염 글라스는 생산 시 환경 부하가 더 크다. 상기 원인을 기반으로, 규산염(붕산염) 글라스 시스템에서 굴절률이 1.89~1.96이고 아베수가 20~28인 플린트 글라스를 얻는 방법은 광학 글라스 연구의 새로운 과제가 되었다.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 굴절률이 1.89~1.96이고 아베수가 20~28인 플린트 광학 글라스를 제공하는 것이다.

광학 글라스 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 하기 성분이 함유됨: SiO₂: 12~30%; Nb₂O₅: 6~20%; TiO₂: 15~35%; BaO: 15~35%; ZrO₂: 1~10%.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 하기 성분이 함유됨: B₂O₃: 0~6%; 및/또는 WO₃: 0~10%; 및/또는 ZnO: 0~8%; 및/또는 Li₂O: 0~3%; 및/또는 Na₂O: 0~8%; 및/또는 K₂O: 0~5%; 및/또는 SrO: 0~8%; 및/또는 CaO: 0~12%; 및/또는 MgO: 0~8%; 및/또는 Ln₂O₃: 0~10%; 및/또는 Al₂O₃: 0~5%; 및/또는 청징제(clarifying agent): 0~1%, 이때, 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, Yb₂O₃ 중 하나 이상이며, 청징제는 Sb₂O_3,SnO_2,SnO 및 CeO₂ 중 하나 이상이다.

광학 글라스, 이의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 12~30%; Nb₂O₅: 6~20%; TiO₂: 15~35%; BaO: 15~35%; ZrO₂: 1~10%; B₂O₃: 0~6%; WO₃: 0~10%; ZnO: 0~8%; Li₂O: 0~3%; Na₂O: 0~8%; K₂O: 0~5%; SrO: 0~8%; CaO: 0~12%; MgO: 0~8%; Ln₂O₃: 0~10%; Al₂O₃: 0~5%; 청징제: 0~1%로 구성되며, 이때, 상기 Ln₂O₃은 La₂O_3,Gd₂O₃, Y₂O₃, Yb₂O₃ 중 하나 이상이며, 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및 CeO₂ 중 하나 이상이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데, 이때, Nb₂O₅/BaO는 0.2~1.2이고, 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO이 0.2~1.0이고, 더 양호한 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO이 0.25~0.9이고, 더 나아가 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO이 0.3~0.8이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데, 이때, TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 0.6~5.5이고, 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）가 0.7~4.0이며, 더 양호한 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）가 0.8~3.0이고, 더 나아가 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）가 1.0~2.5이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데 이때, SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）는 0.3~1.3이고, 최적 선택은 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）가 0.35~1.0이며, 더 양호한 최적 선택은 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）가 0.4~0.8이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데, 이때, B₂O₃/SiO₂는 0.4 이하이고, 최적 선택은 B₂O₃/SiO₂가 0.01~0.3이고, 더 양호한 최적 선택 B₂O₃/SiO₂가 0.03~0.2이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데, 이때, Na₂O/CaO는 5.0 이하이고, 최적 선택은 Na₂O/CaO가 0.01~3.0이며, 더 양호한 최적 선택은 Na₂O/CaO가 0.05~2.5이다.

더 나아가, 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 이때, （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.7 이하이고, 최적 선택은 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.6 이하이고, 더 양호한 최적 선택은（ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.5 이하이고, 더 나아가 최적 선택 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.3이하이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되는데, 이때, Li₂O/B₂O₃은 0.5 이하이고, 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃ 가 0.3 이하이고, 더 양호한 최적 선택 Li₂O/B₂O₃은 0.1 이하이며, 더 나아가 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃가 0.05 이하이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 이때, （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）은 0.5~2.2이고, 최적 선택은 (SiO₂+ TiO₂)/(Nb₂O₅+ZrO₂+ CaO+BaO) 가 0.6~2.0이고, 더 양호한 최적 선택은 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）가 0.8~1.8이며, 더 나아가 최적 선택은 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）가 0.9~1.5이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 이때, 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.7 이하이고, 최적 선택은 10×Li₂O/Nb₂O₅가 0.4 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 10×Li₂O/Nb₂O₅가 0.2 이하이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율에 따라 표시되며, 이때, SiO₂: 15~25%, 최적 선택 SiO₂: 16~23%; 및/또는 Nb₂O₅: 7~18%, 최적 선택 Nb₂O₅: 8~17%; 및/또는 TiO₂: 18~32%, 최적 선택 TiO₂: 20~30%; 및/또는 BaO: 18~32%, 최적 선택 BaO: 20~30%; 및/또는 ZrO₂: 2~8%, 최적 선택 ZrO₂: 2~7%; 및/또는 B₂O₃: 0.1~5%, 최적 선택 B₂O₃: 0.5~4%; 및/또는 WO₃: 0~5%, 최적 선택 WO₃ 0~2%; 및/또는 ZnO: 0~5%, 최적 선택 ZnO: 0~2%; 및/또는 Li₂O: 0~2%, 최적 선택 Li₂O: 0~1%; 및/또는 Na₂O: 0~6%, 최적 선택 Na₂O: 0.5~5%; 및/또는 K₂O: 0~3%, 최적 선택 K₂O: 0~2%; 및/또는 SrO: 0~4%, 최적 선택 SrO: 0~2%; 및/또는 CaO: 1~9%, 최적 선택 CaO: 3~7%; 및/또는 MgO: 0~4%, 최적 선택 MgO: 0~2%; 및/또는 Ln₂O₃ 0~9%, 최적 선택 Ln₂O₃: 0~7%; 및/또는 Al₂O₃: 0~3%, 최적 선택 Al₂O₃: 0~2%; 및/또는 청징제: 0~0.5%, 최적 선택 청징제: 0~0.2%, 그중 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, Yb₂O₃ 중 하나 이상이며, 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및 CeO₂ 중 하나 이상이다.

더 나아가, 상기 광학 글라스에는 ZnO가 함유되지 않으며; 및/또는 Li₂O가 함유되지 않으며; 및/또는 P₂0₅가 함유되지 않으며; 및/또는 Bi₂O₃가 함유되지 않으며; 및/또는 Ta₂O₅가 함유되지 않으며; 및/또는 TeO₂가 함유되지 않으며; 및/또는 WO₃가 함유되지 않는다.

더 나아가, 상기 광학 글라스의 굴절률 n_d는 1.89~1.96이고, 최적 선택은 1.90~1.95이며, 더 양호한 최적 선택은 1.91~1.94이며; 아베수 ν_d는 20~28이고, 최적 선택은 21~27이며, 더 양호한 최적 선택은 22~26이다.

더 나아가서, 상기 광학 글라스의 λ₇₀은 460nm 이하이고, 최적 선택 λ₇₀은 450nm 이하이며, 더 양호한 최적 선택 λ₇₀은 440nm 이하이며; 및/또는 λ₅는 400nm 이하이고, 최적 선택은 λ₅는 390nm 이하이며, 더 양호한 최적 선택 λ₅는 380nm 이하이며; 및/또는 내산 역할 안정성 D_A는 2종 이상이며, 최적 선택은 1종이며; 및/또는 내수 역할 안정성 D_W는 2종 이상이며, 최적 선택은 1종이며; 및/또는 결정 석출(devitrification) 상한 온도는 1200℃ 이하이고, 최적 선택은 1160℃ 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 1150℃ 이하이며, 더 나아가 최적 선택은 1140℃ 이하이며; 및/또는 영률 E는 9000×10⁷/Pa 이상이고, 최적 선택은 9500×10⁷/Pa 이상이며, 더 양호한 최적 선택은 10000×10⁷/Pa 이상이며, 더 나아가 최적 선택은 10500×10⁷/Pa 이상이며; 및/또는 열팽창계수 α_100~300℃는 110×10^-7/K 이하이며, 최적 선택은 105×10^-7/K 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 100×10^-7/K 이하이며; 밀도 ρ는 4.30g/cm³이하이고, 최적 선택은 4.20g/cm³이하이며, 더 양호한 최적 선택은 4.10g/cm³이하이며; 및/또는 마모도 F_A는 150 이상이고, 최적 선택은 180 이상이며, 더 양호한 최적선택은 200~300이며; 및/또는 상대 부분 분산 P_g,F는 0.6000~0.6500이며, 최적 선택은 0.6100~0.6400이며, 더 양호한 최적 선택은 0.6150~0.6250이다.

글라스 프리폼(glass preform)은 상기 광학 글라스로 만들어진다.

광학 소자는 상기 광학 글라스로 만들거나 상기 글라스 프리폼으로 만든다.

광학 기기는 상기 광학 글라스를 함유하거나 상기 광학 소자를 함유한다.

합리적인 구성 성분 분배비를 통해 본 발명으로 얻은 광학 글라스는 규산염(붕산염) 시스템에서 굴절률 1.89~1.96, 아베수 20~28의 광학 글라스를 획득하여, 해당 광학 글라스는 원료 원가와 생산 원가가 비교적 낮고 환경 부하가 비교적 적다.

아래 본 발명의 광학 글라스의 실시 방식에 대해 상세하게 설명하지만 본 발명은 아래에 상기 실시 방식에 제한하지 않고 본 발명의 목적의 범위내에서 적당한 변경을 진행하여 실시할 수 있다. 또한 중복 설명 부분의 경우 설명을 생략하는 경우가 적절하지만 이로 본 발명의 취지를 제한하지 않는다. 아래의 내용 중에서 본 발명의 광학 글라스는 때때로 글라스를 의미한다.

[광학 글라스]

아래 본 발명의 광학 글라스의 각 구성 성분 범위에 대해 설명하기로 한다. 본 명세서에서 특별한 설명이 없으면 각 구성 성분의 함량은 모두 산화물로 환산된 글라스 물질의 총량에 대한 중량 백분율(wt%)로 표시한다. 여기서 상기 “산화물의 성분으로 환산”은 본 발명의 광학 글라스 구성성분의 원료로 사용되는 산화물, 복합염 및 수산화물 등이 용융될 때 산화물로 분해 및 변환되는 경우 해당 산화물의 물질 총량을 100%로 함을 가리킨다.

구체적인 상황하에서 별도로 지적되지 아니한, 본 문서에 나열된 수치 범위에는 상한과 하한값이 포함되며, "이상" 및 "이하" 에는 끝점 값 및 해당 범위내에의 모든 정수와 분수가 포함되지만, 한정 범위에 나열된 구체적인 값은 국한되지 않는다. 이 문서에 사용된 용어 "약"은 제형, 파라미터 및 기타 수량 및 특징이 아니며 정확할 필요가 없으며, 필요한 경우 허용 오차, 변환 계수 및 측정 오류 등을 반영하여 근사치 및/또는 더 크거나 낮을 수 있다. 이 문서에서 "및/또는" 은 포함성을 가리키며, 예를 들어 "A 및/또는 B"는 A만 있거나 또는 B만 있거나 또는 A와 B가 동시에 있는 것을 있음을 가리킨다.

<필수 구성 성분과 비필수 성분>

SiO₂는 본 발명의 글라스의 네트워크 생성체로서 글라스의 화학적 안정성과 용융글라스의 성형에 적합한 점도를 유지하고, 글라스의 내실투성(결정 석출 저항 성능)(devitrification resistance)을 높이며 용융글라스액의 내화물(refractory)에 대한 침식을 낮추는 역할을 한다. SiO₂함량이 12% 미만이면 위의 효과를 달성하기 어렵기 때문에 SiO₂함량의 하한은 12%이며, 최적 선택 하한은 15%이며, 더 양호한 최적 선택 하한은 16% 이다. SiO₂의 함량이 30% 이상이면 글라스의 용융성이 낮아지고 전이 온도가 상승한다. 따라서 SiO₂의 함량 상한은 30%이고, 최적 선택 상한은 25%이며, 더 양호한 최적 선택 상한은 23%이다. 부분 실시 방식에서 약 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%, 20.5%, 21%, 21.5%, 22%, 22.5%, 23%, 23.5%, 24%, 24.5%, 25%, 25.5%, 26%, 26.5%, 27%, 27.5%, 28%, 28.5%, 29%, 29.5%, 30% 보다 큰 SiO₂가 포함될 수 있다.

B₂O₃는 글라스의 열 안정성을 개선하고 글라스의 용융 성능을 높이며 원료가 녹을 때 가스의 급격한 누출을 억제하여, “실린더” 문제를 피할 수 있으며, 적당량을 함유하면 글라스 원료가 용융되지 않고 남아 있는 글라스를 쉽게 얻을 수 있지만 B₂O₃의 함량이 너무 많을 때 글라스의 굴절률이 낮아지고 열 안정성이 떨어지기 때문에 본 발명의 B₂O₃의 함량은 6% 이하이고 최적 선택은 0.1~5%이며, 더 양호한 최적 선택은 0.5~4% 이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%의 B₂O₃가 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 B₂O₃의 함량과 SiO₂의 함량 사이의 비율인 B₂O₃/SiO₂를 0.4 이하로 제어하면, 글라스의 화학적 안정성을 향상시키는 데 유리하다. 따라서 최적 선택은 B₂O₃/SiO₂가 0.4 이하이다. 더 나아가 B₂O₃/SiO₂를 0.01~0.3 범위 내에 있게 함으로써, 글라스의 영률과 마모도를 최적화하는 데 유리하다. 따라서 더 양호한 최적 선택은 B₂O₃/SiO₂는 0.01~0.3이고, 더 나아가 최적 선택은 B₂O₃/SiO₂는 0.03~0.2이다. 부분 실시 방식에서 B₂O₃/SiO₂의 값은 0이거나, 0, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4보다 클 수 있다.

Nb₂O₅는 고굴절 고분산 구성 성분으로 글라스의 굴절률과 내실투성을 높이고 글라스의 열팽창계수를 낮출 수 있으며, 본 발명은 6% 이상의 Nb₂O₅를 함유하여, 상기 효과를 얻을 수 있으며, 최적 선택은 Nb₂O₅ 함량은 7% 이상이고, 더 양호한 최적 선택은 8% 이상이다. 만약 Nb₂O₅의 함량이 20%를 초과하면 글라스의 열안정성과 화학안정성이 낮아지고 빛 투과율이 내려가므로, 본 발명에서 글라스의 함량 상한은 20%이고, 최적 선택 상한은 18%이며, 더 양호한 최적 선택 상한은 17% 이다. 부분 실시 방식에서 약 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%의 Nb₂O₅이포함될 수 있다.

TiO₂는 글라스의 굴절률과 분산을 높이는 역할을 하며, 글라스 네트워크 형성에 참여할 수 있으며 적당량을 함유하여 글라스를 더욱 안정시키고 글라스의 고온 점도를 낮출 수 있다. 본 발명에서는 15% 이상의 TiO₂를 함유함을 통해 상기 효과를 획득하여 최적 선택은 18% 이상의 TiO₂를 함유하고, 더 양호한 최적 선택은 20% 이상의 TiO₂를 함유하는 것이다. TiO₂ 함량이 35%를 초과하면 글라스의 결정 석출 경향이 증가하고 전이 온도가 상승하는 동시에 글라스가 압력을 가하여 성형될 때 쉽게 착색된다. 따라서 본 발명에서 TiO₂의 함량은 35% 이하이고, 최적 선택은 TiO₂의 함량이 32% 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 30% 이하이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 약 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%, 20.5%, 21%, 21.5%, 22%, 22.5%, 23%, 23.5%, 24%, 24.5%, 25%, 25.5%, 26%, 26.5%, 27%, 27.5%, 28%, 28.5%, 29%, 29.5%, 30%, 30.5%, 31%, 31.5%, 32%, 32.5%, 33%, 33.5%, 34%, 34.5%, 35%의 TiO₂이 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 SiO₂의 함량과 Nb₂O₅및 TiO₂의 합계 함량 Nb₂O₅+TiO₂ 사이의 비례값 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）를 0.3~1.3 범위로 제어함으로써 글라스의 열팽창 계수와 밀도를 낮추는 동시에 글라스가 적당한 마모도와 상대적인 부분의 분산을 얻을 수 있다. 따라서 최적 선택은 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）는 0.3~1.3이고, 더 양호한 최적 선택은 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）가 0.35~1.0이고, 더 나아가 최적 선택은 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）가 0.4~0.8이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）의 값은 0.3, 0.35, 0.4, 0.45, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2, 1.25, 1.3이다.

WO₃는 글라스의 굴절률과 분산을 향상시킬 수 있지만 Nb₂O₅및 TiO₂보다 효과가 떨어지고 원가 우위가 없으며, 글라스의 빛 투과율을 낮출 수 있다. 따라서 본 발명의 WO₃함량은 0~10%이고, 최적 선택은 0~5%이며, 더 양호한 최적 선택은 0~2%이며, 더 나아가 최적 선택은 WO₃이 함유되지 않는다. 부분 실시 방식에서 약 0% 거나, 0% 이상 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%의 WO₃이 포함될 수 있다.

ZnO는 글라스의 굴절률과 분산을 조정하여 글라스의 전이 온도를 낮출수 있지만 함량이 8%를 초과하면 글라스의 결정 석출 저항 성능이 떨어지고, 동시에 고온 점도가 비교적 작아 성형에 어려움을 가져다줄 수 있어, 글라스의 열팽창계수와 굴절률 온도계수를 증가시킬 수 있다. 그러므로 본 발명의 ZnO 함량은 0~8%이고, 최적 선택은 0~5%이며, 더 양호한 최적 선택은 0~2%이다. 부분 실시 방식에서 더 나아가 최전 선택은 ZnO를 함유하지 않는다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0%이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%의 ZnO이 포함될 수 있다.

Li₂O는 글라스의 전이 온도를 낮추고 용융성을 개선할 수 있지만, 그 함량이 높을 경우 글라스의 화학적 안정성, 결정 석출 저항 성능, 열팽창 계수에 불리하기 때문에 본 발명에서 Li₂O의 함량은 3% 이하이고, 최적 선택은 2% 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 1% 이하이다. 부분 실시 방식에서 더 나아가 최전 선택은 Li₂O를 함유하지 않는다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0%이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3%의 Li₂O가 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 Li₂O의 함량과 B₂O₃의 함량 사이의 비율 Li₂O/B₂O₃을 0.5 이하로 함으로써 글라스의 화학적 안정성과 이차압형 표면 결정 석출 저항 성능을 향상시키고 글라스의 마모도를 최적화할 수 있다. 따라서 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃는 0.5 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃가 0.3 이하이며, 더 나아가 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃가 0.1 이하이고, 또 더 나아가 최적 선택은 Li₂O/B₂O₃가 0.05 이하이다. 부분 실시 방식에서 Li₂O/B₂O₃의 값은 0이거나 0, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4, 0.41, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47, 0.48, 0.49, 0.5보다 클 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.7 이하로 글라스의 화학적 안정성과 이차압형 결정 석출 저항 성능을 높이고 글라스의 영률을 높이는 데 유리하다. 따라서 최적 선택은 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.7 이하, 더 양호한 최적 선택은 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.4 이하이며, 더 나아가 최적 선택은 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.2 이하이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서, 10×Li₂O/Nb₂O₅값은 0이거나, 0, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4, 0.41, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47, 0.48, 0.49, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7보다 클 수 있다.

Na₂O는 글라스의 용융성을 개선하는 역할을 하여 글라스의 용융효과를 높임과 동시에 글라스의 전이 온도를 낮출 수 있으며 본 발명에 적당량이 함유되어 글라스의 빛 투과율을 개선할 수 있다. 만약 Na₂O의 함량이 8%를 초과하면 글라스의 화학적 안정성과 내후성이 낮아지기 때문에 Na₂O의 함량은 0~8%여야 하며, 최적 선택은 Na₂O의 함량은 0~6%이고, 더 양호한 최적 선택은 Na₂O의 함량은 0.5~5% 이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0%이상 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%의 Na₂O가 포함될 수 있다.

K₂O는 글라스의 열 안정성과 용융성을 개선하는 역할을 하지만 그 함량이 5%를 초과하여 글라스의 내실투성과 화학적 안정성이 악화되기 때문에 본 발명에서 K₂O의 함량은 5% 이하이고, 최적 선택은 K₂O의 함량이 3% 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 2% 이하이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0%이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 K₂O가 포함될 수 있다.

MgO는 글라스의 굴절률과 용해 온도를 낮출 수 있지만, MgO 함량이 너무 많을 때 글라스의 굴절률이 설계 요구에 도달하지 못하고, 글라스의 결정 석출 저항 성능과 안정성이 떨어지며, 동시에 글라스의 원가가 상승한다. 따라서 MgO 함량은 0~8%로 한정하고, 최적 선택은 0~4%이고, 더 양호한 최적 선택은 0~2%이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%의 MgO가 포함될 수 있다.

CaO는 글라스의 광학 상수를 조정하고 글라스의 가공 성능을 개선하며 글라스 밀도를 낮추는 데 도움이 되지만, CaO 함량이 너무 많을 경우 글라스의 광학 상수가 설계 요구에 달하지 못하고, 결정 석출 저항 성능이 악화된다. 따라서 CaO 함량은 0~12%로 한정하고, 최적 선택은 1~9%이고, 더 양호한 최적 선택은 3~7%이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%의 CaO가 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 Na₂O의 함량과 CaO의 함량 사이의 비율 Na₂O/CaO을 5.0 이하로 제어하면 글라스의 결정 석출 저항 성능을 향상시킬 수 있다. 따라서 최적 선택은 Na₂O/CaO가 5.0 이하이다. 더 나아가, Na₂O/CaO를 0.01~3.0 범위 내로 제어하면 글라스의 빛 투과율과 영률을 높이는 데 유리하다. 따라서 더 양호한 최적 선택은 Na₂O/CaO는 0.01~3.0이고, 더 나아가 최적 선택은 Na₂O/CaO는 0.05~2.5이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 Na₂O/CaO의 값은 0이거나 0, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.2, 0.3, 0.4, 0.5, 0.6, 0.7, 0.8, 0.9, 1.0, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9, 2.0, 2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6, 2.7, 2.8, 2.9, 3.0, 3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6, 3.7, 3.8, 3.9, 4.0, 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5, 4.6, 4.7, 4.8, 4.9, 5.0보다 클 수 있다.

SrO는 글라스의 굴절률과 아베수를 조절할수 있지만 그 함량이 너무 크면 글라스의 화학적 안정성이 낮아지고 동시에 글라스의 원가도 신속히 상승하게 된다. 그러므로 SrO 함량은 0~8%로 한정하고, 최적 선택은 0~4%이고, 더 양호한 최적 선택은 0~2%이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0%이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%의 SrO가 포함될 수 있다.

BaO는 본 발명에서 글라스의 굴절률을 조정하고 글라스의 투과율과 강도를 개선하는 데 필요한 구성 성분으로서 그 함량이 15% 미만일 때 상기 역할이 뚜렷하지 않으며, 최적 선택은 BaO의 함량 하한은 18%, 더 양호한 최적 선택은 BaO의 함량 하한은 20% 이다. 다른 한편으로 BaO의 함량이 35%를 초과하면, 글라스의 결정 석출 저항 성능과 화학안정성이 저하되고, 밀도가 크게 증가된다. 따라서 BaO 함량 상한은 35%, 최적 선택 상한은 32%이고, 더 양호한 최적 선택 상한은 30%이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 약 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%, 20.5%, 21%, 21.5%, 22%, 22.5%, 23%, 23.5%, 24%, 24.5%, 25%, 25.5%, 26%, 26.5%, 27%, 27.5%, 28%, 28.5%, 29%, 29.5%, 30%, 30.5%, 31%, 31.5%, 32%, 32.5%, 33%, 33.5%, 34%, 34.5%, 35%의 BaO가 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 Nb₂O₅와 BaO의 함량 사이의 비율 Nb₂O₅/BaO을 0.2~1.2 범위 내로 제어하여, 본 발명의 글라스가 우수한 화학적 안정성을 가지는 동시에 글라스의 열팽창 계수를 낮출 수 있다. 따라서 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO가 0.2~1.2이고, 더 양호한 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO가 0.2~1.0이다. 더 나아가 Nb₂O₅/BaO를 0.25~0.9 범위 내에서 제어함으로써 글라스의 영률을 더 높일 수 있다. 따라서 더 나아가 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO가 0.25~0.9이고, 또 더 나아가 최적 선택은 Nb₂O₅/BaO가 0.3~0.8이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 Nb₂O₅/BaO의 값은 0.2, 0.25, 0.3, 0.35, 0.4, 0.45, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2가 될 수 있다.

ZrO₂는 글라스의 굴절률을 높이고 분산을 조절하여 글라스의 결정 석출 저항 성능과 강도를 높일 수 있는데 본 발명에는 1% 이상의 ZrO₂가 함유되여 상기 효과를 얻을 수 있으며 최적 선택은 ZrO₂의 함량이 2% 이상이다. 만약 ZrO₂의 함량이 10%를 초과하면, 글라스의 용해난이도가 증가되고, 용융 온도가 상승하며 심지어 글라스 내부에 잡물이 나타나고 투과율이 내려가게 된다. 따라서 ZrO₂ 함량은 10% 이하이고, 최적 선택은 8% 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 7% 이하이다. 부분 실시 방식에서 약 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%의 ZrO₂가 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 TiO₂의 함량과 Nb₂O₅ 및 ZrO₂의 합계 함량 Nb₂O₅+ZrO₂ 사이의 비율 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）를 0.6~5.5 범위 내로 제어함으로써 글라스의 결정 석출 저항 성능과 빛 투과율을 높이는 데 유리하다. 따라서 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）가 0.6~5.5이고, 더 양호한 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 0.7~4.0이다. 더 나아가, TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）를 0.8~3.0 범위에서 제어함으로써 글라스가 적당한 마모도와 상대적인 부분 분산을 얻을 수 있다. 따라서 더 나아가 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）이 0.8~3.0이고, 또한 더욱 최적 선택은 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）가 1.0~2.5이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）값은 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2, 1.25, 1.3, 1.35, 1.4, 1.45, 1.5, 1.55, 1.6, 1.65, 1.7, 1.75, 1.8, 1.85, 1.9, 1.95, 2.0, 2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6, 2.7, 2.8, 2.9, 3.0, 3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6, 3.7, 3.8, 3.9, 4.0, 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5, 4.6, 4.7, 4.8, 4.9, 5.0, 5.1, 5.2, 5.3, 5.4, 5.5이 될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 SiO₂및 TiO₂의 합계함량 SiO₂+TiO₂및 Nb₂O₅, ZrO₂, CaO와 BaO의 합계함량인 Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO 사이의 비율（SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）을 0.5~2.2로 제어하여, 글라스의 화학적 안정성과 글라스-형성 안정성을 향상하고, 글라스의 밀도를 낮춘다. 따라서 최적 선택은 (SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.5~2.2이고, 더 양호한 최적 선택은 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.6~2.0이다. 더 나아가 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）를 0.8~1.8 범위 내로 제어를 통해 글라스의 이차압형 결정 석출 저항 성능과 영률을 더욱 증가시킬 수 있다. 따라서 더 나아가 최적 선택은 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）가 0.8~1.8이고, 또 더 나아가 최적 선택은 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）가 0.9~1.5이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서 （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）의 값은 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2, 1.25, 1.3, 1.35, 1.4, 1.45, 1.5, 1.55, 1.6, 1.65, 1.7, 1.75, 1.8, 1.85, 1.9, 1.95, 2.0, 2.05, 2.1, 2.15, 2.2이 될 수 있다.

Ln₂O₃(Ln₂O₃은 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, Yb₂O₃중 하나 이상)는 글라스의 굴절률과 화학적 안정성을 높이는 구성 성분으로, Ln₂O₃의 함량을 10% 이하로 조절함으로써 글라스의 내실투성이 낮아지는 것을 방지할 수 있으며, 최적 선택은 Ln₂O₃ 함량 상한은 9%이고, 더 양호한 최적 선택 상한은 7%이다. 부분 실시 방식에서 최적 선택은 Ln₂O₃은 La₂O₃이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%의 Ln₂O₃이 포함될 수 있다.

본 발명의 부분 실시 방식에서 ZnO, SrO 및 Ln₂O₃의 합계 함량 ZnO+SrO+Ln₂O₃와 SiO₂의 함량 사이의 비율（ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂를 0.7 이하로 제어함으로써, 글라스의 밀도와 상대 부분 분산을 낮추는 데 유리하다. 따라서 최적 선택은（ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂가 0.7 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂가 0.6 이하이다. 더 나아가 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂를 0.5 이하로 제어하면 글라스의 열팽창 계수를 낮출 수 있다. 따라서, 더 나아가 최적 선택은 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂가 0.5 이하이고, 또 더 나아가 최적 선택은 （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂이 0.3 이하이다. 본 발명의 부분 실시 방식에서, （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂값은 0이거나, 0, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4, 0.41, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47, 0.48, 0.49, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7보다 클 수 있다.

Al₂O₃는 글라스의 화학적 안정성을 개선하지만 함량이 너무 크면 글라스의 내실투성과 용융성이 떨어지기 때문에, 함량이 5% 이하여야 하며, 최적 선택은 3% 이하, 더 양호한 최적 선택은 2% 이다. 부분 실시 방식에서 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 Al₂O₃이 포함될 수 있다.

부분 실시 방식에서 본 발명 글라스에는 또 0~1%의 청징제를 함유하여, 글라스의 거품 제거 능력을 높일 수 있다. 해당 청징제에는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및 CeO₂ 중 하나 이상이 포함되지만 이에 제한하지 않으며 최적 선택은 Sb₂O₃을 청징제로 한다. 상기 청징제가 단독 또는 조합으로 존재할 경우, 그 함량의 최적 선택 상한은 0.5%이고, 더 양호한 최적 선택 상한은 0.2%이다. 부분 실시 방식에서 상기 청징제 중의 하나 이상의 함량은 약 0%, 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.15%, 0.2%, 0.25%, 0.3%, 0.35%, 0.4%, 0.45%, 0.5%, 0.55%, 0.6%, 0.65%, 0.7%, 0.75%, 0.8%, 0.85%, 0.9%, 0.95%, 1%이다.

본 발명의 글라스 특성을 손상시키지 않는 범위 내에서 필요에 따라 상기 언급하지 않은 기타 구성 성분을 소량 첨가할 수 있으며, 예를 들어 P₂O₅, Bi₂O₃, Ta₂O₅, TeO₂및 Ga₂O₃등 구성 성분은 상기 성분의 최적 선택은 단독 또는 합계 함량이 4%를 초과하지 않으며, 더 양호한 최적 선택은 2%를 초과하지 않으며, 더 나아가 최적 선택은 1%를 초과하지 않으며, 또 더 나아가 최적 선택은 P₂O₅; 및/또는 Bi₂O₃; 및/또는 Ta₂O₅; 및/또는 TeO₂; 및/또는 Ga₂O₃이 함유되지 않는다.

<함유되지 말아야 할 구성 성분>

본 발명의 글라스에는 V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ag 및 Mo 등 전이 금속의 산화물이 단독 또는 복합적으로 소량 함유된 경우에도 글라스가 착색되어 가시광선 영역의 특정 파장에 흡수되어 본 발명의 가시광선 투과율 향상 효과의 성질을 약화시키기 때문에, 특히 가시광선 영역의 파장 투과율을 요구하는 광학 글라스의 경우에는 실제로 포함되지 않는 것이 바람직하다.

Th, Cd, Tl, Os, Be 및 Se의 산화물은 최근 몇 년 동안 유해한 화학 물질로서 사용을 제어하는 경향이 있으며, 글라스의 제조 공정뿐만 아니라 가공 공정 및 제품화 후 처리까지 환경 보호에 대한 조치가 필수적이다. 따라서 환경에 미치는 영향을 중시하는 상황에서 불가피하게 혼입하는 것 외에 최적선택은 실제로 이 부분들이 함유되지 않는 것이다. 이로써 광학 글라스는 환경을 오염시키는 물질을 사실상 포함하지 않는다. 따라서 특수한 환경대책상의 조치를 취하지 않더라도 본 발명의 광학 글라스는 제조, 가공 및 폐기할 수 있다. 이와 동시에 친환경을 실현하기 위하여 본 발명의 광학 글라스 최적 선택은 As₂O₃와 PbO가 함유되지 않는다.

본문에 기재된 “함유되지 않음” 및 “0%”는 고의적으로 해당 화합물, 분자 또는 원소 등을 원료로 본 발명의 광학 글라스에 첨가하지 않음을 가리키며; 단, 광학 글라스를 생산하는 원자재 및/또는 설비로서 고의로 첨가하지 않은 일부 불순물이나 구성 성분이 존재하며 최종적인 광학 글라스에 소량 또는 흔적이 함유되는데, 이런 상황도 본 발명특허의 보호범위내에 있다.

아래 본 발명의 광학 글라스의 성능을 설명:

<굴절률과 아베수>

광학 글라스 굴절률 (n_d) 및 아베수 (ν_d)는 <GB/T 7962.1-2010>에 규정된 방법에 따라 테스트한다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 굴절률 (nd)의 상한은 1.96이고, 최적 선택 상한은 1.95이며, 더 양호한 최적 선택 상한은 1.94이다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 굴절률 (n_d)의 하한은 1.89이고, 최적 선택 하한은 1.90이며, 더 양호한 최적 선택 하한은 1.91이다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 아베수 (ν_d)의 상한은 28이고, 최적 선택 상한은 27이며, 더 양호한 최적 선택의 상한은 26이다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스 아베수 (ν_d)의 하한은 20이고, 최적 선택 하한은 21이며, 더 양호한 최적 선택 하한은 22이다.

<착색도>

본 발명 글라스의 단파 투과 스펙트럼 특성은 착색도(λ₇₀및 λ₅)로 표시한다. λ₇₀은 글라스 투과비가 70%에 도달했을 때 대응하는 파장을 가리킨다. λ₇₀의 측정은 서로 평행하고 광학적으로 광택을 내는 두 개의 상대 평면의 두께가 10±0.1mm인 글라스를 사용하여 280nm에서 700nm까지의 파장역 내의 분산 투과율을 측정하고 투과율 70%의 파장을 나타낸다. 분산 투과율이나 투과율이란 글라스의 상기 표면에 수직으로 강도 I_in의 빛을 입사하여, 글라스를 통과하여 한 평면에서 강도 I_out의 빛을 방출하는 상황에서 I_out/I_in통해 양을 표시하며, 글라스의 상기 표면상의 표면 반사 손실의 투과율도 포함한다. 글라스는 굴절률이 높을수록 표면 반사 손실이 크다. 따라서 고굴절률 글라스에서 λ₇₀의 값이 작음은 글라스 자체의 착색이 극히 적고 빛 투과율이 높음을 의미한다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 λ₇₀은 460nm 이하이고, 최적 선택은 λ₇₀이 450nm 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 λ₇₀이 440nm 이하이다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 λ₅은 400nm 이하이고, 최적 선택은 λ₅이 390nm 이하이고, 더 양호한 최적 선택은 λ₅이 380nm 이하이다.

<내산 안정성(Acid resistance stability)>

광학 글라스의 내산 안정성(D_A)(분말법)은 <GB/T 17129>에 규정된 방법에 따라 테스트한다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 내산 안정성 (D_A) 은 2종 이상이고 최적 선택은 1종이다.

<내수 안정성(Water resistance stability)>

광학 글라스의 내수 안정성(D_W)(분말법)은 <GB/T 17129>에 규정된 방법에 따라 테스트한다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 내수 안정성 (D_W) 은 2종 이상이고 최적 선택은 1종이다.

<결정 석출 상한 온도>

글라스의 결정 석출 성능은 다음 단계를 포함하는 온도 구배로(temperature gradient furnace) 방법으로 측정되는데: 글라스를 180×10×10mm의 샘플로 만들어, 측면에서 폴리싱하여, 온도 구배(10℃ /cm) 로에 넣어 1300℃ (최고 온도구역 온도) 로 온도를 올려 4시간 보온한 후 꺼내 자연적으로 실온으로 냉각하고, 현미경으로 글라스의 결정 석출을 관찰하며 글라스에 결정체가 나타나는 부분의 대응 최고 온도가 글라스의 결정 석출 상한 온도이다.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 결정 석출 상한온도는 1200℃ 이하이고 최적 선택은 1160℃ 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 1150℃ 이하이고, 더 나아가 최적 선택은 1140℃ 이하이다.

<영률>

글라스의 영률 (E) 은 초음파로 종파속도와 횡파속도를 측정한 후, 아래 공식으로 계산한다.

공식중: E는 영률, Pa;

G는 전단 탄성 계수, Pa;

V_T는 횡파 속도, m/s;

V_S는 종파속도, m/s;

ρ는 글라스 밀도, g/cm³.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 영률(E)은 9000×10⁷/Pa이상이며, 최적 선택은 9500×10⁷/Pa 이상이고, 더 양호한 최적 선택은 10000×10⁷/Pa이상이며, 더 나아가 최적 선택은 10500×10⁷/Pa 이상이다.

<열팽창계수>

광학 글라스의 열팽창 계수 (α_100~300℃)는 <GB/T7962.16-2010>에 규정된 방법에 따라 100~300℃의 데이터를 테스트한다.

본 발명의 광학 글라스의 열팽창 계수 (α_100~300℃)는 110×10^-7/K 이하이고, 최적 선택은 105×10^-7/K 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 100×10^-7/K 이하이다.

<밀도>

광학 글라스의 밀도(ρ）는 <GB/T7962.20-2010>에 규정된 방법으로 테스트한다.

부분 실시 방식에서 본 발명은 광학 글라스의 밀도(ρ）가 4.30g/cm³ 이하이고, 최적 선택은 4.20g/cm³ 이하이며, 더 양호한 최적 선택은 4.10g/cm³ 이하이다.

<마모도>

광학 글라스의 마모도(FA)는 완전 같은 조건하에서 시료의 마모량과 기준시료(H-K9글라스) 마모량(체적)의 비율에 100을 제곱한 값으로, 아래와 같은 공식으로 표시함:

F_A=V/V₀×100=(W/ρ)/(W₀/ρ₀)×100

상기 식에서:

V - 측정된 샘플의 체적 마모량;

V₀- 기준 샘플의 체적 마모량;

W - 측정된 샘플의 질량 마모량;

W₀ - 기준 샘플의 질량 마모량;

ρ - 측정된 샘플의 밀도;

ρ₀ - 기준 샘플의 밀도.

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 마모도 (FA)는 150 이상, 최적 선택은 180 이상이고, 더 양호한 최적 선택은 200~300이다.

<상대 부분 분산>

파장 x 및 y의 상대 부분 분산에 대해 아래 공식(1)로 표시함:

P_x,y=(n_x-n_y)／(n_F-n_C) (1)

아베수 공식에 따르면 대다수 이른바 “정상 글라스”의 경우 (이하 H-K6와 F4 "정상글라스”로 선택함), 아래 공식 (2) 은 성립되며

P_x,y=m_{x,y ㆍ}v_d+b_x,y (2)

이런 직선 관계는 P_x,y는 종좌표, v_d는 횡좌표로 표시되며, 공식 중 m_x,y는 경사율이고, b_x,y는 절편이다.

모두들 알다시피 이차 스펙트럼의 교정, 즉 두 개 이상의 파장에 대한 무채색의 보정은 최소 한가지의 상기 공식(2) 에 부합하지 않는 글라스 (즉, 그 P_x,y값이 아베수 경험 공식에서 벗어남) 가 필요하며, 그 편차값은 ΔP_x,y로 표시하며 각 P_x,y-v_d점이 위 공식(2) 에 맞는 “정상 선”에 상대하여 ΔP_x,y량 평행이동하여, 이러면 각 글라스의ΔP_x,y값은 아래 공식(3)으로 구할 수 있음:

P_x,y=m_{x,y ㆍ}v_d+b_x,y+ΔP_x,y (3)

따라서 상대 부분 분산（P_g,F）을 얻는 계산 공식은 아래 공식(4)과 같음:

P_g,F=(n_g-n_F)／(n_F-n_C) (4)

부분 실시 방식에서 본 발명의 광학 글라스의 상대부분 분산（P_g,F）은 0.6000~0.6500이고, 최적 선택은 0.6100~0.6400이며, 더 양호한 최적 선택은 0.6150~0.6250이다.

<이차압형 결정 석출 저항 성능>

이차압형 결정 석출 저항 성능의 테스트 방법: 샘플 글라스를 20×20×10mm의 규격으로 절단하여, 온도가 T_g+（200~250）℃ 인 머플로에 넣어 15~30분 동안 보온하고, 꺼내어 냉각한 후 글라스 표면 및 내부에 결정체가 있는지 유탁이 발생하였는지를 관찰한다. 만약 글라스 샘플에 유탁 및/또는 결정체가 없으면, 글라스의 이차압형 결정 석출 저항 성능이 우수하다.

[제조 방법]

본 발명의 광학 글라스의 제조 방법은 아래와 같음: 본 발명의 글라스는 일반 원료와 공정을 채택하여 만들어져 이에는 산화물, 수산화물, 불화물, 각종 염류 (탄산염, 질산염, 황산염, 인산염, 편인산염) 등을 원료로 사용하되 이에 한하지 않으며, 일반 방법에 따라 재료를 배합한 후 1000~1400℃의 용광로 (예를 백금 도가니)에 투입하여 모두 녹인 후 기포가 없고 용해되지 않은 물질이 함유되지 않은 균질 용융글라스를 얻어, 해당 용융글라스를 몰드내에서 주형 및 퇴화시켜 만든다. 본 분야의 기술자는 실제 수요에 따라 원료, 공정 방법 및 공정 파라미터를 적절하게 선택할 수 있다.

[글라스 프리폼 및 광학 소자]

직접 재료를 투입하여 성형하거나 연마 가공하는 방법, 또는 열압 성형과 같은 프레스 성형 방법을 사용하여 만들어진 광학 글라스로 글라스 프리폼을 만들 수 있다. 즉, 광학 글라스를 녹여 직접 정밀 적재 성형하여 글라스 정밀 예비 부품으로 만들거나, 연삭과 연마 등 기계 가공을 통해 글라스 프리폼을 만들거나, 광학 글라스로 프레스 성형용 예비 성형품을 제작하여 해당 예비 성형품을 재열압 성형한 후 연마 가공하여 글라스 프리폼을 제작할 수 있다. 설명이 필요한 것은 글라스 프리폼을 제조하는 방법은 상기 방법에만 국한되지 않는다는 것이다.

상기와 같이, 본 발명의 광학 글라스는 각종 광학 소자와 광학 설계에 유용하며, 그중 특히 최적 선택은 본 발명의 광학 글라스로 예비 성형 블랭크를 형성하고, 이 예비 성형 블랭크를 사용하여 재열압 성형, 정밀 프레스 성형 등을 진행하며, 렌즈, 프리즘 등 광학 소자를 제작한다.

본 발명의 글라스 프리폼과 광학 부품은 모두 상기 본 발명의 광학 글라스로 형성된다. 본 발명의 글라스 프리폼은 광학 글라스가 가지고 있는 우수한 특성을 가지고 있으며; 본 발명의 광학 소자는 광학 글라스가 가지고 있는 우수한 특성을 가지고 있으며, 광학 가치가 높은 각종 렌즈, 프리즘 등 광학 소자를 제공할 수 있다.

렌즈를 예시로 렌즈면이 구면 또는 비구면인 오목반달 모양의 렌즈, 볼록반달 모양의 렌즈, 쌍볼록렌즈, 쌍오목렌즈, 평볼록렌즈, 평오목렌즈 등 각종 렌즈를 들 수 있다.

[광학 기기]

본 발명의 광학 글라스로 형성된 광학 소자는 카메라 장비, 촬영 장비, 투영 장비, 디스플레이 장비, 차량 적재 장비와 모니터링 장비 등 광학 기기를 제작할 수 있다.

실시예

<광학 글라스 실시예>

본 발명의 기술 방안을 더욱 명확하게 서술하고 설명하기 위해, 다음과 같은 비제한적 실시예를 제공한다.

본 실시예는 상기 광학 글라스의 제조방법을 채용하여 표 1 내지 표 4와 같은 구성된 광학글라스를 얻는다. 또한 본 발명의 상기 테스트 방법을 통해 각 글라스의 특성을 측정하고, 측정결과를 표 1~표 4에 표시하였다. 표 1~표 4의 이차압형 결정 석출 저항 성능 테스트에서 상기 테스트 방법에 따르면 글라스에 유탁이 없고 표면과 내부에 모두 결정체 입자가 없는 것은 "A"로 기록하고, 유탁이 없고 내부에 결정 석출이 없지만 표면에 결정 석출 알갱이가 있는 것은 "B"로 (글라스 이차압형 시 표면에 결정 석출이 있는 것은 연마를 통해 제거할 수 있지만, 연마 원가를 증가시킬 수 있기 때문에 최적 선택은 글라스의 내, 외부 결정 석출 알갱이가 없는 글라스로 구성하는 것임)기록하며, 유탁이 없지만 내부에 1~10개의 결정 입자가 있는 것은 “C”로 기록하며, 유탁이 없지만 내부에 10~20개의 결정 입자가 있는 것은 “D”로 기록하며, 유탁이 생기거나 내부에 밀집된 결정 입자가 있는 것은 “x”로 기록한다.

<글라스 프리폼 실시예>

광학 글라스 실시예 1~23에서 얻은 글라스를 연마가공의 방법, 또는 재열압성형, 정밀프레스성형 등 프레스 성형의 방법을 사용하여 오목반달 모양 렌즈, 볼록 반달 모양렌즈, 쌍볼록렌즈, 쌍오목렌즈, 평볼록렌즈, 평오목렌즈 등 각종 렌즈, 프리즘 등의 프리폼을 제작한다.

<광학 소자 실시예>

상기 글라스 프리폼 실시예에서 얻은 이런 프리폼을 퇴화시켜 글라스 내부의 변형을 낮추는 동시에 미세조정을 진행하여 굴절률 등 광학 특성이 수요치에 도달하도록 해야 한다.

이어 각 프리폼을 연삭·연마하여, 오목달 모양의 렌즈, 볼록달 모양의 렌즈, 쌍볼록렌즈, 쌍오목렌즈, 평볼록렌즈, 평오목렌즈 등 각종 렌즈·프리즘을 제작한다. 얻은 광학 소자의 표면은 반사 방지막도 도포할 할 수 있다.

<광학 기기 실시예>

상기 광학 소자 실시예를 통해 알다시피 광학 소자는 광학 설계를 통해 하나 이상의 광학 소자를 사용하여 광학 부품이나 광학 구성을 형성하여, 예를 들어 영상 장비, 센서, 현미경, 의약 기술, 디지털 투영, 통신, 광학 통신 기술/정보 전송, 자동차 분야의 광학/조명, 광각 기술, 분자 레이저, 웨이퍼, 컴퓨터 칩 및 이러한 회로 및 칩을 포함한 집적 회로 및 전자 부품 또는 차량 탑재 분야의 카메라 장비 및 장치에 사용된다.

Claims

광학 글라스로서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 12~30%; Nb₂O₅: 6~20%; TiO₂: 15~35%; BaO: 15~35%; 및 ZrO₂: 1~10%를 포함하는 것인, 광학 글라스.
제1항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 성분: B₂O₃: 0~6%; 및/또는 WO₃: 0~10%; 및/또는 ZnO: 0~8%; 및/또는 Li₂O: 0~3%; 및/또는 Na₂O: 0~8%; 및/또는 K₂O: 0~5%; 및/또는 SrO: 0~8%; 및/또는 CaO: 0~12%; 및/또는 MgO: 0~8%; 및/또는 Ln₂O₃: 0~10%; 및/또는 Al₂O₃: 0~5%; 및/또는 청징제(clarifying agent): 0~1%를 추가로 포함하고, 이때 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이고, 상기 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및 CeO₂ 중 하나 이상인 것인, 광학 글라스.
광학 글라스로서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 12~30%; Nb₂O₅: 6~20%; TiO₂: 15~35%; BaO: 15~35%; ZrO₂: 1~10%; B₂O₃: 0~6%; WO₃: 0~10%; ZnO: 0~8%; Li₂O: 0~3%; Na₂O: 0~8%; K₂O: 0~5%; SrO: 0~8%; CaO: 0~12%; MgO: 0~8%; Ln₂O₃: 0~10%; Al₂O₃: 0~5%; 및 청징제: 0~1%으로 이루어지고, 이때 Ln₂O₃은 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃중 하나 이상이고, 상기 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO및 CeO₂중 하나 이상인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 9가지 조건 중 하나 이상을 만족시키는 것인, 광학 글라스.
1) Nb₂O₅/BaO는 0.2~1.2;
2) TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 0.6~5.5;
3) SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）는 0.3~1.3;
4) B₂O₃/SiO₂는 0.4 이하이며;
5) Na₂O/CaO는 5.0 이하이며;
6) （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.7 이하이며;
7) Li₂O/B₂O₃는 0.5 이하이며;
8) （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.5~2.2이며;
9) 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.7 이하이며, 이때, 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 9가지 조건 중 하나 이상을 만족시키는 것인, 광학 글라스.
1) Nb₂O₅/BaO는 0.2~1.0;
2) TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 0.7~4.0;
3) SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）는 0.35~1.0;
4) B₂O₃/SiO₂는 0.01~0.3;
5) Na₂O/CaO는 0.01~3.0;
6) （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.6 이하이며;
7) Li₂O/B₂O₃는 0.3 이하이며;
8) （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.6~2.0;
9) 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.4 이하이며, 이때, 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 9가지 조건 중 하나 이상을 만족시키는 것인, 광학 글라스.
1) Nb₂O₅/BaO는 0.25~0.9;
2) TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 0.8~3.0;
3) SiO₂/（Nb₂O₅+TiO₂）는 0.4~0.8;
4) B₂O₃/SiO₂는 0.03~0.2;
5) Na₂O/CaO는 0.05~2.5;
6) （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.5 이하이며;
7) Li₂O/B₂O₃는 0.1 이하이며;
8) （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.8~1.8;
9) 10×Li₂O/Nb₂O₅는 0.2 이하이며, 이때, 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 5가지 조건 중 하나 이상을 만족시키는 것인, 광학 글라스.
1) Nb₂O₅/BaO는 0.3~0.8;
2) TiO₂/（Nb₂O₅+ZrO₂）는 1.0~2.5;
3) （ZnO+SrO+Ln₂O₃）/SiO₂는 0.3 이하이며;
4) Li₂O/B₂O₃는 0.05 이하이며;
5) （SiO₂+TiO₂）/（Nb₂O₅+ZrO₂+CaO+BaO）는 0.9~1.5이며, 이때, 상기 Ln₂O₃는 La₂O₃, Gd₂O_3, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 15~25%; 및/또는 Nb₂O₅: 7~18%; 및/또는 TiO₂: 18~32%; 및/또는 BaO: 18~32%; 및/또는 ZrO₂: 2~8%; 및/또는 B₂O₃: 0.1~5%; 및/또는 WO₃: 0~5%; 및/또는 ZnO: 0~5%; 및/또는 Li₂O: 0~2%; 및/또는 Na₂O: 0~6%; 및/또는 K₂O: 0~3%; 및/또는 SrO: 0~4%; 및/또는 CaO: 1~9%; 및/또는 MgO: 0~4%; 및/또는 Ln₂O₃: 0~9%; 및/또는 Al₂O₃: 0~3%; 및/또는 청징제: 0~0.5%을 포함하고, 이때, 상기 Ln₂O₃은 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃중 하나 이상이며, 상기 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및CeO₂중 하나 이상인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분은 중량 백분율로 표시되며, 하기 성분: SiO₂: 16~23%; 및/또는 Nb₂O₅: 8~17%; 및/또는 TiO₂: 20~30%; 및/또는 BaO: 20~30%; 및/또는 ZrO₂: 2~7%; 및/또는 B₂O₃: 0.5~4%; 및/또는 WO₃: 0~2%; 및/또는 ZnO: 0~2%; 및/또는 Li₂O: 0~1%; 및/또는 Na₂O: 0.5~5%; 및/또는 K₂O: 0~2%; 및/또는 SrO: 0~2%; 및/또는 CaO: 3~7%; 및/또는 MgO: 0~2%; 및/또는 Ln₂O₃: 0~7%; 및/또는 Al₂O₃: 0~2%; 및/또는 청징제: 0~0.2%를 포함하고, 이때, 상기 Ln₂O₃은 La₂O₃, Gd₂O₃, Y₂O₃, 및 Yb₂O₃ 중 하나 이상이며, 상기 청징제는 Sb₂O₃, SnO₂, SnO 및 CeO₂중 하나 이상인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 구성 성분이 ZnO를 함유하지 않고/않거나, Li₂O를 함유하지 않고/않거나, P₂0₅를함유하지 않고/않거나, Bi₂O₃를함유하지 않고/않거나, Ta₂O₅를 함유하지 않고/않거나, TeO₂를 함유하지 않고/않거나, WO₃를 함유하지 않는 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 굴절률 n_d가 1.89~1.96이고, 아베수(Abbe number) ν_d가 20~28인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 굴절률 n_d가 1.91~1.94이고, 아베수 ν_d가 22~26인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 λ₇₀은 460nm 이하이고/이거나, λ₅는 400nm 이하이고/이거나, 내산 안정성(acid resistance stability) D_A는 2종 이상이고/이거나, 내수 안정성(water resistance stability) D_W는 2종 이상이고/이거나, 결정 석출(devitrification) 상한 온도는 1200℃ 이하이고/이거나, 영률 E는 9000×10⁷/Pa 이상이고/이거나, 열 팽창 계수 α_100~300℃는 110×10^-7/K 이하이며; 밀도 ρ는 4.30g/cm³ 이하이고/이거나, 마모도 F_A는 150 이상이고/이거나, 상대 부분 분산 P_g,F는 0.6000~0.6500인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 글라스의 λ₇₀은 440nm 이하이고/이거나, λ₅는 380nm 이하이고/이거나, 내산 안정성 D_A는 1종이고/이거나, 내수 안정성 D_W는 1종이고/이거나, 결정 석출 상한 온도는 1150℃ 이하이고/이거나, 영률 E는 10000×10⁷/Pa 이상이고/이거나, 열 팽창 계수 α_100~300℃는 100×10^-7/K 이하이며; 밀도 ρ는 4.10g/cm³ 이하이고/이거나, 마모도 F_A는 200~300이고/이거나, 상대 부분 분산 P_g,F는 0.6150~0.6250인 것인, 광학 글라스.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 광학 글라스로 제조된, 글라스 프리폼(glass preform).
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 광학 글라스로 제조되거나 제15항에 기재된 글라스 프리폼으로 제조된, 광학 소자.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 광학 글라스, 또는 제16항에 기재된 광학 소자를 포함하는, 광학 기기.