KR20240031921A - 기판 처리 장치 및 브러시의 탈락 검지 방법 - Google Patents

Abstract

(과제) 비용을 억제하면서 검출 정밀도를 높게 할 수 있는 기판 처리 장치 및 브러시의 탈락 검지 방법을 제공한다.
(해결 수단) 검출부(DU)가 최대 가압 높이(H3)를 검출하므로, 제어부는, 브러시(99)가 탈락되었다고 판단할 수 있다. 검출부(DU)는, 압압 기구(81)의 동작에 의거하여 최대 가압 높이(H3)에 도달한 것을 검출하므로, 검출부(DU)를 비산한 처리액에 닿지 않는 개소에 배치할 수 있다. 따라서, 검출부(DU)를 내약품성 재료로 구성할 필요가 없다. 그 결과, 비용을 억제할 수 있다. 또, 검출부(DU)에 처리액이 부착되어 광이 산란할 우려가 없기 때문에, 검출 정밀도를 높게 할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 브러시의 탈락 검지 방법{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND BRUSH DETACHMENT DETECTING METHOD}

본 발명은, 반도체 기판, 액정 표시용이나 유기 EL(Electroluminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광 디스크용 기판 등의 기판에 브러시를 작용시켜 세정 처리를 행하는 기판 처리 장치 및 브러시의 탈락 검지 방법에 관한 것이다.

종래, 이런 종류의 장치로서, 기판 유지 회전 기구와, 세정부와, 요동 아암과, 광학적 브러시 센서를 구비한 것이 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).

기판 유지 회전 기구는, 기판을 수평 자세로 유지하면서 회전시킨다. 세정부는, 파지 부재와, 브러시를 구비하고 있다. 브러시는, 파지 부재를 통해 회전축에 장착되어 있다. 회전축은, 승강 가능하게 요동 아암의 선단부에 장착되어 있다. 세정부는, 회전축에 의해 파지 부재와 함께 연직축 둘레로 회전된다. 요동 아암은, 기판의 상방에 있어서 면방향으로 요동된다. 요동 아암은, 브러시를 기판의 상면에서 요동시킨다.

기판 처리 장치는, 브러시로부터 기판에 작용하는 힘이 목표 하중이 되도록, 회전축을 통해 압압(押壓)을 부여한다. 기판 처리 장치는, 브러시를 목표 하중으로 기판의 상면에 작용시켜, 처리액 등을 기판에 공급하면서 요동 아암을 요동시킨다. 이로 인해, 기판의 상면 전체를 세정한다.

광학적 브러시 센서는, 요동 아암에 장착된 세정부의 외주 방향으로 이격되어 설치되어 있다. 광학적 브러시 센서는, 브러시를 측방으로부터 감시한다. 구체적으로는, 광학 센서에 의해, 브러시가 파지 부재로부터 탈락되어 있지 않은지를 확인한다. 브러시가 탈락되어 있지 않은 경우에는, 기판에 대한 세정을 행하고, 브러시가 탈락되어 있는 경우에는, 기판에 대한 세정을 행하지 않는다. 이로 인해, 브러시가 탈락된 상태에서의 부적절한 세정이 행해지는 사태를 회피할 수 있다.

일본국 특허 제4634426호 공보

그러나, 이러한 구성을 갖는 종래 예의 경우에는, 다음과 같은 문제가 있다.

즉, 종래의 장치는, 세정부의 외주 방향으로부터 수평으로 광을 조사하여 브러시의 유무를 검출하는 구성을 채용하고 있다. 그 때문에, 브러시로부터 외주 방향으로 비산한 처리액에 의한 문제의 발생을 막기 위해 내약품성 재료로 구성할 필요가 있다. 그 때문에, 제조 비용이 증가한다는 문제가 있다.

또, 광학적 브러시 센서에 세정액이 부착되어 광이 산란할 우려가 있다. 그 때문에, 오(誤)검지가 발생하기 쉽다는 문제가 있다.

본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 비용을 억제하면서 검출 정밀도를 높게 할 수 있는 기판 처리 장치 및 브러시의 탈락 검지 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 취한다.

즉, 청구항 1에 기재된 발명은, 기판에 대해 브러시를 작용시켜 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판을 수평 자세로 유지함과 더불어, 기판을 회전시키는 회전 유지부와, 상기 회전 유지부에 유지된 기판의 상면에 작용하는 브러시와, 상기 브러시가 착탈이 자유롭게 장착되는 브러시 홀더와, 상기 기판의 상면으로부터 가장 높고, 상기 브러시를 상기 기판에 대해 작용시키지 않는 무하중 높이와, 상기 무하중 높이보다 낮고, 상기 브러시를 소정의 하중으로 상기 기판에 작용시키는 작용 높이와, 상기 작용 높이보다 낮고, 상기 브러시를 가장 낮은 위치로 이동시키는 최대 가압 높이에 걸쳐 상기 브러시 홀더를 이동시키는 압압 기구와, 상기 압압 기구의 동작에 의거하여, 상기 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출하는 검출부와, 상기 회전 유지부에 기판이 재치(載置)된 상태에서, 상기 압압 기구를 조작하여 상기 작용 높이로 상기 브러시를 이동시켰을 때에, 상기 검출부가 상기 최대 가압 높이를 검출한 경우에는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단하는 제어부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.

[작용·효과] 청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 회전 유지부에 기판이 재치되고, 브러시가 브러시 홀더로부터 탈락되어 있는 상태에서, 제어부가 압압 기구를 조작하여, 브러시를 작용 높이로 이동시키려고 한다. 그러면, 브러시가 탈락되어 있으므로, 브러시 홀더에는 소정의 하중과 같은 기판으로부터의 반력이 생기지 않는다. 그 때문에 압압 기구는, 브러시 홀더의 이동을 계속하게 되어, 최대 가압 높이에 도달한다. 따라서, 검출부가 최대 가압 높이를 검출하므로, 제어부는, 브러시가 탈락되었다고 판단할 수 있다. 검출부는, 압압 기구의 동작에 의거하여 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출하므로, 검출부를 비산한 처리액에 닿지 않는 개소에 배치할 수 있다. 따라서, 검출부를 내약품성 재료로 구성할 필요가 없다. 그 결과, 비용을 억제할 수 있다. 또, 검출부에 처리액이 부착되어 광이 산란할 우려가 없기 때문에, 검출 정밀도를 높게 할 수 있다.

또, 본 발명에 있어서, 상기 압압 기구는, 지점(支点) 부재를 지점으로 하여 요동 가능하게 구성되며, 상기 지점에 대해 한쪽 측에 역점부를 구비하고, 상기 지점에 대해 다른 쪽 측에 작용점부를 구비한 시소 부재와, 에어에 의거한 구동력을 상기 역점부에 부여하여, 상기 지점을 중심으로 하여 상기 시소 부재를 요동시킴으로써, 상기 브러시를 기판의 상면에 누르기 위한 압압을 부여하는 압압용 액추에이터를 구비하고, 상기 검출부는, 상기 시소 부재의 상기 역점부 측에 설치되며, 상기 최대 가압 높이에 대응하는 상기 역점부 측의 높이를 검출하는 것이 바람직하다(청구항 2).

검출부는, 처리액에 닿는 브러시로부터 가장 떨어진 위치에 배치되어 있다. 따라서, 처리액에 의한 악영향을 고려할 필요가 없어, 검출부의 배치에 자유도를 높게 할 수 있다.

또, 본 발명에 있어서, 상기 압압 기구는, 상기 브러시 홀더의 상부에 연결된 회전축과, 상기 회전축을 기판의 상면을 향해 진퇴시켜, 상기 브러시를 기판의 상면에 압압하기 위한 압압을 부여하는 압압용 액추에이터를 구비하고, 상기 검출부는, 상기 회전축의 높이를 검출할 수 있는 위치에 설치되며, 상기 최대 가압 높이에 대응하는 상기 회전축의 높이를 검출하는 것이 바람직하다(청구항 3).

검출부까지 복잡한 기구가 개재되면, 그 기구의 고장 등으로 오검지할 우려가 생긴다. 그러나, 브러시에 가까운 회전축의 높이를 검출하므로, 확실하게 회전축의 높이를 검출할 수 있다.

또, 본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단한 경우에는, 상기 회전 유지부에서 유지되어 처리 중인 기판에 대한 처리를 즉시 정지하는 것이 바람직하다(청구항 4).

브러시가 탈락되어 있으므로, 검출한 시점에서 처리를 즉시 정지한다. 따라서, 쓸데 없이 처리를 행하는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 처리액의 낭비를 방지하고, 전력을 절약할 수 있다.

또, 청구항 5에 기재된 발명은, 기판에 대해 브러시를 작용시켜 기판을 세정할 때에 상기 브러시의 유무를 검출하는 브러시의 탈락 검지 방법에 있어서, 회전 유지부에 기판이 재치된 상태에서, 상기 기판의 상면으로부터 가장 높고, 상기 브러시를 상기 기판에 대해 작용시키지 않는 무하중 높이와, 상기 무하중 높이보다 낮고, 상기 브러시를 소정의 하중으로 상기 기판에 작용시키는 작용 높이와, 상기 작용 높이보다 낮고, 상기 브러시를 가장 낮은 위치로 이동시키는 최대 가압 높이에 걸쳐, 상기 브러시가 착탈이 자유롭게 장착되는 브러시 홀더를 이동시키는 압압 기구에 의해, 상기 브러시 홀더를 통해 상기 브러시를 상기 작용 높이로 이동시키는 이동 과정과, 상기 작용 높이로 상기 브러시를 이동시켰을 때에, 상기 압압 기구의 동작에 의거하여, 상기 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출부가 검출한 경우에는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단하는 판단 과정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.

[작용·효과] 청구항 5에 기재된 발명에 의하면, 이동 과정에 있어서, 압압 기구에 의해, 브러시 홀더를 통해 브러시를 작용 높이로 이동시키려고 한다. 그러면, 브러시가 탈락되어 있으므로, 브러시 홀더에는 소정의 하중과 같은 기판으로부터의 반력이 생기지 않는다. 그 때문에 압압 기구는, 브러시 홀더의 이동을 계속하게 되어, 최대 가압 높이에 도달한다. 따라서, 검출부가 최대 가압 높이를 검출하므로, 판단 과정에 있어서, 브러시가 탈락되었다고 판단할 수 있다. 검출부는, 압압 기구의 동작에 의거하여 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출하므로, 검출부를 비산한 처리액에 닿지 않는 개소에 배치할 수 있다. 따라서, 검출부를 내약품성 재료로 구성할 필요가 없다. 그 결과, 비용을 억제할 수 있다. 또, 검출부에 처리액이 부착되어 광이 산란할 우려가 없기 때문에, 검출 정밀도를 높게 할 수 있다.

본 발명에 따른 기판 처리 장치에 의하면, 회전 유지부에 기판이 재치되고, 브러시가 브러시 홀더로부터 탈락되어 있는 상태에서, 제어부가 압압 기구를 조작하여, 브러시를 작용 높이로 이동시키려고 한다. 그러면, 브러시가 탈락되어 있으므로, 브러시 홀더에는 소정의 하중과 같은 기판으로부터의 반력이 생기지 않는다. 그 때문에 압압 기구는, 브러시 홀더의 이동을 계속하게 되어, 최대 가압 높이에 도달한다. 따라서, 검출부가 최대 가압 높이를 검출하므로, 제어부는, 브러시가 탈락되었다고 판단할 수 있다. 검출부는, 압압 기구의 동작에 의거하여 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출하므로, 검출부를 비산한 처리액에 닿지 않는 개소에 배치할 수 있다. 따라서, 검출부를 내약품성 재료로 구성할 필요가 없다. 그 결과, 비용을 억제할 수 있다. 또, 검출부에 처리액이 부착되어 광이 산란할 우려가 없기 때문에, 검출 정밀도를 높게 할 수 있다.

도 1은, 실시예에 따른 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 평면도이다.
도 2는, 도 1의 기판 처리 장치를 후방(X)에서 본 도면이다.
도 3은, 실시예에 따른 이면 세정 유닛의 개략 구성을 나타내는 평면도이다.
도 4는, 이면 세정 유닛의 개략 구성을 나타내는 측면도이다.
도 5는, 세정 아암의 종단면도이다.
도 6은, 이면 세정 유닛의 제어계를 나타내는 블록도이다.
도 7은, 미리 행하는 전처리를 나타내는 플로차트이다.
도 8의 (a)는, 전공(電空) 레귤레이터의 개도와 전자 천칭의 하중의 관계를 나타내고, (b)는, 전공 레귤레이터의 이차 측 압력과 개도의 관계를 나타내며, (c)는, 압압용 액추에이터의 하중과 전공 레귤레이터의 이차 측 압력의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9는, 세정 처리를 나타내는 플로차트이다.
도 10은, 변형예에 따른 세정 아암의 종단면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다.

도 1은, 실시예에 따른 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 평면도이다. 도 2는, 도 1의 기판 처리 장치를 후방(X)에서 본 도면이다.

＜1. 전체 구성＞

기판 처리 장치(1)는, 반입출 블록(3)과, 인덱서 블록(5)과, 처리 블록(7)을 구비하고 있다.

기판 처리 장치(1)는, 기판(W)을 처리한다. 기판 처리 장치(1)는, 예를 들면, 기판(W)에 대해 세정 처리를 행한다. 기판 처리 장치(1)는, 처리 블록(7)에 있어서 매엽식으로 기판(W)을 처리한다. 매엽식은, 한 장의 기판(W)을 수평 자세의 상태로 한 장씩 처리한다.

본 명세서에서는, 편의상, 반입출 블록(3)과, 인덱서 블록(5)과, 처리 블록(7)이 늘어서는 방향을, 「전후 방향(X)」으로 부른다. 전후 방향(X)은 수평이다. 전후 방향(X) 중, 처리 블록(7)에서 반입출 블록(3)을 향하는 방향을 「전방」으로 부른다. 전방과 반대의 방향을 「후방」으로 부른다. 전후 방향(X)과 직교하는 수평 방향을, 「폭 방향(Y)」으로 부른다. 「폭 방향(Y)」의 일 방향을 적절히 「우방」으로 부른다. 우방과는 반대의 방향을 「좌방」으로 부른다. 수평 방향에 대해 수직인 방향을 「연직 방향(Z)」으로 부른다. 각 도면에서는, 참고로서, 전, 후, 우, 좌, 상, 하를 적절히 나타낸다.

＜2. 반입출 블록＞

반입출 블록(3)은, 투입부(9)와 불출부(拂出部)(11)를 구비하고 있다. 투입부(9)와 불출부(11)는, 폭 방향(Y)으로 배치되어 있다. 기판(W)은, 복수 장(예를 들면, 25장)이 하나의 캐리어(C) 내에 수평 자세로 일정한 간격을 두고 적층 수납되어 있다. 미처리 기판(W)을 수납한 캐리어(C)는, 투입부(9)에 재치된다. 투입부(9)는, 예를 들면, 캐리어(C)가 재치되는 재치대(13)를 두 개 구비하고 있다. 캐리어(C)는, 기판(W)의 면끼리 이격되어, 기판(W)을 한 장씩 수용하는 홈(도시 생략)이 복수 개 형성되어 있다. 캐리어(C)는, 예를 들면, 기판(W)의 표면을 위로 향하게 한 자세로 수용한다. 캐리어(C)로서는, 예를 들면, FOUP(Front Opening Unify Pod)가 있다. FOUP는, 밀폐형 용기이다. 캐리어(C)는, 개방형 용기여도 되고, 종류를 가리지 않는다.

불출부(11)는, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 폭 방향(Y)의 중앙부를 사이에 둔 투입부(9)의 반대 측에 배치되어 있다. 불출부(11)는, 투입부(9)의 좌방(Y)에 배치되어 있다. 불출부(11)는, 처리가 완료된 기판(W)을 캐리어(C)에 수납하여 캐리어(C)마다 불출한다. 이와 같이 기능하는 불출부(11)는, 투입부(9)와 마찬가지로, 예를 들면, 캐리어(C)를 재치하기 위한 두 개의 재치대(13)를 구비하고 있다. 투입부(9)와 불출부(11)는, 로드 포트라고도 불린다.

＜3. 인덱서 블록＞

인덱서 블록(5)은, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 반입출 블록(3)의 후방(X)에 인접하여 배치되어 있다. 인덱서 블록(5)은, 인덱서 로봇(IR)과, 수도부(受渡部)(15)를 구비하고 있다.

인덱서 로봇(IR)은, 연직 방향(Z) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 인덱서 로봇(IR)은, 폭 방향(Y)으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 인덱서 로봇(IR)은, 제1 핸드(19)와, 제2 핸드(21)를 구비하고 있다. 도 1에서는, 도시의 관계상, 하나의 핸드만을 나타낸다. 제1 핸드(19)와, 제2 핸드(21)는, 각각 1장의 기판(W)을 유지한다. 제1 핸드(19)와 제2 핸드(21)는, 독립적으로 전후 방향(X)으로 진퇴 가능하게 구성되어 있다. 인덱서 로봇(IR)은, 폭 방향(Y)으로 이동함과 더불어 연직 방향(Z) 둘레로 회전하고, 제1 핸드(19)나 제2 핸드(21)를 진퇴시켜 각 카세트(C)와의 사이에서 기판(W)을 수도한다. 마찬가지로, 인덱서 로봇(IR)은, 수도부(15)와의 사이에서 기판(W)을 수도한다.

수도부(15)는, 인덱서 블록(5) 중, 처리 블록(7)과의 경계에 배치되어 있다. 수도부(15)는, 예를 들면, 폭 방향(Y)의 중앙부에 배치되어 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 수도부(15)는, 연직 방향(Z)으로 길게 형성되어 있다.

수도부(15)는, 연직 방향(Z)의 하방에서 상방을 향해, 제1 반전 유닛(23)과, 패스부(25)와, 패스부(27)와, 제2 반전 유닛(29)을 구비하고 있다.

제1 반전 유닛(23)은, 인덱서 블록(5)으로부터 수취한 기판(W)의 상하를 반전시킨다. 제1 반전 유닛(23)은, 기판(W)의 수평 자세를 반전시킨다. 구체적으로는, 제1 반전 유닛(23)은, 표면이 위로 향해진 기판(W)을, 표면이 아래로 향해진 자세로 변환한다. 환언하면, 이면이 위를 향한 자세가 되도록 기판(W)의 자세를 변환한다.

제2 반전 유닛(29)은, 그 반대의 동작을 행한다. 즉, 제2 반전 유닛(29)은, 처리 블록(7)으로부터 수취한 기판(W)의 상하를 반전시킨다. 제2 반전 유닛(29)은, 표면이 아래로 향해진 기판(W)을, 표면이 위로 향해진 자세로 변환한다. 환언하면, 이면이 아래를 향한 자세가 되도록 기판(W)의 자세를 변환한다.

상기의 제1 반전 유닛(23)과 제2 반전 유닛(29)의 반전 방향은, 서로 반대여도 된다. 즉, 제1 반전 유닛(23)은, 표면이 위를 향한 자세가 되도록 기판(W)의 자세를 변환한다. 제2 반전 유닛(29)은, 이면이 위를 향한 자세가 되도록 기판(W)의 자세를 변환한다.

패스부(25, 27)는, 인덱서 블록(5)과 처리 블록(7) 사이에서 기판(W)의 수도를 행하기 위해 이용된다. 패스부(25)는, 예를 들면, 처리 블록(7)에서 인덱서 블록(5)으로 기판(W)을 반송하기 위해 이용된다. 패스부(27)는, 예를 들면, 인덱서 블록(5)에서 처리 블록(7)으로 기판(W)을 반송하기 위해 이용된다. 또한, 패스부(25, 27)에 있어서의 기판(W)의 반송 방향은, 서로 역방향이어도 된다.

＜4. 처리 블록＞

처리 블록(7)은, 예를 들면, 기판(W)에 대해 세정 처리를 행한다. 세정 처리는, 예를 들면, 처리액에 더하여 브러시를 이용한 처리이다. 처리 블록(7)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 예를 들면, 폭 방향(Y)에 있어서, 제1 열(R1)과, 제2 열(R2)과, 제3 열(R3)로 나누어진다. 상세하게는, 제1 열(R1)은, 좌방(Y)에 배치되어 있다. 제2 열(R2)은, 폭 방향(Y)의 중앙부에 배치되어 있다. 환언하면, 제2 열(R2)은, 제1 열(R1)의 우방(Y)에 배치되어 있다. 제3 열(R3)은, 제2 열(R2)의 우방(Y)에 배치되어 있다.

＜4-1. 제1 열＞

처리 블록(7)의 제1 열(R1)은, 복수 개의 처리 유닛(31)을 구비하고 있다. 제1 열(R1)은, 예를 들면, 4개의 처리 유닛(31)을 구비하고 있다. 제1 열(R1)은, 4개의 처리 유닛(31)을 연직 방향(Z)으로 적층하여 배치되어 있다. 각 처리 유닛(31)에 대해서는, 상세를 후술한다. 각 처리 유닛(31)은, 예를 들면, 세정 유닛이다. 세정 유닛은, 기판(W)을 세정 처리한다. 세정 유닛으로서는, 기판(W)의 표면을 세정 처리하는 표면 세정 유닛과, 기판(W)의 이면을 세정 처리하는 이면 세정 유닛이 있다. 본 실시예에서는, 처리 유닛(31)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 예로 들어 설명한다.

＜4-2. 제2 열＞

처리 블록(7)의 제2 열(R2)은, 센터 로봇(CR)을 구비하고 있다. 센터 로봇(CR)은, 연직 방향(Z) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 센터 로봇(CR)은, 연직 방향(Z)으로 승강 가능하게 구성되어 있다. 센터 로봇(CR)은, 예를 들면, 제1 핸드(33)와 제2 핸드(35)를 구비하고 있다. 제1 핸드(33)와 제2 핸드(35)는, 각각 1장의 기판(W)을 유지한다. 제1 핸드(33)와 제2 핸드(35)는, 독립적으로 전후 방향(X) 및 폭 방향(Y)으로 진퇴 가능하게 구성되어 있다.

＜4-3. 제3 열＞

처리 블록(7)의 제3 열(R3)은, 제1 열(R1)과 동일한 구성이다. 즉, 제3 열(R3)은, 복수 개의 처리 유닛(31)을 구비하고 있다. 제3 열(R3)은, 예를 들면, 4개의 처리 유닛(31)을 구비하고 있다. 제3 열(R3)은, 4개의 처리 유닛(31)을 연직 방향(Z)으로 적층하여 배치되어 있다. 제1 열(R1)의 각 처리 유닛(31)과 제3 열(R3)의 각 처리 유닛(31)은, 폭 방향(Y)에 있어서 대향하여 배치되어 있다. 이로 인해, 센터 로봇(CR)이 연직 방향(Z)의 같은 높이에 있어서 제1 열(R1)과 제3 열(R3)의 대향하는 각 처리 유닛(31)에 액세스 할 수 있다.

처리 블록(7)은, 상술한 바와 같이 구성되어 있다. 여기서, 센터 로봇(CR)의 동작예를 간단하게 설명한다. 센터 로봇(CR)은, 예를 들면, 제1 반전 유닛(23)으로부터 기판(W)을 수취한다. 센터 로봇(CR)은, 제1 열(R1) 및 제3 열(R3) 중 어느 하나의 이면 세정 유닛(SSR)에 기판(W)을 반송하여 기판(W)의 이면에 세정 처리를 행하게 한다. 센터 로봇(CR)은, 제1 열(R1) 및 제3 열(R3) 중 어느 하나의 이면 세정 유닛(SSR)에서 세정 처리가 행해진 기판(W)을 수취한다. 센터 로봇(CR)은, 제2 반전 유닛(29)에 기판(W)을 반송한다.

＜4-4. 처리 유닛＞

여기서, 도 3~도 5를 참조하여, 이면 세정 유닛(SSR)(처리 유닛(31))에 대해서 설명한다. 도 3은, 실시예에 따른 이면 세정 유닛의 개략 구성을 나타내는 평면도이다. 도 4는, 이면 세정 유닛의 개략 구성을 나타내는 측면도이다. 도 5는, 세정 아암의 종단면도이다.

또한, 여기에서는, 제1 열(R1)이 구비하고 있는 이면 세정 유닛(SSR)을 예로 들어 설명한다. 제3 열(R3)의 이면 세정 유닛(SSR)은, 폭 방향(Y)에 있어서의 배치를 바꿔 넣은 것 같은 구성이 된다.

이면 세정 유닛(SSR)은, 회전 유지부(37)와, 가드(39)와, 제1 처리액 아암(41)과, 제2 처리액 아암(43)과, 세정 아암(45)과, 대기 포트(47)를 구비하고 있다.

＜4-4-1. 회전 유지부＞

회전 유지부(37)는, 평면에서 봤을 때 이면 세정 유닛(SSR)의 거의 중앙에 배치되어 있다. 회전 유지부(37)는, 기판(W)을 수평 자세로 유지한 상태로, 기판(W)을 수평면 내에서 회전시킨다. 회전 유지부(37)는, 전동 모터(49)와, 회전축(51)과, 스핀 척(53)과, 지지 핀(55)을 구비하고 있다.

전동 모터(49)는, 회전축(51)이 연직 방향(Z)으로 향해진 자세로 배치되어 있다. 회전축(51)은, 상단에 스핀 척(53)이 장착되어 있다. 스핀 척(53)은, 기판(W)의 직경보다 약간 큰 직경을 갖는다. 스핀 척(53)은, 원 형상의 판 형상 부재이다. 스핀 척(53)은, 복수 개의 지지 핀(55)을 구비하고 있다. 이 실시예에서는, 예를 들면, 6개의 지지 핀(55)을 구비하고 있다. 6개의 지지 핀(55)은, 기판(W)의 외주연에 맞닿아 기판(W)을 수평 자세로 지지한다. 복수 개의 지지 핀(55)은, 기판(W)을 수평 자세로 안정적으로 지지할 수 있으면, 지지 핀(55)의 개수는 6개로 한정되지 않는다. 6개의 지지 핀(55)은, 스핀 척(53)에 있어서의 기판(W)의 외주연 부근에 세워져 설치되어 있다. 6개의 지지 핀(55)은, 기판(W)을 스핀 척(53)에 반입할 때와, 기판(W)을 스핀 척(53)으로부터 반출할 때에는, 기판(W)의 주연의 유지를 해제한다. 그 때문에, 각 지지 핀(55)은, 연직 방향(Z) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 그 동작을 행하기 위한 구체적인 구성의 설명에 대해서는 생략한다. 회전 유지부(37)는, 전동 모터(49)를 회전시키면, 회전 중심(P1) 둘레로 스핀 척(53)을 회전시킨다. 회전 중심(P1)은, 연직 방향(Z)이다.

＜4-4-2. 가드＞

가드(39)는, 평면에서 봤을 때 회전 유지부(37)를 둘러싸도록 배치되어 있다. 상세하게는, 가드(39)는, 원통 형상의 몸통부(57)와, 경사부(59)를 구비한다. 가드(39)는, 연직 방향(Z)으로 승강 가능하게 구성되어 있다. 가드(39)는, 하강한 대기 위치와, 대기 위치보다 상방의 처리 위치로 승강 가능하다. 가드(39)를 승강시키는 구체적인 구성의 설명에 대해서는 생략한다.

가드(39)의 몸통부(57)는, 통 형상을 나타낸다. 몸통부(57)는, 내주면이 회전 유지부(37)의 외주 측에서 외방으로 이격되어 배치되어 있다. 경사부(59)는, 몸통부(57)의 상부로부터 회전축(51) 측에 가까워지도록 좁혀지고 있다. 경사부(59)는, 상부에 개구부(61)를 갖는다. 개구부(61)는, 경사부(59)의 중앙부에 형성되어 있다. 개구부(61)는, 기판(W)의 직경보다 크다. 개구부(61)는, 스핀 척(53)의 직경보다 크다. 기판(W)의 반입출 시에는, 가드(39)는, 연직 방향(Z)에 있어서, 스핀 척(53)이 개구부(61)로부터 상방으로 돌출하는 위치까지 하강된다. 기판(W)의 세정 처리 시에는, 가드(39)는, 스핀 척(53)에 유지된 기판(W)의 높이 부근에 경사부(59)가 위치한다. 경사부(59)는, 경사진 내주면에서 기판(W)으로부터 주위로 비산한 처리액 등을 가드(39)의 하방으로 안내한다.

＜4-4-3. 제1 처리액 아암＞

제1 처리액 아암(41)은, 평면에서 봤을 때 회전 유지부(37)의 후방(X)에 배치되어 있다. 제1 처리액 아암(41)은, 기단부 측에 전동 모터(42)를 구비하고 있다. 제1 처리액 아암(41)은, 전동 모터(42)에 의해 기단부 측의 회전 중심(P2) 둘레로 요동된다. 회전 중심(P2)은, 연직 방향(Z)이다. 제1 처리액 아암(41)은, 1개의 노즐(63)을 구비하고 있다. 노즐(63)은, 하방에 토출구를 구비하고 있다. 노즐(63)은, 처리액을 토출한다. 제1 처리액 아암(41)은, 노즐(63)의 선단부가 도 3에 나타내는 대기 위치와, 회전 중심(P1) 부근의 공급 위치에 걸쳐 요동 가능하게 구성되어 있다. 제1 처리액 아암(41)은, 처리액을 기판(W)에 공급할 때에는, 노즐(63)의 선단부가 공급 위치로 이동된다. 제1 처리액 아암(41)은, 처리액을 기판(W)에 공급하지 않는 경우에는, 노즐(63)의 선단부가 대기 위치로 이동된다. 제1 처리액 아암(41)은, 처리액을 기판(W)에 공급할 때에, 세정 아암(45)과 간섭하지 않도록, 노즐(63)을 기판(W)의 상방에서 요동 이동하도록 해도 된다.

노즐(63)로부터 토출되는 처리액으로서는, 예를 들면, 린스액을 들 수 있다. 린스액으로서는, 예를 들면, 순수, 탄산수, 전해 이온수, 수소수, 오존수 등을 들 수 있다.

＜4-4-4. 제2 처리액 아암＞

제2 처리액 아암(43)은, 평면에서 봤을 때 회전 유지부(37)의 좌방(Y)에 배치되어 있다. 제2 처리액 아암(43)은, 기단부 측에 전동 모터(44)를 구비하고 있다. 제2 처리액 아암은, 전동 모터(44)에 의해 기단부 측의 회전 중심(P3) 둘레로 요동된다. 회전 중심(P3)은, 연직 방향(Z)이다. 제2 처리액 아암(43)은, 3개의 노즐(65, 67, 69)을 구비하고 있다. 각 노즐(65, 67, 69)은, 하방에 토출구를 구비하고 있다. 노즐(65, 67, 69)은, 처리액을 토출한다. 제2 처리액 아암(43)은, 노즐(65, 67, 69)의 선단부가 도 3에 나타내는 대기 위치와, 회전 중심(P1) 부근의 공급 위치에 걸쳐 요동 가능하게 구성되어 있다. 제2 처리액 아암(43)은, 처리액을 기판(W)에 공급할 때에는, 노즐(65, 67, 69)의 선단부가 공급 위치로 이동된다. 제2 처리액 아암(43)은, 처리액을 기판(W)에 공급하지 않는 경우에는, 노즐(65, 67, 69)의 선단부가 대기 위치로 이동된다. 제2 처리액 아암(43)은, 처리액을 기판(W)에 공급할 때에, 세정 아암(45)과 간섭하지 않도록, 노즐(65, 67, 69)을 기판(W)의 상방에서 요동 이동하도록 해도 된다.

노즐(65, 67, 69)로부터 토출되는 처리액으로서는, 예를 들면, 약액을 들 수 있다. 약액으로서는, 예를 들면, 황산, 질산, 아세트산, 염산, 불화수소산, 암모니아수, 과산화수소수 중 적어도 하나를 포함하는 약액이다. 보다 구체적인 약액으로서는, 예를 들면, 암모니아수와 과산화수소수의 혼합액인 SC-1 등을 이용할 수 있다.

＜4-4-5. 세정 아암＞

세정 아암(45)은, 다음과 같이 구성되어 있다.

세정 아암(45)은, 회전 승강 기구(71)와, 지주(73)와, 하우징(75)과, 세정부(77)를 구비하고 있다.

회전 승강 기구(71)는, 지주(73)와, 하우징(75)과, 세정부(77)를 연직 방향(Z)으로 승강 가능하게 구성되어 있다. 회전 승강 기구(71)는, 지주(73)와, 하우징(75)과, 세정부(77)를 회전 중심(P4) 둘레로 요동 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 회전 승강 기구(71)는, 예를 들면, 전동 모터와 에어 실린더를 조합하여 구성되어 있다. 회전 승강 기구(71)는, 대기 위치에 있어서 세정부(77)를 대기 포트(47)로부터 연직 방향(Z)으로 상승시킨다. 회전 승강 기구(71)는, 세정부(77)가 회전 중심(P1) 부근을 지나도록 수평면 내에서 요동시킨다.

지주(73)는, 원기둥 형상을 나타낸다. 지주(73)는, 회전 승강 기구(71)에 하부가 연결되어 있다. 지주(73)는, 상부가 하우징(75)의 한쪽 하부에 연결되어 있다. 하우징(75)은, 수평면 내에 장축을 갖는다. 하우징(75)은, 다른 쪽 하부에 세정부(77)를 구비하고 있다. 세정부(77)는, 회전 중심(P5) 둘레로 회전된다. 회전 중심(P5)은, 연직 방향(Z)이다.

하우징(75)은, 하부 하우징(75a)과, 상부 하우징(75b)을 구비하고 있다. 하부 하우징(75a)은, 하우징(75)의 하부를 구성한다. 상부 하우징(75b)은, 하우징(75)의 상부를 구성한다. 상부 하우징(75b)과 하부 하우징(75a)은, 서로 연결되어 있다.

하우징(75)은, 압압 기구(81)와, 회전 기구(83)를 구비하고 있다. 구체적으로는, 하부 하우징(75a)은, 압압 기구(81)와, 회전 기구(83)를 탑재하고 있다.

압압 기구(81)는, 지점 부재(85)와, 시소 부재(87)와, 압압용 액추에이터(89)와, 지지 기구(91)를 구비하고 있다.

지점 부재(85)는, 하부 하우징(75a)의 상면에 장착되어 있다. 지점 부재(85)는, 하부 하우징(75a)의 전후 방향(X)에 있어서의 거의 중앙부에 세워져 설치되어 있다. 지점 부재(85)는, 상부에 요동축(85a)을 구비하고 있다. 요동축(85a)은, 폭 방향(Y) 둘레로 회전 가능하다. 시소 부재(87)는, 중앙부(87c)가 요동축(85a)을 통해 지점 부재(85)에 요동 가능하게 장착되어 있다. 시소 부재(87)는, 한쪽 측(87l)(작용점부)과 다른 쪽 측(87r)(역점부)의 양단이 연직 방향(Z)으로 교호로 승강 가능하다. 시소 부재(87)는, 요동축(85a)이 지점이 된다.

압압용 액추에이터(89)는, 작동축(89a)이 연직 방향(Z)을 향해 배치되어 있다. 압압용 액추에이터(89)는, 작동축(89a)을 신장시킴으로써 시소 부재(87)의 한쪽 측(87l)을 상승시킨다. 압압용 액추에이터(89)는, 예를 들면, 에어 베어링 액츄에이터가 바람직하다.

에어 베어링 액츄에이터는, 작동축(89a)이 공기에 의해 미소 간극을 두고 진퇴 가능하게 지지되어 있다. 그 때문에, 이론상은, 작동축(89a)의 슬라이드 저항이 제로가 되어 마찰이 생기지 않는다. 그 때문에, 에어 베어링 액츄에이터는, 통상의 에어 실린더와 비교하여, 미소한 공기압으로도 작동축(89a)을 진퇴시킬 수 있다. 따라서, 공기압에 따라 리니어로 진퇴시키는 것이 가능하다. 단, 압압용 액추에이터(89)로서, 통상의 에어 실린더를 사용할 수도 있다.

전후 방향(X)에 있어서, 지점 부재(85)를 사이에 둔 압압용 액추에이터(89)의 반대 측에는, 지지 기구(91)가 설치되어 있다. 지지 기구(91)는, 세정부(77)를 지지한다. 지지 기구(91)는, 하우징(75)의 하방에 세정부(77)를 현수(懸垂) 지지한다.

지지 기구(91)는, 유지 부재(93)와, 탄성 가압부(95)와, 가이드부(97)를 구비하고 있다.

지지 기구(91)는, 세정부(77)를 현수 지지한다. 세정부(77)는, 브러시(99)와, 브러시 홀더(101)를 구비하고 있다. 브러시(99)는, 기판(W)에 작용하여 세정을 행한다. 브러시 홀더(101)는, 브러시(99)를 유지한다. 브러시 홀더(101)는, 브러시(99)를 착탈이 자유롭게 유지한다. 브러시 홀더(101)는, 평면에서 봤을 때 중심부에 회전축(103)이 장착되어 있다. 회전축(103)은, 브러시 홀더(101)로부터 연직 방향(Z)으로 연장되어 있다.

유지 부재(93)는, 회전축(103)을 회전이 자유롭게 유지한다. 회전축(103)은, 예를 들면, 스플라인 축으로 구성되어 있다. 회전축(103)은, 스플라인 너트(103a)를 통해 유지 부재(93)에 장착되어 있다. 회전축(103)은, 스플라인 너트(103a)에 대해 연직 방향(Z)으로 이동 가능하다. 유지 부재(93)는, 연직 방향(Z) 둘레로 회전 가능한 상태로 스플라인 너트(103a)를 유지한다. 스플라인 너트(103a)는, 도시하지 않는 베어링을 통해 유지 부재(93)에 장착되어 있다. 회전축(103)은, 회전 중심(P5) 둘레로 회전 가능하다. 유지 부재(93)의 상부에 돌출된 스플라인 너트(103a)에는, 풀리(105)가 장착되어 있다. 풀리(105)는, 스플라인 너트(103a)의 외주면에 고정되어 있다. 풀리(105)가 회전하면, 스플라인 너트(103a)가 회전하고, 이와 함께 회전축(103)도 같은 방향으로 회전한다.

풀리(105)의 상부에는, 탄성 가압부(95)가 배치되어 있다. 탄성 가압부(95)는, 상부 유지부(107)와, 하부 유지부(109)와, 코일 스프링(111)을 구비하고 있다. 상부 유지부(107)는, 회전축(103)의 상부 측에 베어링(도시하지 않음)을 통해 장착되어 있다. 환언하면, 상부 유지부(107)는, 회전축(103)이 회전해도 정지한 채로 있다. 하부 유지부(109)는, 상부 유지부(107)로부터 이격되어 배치되어 있다. 하부 유지부(109)는, 상부 유지부(107)의 하방이며, 풀리(105)의 상부에 배치되어 있다. 하부 유지부(109)는, 내주면이 회전축(103)의 외주면으로부터 이격되어 배치되어 있다. 따라서, 하부 유지부(109)는, 회전축(103)이 회전해도 정지한 채로 있다. 또, 하부 유지부(109)는, 풀리(105)의 상면에 베어링을 통해 장착되어 있다. 따라서, 하부 유지부(109)는, 풀리(105)의 회전에 영향을 받지 않는다.

코일 스프링(111)은, 상부 유지부(107)와 하부 유지부(109)에 장착되어 있다. 코일 스프링(111)은, 상부 유지부(107)에 상단이 고정되어 있다. 코일 스프링(111)은, 하부 유지부(109)에 하단이 고정되어 있다. 코일 스프링(111)은, 예를 들면, 원통 형상을 나타낸다. 코일 스프링(111)은, 압축 코일 스프링이다. 따라서, 풀리(105)의 상면 및 하부 유지부(109)로부터 상방으로 상부 유지부(107)가 탄성 가압된다. 그 결과, 회전축(103)이 연직 방향(Z)의 상방으로 탄성 가압된다. 그 때문에, 압압용 액추에이터(89)가 작동하고 있지 않은 통상 상태에 있어서는, 브러시(99)는, 하부 하우징(75a)의 하면으로부터 일정한 높이에 유지된다. 환언하면, 통상 상태에 있어서는, 브러시(99)에 의한 하중은 제로이다.

지지 기구(91)는, 연직 방향(Z)으로 승강하는 회전축(103)을 지지한다. 지지 기구(91)는, 리니어 가이드(113)와, 축 유지부(115)를 구비하고 있다. 리니어 가이드(113)는, 유지 부재(93)에 인접하여 배치되어 있다. 리니어 가이드(113)는, 연직 방향(Z)으로 세워져 설치되어 있다. 리니어 가이드(113)는, 레일(113a)과 캐리지(113b)를 구비하고 있다. 레일(113a)은, 연직 방향(Z)으로 길이 방향이 배치되어 있다. 레일(113a)은, 캐리지(113b)가 연직 방향(Z)으로 이동 가능하게 장착되어 있다. 캐리지(113b)는, 시소 부재(87)의 다른 쪽 측(87r) 하방에 배치되어 있다. 캐리지(113b)는, 시소 부재(87)의 다른 쪽 측(87r)이 하강했을 때에 맞닿는 위치에 배치되어 있다.

축 유지부(115)는, 회전축(103)의 상부를 유지한다. 축 유지부(115)는, 회전축(103)이 회전하는 것을 허용한 상태로 유지한다. 축 유지부(115)는, 예를 들면, 도시하지 않는 베어링을 통해 회전축(103)을 유지한다. 캐리지(113b)는, 축 유지부(115)에 연결되어 있다. 코일 스프링(111)의 탄성 가압력보다 강한 구동력으로 압압용 액추에이터(89)가 작동축(89a)을 상승시키면, 한쪽 측(87l)(작용점부)이 상승한다. 한쪽 측(87l)이 상승하면, 다른 쪽 측(87r)(역점부)이 하강한다. 이 때, 다른 쪽 측(87r)이 캐리지(113b)를 축 유지부(115)와 함께 하강시킨다. 그러면, 회전축(103)이 하강하고, 브러시(99)가 소정 위치에서 하방으로 이동한다. 이와 같이 하여 압압용 액추에이터(89)를 구동하면, 압압용 액추에이터(89)의 구동력에 따른 압압이 브러시(99)에 부여된다.

지지 기구(91)에 인접하여 회전 기구(83)가 배치되어 있다. 회전 기구(83)는, 지점 부재(85) 측에 배치되어 있다. 회전 기구(83)는, 설치 부재(117)와, 전동 모터(119)를 구비하고 있다. 설치 부재(117)는, 하부 하우징(75a)의 저면으로부터 전동 모터(119)를 상방으로 이격하여 배치한다. 전동 모터(119)는, 회전축이 연직 방향(Z)의 하방을 향해 배치되어 있다. 전동 모터(119)는, 회전 중심(P6) 둘레로 회전축을 회전시킨다. 회전 중심(P6)은, 연직 방향(Z)에 있어서 회전 중심(P5)과 거의 평행하다. 전동 모터(119)는, 회전축에 풀리(121)가 장착되어 있다. 풀리(121)와 풀리(105)에는, 타이밍 벨트(123)가 걸쳐져 있다. 따라서, 전동 모터(119)가 회전되면, 타이밍 벨트(123)와, 풀리(105, 121)와, 스플라인 너트(103a)를 통해 회전축(103)이 회전 중심(P5) 둘레로 회전된다. 이와 같이 회전축(103)이 회전되어도, 회전축(103)은 연직 방향(Z)으로 승강 가능하다.

상술한 바와 같이 세정 아암(45)이 구성되어 있다. 즉, 압압용 액추에이터(89)의 동작이 시소 부재(87)의 한쪽 측(87l)(역점부)을 통해 다른 쪽 측(87r)(작용점부)에 부여된다. 따라서, 시소 부재(87)를 구비함으로써, 압압용 액추에이터(89)의 배치의 자유도를 높일 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 높이를 억제할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)를 다단으로 적층하는 배치를 용이하게 실현할 수 있다.

압압용 액추에이터(89)의 상방에는, 검출부(DU)가 배치되어 있다. 검출부(DU)는, 설치 부재(124)를 통해 장착되어 있다. 설치 부재(124)는, 상부 하우징(75b)의 천장면에 장착되어 있다. 설치 부재(124)는, 검출부(DU)를 시소 부재(87)의 한쪽 측(87l)에 있어서의 상방에 배치한다. 검출부(DU)는, 평면에서 봤을 때, 브러시(99)의 반대 방향에 배치되어 있다. 검출부(DU)는, 하우징(75) 내에 배치되어 있다. 따라서, 기판(W)에 공급된 처리액이나 브러시(99)로부터 주위로 비산한 처리액이 부착되는 일이 없다.

검출부(DU)는, 작동편(DP)을 구비하고 있다. 검출부(DU)는, 작동편(DP)을 하방을 향하게 하여 장착되어 있다. 환언하면, 검출부(DU)는, 작동편(DP)을 한쪽 측(87l)을 향하게 한 자세로 장착되어 있다. 작동편(DP)은, 연직 방향(Z)으로 외력이 가해지면, 검출부(DU)에 대해 진퇴한다. 작동편(DP)은, 연직 방향(Z)의 하방으로부터 상방으로 외력이 가해지면, 검출부(DU) 측으로 이동한다. 작동편(DP)은, 연직 방향(Z)의 하방으로부터 상방으로의 외력이 없어지면, 검출부(DU)로부터 돌출한다. 검출부(DU)는, 작동편(DP)이 몰입된 것을 검출한다. 검출부(DU)는, 예를 들면, 마이크로 스위치이다. 검출부(DU)는, 예를 들면, 작동편(DP)이 몰입되어 온이 된 경우에만 신호를 출력한다.

여기서, 브러시(99)가 승강하는 높이에 대해서 설명한다.

상술한 시소 부재(87)는, 압압용 액추에이터(89)에 의해 요동된다. 예를 들면, 압압용 액추에이터(89)는, 후술하는 바와 같이 목표 하중에 따라 조작된다. 이 조작에 의해, 브러시(99)가 연직 방향(Z)으로 이동된다. 구체적으로는, 브러시(99)는, 다음과 같은 높이로 승강된다.

(1) 무하중 높이(H1)：브러시(99)가 기판(W)에 작용하지 않는 연직 방향(Z)의 높이이다. 이 무하중 높이(H1)은, 이하의 다른 높이보다 높다. 세정 시를 제외한 통상 시에는, 이 무하중 높이(H1)에 브러시(99)가 위치하고 있다.

(2) 작용 높이(H2)：브러시(99)를 소정의 하중으로 기판(W)에 작용시키기 위한 연직 방향(Z)의 높이이다. 무하중 높이(H1)보다 낮은 높이이다. 기판(W)에 대해 세정 처리를 행할 때에는, 이 작용 높이(H2)로 브러시(99)를 하강시킨다. 단, 이 위치는, 브러시(99)에 소정의 하중을 부여하여, 기판(W)으로부터의 반력과 하중이 균형을 이루었을 때의 높이이다.

(3) 최대 가압 높이(H3)：작용 높이(H2)보다 낮은 높이이다. 브러시(99)가 연직 방향(Z)에 있어서 가장 낮게 이동한 위치이다. 이 최대 가압 높이(H3)는, 압압 기구(81)의 구조에 의해 정해지는 위치이다. 브러시(99)는, 이 최대 가압 높이(H3)보다 하방으로 이동할 수 없다.

상술한 검출부(DU)는, 최대 가압 높이(H3)를 검출한다. 즉, 검출부(DU)는, 브러시(99)가 최대 가압 높이(H3)로 하강되었을 때에, 시소 부재(87)의 한쪽 측(87l)이 작동편(DP)을 밀어 올리는 높이에 장착되어 있다. 검출부(DU)는, 최대 가압 높이(H3)를 검출한 경우에만, 온이 되어 신호를 출력한다.

검출부(DU)는, 처리액에 닿는 브러시(99)로부터 가장 떨어진 위치에 배치되어 있다. 따라서, 처리액에 의한 악영향을 고려할 필요가 없어, 검출부(DU)의 배치에 자유도를 높게 할 수 있다.

＜4-5. 제어계＞

여기서 도 6을 참조한다. 도 6은, 이면 세정 유닛의 제어계를 나타내는 블록도이다.

상술한 노즐(63)에는, 배관(125)의 일단 측이 연통 접속되어 있다. 배관(125)의 타단 측에는, 린스액 공급원(127)에 연통 접속되어 있다. 린스액 공급원(127)은, 상술한 린스액을 공급한다. 배관(125)은, 유량 제어 밸브(129)를 구비하고 있다. 유량 제어 밸브(129)는, 배관(125)에 있어서의 린스액의 유량을 제어한다.

상술한 노즐(65)에는, 배관(131)의 일단 측이 연통 접속되어 있다. 배관(131)의 타단 측에는, 처리액 공급원(133)에 연통 접속되어 있다. 처리액 공급원(133)은, 상술한 각종 약액 중 어느 하나를 공급한다. 배관(131)은, 유량 제어 밸브(135)를 구비하고 있다. 유량 제어 밸브(135)는, 배관(131)에 있어서의 약액의 유량을 제어한다.

상술한 노즐(67)에는, 배관(137)의 일단 측이 연통 접속되어 있다. 배관(137)의 타단 측에는, 처리액 공급원(139)에 연통 접속되어 있다. 처리액 공급원(139)은, 상술한 각종 약액 중 어느 하나를 공급한다. 배관(137)은, 유량 제어 밸브(141)를 구비하고 있다. 유량 제어 밸브(141)는, 배관(137)에 있어서의 약액의 유량을 제어한다.

상술한 노즐(69)에는, 배관(143)의 일단 측이 연통 접속되어 있다. 배관(143)의 타단 측에는, 처리액 공급원(145)에 연통 접속되어 있다. 처리액 공급원(145)은, 상술한 각종 약액 중 어느 하나를 공급한다. 배관(143)은, 유량 제어 밸브(147)를 구비하고 있다. 유량 제어 밸브(147)은, 배관(143)에 있어서의 약액의 유량을 제어한다.

상술한 압압용 액추에이터(89)에는, 에어 공급관(149)의 일단 측이 연통 접속되어 있다. 또한, 압압용 액추에이터(89)에는, 작동축(89a)을 미소한 간극으로 지지하기 위한 에어가 공급되는데, 이 배관 등에 대해서는 생략한다. 에어 공급관(149)의 타단 측에는, 에어 공급원(151)이 연통 접속되어 있다. 에어 공급원(151)은, 예를 들면, 에어를 공급한다. 에어는, 바람직하게는 드라이 에어이다. 에어 공급원(151)은, 다른 장치에도 연통 접속되어 있다. 에어 공급원(151)의 공급 압력은, 다른 장치의 가동 상태의 영향을 받는다. 즉, 다른 장치의 가동률이 높아지면 공급 압력이 저하되는 경우가 있다. 에어 공급원(151) 측에서부터 순서대로, 개폐 밸브(153)와, 일차 측 압력계(155)와, 전공 레귤레이터(157)와, 이차 측 압력계(159)를 구비하고 있다.

개폐 밸브(153)는, 에어 공급관(149)에 있어서의 에어의 유통을 허용 또는 차단한다. 일차 측 압력계(155)는, 전공 레귤레이터(157)의 상류 측에 있어서의 에어의 압력을 측정한다. 전공 레귤레이터(157)는, 입력 신호에 따라 내장하는 밸브의 개도를 조정한다. 이로 인해, 전공 레귤레이터(157)는, 에어 공급관(149)에 있어서의 에어의 압력을 조정한다. 상세하게는, 전공 레귤레이터(157)는, 주어진 입력 신호에 따라 밸브 개도를 조정하여 일차 측 압력을 줄여, 에어 공급관(149)에 있어서의 이차 측 압력으로 한다. 전공 레귤레이터(157)는, 에어 공급관(149)에 있어서의 일차 측 압력보다 높은 이차 측 압력으로 조정할 수는 없다. 전공 레귤레이터(157)는, 에어 공급관(149)의 일차 측 압력 이하로 이차 측 압력을 조정한다. 전공 레귤레이터(157)는, 일차 측 압력이 소정값을 초과하고 있는 경우에, 이차 측 압력을 소정값 이하의 범위에서 조정할 수 있다. 환언하면, 전공 레귤레이터(157)는, 일차 측 압력이 소정값 이하인 경우에는, 이차 측 압력을 일정값 이상으로 정확하게 조정할 수 없는 사태가 발생할 수 있다.

제어부(161)는, 상술한 각 부를 통괄적으로 제어한다. 구체적으로는, 제어부(161)는, 투입부(9) 및 불출부(11)에 있어서의 반송 동작, 인덱서 로봇(IR)의 반송 동작, 제1 반전 유닛(23) 및 제2 반전 유닛(29)의 반전 동작, 센터 로봇(CR)의 반송 동작 등을 제어한다. 제어부(161)는, 이면 세정 유닛(SSR)(처리 유닛(31))에 있어서의 전동 모터(49)의 회전 제어, 가드(39)의 승강 동작, 스핀 척(53)에 있어서의 지지 핀(55)의 개폐 동작, 전동 모터(42, 44)의 요동 동작, 유량 제어 밸브(129, 135, 141, 147)의 개폐 동작, 회전 승강 기구(71)의 요동 및 승강 동작, 전동 모터(119)의 회전 동작, 개폐 밸브(153)의 개폐 동작, 전공 레귤레이터(157)의 개도 동작을 제어 대상으로 하여 조작을 행한다.

제어부(161)는, 도시하지 않는 CPU 및 메모리를 구비하고 있다. 제어부(161)에는, 지시부(163)가 접속되어 있다. 지시부(163)는, 기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터에 의해 조작된다. 지시부(163)는, 기판(W)의 처리의 내용 등을 규정한 레시피나, 처리의 개시나 정지 등을 오퍼레이터가 지시하기 위해 이용된다. 제어부(161)에는, 알림부(165)가 접속되어 있다. 알림부(165)는, 기판 처리 장치(1)에 문제가 생겼을 때에 알람을 발생시켜, 오퍼레이터에 문제의 발생을 알린다. 알림부(165)는, 예를 들면, 표시 장치, 램프, 버저, 스피커 등이다. 알림부(165)는, 발생한 문제의 종별을 확인할 수 있는 것이 바람직하다. 제어부(161)는, 입력 포트(IP)를 구비하고 있다. 입력 포트(IP)는, 각종 전자 기기의 데이터가 입력된다. 입력 포트(IP)로부터 입력된 데이터는, 제어부(161)에서 처리되거나, 기억된다.

제어부(161)는, 일차 측 압력계(155) 및 이차 측 압력계(159)의 측정값을 수취한다. 제어부(161)는, 전공 레귤레이터(157)의 밸브의 개도 동작을 위해 입력 신호를 부여한다. 이 입력 신호에 따라 브러시(99)에 의한 기판(W)으로의 압압이 결정된다.

제어부(161)는, 검출부(DU)가 온이 되었을 경우의 신호를 수취한다. 제어부(161)는, 검출부(DU)로부터 신호를 수취한 경우에는, 브러시(99)의 높이가 최대 가압 높이(H3)에 도달했다고 판단한다.

또한, 상술한 이면 세정 유닛(SSR)(처리 유닛(31))이 본 발명에 있어서의 「기판 처리 장치」에 상당한다.

＜5. 처리 유닛에 있어서의 전처리＞

도 7 및 도 8을 참조하여, 상술한 이면 세정 유닛(SSR)에 있어서의 전처리에 대해서 설명한다. 도 7은, 미리 행하는 전처리를 나타내는 플로차트이다. 도 8의 (a)는, 전공 레귤레이터의 개도와 전자 천칭의 하중의 관계를 나타내고, 도 8의 (b)는, 전공 레귤레이터의 이차 측 압력과 개도의 관계를 나타내며, 도 8의 (c)는, 압압용 액추에이터의 하중과 전공 레귤레이터의 이차 측 압력의 관계를 나타내는 그래프이다.

기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터는, 지시부(163)를 조작하여, 하나의 이면 세정 유닛(SSR)에 대해서 전처리를 지시한다.

단계 S1

전자 천칭을 배치한다. 구체적으로는, 도시하지 않는 전자 천칭을 회전 유지부(37)에 배치한다. 전자 천칭은, 하중을 측정하는 장치이다. 전자 천칭은, 데이터 출력 단자를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 전자 천칭은, 데이터 출력 단자가 입력 포트(IP)에 접속된다. 전자 천칭은, 데이터 출력 단자로부터 측정값을 출력한다. 측정값은, 예를 들면, 하중(g)이다.

단계 S2

하중을 측정한다. 구체적으로는, 예를 들면, 제어부(161)는, 개폐 밸브(153)를 개방한 상태에 있어서, 전공 레귤레이터(157)로의 입력 신호를 가변하고, 그 때의 입력 신호마다 전자 천칭의 하중 X(g)를 측정한다. 또한, 오퍼레이터가 실제로 처리에 있어서 브러시(99)에 부여하고 싶은 몇 가지 하중(목표 하중 X(g))을 지시부(163)로부터 지시하고, 전자 천칭의 측정값이 각 목표 하중 X(g)가 되도록 전공 레귤레이터(157)로의 입력 신호를 가변하여, 그 때의 각 목표 하중 X(g)에 대응하는 입력 신호를 얻도록 해도 된다. 이 때, 제어부(161)는, 하중마다의 이차 측 압력계(159)의 측정값인 이차 측 압력을 수신한다.

단계 S3

실측 하중의 대응 관계를 기억한다. 제어부(161)는, 단계 S2의 측정에 의해, 도 8의 (a)와 같은 전공 레귤레이터(157)의 개도(입력 신호)와 전자 천칭의 하중(목표 하중 X(g))의 관계와, 도 8의 (b)와 같은 전공 레귤레이터(157)의 이차 측 압력과 개도의 관계를 얻는다. 제어부(161)는, 상기의 관계와 함께, 도 8의 (c)와 같은 압압용 액추에이터(89)의 하중과 전공 레귤레이터(157)의 이차 측 압력의 관계를 메모리에 기억한다.

단계 S4

기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터는, 지시부(163)를 조작하여, 하나의 이면 세정 유닛(SSR)에 대해서 전처리의 종료를 지시한다. 기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터는, 전자 천칭을 회전 유지부(37)로부터 치운다. 필요에 따라, 다른 이면 세정 유닛(SSR)에 대해서도 동일한 전처리를 행한다.

＜6. 처리 유닛에 있어서의 세정 처리＞

다음에, 도 9를 참조하여, 세정 처리에 대해서 설명한다. 도 9는, 세정 처리를 나타내는 플로차트이다.

단계 S11

오퍼레이터가 처리 개시를 지시한다. 구체적으로는, 목표 하중 X(g)를 포함하는 레시피도 지시한다. 그러면, 인덱서 블록(5)으로부터 기판(W)이 수도부(15)에 반송되고, 제1 반전 유닛(23)에서 이면이 위로 향해지도록 자세가 변환된다.

단계 S12

이면이 위로 향해진 기판(W)은, 센터 로봇(CR)에 의해 하나의 이면 세정 유닛(SSR)에 반송된다. 이면 세정 유닛(SSR)은, 세정 처리를 개시한다. 구체적으로는, 제어부(161)는, 미리 취득한 상기의 관계(도 8의 (c))를 참조하여, 이차 측 압력계(159)의 이차 측 압력이, 목표 하중 X(g)에 대응하는 이차 측 압력 Z(Pa)가 되도록 전공 레귤레이터(157)로의 입력 신호를 조정한다. 이로 인해, 압압용 액추에이터(89)에 대해 전공 레귤레이터(157)로부터 에어가 공급되고, 브러시(99)로부터 기판(W)에 목표 하중 X(g)로 하중이 부여되는 상태로 세정이 행해진다. 환언하면, 제어부(161)는, 브러시(99)를 무하중 높이(H1)에서 작용 높이(H2)로 이동시킨다. 이 때, 제1 처리액 아암(41)이 요동되고, 세정 아암(45)과 간섭하지 않는 위치에 있어서, 순수가 기판(W)의 표면 전체에 공급된다. 이 때, 브러시(99)가 기판(W)의 이면에 작용하여 세정 처리가 행해진다. 제어부(161)는, 회전 승강 기구(71)를 조작하여, 브러시(99)가 회전 중심(P1)을 지나, 기판(W)의 양 단면에서 반전되도록, 기판(W)의 직경 내에서 세정 아암(45)을 요동시킨다.

단계 S13

제어부(161)는, 상술한 세정 처리의 개시와 함께, 구체적으로는, 압압 기구(81)에 의한 브러시(99)로의 하중의 부여 후에, 검출부(DU)로부터의 신호의 유무를 감시한다. 제어부(161)는, 검출부(DU)의 신호를 수신한 경우에는, 브러시(99)가 브러시 홀더(101)로부터 탈락되어 있다고 판단한다.

또한, 상술한 단계 S12가 본 발명에 있어서의 「이동 과정」에 상당하고, 상술한 단계 S13이 본 발명에 있어서의 「판단 과정」에 상당한다.

여기에서는, 우선, 검출부(DU)가 오프이며, 신호를 출력하고 있지 않은 경우에 대해서 설명한다.

단계 S14

처리를 계속한다. 소정 시간의 순수의 공급 후, 제1 처리액 아암(41)을 대신하여 제2 처리액 아암(43)이 요동된다. 이로 인해, 세정 아암(45)과 간섭하지 않는 위치에 있어서, 약액이 기판(W)의 표면 전체에 공급된다. 이 때, 브러시(99)가 기판(W)의 이면에 작용된다. 소정 시간의 약액의 공급 후, 제2 처리액 아암(43)을 대신하여, 다시 제1 처리액 아암(41)이 요동되고, 약액이 순수로 치환된다. 이 때, 브러시(99)가 기판(W)의 이면에 작용된다. 그 후, 제1 처리액 아암(41)과, 제2 처리액 아암(43)과, 세정 아암(45)이 대기 위치로 이동된다. 그리고, 제어부(161)가, 기판(W)을 건조시킨다. 구체적으로는, 제어부(161)는, 전동 모터(49)를 고속으로 회전시켜, 기판(W)에 부착되어 있는 순수를 떨쳐내어 건조시킨다.

단계 S15

처리를 종료하고 기판(W)을 반출한다. 제어부(161)는, 가드(39)를 대기 위치로 하강시킨다. 센터 로봇(CR)은, 건조 처리를 끝낸 기판(W)을 이면 세정 유닛(SSR)으로부터 반출한다. 반출된 기판(W)은, 제2 반전 유닛(29)에서 표면을 상방을 향하게 한 자세로 반전된다. 표면을 상방을 향하게 한 기판(W)은, 인덱서 로봇(IR)에 의해 불출부(11)에 반출된다.

단계 S16

다음 기판(W)의 처리로 이행한다. 제어부(161)는, 센터 로봇(CR)에 의해 반입된 다음 기판(W)에 대해 세정 처리를 행한다. 즉, 상기 단계 S12로 되돌아온다.

여기서 상술한 단계 S13에 있어서, 제어부(161)가 검출부(DU)의 온을 검출한 경우에 대해서 설명한다. 상세하게는, 제어부(161)가 브러시(99)에 대해서 최대 가압 높이(H3)가 된, 즉, 브러시(99)가 탈락되었다고 판단한 경우의 처리예에 대해서 설명한다.

단계 S17

알람을 발한다. 제어부(161)는, 알림부(165)를 조작하여, 알람을 발생시킨다. 이로 인해, 기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터는, 브러시(99)의 탈락이 발생했음을 알 수 있다.

단계 S18

처리를 정지하고, 기판(W)을 반출한다. 제어부(161)는, 기판(W)에 대한 처리를 즉시 정지하고, 기판(W)을 반출한다. 즉, 기판(W)에 대한 대강의 세정 처리를 끝내지 않고, 곧바로 처리를 정지한다. 환언하면, 세정 처리의 도중에 처리를 정지하고, 기판(W)을 반출한다.

이와 같이, 브러시(99)의 탈락을 검출한 경우에는, 검출한 시점에서 처리를 즉시 정지한다. 따라서, 기판(W)에 대해 쓸데 없이 처리를 행하는 것을 방지할 수 있다. 이로 인해, 처리액의 낭비를 방지하여, 쓸데 없는 처리에 필요로 하는 전력을 절약할 수 있다.

또한, 상술한 단계 S18이 본 발명에 있어서의 「처리 정지 과정」에 상당한다.

본 실시예에 의하면, 회전 유지부(37)에 기판(W)가 재치되고, 브러시(99)가 브러시 홀더(101)로부터 탈락되어 있는 상태에서, 제어부(161)가 압압 기구(81)를 조작하여, 브러시(99)를 작용 높이(H2)로 이동시키려고 한다. 브러시(99)가 탈락되어 있는 경우에는, 브러시 홀더(101)에는 소정의 하중과 같은 기판(W)으로부터의 반력이 생기지 않는다. 그 때문에 압압 기구(81)는, 브러시 홀더(101)의 이동을 계속하게 되어, 최대 가압 높이(H3)에 도달한다. 따라서, 검출부(DU)가 최대 가압 높이(H3)를 검출하므로, 제어부(161)는, 브러시(99)가 탈락되었다고 판단할 수 있다. 검출부(DU)는, 압압 기구(81)의 동작에 의거하여 최대 가압 높이(H3)에 도달한 것을 검출하므로, 검출부(DU)를 비산한 처리액에 닿지 않는 개소에 배치할 수 있다. 따라서, 검출부(DU)를 내약품성 재료로 구성할 필요가 없다. 그 결과, 비용을 억제할 수 있다. 또, 검출부(DU)에 처리액이 부착되어 광이 산란할 우려가 없기 때문에, 검출 정밀도를 높게 할 수 있다.

＜변형예＞

도 10을 참조하여, 본 실시예에 있어서의 변형예에 대해서 설명한다. 도 10은, 변형예에 따른 세정 아암의 종단면도이다. 또한, 상술한 실시예에 있어서의 세정 아암(45)과 같은 구성에 대해서는 동일 부호를 붙임으로써 상세한 설명에 대해서는 생략한다.

검출부(DUa)는, 비접촉 센서(191)와, 검출편(193)을 구비하고 있다. 검출부(DUa)는, 상술한 실시예의 검출부(DU)와는 전후 방향(X)에 있어서 반대 측에 설치되어 있다. 검출부(DUa)는, 지지 기구(91) 및 탄성 가압부(95) 측에 설치되어 있다.

비접촉 센서(191)는, 연직 방향(Z)에 있어서의 소정 높이에 고정되어 있다. 비접촉 센서(191)는, 예를 들면, 투과형 광 센서이다. 투과형 광 센서는, 예를 들면, 중앙부의 검출 영역에 차광 부재가 위치함으로써 온이 된다. 검출편(193)은, 비투과성 재료로 구성되어 있다. 검출편(193)은, 예를 들면, 상부 유지부(107)에 장착되어 있다. 검출편(193)은, 연직 방향(Z)으로 회전축(103)과 함께 승강한다. 검출편(193)은, 무하중 높이(H1)와, 작용 높이(H2)와, 최대 가압 높이(H3)에 따라 연직 방향(Z)으로 승강한다. 검출편(193)은, 최대 가압 높이(H3)의 경우에 비접촉 센서(191)를 온으로 한다. 비접촉 센서(191)는, 최대 가압 높이(H3)가 된 경우에, 검출편(193)에 의해 검출 영역이 차광된다.

이러한 변형예에 의하면, 브러시(99)에 가까운 회전축(103)의 높이를 검출하므로, 확실하게 회전축(103)의 높이를 검출할 수 있다. 검출부(DUa)까지 복잡한 기구가 개재되면, 그 기구의 고장 등으로 오검지할 우려가 발생한다. 그러나, 이 변형예에서는, 그 우려를 억제할 수 있다.

또한, 상술한 비접촉 센서(191)를 대신하여, 상술한 실시예와 같이 접촉식 센서를 채용해도 된다.

본 발명은, 상기 실시 형태로 한정되지는 않고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.

(1) 상술한 실시예에서는, 기판 처리 장치로서 이면 세정 유닛(SSR)을 예로 들어 설명했다. 그러나, 본 발명은, 이면 세정 유닛(SSR)으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판의 표면을 브러시(99)로 세정하는 표면 세정 유닛이어도 적용할 수 있다.

(2) 상술한 실시예에서는, 기판 처리 장치로서의 이면 세정 유닛(SSR)(처리 유닛(31))이 반입출 블록(3)이나 인덱서 블록(5) 등을 구비한 기판 처리 장치(1)에 구비된 구성을 예로 들어 설명했다. 그러나, 본 발명은, 이러한 구성으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 이면 세정 유닛(SSR)(처리 유닛(31))만으로 구성되어 있어도 된다.

(3) 상술한 실시예에서는, 세정 아암(45)이 브러시(99)에 가해지는 하중을 검출하는 기구를 구비하고 있지 않다. 그러나, 본 발명은, 이러한 구성으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 캐리지(113b)에 가해지는 힘을 로드 셀로 검출하고, 목표 하중과의 일치 정도를 검출하는 구성으로 해도 된다.

(4) 상술한 실시예에서는, 최대 가압 높이(H3)를 검출한 경우에는, 알람을 발생시키고 있다. 그러나, 본 발명은, 알람의 발생을 필수로 하는 것은 아니다. 즉, 알람을 발생시키지 않고, 처리를 정지하도록 해도 된다.

(5) 상술한 실시예에서는, 최대 가압 높이(H3)를 검출한 경우에는, 처리를 즉시 정지하고 있다. 그러나, 본 발명은, 즉시 정지를 필수로 하는 것은 아니다. 즉, 처리 중인 기판(W)에 대한 처리가 종료된 시점에서 처리를 정지(사이클 정지라고도 불린다)하도록 해도 된다.

(6) 상술한 실시예 및 변형예에서는, 세정 아암(45)이 시소 부재(87)나 브러시 이동 부재(177)를 구비하고, 역점부와 작용점부를 전후 방향(X)에서 이격한 구성을 채용하고 있다. 그러나, 본 발명은, 이러한 구성으로 한정되지 않는다. 즉, 역점부와 작용점부를 전후 방향(X)에서 거의 같은 위치에 구비하는 구성이어도 된다.

1: 기판 처리 장치 3: 반입출 블록
5: 인덱서 블록 7: 처리 블록
W: 기판 C: 캐리어
IR: 인덱서 로봇 15: 수도부
23: 제1 반전 유닛 25, 27: 패스부
29: 제2 반전 유닛 31: 처리 유닛
SSR: 이면 세정 유닛 CR: 센터 로봇
37: 회전 유지부 39: 가드
41: 제1 처리액 아암 42: 전동 모터
43: 제2 처리액 아암 45: 세정 아암
47: 대기 포트 53: 스핀 척
71: 회전 승강 기구 75: 하우징
77: 세정부 81: 압압 기구
83: 회전 기구 85: 지점 부재
87: 시소 부재 87c: 중앙부
87l: 한쪽 측 87r: 다른 쪽 측
89: 압압용 액추에이터 91: 지지 기구
93: 유지 부재 95: 탄성 가압부
97: 가이드부 99: 브러시
101: 브러시 홀더 103: 회전축
111: 코일 스프링 113: 리니어 가이드
DU: 검출부 DP: 작동편
124: 설치 부재 H1: 무하중 높이
H2: 작용 높이 H3: 최대 가압 높이
149: 에어 공급관 151: 에어 공급원
155: 일차 측 압력계 157: 전공 레귤레이터
159: 이차 측 압력계 161: 제어부
163: 지시부 165: 알림부

Claims (6)

1. 기판에 대해 브러시를 작용시켜 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 있어서,
   기판을 수평 자세로 유지함과 더불어, 기판을 회전시키는 회전 유지부와,
   상기 회전 유지부에 유지된 기판의 상면에 작용하는 브러시와,
   상기 브러시가 착탈이 자유롭게 장착되는 브러시 홀더와,
   상기 기판의 상면으로부터 가장 높고, 상기 브러시를 상기 기판에 대해 작용시키지 않는 무하중 높이와, 상기 무하중 높이보다 낮고, 상기 브러시를 소정의 하중으로 상기 기판에 작용시키는 작용 높이와, 상기 작용 높이보다 낮고, 상기 브러시를 가장 낮은 위치로 이동시키는 최대 가압 높이에 걸쳐 상기 브러시 홀더를 통해 상기 브러시를 이동시키는 압압(押壓) 기구와,
   상기 압압 기구의 동작에 의거하여, 상기 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출하는 검출부와,
   상기 회전 유지부에 기판이 재치(載置)된 상태에서, 상기 압압 기구를 조작하여 상기 작용 높이로 상기 브러시를 이동시켰을 때에, 상기 검출부가 상기 최대 가압 높이를 검출한 경우에는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단하는 제어부
   를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 압압 기구는,
   지점(支点) 부재를 지점으로 하여 요동 가능하게 구성되며, 상기 지점에 대해 한쪽 측에 역점부를 구비하고, 상기 지점에 대해 다른 쪽 측에 작용점부를 구비한 시소 부재와,
   에어에 의거한 구동력을 상기 역점부에 부여하여, 상기 지점을 중심으로 하여 상기 시소 부재를 요동시킴으로써, 상기 브러시를 기판의 상면에 누르기 위한 압압을 부여하는 압압용 액추에이터
   를 구비하고,
   상기 검출부는, 상기 시소 부재의 상기 역점부 측에 설치되며, 상기 최대 가압 높이에 대응하는 상기 역점부 측의 높이를 검출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
3. 청구항 1에 있어서,
   상기 압압 기구는,
   상기 브러시 홀더의 상부에 연결된 회전축과,
   상기 회전축을 기판의 상면을 향해 진퇴시켜, 상기 브러시를 기판의 상면에 압압하기 위한 압압을 부여하는 압압용 액추에이터
   를 구비하고,
   상기 검출부는, 상기 회전축의 높이를 검출할 수 있는 위치에 설치되며, 상기 최대 가압 높이에 대응하는 상기 회전축의 높이를 검출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제어부는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단한 경우에는, 상기 회전 유지부에서 유지되어 처리 중인 기판에 대한 처리를 즉시 정지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
5. 기판에 대해 브러시를 작용시켜 기판을 세정할 때에 상기 브러시의 유무를 검출하는 브러시의 탈락 검지 방법에 있어서,
   회전 유지부에 기판이 재치된 상태에서, 상기 기판의 상면으로부터 가장 높고, 상기 브러시를 상기 기판에 대해 작용시키지 않는 무하중 높이와, 상기 무하중 높이보다 낮고, 상기 브러시를 소정의 하중으로 상기 기판에 작용시키는 작용 높이와, 상기 작용 높이보다 낮고, 상기 브러시를 가장 낮은 위치로 이동시키는 최대 가압 높이에 걸쳐, 상기 브러시가 착탈이 자유롭게 장착되는 브러시 홀더를 이동시키는 압압 기구에 의해, 상기 브러시 홀더를 통해 상기 브러시를 상기 작용 높이로 이동시키는 이동 과정과,
   상기 작용 높이로 상기 브러시를 이동시켰을 때에, 상기 압압 기구의 동작에 의거하여, 상기 최대 가압 높이에 도달한 것을 검출부가 검출한 경우에는, 상기 브러시가 탈락되었다고 판단하는 판단 과정
   을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 브러시의 탈락 검지 방법.
6. 청구항 5에 있어서,
   상기 판단 과정에서 상기 브러시가 탈락되었다고 판단한 경우에는, 상기 회전 유지부에서 유지되어 처리 중인 기판에 대한 처리를 즉시 정지하는 처리 정지 과정을 실시하는 것을 특징으로 하는 브러시의 탈락 검지 방법.