KR20240030064A - 레이저 가공 스패터 고착 방지장치 - Google Patents

Abstract

본 발명에 의하면, 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되어 분진(C)의 집진을 유도하며 유체(F)의 공급과 배출을 위한 제1 홀더(20); 제1 홀더(20)의 내주연에 결합되며 제1 홀더(20)로부터 공급된 유체(F)에 대하여 복수개의 유로공(34)를 통하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동에너지를 제공하기 위한 제2 홀더(30); 및 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 제2 홀더(30)로부터 제공된 회전운동에너지에 의하여 제2 홀더(30)의 내주연에서 회전되어 레이저빔(B)에 의하여 발생된 분진(C)에 대하여 회오리(H)를 발생시키기 위한 회전 부재(40)를 포함하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치가 제공된다.

Description

레이저 가공 스패터 고착 방지장치{Device for preventing spatter stick generated by laser processing}

본 발명은 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이 소자나 이차전지용 필름 등의 가공을 위하여 레이저 조사시 발생되는 파편들이나 기화된 소재와 같은 분진들을 제거시 레이저 조사를 위한 렌즈에 대하여 분진들이 노즐과 렌즈에 고착되는 것을 방지하여 레이저 가공 작업의 효율성을 향상시킬 수 있는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 관한 것이다.

디스플레이 소자나 이차전지 소자에 있어서 정밀한 가공을 위하여 레이저에 의한 절단 공정이 이용되고 있다. 이러한 레이저에 의한 절단 가공 공정시 발생되는 파편입자들과 연기 등으로 이루어진 분진 등이 발생하게 된다.

발생된 분진 등은 레이저 조사를 위한 렌즈에 고착되어 레이저 가공 공정의 불량을 초래하거나 주기적인 클린닝 작업이 이루어져야 하기 때문에 생산성이 저하되는 문제점을 가지고 있다.

이러한 문제점을 해결하기 위하여, 특허 제10-2133966호는, 도 1에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 가공용 레이저 조사장치에 있어서, 디스플레이 패널을 가공하도록 레이저를 발생시키는 레이저 조사부의 외측을 감싸며 형성되는 제1 본체부, 상기 제1 본체부와 연결체를 통해 연결되며, 레이저 조사장치에서 조사되는 레이저를 반사시키는 다수의 미러를 각각 감싸도록 형성되는 제2 본체부, 상기 레이저 조사부에서 발생되는 가공용 레이저가 통과되도록 통 형상으로 형성되며, 제1 본체부와 제2 본체부 간, 제2 본체부와 다른 제2 본체부 간 및 제2 본체부와 몸체부 간을 연결하는 연결체 및 상기 제2 본체부와 연결체를 통해 연결되며, 미러를 통해 반사되는 레이저를 집중시켜 조사하는 집중부를 감싸며 형성되고, 레이저가 토출되는 하부가 투명하도록 형성되는 몸체부를 구비하는 기술을 개시하고 있다.

또한, 특허 제10-1650206호는, 도 2에 도시된 바와 같이, 분진 배출 수단은, 집광기의 하단부에 장착된 제1 커버 부재와, 상기 제1 커버 부재를 포위하여 설치된 제2 커버 부재를 포함하며, 집광기와 제1 커버 부재에 의해 형성되는 에어 도입실을 에어 공급 수단에 접속하고, 제1 커버 부재와 제2 커버 부재에 의해 형성되는 집진실을 배기 수단에 접속하여, 레이저 가공에 의해 생성되는 데브리 등의 분진을 집진실로부터 배기 수단으로 흡인하도록 구성되는 기술을 개시하고 있다.

그러나 이러한 기술들에 의할 경우 레이저 가공 분진 등을 흡입장치를 통하여 집진장치로 포집하는 구성으로 이루어져 있으나, 레이저 가공분진 등은 집속관을 통하여 일방향으로 향하여 흡입되도록 되어 있는 바, 흡입을 위한 노즐 중심은 진공 흡입력이 상대적으로 강하지만, 흡입을 위한 노즐 내측벽은 노즐의 중심으로부터 멀어질수록 흡입 압력이 약해지는 현상으로 인하여 노즐의 내측벽에 많은 분진, 퓸(fume) 또는 스패터(Spatter) 등이 고착되어 사용시간에 비례하여 흡입력이 저하되는 문제점이 있으며, 그에 따라 렌즈까지 분진 등이 고착되는 문제점이 있다.

따라서 이러한 문제점을 해결할 수 있는 기술의 개발이 요구되고 있다.

따라서 본 발명의 목적은 레이저 가공시 발생되는 분진 등이 흡입 노즐의 내측벽으로부터 고착되는 현상을 방지하여 레이저 가공의 생산성을 향상시킬 수 있는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치를 제공하는 것이다.

본 발명에 의하면, 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되어 분진(C)이나 스패터의 집진을 유도하며 유체(F)의 공급과 배출을 위한 제1 홀더(20); 제1 홀더(20)의 내주연에 결합되며 제1 홀더(20)로부터 공급된 유체(F)에 의하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동을 제공하기 위한 제2 홀더(30); 및 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 제2 홀더(30)로부터 제공된 회전운동에너지에 의하여 제2 홀더(30)의 내주연에서 회전되어 레이저빔(B)에 의하여 발생된 분진(C)이나 스패터에 대하여 회오리(H)를 발생시키기 위한 회전 부재(40)를 포함하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치가 제공된다.

제2 홀더(30)의 하부에 회전 부재(40)의 외주(48)에 대하여 공기 유로를 형성하기 위한 유로 공간(52)을 구비한 제3 홀더(50)를 더 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 제3 홀더(50)는 제2 홀더(30)로부터 노출된 회전 부재(40)의 외주연(48)과 사이에 일정 간격만큼 이격되는 내주연(52a)을 가지며, 내주연(52a)의 상부에는 공기가 공급되기 위한 공기주입포트(54)를 더 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 제3 홀더(50)의 내주연(52a)의 최하단부는 공기주입포트(54)에 의하여 공급된 공기가 유로 공간(52)으로부터 회전 부재(40)의 최하단부(48a)의 내측으로 유도되로도록 하기 위한 경사면(52b)을 더 구비하는 것이 바람직하다.

이 때 유도된 공기는 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)의 배기량의 양압을 맞추게 되어 스패터 및 분진 외 흡입에 의한 이차전지 극판의 달라붙음 현상을 방지하게 된다.

공기주입포트(54)와 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)는 상황에 따라 각각 급배기량을 제어할 수 있다.

또한, 제1 홀더(20)는 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되며 분진(C)이나 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)의 덕트에 결합되는 것이 바람직하다.

또한, 제1 홀더(20)는 실린더 형태를 가진 몸체(22)와, 유체(F)를 몸체(22)의 내주연으로 공급하기 위한 공급 포트(24)를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 제1 홀더(20)의 몸체(22)의 내주연은 제1 홀더(20)의 내주연이 당접되어 결합되기 위한 제1 내주연(22a)과 제1 내주연(22a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(22a)에 연접된 제2 내주연(22b)으로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)는 각각 몸체(22)의 제2 내주연(22b)에 연통되는 것이 바람직하다.

또한, 제2 홀더(30)는 실린더 형태를 가지며, 제1 홀더(20)의 제1 내주연(22a)에 결합되기 위한 몸체(32)와, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)로부터 공급된 유체(F)에 대하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동에너지를 제공하기 위한 복수개의 유로공(34)로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 제2 홀더(30)의 유로공(34)은 다공성의 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 제2 홀더(30)의 몸체(32)의 내주연은 회전 부재(40)의 외주연이 당접되어 자유회전 결합되기 위한 제1 내주연(32a)과 제1 내주연(32a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(32a)에 연접된 제2 내주연(32b)으로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 제2 홀더(30)의 유로공(34)은 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)과 연통되는 것이 바람직하다.

또한, 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 의하여 제2 홀더(30)와 회전 부재(40)의 외주연 사이에 형성되는 기밀 공간을 통하여 투입된 유체(F)는 회전 운동을 위한 초저마찰 상태를 유도하는 것이 바람직 하다.

또한, 회전 부재(40)는 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 분진(C)이나 스패터의 집진 유로를 형성하기 위한 흡입유로(42)와, 제2 홀더(30)의 내주연에 대하여 자유회전하기 위한 몸체(44)로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 회전 부재(40)는 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 대응하여 제2 홀더(30)의 유로공(34)을 통하여 제공되는 회전운동에너지에 의하여 회전되도록 하기 위한 회전날개(46)를 더 포함하는 것이 바람직하다.

즉, 회전 부재(40)의 외주연과 제2홀더(30)의 제2내주연(32b)에 형성된 기밀공간은 초저마찰 상태가 되어 회전력을 극대화 시킬 수 있는 상태가 되며, 회전날개(46)을 급기포트(24)에 공급된 유체의 힘으로 회전운동에너지를 발생시켜 회전 부재(40)을 회전 시킬 수 있다.

스패터(Spatter)와 분진 고착 방지를 위하여 회전부재(40)의 내측에 흑연 코팅이 이루어지는 것이 바람직하다.

따라서 본 발명에 의하면, 레이저 가공시 발생되는 스패터(Spatter)와 분진 등이 흡입 노즐의 내측벽으로부터 고착되는 현상 및 흡입 노즐의 진공압에 의한 이차전지 극판의 노즐 부착 현상을 방지하여 레이저 가공의 생산성을 향상시킬 수 있다.

도 1은 특허 제10-2133966호에 따른 이물질 부착 방지 기능 및 공간활용도 증가를 갖는 디스플레이 패널 가공용 레이저 조사장치의 개략도이다.
도 2는 특허 제10-1650206호에 따른 레이저 가공장치의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치의 개략적인 사시도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치의 개략적인 분해 사시도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 있어서 동작과정을 나타내기 위한 도 3의 AA선에 대한 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 있어서 동작과정을 나타내기 위한 개략적인 단면도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 대하여 상세히 설명하기로 한다.

도 3은 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치의 개략적인 사시도이며, 도 4는 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치의 개략적인 분해 사시도이며, 도 5는 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 있어서 동작과정을 나타내기 위한 도 3의 AA선에 대한 개략적인 단면도이다.

도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 의하면, 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되어 분진(C)이나 스패터의 집진을 유도하며 유체(F)의 공급과 배출을 위한 제1 홀더(20), 제1 홀더(20)의 내주연에 결합되며 제1 홀더(20)로부터 공급된 유체(F)에 의하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동을 제공하기 위한 제2 홀더(30), 및 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 제2 홀더(30)로부터 제공된 회전운동에너지에 의하여 제2 홀더(30)의 내주연에서 회전되어 레이저빔(B)에 의하여 발생된 분진(C)이나 스패터에 대하여 회오리(H)를 발생시키기 위한 회전 부재(40)를 포함한다.

제1 홀더(20)는 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되며 분진(C)이나 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)의 덕트에 결합된다.

한편, 제1 홀더(20)는 실린더 형태를 가진 몸체(22)와, 소정의 압력을 가진 유체(F)를 몸체(22)의 내주연으로 공급하기 위한 공급 포트(24)로 이루어진다.

제1 홀더(20)의 몸체(22)의 내주연은 제1 홀더(20)의 내주연이 당접되어 결합되기 위한 제1 내주연(22a)과 제1 내주연(22a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(22a)에 연접된 제2 내주연(22b)으로 이루어진다.

이 때, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)는 각각 몸체(22)의 제2 내주연(22b)에 연통된다.

제2 홀더(30)는 실린더 형태를 가지며, 제1 홀더(20)의 제1 내주연(22a)에 결합되기 위한 몸체(32)와, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)로부터 공급된 유체(F)에 대하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동에너지를 제공하기 위한 복수개의 유로공(34)로 이루어진다.

제2 홀더(30)의 유로공(34)은 다공성의 소재로 이루어질 수도 있다.

한편, 제2 홀더(30)의 몸체(32)의 내주연은 회전 부재(40)의 외주연이 당접되어 자유회전 결합되기 위한 제1 내주연(32a)과 제1 내주연(32a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(32a)에 연접된 제2 내주연(32b)으로 이루어진다.

제2 홀더(30)의 유로공(34)은 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)과 연통된다.

이와 같이 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 의하여 제2 홀더(30)와 회전 부재(40)의 외주연 사이에 형성되는 기밀 공간을 통하여 유체(F)는 초저마찰상태를 유도하며 회전력을 극대화 시킬 수 있는 상태를 제공하게 된다.

회전 부재(40)는 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 분진(C)이나 스패터의 집진 유로를 형성하기 위한 흡입유로(42)와, 제2 홀더(30)의 내주연에 대하여 자유회전하기 위한 몸체(44)로 이루어진다.

한편, 회전 부재(40)는 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 대응하여 제2 홀더(30)의 유로공(34)을 통하여 제공되는 회전운동에너지에 의하여 회전되도록 하기 위한 회전날개(46)를 더 포함하는 것이 바람직하다.

이 때, 회전 부재(40)의 내주연과 제2홀더(30)의 제2내주연(32b) 사이에 형성된 기밀공간은 초저마찰 상태가 되어 회전력을 극대화 시킬 수 있는 상태가 되며, 회전날개(46)는 급기포트(24)에 공급된 유체의 힘에 대하여 회전운동에너지로 전환시켜 회전 부재(40)을 회전 시킨다.

한편 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 의하면, 제2 홀더(30)의 유로공(34)과 회전 부재(40)의 회전날개(46) 대신에 회전 부재(40)에 대하여 회전력을 인가할 수 있도록 하기 위한 다른 구성으로 이루어질 수 있다.

한편, 유체(F)는 공기로 이루어지는 것이 바람직하지만, 다른 기체로 이루어질 수도 있다.

전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한제1 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 의하면, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)를 통하여 공급된 유체(F)는 제2 홀더(30)와 회전 부재(40)에 의하여 회전운동에너지를 회전 부재(40)에 인가하며, 그에 따라 집진장치에 의하여 형성되는 진공압으로 인하여 회전 부재(40)의 단부와 레이저빔(B)의 조사영역 사이의 공간을 통하여 공기가 흡입될 때, 회전 부재(40)의 내부에는 회오리(H)가 발생된다. 이와 같이 회전 부재(40)의 내부에서 발생된 회오리(H)에 의하여 분진(C)이나 스패터들은 회전 운동에너지를 가짐과 동시에 회전 부재(40)가 정지 상태에 있는 것이 아니라 회전을 유지하고 있기 때문에 스패터 등이 노즐 역할을 하는 회전 부재(40)의 특정 위치에 접할 수 있는 시간이 매우 적게 됨으로써 집진장치로 이동하는 과정에서 회전 부재(40)의 내벽에 고착되는 것을 방지할 수 있으며, 보다 효과적으로 분진(C)이나 스패터를 집진장치로 유도하게 할 수 있다.

한편, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 의하면, 제1 실시예에 있어서 제2 홀더(30)의 하부에 회전 부재(40)의 외주(48)에 대하여 공기 유로를 형성하기 위한 유로 공간(52)을 구비한 제3 홀더(50)를 더 포함한다.

제3 홀더(50)는 제2 홀더(30)로부터 노출된 회전 부재(40)의 외주연(48)과 사이에 일정 간격만큼 이격되는 내주연(52a)을 가지며, 내주연(52a)의 상부에는 공기가 공급되기 위한 공기주입포트(54)를 더 구비한다. 제3 홀더(50)의 내주연(52a)의 최하단부는 공기주입포트(54)에 의하여 공급된 공기가 유로 공간(52)으로부터 회전 부재(40)의 최하단부(48a)의 내측으로 유도되로도록 하기 위한 경사면(52b)을 더 구비한다.

전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 레이저 가공 스패터 고착 방지장치에 의하면, 회전 부재(40)의 내부에는 회오리(H)가 발생되는 과정에서 제3 홀더(50)와 회전 부재(40) 사이에 구비된 유로 공간(52)으로 공급되는 공기가 회전 부재(40)의 회전운동시 보다 효율적으로 회오리를 형성함과 동시에 분진이나 스패터 등이 회전 부재(40)의 외부로 이탈되는 것을 방지할 수 있으며 집진장치로 이동하는 과정에서 회전 부재(40)의 내벽에 고착되는 것을 방지할 수 있다.

이 때 유도된 공기는 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)의 배기량의 양압을 맞추게 되어 스패터 및 분진 외 흡입에 의한 이차전지 극판의 달라붙음 현상을 방지할 수 있다.

한편, 공기주입포트(54)와 스패터의 집진을 위한 집진장치(미도시)는 상황에 따라 각각 급배기량을 제어하는 것이 바람직하다.

10: 레이저 조사수단
20: 제1 홀더
22: 몸체
22a: 제1 내주연
22b: 제2 내주연
24: 공급 포트
30: 제2 홀더
32: 몸체
34: 유로공
40: 회전 부재
42: 흡입유로
44: 몸체
46: 회전날개
48: 외주연
50: 제3 홀더
52: 유로 공간

Claims (16)

1. 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되어 분진(C)의 집진을 유도하며 유체(F)의 공급과 배출을 위한 제1 홀더(20);
   제1 홀더(20)의 내주연에 결합되며 제1 홀더(20)로부터 공급된 유체(F)에 의하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동에너지를 제공하기 위한 제2 홀더(30); 및
   레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 제2 홀더(30)로부터 제공된 회전운동에너지에 의하여 제2 홀더(30)의 내주연에서 회전되어 레이저빔(B)에 의하여 발생된 분진(C)에 대하여 회오리(H)를 발생시키기 위한 회전 부재(40)를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
2. 제1 항에 있어서, 제2 홀더(30)의 하부에 회전 부재(40)의 외주(48)에 대하여 공기 유로를 형성하기 위한 유로 공간(52)을 구비한 제3 홀더(50)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
3. 제2항에 있어서, 제3 홀더(50)는 제2 홀더(30)로부터 노출된 회전 부재(40)의 외주연(48)과 사이에 일정 간격만큼 이격되는 내주연(52a)을 가지며, 내주연(52a)의 상부에는 공기가 공급되기 위한 공기주입포트(54)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
4. 제3항에 있어서, 제3 홀더(50)의 내주연(52a)의 최하단부는 공기주입포트(54)에 의하여 공급된 공기가 유로 공간(52)으로부터 회전 부재(40)의 최하단부(48a)의 내측으로 유도되로도록 하기 위한 경사면(52b)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 제1 홀더(20)는 레이저빔(B)을 조사하는 레이저 조사수단(10)의 단부에 결합되며 분진(C)의 집진을 위한 집진장치(미도시)의 덕트에 결합되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
6. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 제1 홀더(20)는 실린더 형태를 가진 몸체(22)와, 유체(F)를 몸체(22)의 내주연으로 공급하기 위한 공급 포트(24)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
7. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 제1 홀더(20)의 몸체(22)의 내주연은 제1 홀더(20)의 내주연이 당접되어 결합되기 위한 제1 내주연(22a)과 제1 내주연(22a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(22a)에 연접된 제2 내주연(22b)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
8. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 제2 홀더(30)는 실린더 형태를 가지며, 제1 홀더(20)의 제1 내주연(22a)에 결합되기 위한 몸체(32)와, 제1 홀더(20)의 공급 포트(24)로부터 공급된 유체(F)에 대하여 시계방향인 제1 방향 또는 그 반대 방향인 제2 방향으로 회전운동에너지를 제공하기 위한 복수개의 유로공(34)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
9. 제8항에 있어서, 제2 홀더(30)의 유로공(34)은 다공성의 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
10. 제7항에 있어서, 제2 홀더(30)의 몸체(32)의 내주연은 회전 부재(40)의 외주연이 당접되어 자유회전 결합되기 위한 제1 내주연(32a)과 제1 내주연(32a)보다 큰 직경을 가지고 제1 내주연(32a)에 연접된 제2 내주연(32b)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
11. 제10항에 있어서, 제2 홀더(30)의 유로공(34)은 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)과 연통되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
12. 제10항에 있어서, 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 의하여 제2 홀더(30)와 회전 부재(40) 사이에 형성되는 기밀 공간을 통하여 회전운동을 용이하게 하기 위한 초저마찰상태를 유지하면서 유체(F)는 회전운동에너지를 제공하게 되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
13. 제5항에 있어서, 회전 부재(40)는 레이저 조사수단(10)에 의하여 조사된 레이저빔(B)이 관통되며 분진(C)의 집진 유로를 형성하기 위한 흡입유로(42)와, 제2 홀더(30)의 내주연에 대하여 자유회전하기 위한 몸체(44)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
14. 제13항에 있어서, 회전 부재(40)는 제2 홀더(30)의 제2 내주연(32b)에 대응하여 제2 홀더(30)의 유로공(34)을 통하여 제공되는 회전운동에너지에 의하여 회전되도록 하기 위한 회전날개(46)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
15. 제5항에 있어서, 유체(F)는 공기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.
16. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 회전부재(40)의 내측에 흑연 코팅이 적용되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공 스패터 고착 방지장치.