KR20240029520A - 소수성 심공정 용매의 재생 방법, 및 니켈 침출 방법 - Google Patents
소수성 심공정 용매의 재생 방법, 및 니켈 침출 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240029520A KR20240029520A KR1020230110409A KR20230110409A KR20240029520A KR 20240029520 A KR20240029520 A KR 20240029520A KR 1020230110409 A KR1020230110409 A KR 1020230110409A KR 20230110409 A KR20230110409 A KR 20230110409A KR 20240029520 A KR20240029520 A KR 20240029520A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- process solvent
- hydrophobic
- deep process
- nickel
- leaching
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 215
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 158
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 132
- 238000002386 leaching Methods 0.000 title claims abstract description 69
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 175
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 82
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 title description 6
- 238000004064 recycling Methods 0.000 title 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 49
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 150000003841 chloride salts Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical group [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 11
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 6
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 6
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000005313 fatty acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 28
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 24
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 21
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 14
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 5
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- -1 etc.) Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGSWKAQJJWESNS-UHFFFAOYSA-N 4-coumaric acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=C(O)C=C1 NGSWKAQJJWESNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical group ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWBDWHCCBGMXKG-UHFFFAOYSA-N ethanamine;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCN XWBDWHCCBGMXKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N hexacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N trans-caffeic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N tricarballylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(O)=O KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N (E)-3,4,5-trihydroxycinnamic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBQUKJMNGUJRFI-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethanol;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CCO DBQUKJMNGUJRFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001763 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium Substances 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical group O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-M 4-Hydroxycinnamate Natural products OC1=CC=C(\C=C\C([O-])=O)C=C1 NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-M 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFYRUELUNQRZTB-UHFFFAOYSA-N Acetovanillone Natural products COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1O DFYRUELUNQRZTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 235000019743 Choline chloride Nutrition 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUGOREOARAHOCO-UHFFFAOYSA-M acetylcholine chloride Chemical compound [Cl-].CC(=O)OCC[N+](C)(C)C JUGOREOARAHOCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960004266 acetylcholine chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 235000004883 caffeic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940074360 caffeic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M chlormequat chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCCl UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SGMZJAMFUVOLNK-UHFFFAOYSA-M choline chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCO SGMZJAMFUVOLNK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960003178 choline chloride Drugs 0.000 description 1
- QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N cis-caffeic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- KFEVDPWXEVUUMW-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 KFEVDPWXEVUUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- QJEHIIJVWXGJAB-UHFFFAOYSA-M fluoromethyl-(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].FC[N+](C)(C)CCO QJEHIIJVWXGJAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N iron(2+);1,10-phenanthroline;dicyanide Chemical compound [Fe+2].N#[C-].N#[C-].C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1.C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000448 lactic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000622 liquid--liquid extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- QRPRIOOKPZSVFN-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 QRPRIOOKPZSVFN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N methylamine hydrochloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]C NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- QZZGJDVWLFXDLK-UHFFFAOYSA-N tetracosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QZZGJDVWLFXDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SNNIPOQLGBPXPS-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC SNNIPOQLGBPXPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-N trans-cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/06—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
- C22B3/065—Nitric acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
- C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
- C22B23/0407—Leaching processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G53/00—Compounds of nickel
- C01G53/10—Sulfates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
- C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
- C22B23/0407—Leaching processes
- C22B23/0415—Leaching processes with acids or salt solutions except ammonium salts solutions
- C22B23/0423—Halogenated acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
- C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
- C22B23/0407—Leaching processes
- C22B23/0446—Leaching processes with an ammoniacal liquor or with a hydroxide of an alkali or alkaline-earth metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
- C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
- C22B23/0453—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B23/0461—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B26/00—Obtaining alkali, alkaline earth metals or magnesium
- C22B26/10—Obtaining alkali metals
- C22B26/12—Obtaining lithium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/06—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
- C22B3/10—Hydrochloric acid, other halogenated acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/12—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic alkaline solutions
- C22B3/14—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic alkaline solutions containing ammonia or ammonium salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/16—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in organic solutions
- C22B3/1608—Leaching with acyclic or carbocyclic agents
- C22B3/1616—Leaching with acyclic or carbocyclic agents of a single type
- C22B3/165—Leaching with acyclic or carbocyclic agents of a single type with organic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/16—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in organic solutions
- C22B3/1608—Leaching with acyclic or carbocyclic agents
- C22B3/1658—Leaching with acyclic or carbocyclic agents of different types in admixture, e.g. with organic acids added to oximes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
- C22B3/32—Carboxylic acids
- C22B3/322—Oxalic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
- C22B3/40—Mixtures
- C22B3/402—Mixtures of acyclic or carbocyclic compounds of different types
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복 가능한 방법이 제공된다. 여기에 개시되는 소수성 심공정 용매의 재생 방법은, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매를 준비하는 공정, 및 상기 소수성 심공정 용매와, 염산을 접촉시키는 공정을 포함한다. 상기 소수성 심공정 용매의 수소 결합 도너는 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터는 클로라이드 염이다. 상기 염산의 사용량은, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양이다.
Description
본 발명은 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 당해 방법을 이용한 니켈 침출 방법에 관한 것이다.
근년, 다양한 금속에 대한 수요가 높아지고 있다. 예를 들어, 리튬 이온 이차 전지의 정극 활물질에는, Ni, Co, Mn 등의 전이 금속을 포함하는 리튬 복합 산화물이 사용되고 있고, 리튬 이온 이차 전지의 보급에 수반하여, 전이 금속 원소의 수요가 높아지고 있다. 그 때문에, 전이 금속 원소를 포함한 다양한 금속 원소원을 얻기 위한 방법의 개발이 행해지고 있다.
그 방법의 하나로서, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터, 심공정 용매를 사용하여 금속 원소를 침출하는 방법이 알려져 있다(예를 들어, 비특허문헌 1 참조).
Gawen R. T. Jenkin et al., "The application of deep eutectic solvent ionic liquids for environmentally-friendly dissolution and recovery of precious metals", Minerals Engineering, Volume 87, 1 March 2016, Pages 18-24
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 수소 결합 도너가 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터가 클로라이드 염인 심공정 용매를 사용하여 광석으로부터의 금속 원소의 침출을 행했을 때, 회수한 사용 완료된 심공정 용매의 금속 원소 침출능이 대폭으로 저하되어 있다는 것을 알아냈다. 여기서, 금속 원소 침출능이 대폭으로 저하된 심공정 용매는, 재이용할 수 없어, 폐기물이 된다는 문제가 있다.
한편, 전이 금속 원소 중에서도 니켈은, 리튬 이온 이차 전지의 정극 활물질 이외에도, 스테인리스강, 특수강 등에 사용되고 있고, 이들의 수요도 증가하고 있다. 그 때문에, 니켈의 수요가 급증하고 있고, 니켈원을 얻기 위한 방법의 중요성이 높아지고 있다.
그래서 본 발명은 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복 가능한 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 신규한 니켈 침출 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
여기에 개시되는 소수성 심공정 용매의 재생 방법은, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매를 준비하는 공정, 및 상기 소수성 심공정 용매와, 염산을 접촉시키는 공정을 포함한다. 상기 소수성 심공정 용매의 수소 결합 도너는 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터는 클로라이드 염이다. 상기 염산의 사용량은, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양이다.
이러한 구성에 의하면, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복할 수 있다.
여기에 개시되는 니켈 침출 방법은, 여기에 개시되는 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의해, 재생된 소수성 심공정 용매를 얻는 공정과, 상기 재생된 소수성 심공정 용매와, 니켈 광석을 접촉시키는 공정을 포함한다.
이러한 구성에 의하면, 신규한 니켈 침출 방법이 제공된다.
도 1은 본 발명에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법의 각 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 본 발명에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법을 이용한 니켈 침출 방법과 황산니켈의 제조 방법의 각 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 본 발명에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법을 이용한 니켈 침출 방법과 황산니켈의 제조 방법의 각 공정을 나타내는 흐름도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명에 관한 실시 형태를 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서 언급하고 있지 않은 사항이며 본 발명의 실시에 필요한 사항은, 당해 분야에 있어서의 종래 기술에 기초한 당업자의 설계 사항으로서 파악될 수 있다. 본 발명은 본 명세서에 개시되어 있는 내용과 당해 분야에 있어서의 기술 상식에 기초하여 실시할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 「A 내지 B」로서 표현되는 수치 범위에는, A 및 B가 포함된다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법은, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매를 준비하는 공정 S101(이하, 「사용 완료된 심공정 용매 준비 공정」이라고도 함), 및 당해 소수성 심공정 용매와, 염산을 접촉시키는 공정 S102(이하, 「염산 접촉 공정」이라고도 함)을 포함한다. 당해 소수성 심공정 용매의 수소 결합 도너는 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터는 클로라이드 염이다. 당해 염산의 사용량은, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양이다.
먼저, 사용 완료된 심공정 용매 준비 공정 S101에 대하여 설명한다. 당해 공정 S101은, 자신이 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출을 행하여, 소수성 심공정 용매를 준비해도 되고, 다른 사람이 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출을 행한 소수성 심공정 용매를 입수해도 된다.
광석에 함유되는 금속 원소는, 소수성 심공정 용매에 의해 침출 가능한 금속 원소인 한 특별히 한정은 없다. 그 예로서는, 알칼리 금속(예, Li, Na, K 등), 알칼리 토류 금속(예, Mg, Ca, Sr, Ba 등), 전이 금속(예, 제1 전이 원소, 제2 전이 원소, 제3 전이 원소 등) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 리튬 이온 이차 전지의 정극 활물질에 사용 가능하다는 관점에서는, 금속 원소로서는, Li, Ni, Co 또는 Mn이 바람직하고, Ni가 보다 바람직하다. 자동차의 배기 가스 정화 촉매 등의 다양한 촉매에 사용 가능하다는 관점에서는, 금속 원소로서는, 귀금속 원소(특히, Pt, Pd 또는 Rh)가 바람직하다.
금속 원소를 함유하는 광석은, 특별히 한정되지 않고, 예로서는, 금광석, 은광석, 동광석, 연광석, 주석 광석, 안티몬 광석, 아연 광석, 철광석, 황화철광석, 크롬철광석, 망간 광석, 텅스텐 광석, 몰리브덴 광석, 니켈 광석, 코발트 광석 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 니켈 광석, 코발트 광석 또는 망간 광석이 바람직하고, 니켈 광석이 보다 바람직하다. 니켈 광석으로서는, 니켈 산화광(예, 리모나이트 광, 사프로라이트 광 등)이 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서는, 소수성 심공정 용매로서, 수소 결합 도너가 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터가 클로라이드 염인 것이 사용된다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「심공정 용매」란, 적어도 한쪽이 25℃에서 고체인, 수소 결합 도너 및 수소 결합 억셉터를 포함하는 혼합물이며, 25℃에서 액체를 나타내는 용매를 가리킨다. 구체적으로는, 심공정 용매는, 25℃에서 고체인 물질을 포함하고 있음에도 불구하고, 수소 결합 도너 및 수소 결합 억셉터를 소정의 혼합비로 혼합함으로써 공정 융점 강하가 일어나, 25℃에서 액체를 나타낸다. 심공정 용매는, 수소 결합 도너를 포함하는 점에 있어서 이온만으로 이루어지는 것이 아니기 때문에, 엄밀하게는 이온 액체와는 다르다. 심공정 용매는, 이온 액체에 비하여 저환경 부하의 물질에 의해 구성하기 쉬운 점에서 유리하다.
본 명세서에 있어서, 「소수성 심공정 용매」란, 25℃에서 물과 접촉시킨 경우에, 수상과 소수성 심공정 용매상으로 상분리를 일으키는 심공정 용매를 가리킨다. 소수성 심공정 용매는, 25℃에서의 물에 대한 그 용해도가, 바람직하게는 1g/100mL 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1g/100mL 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.01g/100mL 이하이다.
수소 결합 도너인 카르복시기 함유 화합물의 예로서는, 포름산, 아세트산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 도데칸산, 테트라데칸산, 펜타데칸산, 헥사데칸산, 헵타데칸산, 옥타데칸산, 에이코산산, 도코산산, 테트라코산산, 헥사코산산, 옥타코산산, 트리아콘탄산 등의 지방산; 옥살산, 말론산, 숙신산, 아디프산, 이타콘산, 수베르산, 1,2,3-프로판트리카르복실산 등의 다가 카르복실산 화합물; 벤조산 등의 방향족 카르복실산 화합물; 페닐아세트산, 3-페닐프로피온산, trans-신남산 등의 카르복시기 함유 치환기를 갖는 방향족 화합물; 레불린산; 락트산, 타르타르산, 아스코르브산, 시트르산, 4-히드록시벤조산, p-쿠마르산, 커피산, 갈산 등의 수산기를 갖는 카르복시기 함유 화합물 등을 들 수 있다.
수소 결합 도너로서, 이들을 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
수소 결합 도너로서는, 지방산이 바람직하고, 탄소수 8 내지 12의 지방산이 보다 바람직하고, 데칸산이 더욱 바람직하다.
수소 결합 억셉터인 클로라이드 염의 예로서는, 제4급 암모늄클로라이드, 제4급 포스포늄클로라이드, 제3급 암모늄클로라이드, 제1급 암모늄클로라이드를 들 수 있다.
제4급 암모늄클로라이드의 예로서는, 콜린클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 메틸트리옥틸암모늄클로라이드, 테트라옥틸암모늄클로라이드, 아세틸콜린클로라이드, 클로로콜린클로라이드, 플로오로콜린클로라이드, N-(2-히드록시에틸)-N,N-디메틸벤젠메탄아미늄클로라이드 등을 들 수 있다.
제4급 포스포늄클로라이드의 예로서는, 메틸트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드 등을 들 수 있다.
제3급 암모늄클로라이드의 예로서는, 2-(디에틸아미노)에탄올염산염을 들 수 있다.
제1급 암모늄클로라이드의 예로서는, 에틸아민염산염(에틸암모늄클로라이드)을 들 수 있다.
수소 결합 억셉터로서, 이들을 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
수소 결합 억셉터로서는, 제4급 암모늄클로라이드가 바람직하고, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 4개 갖는 암모늄클로라이드가 보다 바람직하다.
소수성 심공정 용매에 있어서, 수소 결합 도너가 지방산이며, 또한 수소 결합 억셉터가 제4급 암모늄클로라이드인 것이 특히 바람직하다.
소수성 심공정 용매는, 공지 방법에 따라 조제할 수 있다. 예를 들어, 수소 결합 도너 및 수소 결합 억셉터를 드라이 블렌드하고, 소수성 심공정 용매의 공정점 이상에서 교반 또는 혼련함으로써 소수성 심공정 용매를 조제할 수 있다. 혹은, 수소 결합 도너 및 수소 결합 억셉터를 용매에 용해시킨 후에, 용매를 제거함으로써 소수성 심공정 용매를 조제할 수 있다.
당해 공정 S101에서 준비되는 것은 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매(이하, 「사용 완료된 소수성 심공정 용매」이라고도 함)이다. 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출은, 당해 광석을 소수성 심공정 용매에 접촉시키는 것을 행할 수 있다. 따라서, 사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 당해 광석과의 접촉이 이루어진 것이다. 당해 광석과 소수성 심공정 용매의 접촉은, 전형적으로는, 당해 광석을 소수성 심공정 용매에 침지함으로써 행할 수 있다. 접촉 시, 침출 효율을 높이기 위해, 교반, 가열, 초음파 조사 등을 행해도 된다.
당해 광석으로부터의 금속 원소의 침출에는, 소수성 심공정 용매 이외의 성분(예를 들어, 산, 산화제 등)이 사용되고 있어도 된다.
사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 금속 원소를 함유하는 광석을 포함하고 있어도 되지만, 바람직하게는 금속 원소를 함유하는 광석을 포함하지 않는다. 따라서, 사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 바람직하게는 여과 등의 고액 분리 처리에 의해, 금속 원소를 함유하는 광석이 제거된 것이다.
사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 침출된 금속 원소를 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다. 따라서, 사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 침출된 금속 원소가 회수된 것이어도 된다. 따라서, 사용 완료된 소수성 심공정 용매는, 상술한 금속 원소의 침출 처리에 더하여, 특정 금속 원소를 분리하는 처리(예, 산 수용액에 의한 추출 처리 등)가 더 실시된 것이어도 된다.
다음으로, 염산 접촉 공정 S102에 대하여 설명한다. 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 사용 완료된 소수성 심공정 용매의 금속 원소 침출능의 저하의 원인이, 광석으로부터의 금속 원소의 침출 시에, 염화수소(HCl)가 소비되는 것에 있다는 것에 상도하였다. 그래서, 당해 공정 S102를 행함으로써, 사용 완료된 심공정 용매와, 염산을 접촉시킴으로써, 사용 완료된 심공정 용매에 염화수소(HCl)를 보충한다. 이에 의해, 사용 완료된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복시킬 수 있다.
염산은, 염화수소의 수용액이다. 염산의 사용량은, 소수성 심공정 용매의 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양이다. 이러한 양인 경우에, 사용 완료된 소수성 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 대폭으로 회복할 수 있다. 사용 완료된 소수성 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 보다 회복시키는 관점에서, 염산의 사용량은, 소수성 심공정 용매의 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 바람직하게는 1.5몰 이상, 보다 바람직하게는 1.8몰 이상, 더욱 바람직하게는 2몰 이상이 되는 양이다. 염산의 사용량의 상한은, 특별히 한정되지 않는다. 염산의 대과잉의 사용을 피하는 관점에서, 염산의 사용량은, 소수성 심공정 용매의 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 바람직하게는 50몰 이하, 보다 바람직하게는 30몰 이하, 더욱 바람직하게는 10몰 이하가 되는 양이다.
당해 공정 S102에 있어서, 소수성 심공정 용매와, 염산의 접촉 방법은 특별히 한정되지 않는다. 접촉 방법으로서 예를 들어, 소수성 심공정 용매와, 염산을 혼합한다. 이때, 소수성 심공정 용매와 염산은, 통상 혼합되지 않기 때문에, 상분리를 야기한다. 염산에 포함되는 염화수소가, 소수성 심공정 용매상으로 이동하고, 염화수소가 소수성 심공정 용매에 보충된다.
염화수소의 이동 효율을 향상시키기 위해, 액-액 추출을 행할 때 사용되는 공지된 진탕 장치, 교반 장치 등을 사용하여, 소수성 심공정 용매 및 염산의 혼합물을, 진탕, 교반해도 된다. 혹은, 소수성 심공정 용매와, 염산의 접촉에, 공지된 에멀션 플로 장치를 사용해도 된다.
접촉 온도 및 접촉 시간은, 접촉 방법에 따라 적절히 결정하면 된다. 접촉 온도는, 실온(예, 25℃±10℃)이어도 되고, 35℃ 초과 염산의 비점 미만의 온도에서 이들을 접촉시켜도 된다. 접촉 시간은, 예를 들어 1분간 내지 120시간이고, 바람직하게는 30분간 내지 24시간이다.
접촉 후, 소수성 심공정 용매상을 회수함으로써, 재생된(즉, 금속 원소 침출능이 회복된) 소수성 심공정 용매를 얻을 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의하면, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복할 수 있다.
재생된 소수성 심공정 용매는, 다시, 금속 원소의 침출에 사용할 수 있다. 다시 금속 원소의 침출에 재이용된 소수성 심공정 용매는, 당해 공정 S102의 실시에 의해, 다시 재생할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 관한 소수성 심공정 용매의 재생 방법을 이용함으로써, 소수성 심공정 용매를, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 반복하여 사용할 수 있다. 따라서, 소수성 심공정 용매가 폐기물이 되는 것을 회피할 수 있어, 환경면, 비용면 등에 있어서 유리하다.
상술한 바와 같이 니켈의 수요가 급증하고 있고, 니켈원을 얻기 위한 방법의 중요성이 높아지고 있다. 그래서, 다른 측면에서, 본 실시 형태에 관한 니켈 침출 방법은, 상술한 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의해, 재생된 소수성 심공정 용매를 얻는 공정 S201(이하, 「심공정 용매 재생 공정」이라고도 함)과, 당해 재생된 소수성 심공정 용매와, 니켈 광석을 접촉시키는 공정 S202(이하, 「니켈 침출 공정」이라고도 함)을 포함한다. 도 2에 있어서의 공정 S201 및 공정 202가, 본 실시 형태에 관한 니켈 침출 방법에 포함되는 공정이다.
심공정 용매 재생 공정 S201은, 상기의 사용 완료된 심공정 용매 준비 공정 S101과, 염산 접촉 공정 S102를 실시함으로써, 행할 수 있다.
니켈 침출 공정 S202에 사용되는 니켈 광석으로서는, 니켈 산화광이 적합하지만, 이에 한정되지 않는다. 니켈 산화광은, 니켈을 함유하는 산화광인 한, 특별히 한정되지 않는다. 니켈 산화광의 예로서는, 리모나이트 광, 사프로라이트 광 등을 들 수 있다. 니켈 산화광은, 전형적으로는, 구성 성분으로서, 산화니켈(NiO)과, 산화철(Fe2O3)을 함유한다.
니켈 광석은, 분쇄 처리, 분급 처리 등이 실시된 것이어도 된다. 니켈 광석에 대하여, 분쇄 처리, 분급 처리 등을 행함으로써, 니켈 광석의 입자경을 소정의 범위(예를 들어, 레이저 회절 산란법에 의해 구해지는 메디안 직경 D50이, 0.01 내지 1000㎛, 바람직하게는 1 내지 100㎛)로 조정할 수 있고, 이에 의해, 침출 효율을 향상시킬 수 있다. 분쇄 처리, 분급 처리 등은, 공지 방법에 따라 실시할 수 있다.
니켈 광석에 대한 소수성 심공정 용매의 사용량은, 특별히 한정되지 않는다. 니켈 광석 100질량부에 대하여, 소수성 심공정 용매의 사용량은, 예를 들어 10 내지 100000질량부이고, 바람직하게는 100 내지 10000질량부이다.
니켈 광석과 소수성 심공정 용매의 접촉은, 공지 방법에 따라 행할 수 있다. 예를 들어, 용기에 니켈 광석 및 소수성 심공정 용매를 투입하여, 니켈 광석을 소수성 심공정 용매에 침지시킴으로써, 행할 수 있다.
니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시킬 때, 니켈 광석 및 소수성 심공정 용매의 혼합물을 교반해도 된다. 교반은, 공지 방법(예를 들어, 교반자, 교반 블레이드 등을 구비하는 교반 장치를 사용하는 방법 등)에 의해, 행할 수 있다. 니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시킬 때, 초음파를 조사해도 된다.
니켈 광석과 소수성 심공정 용매의 접촉은 상온(구체적으로는, 25℃)에서 행할 수 있다. 침출 속도를 높이는 관점에서, 니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시킬 때, 가열을 행해도 된다. 가열은, 용기에 대하여, 공지된 수단, 예를 들어 오일 배스, 맨틀 히터, 띠상 히터(리본 히터 등), 면상 히터(예, 필름 히터, 실리콘 러버 히터 등) 등을 사용하여 행할 수 있다. 가열 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 40℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 50℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 60℃ 이상이다. 한편, 에너지 효율의 관점에서, 가열 온도는, 바람직하게는 100℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 80℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 70℃ 이하이다.
니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시킬 때, 가압을 행해도 된다. 가압은, 공지 방법에 따라 행할 수 있다.
니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시키는 시간은, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 소수성 심공정 용매의 종류와 양, 니켈 광석의 입자경, 온도 등에 따라 적절히 결정할 수 있다. 니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시키는 시간은, 예를 들어 1분간 내지 100시간이고, 바람직하게는 1시간 내지 50시간이다.
니켈의 침출 속도를 향상시키기 위해, 유기산의 존재 하에서 니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시켜도 된다. 유기산은, 소수성 심공정 용매와 혼합되면 단일상(유기상)을 형성할 수 있다.
유기산으로서는, 강산인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 「강산」이란, pKa가 0 미만인 산을 가리킨다. 강산의 유기산의 적합한 예로서는, 메탄술폰산(pKa=-1.9), 벤젠술폰산(pKa=-2.8), p-톨루엔술폰산(pKa=-2.8) 등의 유기 술폰산 화합물을 들 수 있다.
심공정 용매에 대한 유기산의 비율은 특별히 한정되지 않는다. 소수성 심공정 용매에 대한 유기산의 질량 비율은, 예를 들어 6질량% 이상이고, 바람직하게는 7질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 8질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 9질량% 이상이고, 가장 바람직하게는 10질량% 이상이다. 한편, 소수성 심공정 용매에 대한 유기산의 질량 비율은, 예를 들어 30질량% 이하이고, 바람직하게는 25질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
본 발명의효과를 현저하게 손상시키지 않는 범위 내(예를 들어, 소수성 심공정 용매에 대하여 10질량% 미만, 5질량% 미만 또는 1질량% 미만의 범위)에서, 니켈 광석과 소수성 심공정 용매를 접촉시킬 때, 기타의 성분(예, 물, 환원제, 산화제, 유기산 이외의 유기 용매, 각종 첨가제)을 사용해도 된다.
접촉 후, 공지된 고액 분리법(예, 여과 등)에 의해, 침출된 니켈을 포함하는 소수성 심공정 용매(즉, 니켈 침출액)를 회수할 수 있다. 회수한 니켈 침출액으로부터, 공지 방법에 따라, 니켈을 추출할 수 있다. 니켈을 추출한 후의 소수성 심공정 용매는, 다시 본 실시 형태에 관한 니켈 침출 방법에 사용하는 것이 가능하다.
본 실시 형태에 관한 니켈 침출 방법은 신규이며, 본 실시 형태에 관한 니켈 침출 방법에 의하면, 니켈 침출액으로부터 니켈을 추출하고, 소수성 심공정 용매를 회수하는 공정을 행함으로써, 반복하여 실시하는 것이 가능하다. 따라서, 소수성 심공정 용매가 폐기물이 되는 것을 회피할 수 있어, 환경면, 비용면 등에 있어서 유리하다.
회수한 니켈 침출액으로부터의 니켈 추출에 대하여, 얻어진 니켈 침출액에 대하여, 황산을 사용하여 역추출을 행하여, 황산니켈을 함유하는 수상을 얻는 공정 S203(이하, 「역추출 공정」이라고도 함)을 행함으로써, 니켈을 황산니켈로서 얻을 수 있다.
따라서, 심공정 용매 재생 공정 S201, 니켈 침출 공정 S202, 및 역추출 공정 S203을 포함하는 방법은, 도 2에 나타내는 바와 같이 황산니켈의 제조 방법이 된다. 여기서, 리튬 이온 이차 전지의 정극 활물질의 니켈원으로서는, 황산니켈이 주로 사용된다. 그 때문에, 당해 황산니켈의 제조 방법은, 리튬 이온 이차 전지의 정극 활물질의 니켈원의 황산니켈을 확보하기 위한 새로운 방법으로서, 공업적 가치가 높다.
그래서 이하, 역추출 공정 S203에 대하여 설명한다. 역추출 공정 S203에 있어서는, 추출 용매(즉, 수상)로서 황산을 사용하여 역추출을 행한다. 즉, 니켈 광석으로부터 소수성 심공정 용매상으로 이동한 니켈을, 수상으로 이동시킨다. 황산은, 황산니켈의 음이온(SO4 2-)원이기도 하다.
황산의 농도는, 수상으로 니켈이 이동 가능한 한 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 1mol/L (1M)이상이다. 여기서, 니켈광은, 산화철(Fe2O3)을 포함할 수 있다. 특히, 니켈 산화광은, 전형적으로는, 산화철을 포함한다. 역추출 공정 S203에 있어서, 고농도의 황산을 사용함으로써, Fe의 수상으로의 이동을 억제할 수 있다. 즉, 철 성분의 혼입이 적은 황산니켈을 얻을 수 있다. 이 관점에서, 황산의 농도는, 바람직하게는 1.5mol/L 이상이고, 보다 바람직하게는 2mol/L 이상이고, 더욱 바람직하게는 2.5mol/L 이상이고, 가장 바람직하게는 3mol/L 이상이다. 황산의 농도의 상한은, 특별히 한정되지 않고, 기술적 한계에 의해 정해진다. 황산의 농도는, 15mol/L 이하, 10mol/L 이하, 7.5mol/L 이하 또는 5mol/L 이하여도 된다.
여기서, 니켈 침출액을 소수성 유기 용매로 희석하고 나서, 황산에 의한 역추출을 행해도 된다. 니켈 침출액을 유기 용매로 희석함으로써, Fe의 수상으로의 이동을 억제할 수 있고, 철 성분의 혼입이 적은 황산니켈을 얻을 수 있다. 또한, 당해 희석에 의해, 니켈 침출액의 점도를 조정할 수 있기 때문에, 역추출의 실시를 보다 용이한 것으로 하고, 생산성을 향상시킬 수도 있다. 특히, 니켈 침출액(또는 소수성 심공정 용매)의 점도가 높은 경우(예, 수소 결합 억셉터가 테트라부틸암모늄클로라이드인 경우)에는, 생산성 향상 효과가 보다 커진다.
소수성 유기 용매로서는, 탄화수소류가 적합하며, 그 예로서는, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 지방족 탄화수소류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류를 들 수 있다. 이들 중, 방향족 탄화수소류가 바람직하고, 톨루엔이 보다 바람직하다.
소수성 유기 용매의 사용량은, 특별히 한정되지 않고, 침출액의 점도에 따라 적절히 결정할 수 있다. 소수성 유기 용매의 사용량은, 침출액에 대하여, 예를 들어 1 내지 100 체적%이고, 바람직하게는 5 내지 50 체적%이다.
추출 용매(즉, 수상)는 본 발명의효과를 현저하게 저해하지 않는 범위 내(예를 들어, 10질량% 미만, 5질량% 미만 또는 1질량% 미만)에서, 황산 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다.
니켈 침출액에 대한 황산의 사용량은, 특별히 한정되지 않는다. 침출액:황산(체적비)으로, 예를 들어 1:0.05 내지 20이고, 바람직하게는 1:0.2 내지 5이다.
역추출은, 공지 방법에 따라 행할 수 있다. 역추출을 행한 후, 수상을 회수함으로써, 황산니켈을 함유하는 용액을 얻을 수 있다. 황산니켈을 함유하는 용액으로부터, 공지 방법에 따라, 황산니켈을 정석시켜, 회수함으로써 황산니켈을 얻을 수 있다.
황산니켈의 용도에 따라서는, 황산니켈을 함유하는 용액으로부터 황산니켈을 석출시키지 않고, 수용액의 상태로 황산니켈을 회수해도 된다. 이때, 황산니켈을 함유하는 용액은, 원하는 용도로, 그대로 사용해도 되고, 중화 등의 처리를 행하고 나서 사용해도 된다.
이상의 황산니켈의 제조 방법에 의하면, 간편하게 황산니켈을 얻을 수 있다. 게다가, 소수성 심공정 용매는 재이용할 수 있기 때문에, 폐기물의 생성량을 적게 할 수 있다.
[실시예]
이하, 본 발명에 관한 실시예를 설명하지만, 본 발명을 이러한 실시예에 나타내는 것으로 한정하는 것을 의도한 것은 아니다.
〔실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5〕
<사용 완료된 소수성 심공정 용매의 준비>
수소 결합 도너로서 데칸산과, 수소 결합 억셉터로서 트리옥틸메틸암모늄클로라이드를 2:1의 체적비로 혼합한 액을, 교반 블레이드를 구비하는 용기에 넣었다. 이 용기에, 니켈 산화광을 10g/L의 양으로 투입하여, 60℃에서 400rpm의 회전 속도로 24시간 교반하여, 니켈을 소수성 심공정 용매에 침출시켰다. 니켈 산화광을 여과에 의해 회수한 후, 여액(소수성 심공정 용매)에 대하여, 5M(mol/L) 농도의 황산을 1:1의 체적비로 첨가하였다. 이에 대하여 1시간 진탕을 행하여, 침출된 니켈을 수상으로 이동시켰다. 그 후, 소수성 심공정 용매상을 추출함으로써, 소수성 심공정 용매를 회수하였다. 한편, 회수한 니켈 산화광과 침출액에 대하여 ICP 분석을 행하여, Ni 침출량을 구하였다.
<사용 완료된 소수성 심공정 용매의 재생>
다음으로, 회수한 소수성 심공정 용매에 대하여 표 1에 나타내는 보충용 용액을 체적비 1:1이 되도록 투입하였다. 이에 대하여 1시간 진탕을 행한 후, 소수성 심공정 용매상을 추출하였다. 이에 의해, 소수성 심공정 용매를 회수하였다. 단, 비교예 1에서는, 보충용 용액에 의한 재생 처리를 행하지 않고, 다음의 니켈 재침출에 제공하였다.
<재생된 소수성 심공정 용매에 의한 니켈 재침출>
회수한 소수성 심공정 용매를, 교반 블레이드를 구비하는 용기에 넣고, 거기에 다시 니켈 산화광을 10g/L의 양으로 투입하였다. 이것을 60℃에서 400rpm의 회전 속도로 24시간 교반하여, 니켈을 소수성 심공정 용매에 침출시켰다. 니켈 산화광을 여과에 의해 회수하고, 침출액과 회수한 니켈 산화광에 대하여 ICP 분석을 행하여, Ni 침출량을 구하였다. Ni 재침출율로서, 1회째 침출에 있어서의 Ni 침출량에 대한 재침출에 있어서의 Ni 침출량의 비율(%)을 산출하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
비교예 1은, 사용 완료된 소수성 심공정 용매의 재생을 행하지 않은 예이다. 재생을 행하지 않은 경우, 소수성 심공정 용매의 Ni 침출능이 대폭으로 저하되어, Ni 재침출율은 겨우 10%였다. 이에 반해, 비교예 2에서는, NaCl 수용액을 사용하여, 사용 완료된 소수성 심공정 용매에 대하여 Cl-만 보충을 행했지만, Ni 재침출율은 더 낮아졌다. 비교예 3에서는, 황산을 사용하여, 사용 완료된 소수성 심공정 용매에 대하여 H+만 보충을 행했지만, Ni 재침출율은 더 낮아졌다.
이에 반해, 비교예 4, 5 및 실시예 1 내지 3에서는, 염산을 사용하여, 사용 완료된 소수성 심공정 용매에 대하여 H+ 및 Cl-의 보충을 행하였다. 표 1의 결과로부터, 소수성 심공정 용매의 수소 결합 억셉터에 대한 염화수소의 몰비가 1인 실시예 1에 있어서, Ni 재침출율이 대폭적인 개선이 관찰되었다. 당해 몰비가 2인 실시예 2에 있어서는, Ni 재침출율이 100%가 되어, Ni 침출능이 완전히 회복되었다.
이상의 결과로부터, 여기에 개시하는 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의하면, 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 심공정 용매의 금속 원소 침출능을 회복 가능하다는 것을 알 수 있다.
이상, 본 발명의 구체예를 상세하게 설명했지만, 이들은 예시에 불과하고, 청구범위를 한정하는 것은 아니다. 청구범위에 기재된 기술에는, 이상에 예시한 구체예를 다양하게 변형, 변경한 것이 포함된다.
즉, 여기에 개시되는 소수성 심공정 용매의 재생 방법, 및 니켈 침출 방법은, 이하의 항 [1] 내지 [4]이다.
[1] 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매를 준비하는 공정, 및
상기 소수성 심공정 용매와, 염산을 접촉시키는 공정을 포함하고,
상기 소수성 심공정 용매의 수소 결합 도너가 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터가 클로라이드 염이며,
상기 염산의 사용량이, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양인,
소수성 심공정 용매의 재생 방법.
[2] 상기 염산의 사용량이, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 2몰 이상이 되는 양인, 청구항 [1]에 기재된 방법.
[3] 상기 수소 결합 도너가, 지방산이며, 상기 수소 결합 억셉터가, 제4급 암모늄클로라이드인, 청구항 [1] 또는 [2]에 기재된 방법.
[4] 청구항 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의해, 재생된 소수성 심공정 용매를 얻는 공정과,
상기 재생된 소수성 심공정 용매와, 니켈 광석을 접촉시키는 공정을
포함하는, 니켈 침출 방법.
Claims (4)
- 금속 원소를 함유하는 광석으로부터의 금속 원소의 침출에 사용된 소수성 심공정 용매를 준비하는 공정, 및
상기 소수성 심공정 용매와, 염산을 접촉시키는 공정을 포함하고,
상기 소수성 심공정 용매의 수소 결합 도너가 카르복시기 함유 화합물이며, 또한 수소 결합 억셉터가 클로라이드 염이며,
상기 염산의 사용량이, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 1몰 이상이 되는 양인,
소수성 심공정 용매의 재생 방법. - 제1항에 있어서,
상기 염산의 사용량이, 상기 수소 결합 억셉터 1몰에 대하여, 염화수소가 2몰 이상이 되는 양인, 방법. - 제1항에 있어서,
상기 수소 결합 도너가, 지방산이며, 상기 수소 결합 억셉터가, 제4급 암모늄클로라이드인, 방법. - 제1항에 기재된 소수성 심공정 용매의 재생 방법에 의해, 재생된 소수성 심공정 용매를 얻는 공정과,
상기 재생된 소수성 심공정 용매와, 니켈 광석을 접촉시키는 공정을
포함하는, 니켈 침출 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2022-135181 | 2022-08-26 | ||
JP2022135181A JP2024031543A (ja) | 2022-08-26 | 2022-08-26 | 疎水性深共晶溶媒の再生方法、およびニッケル浸出方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240029520A true KR20240029520A (ko) | 2024-03-05 |
Family
ID=87567243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020230110409A KR20240029520A (ko) | 2022-08-26 | 2023-08-23 | 소수성 심공정 용매의 재생 방법, 및 니켈 침출 방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240076548A1 (ko) |
EP (1) | EP4328337A1 (ko) |
JP (1) | JP2024031543A (ko) |
KR (1) | KR20240029520A (ko) |
CN (1) | CN117625958A (ko) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4018865A (en) * | 1976-03-29 | 1977-04-19 | King Industries, Inc. | Solvent-extraction process for recovery and separation of metal values |
US5571308A (en) * | 1995-07-17 | 1996-11-05 | Bhp Minerals International Inc. | Method for recovering nickel from high magnesium-containing Ni-Fe-Mg lateritic ore |
EP3375895A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-19 | Fundación Tecnalia Research & Innovation | Extraction of rare earth elements with deep eutectic solvents |
CN112981139B (zh) * | 2021-02-04 | 2022-08-16 | 西安建筑科技大学 | 用于分离镍钴离子的疏水性低共熔溶剂及其制备方法和分离镍钴离子的方法 |
CN114588660A (zh) * | 2022-02-24 | 2022-06-07 | 广东工业大学 | 一种疏水性深度低共熔溶剂及其制备方法和应用 |
-
2022
- 2022-08-26 JP JP2022135181A patent/JP2024031543A/ja active Pending
-
2023
- 2023-08-08 EP EP23190267.7A patent/EP4328337A1/en active Pending
- 2023-08-22 US US18/453,728 patent/US20240076548A1/en active Pending
- 2023-08-23 KR KR1020230110409A patent/KR20240029520A/ko unknown
- 2023-08-24 CN CN202311076459.5A patent/CN117625958A/zh active Pending
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Gawen R. T. Jenkin et al., "The application of deep eutectic solvent ionic liquids for environmentally-friendly dissolution and recovery of precious metals", Minerals Engineering, Volume 87, 1 March 2016, Pages 18-24 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024031543A (ja) | 2024-03-07 |
CN117625958A (zh) | 2024-03-01 |
US20240076548A1 (en) | 2024-03-07 |
EP4328337A1 (en) | 2024-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6334450B2 (ja) | リチウムイオン電池リサイクル原料からの金属の回収方法 | |
JP6258890B2 (ja) | リチウムイオン電池スクラップからの銅の除去方法および金属の回収方法 | |
TWI614347B (zh) | 鋰離子電池廢料之瀝濾方法、及來自鋰離子電池廢料之金屬之回收方法 | |
JPWO2017159743A1 (ja) | リチウムイオン電池スクラップの処理方法 | |
JP6363578B2 (ja) | リチウムイオン電池スクラップの浸出方法および、リチウムイオン電池スクラップからの金属の回収方法 | |
JP2018040035A (ja) | リチウムイオン電池スクラップの処理方法 | |
JP6352846B2 (ja) | リチウムイオン電池リサイクル原料からの金属の回収方法 | |
EP3169818B1 (fr) | Procédé de séparation du palladium des autres éléments métalliques présents dans une phase aqueuse nitrique et ses utilisations | |
EP2170479A1 (en) | Method for recovery | |
WO2017142088A1 (ja) | 金属化合物粒子の抽出方法、その金属化合物粒子の分析方法、およびそれらに用いられる電解液 | |
JP6343760B2 (ja) | 液中からの放射性元素の分離・除去方法 | |
KR20240029520A (ko) | 소수성 심공정 용매의 재생 방법, 및 니켈 침출 방법 | |
US20040244537A1 (en) | Processing coal combustion products (CCP), ore, or other material using functionally electrolyzed water (FEW) | |
Panda et al. | Deep eutectic solvents: Physico-chemical properties and their use for recovery of metal values from waste products | |
JP6397111B2 (ja) | リチウムイオン電池スクラップの浸出方法及び、有価金属の回収方法 | |
KR20230123441A (ko) | 니켈광으로부터의 니켈의 침출 방법 및 황산니켈의 제조 방법 | |
JP2012149318A (ja) | パラジウム及び白金の抽出方法 | |
JP5777150B2 (ja) | 白金及びパラジウムの回収方法 | |
Zhang et al. | Selective recycling of lithium from spent LiNixCoyMn1-x-yO2 cathode via constructing a synergistic leaching environment | |
EP3662090B1 (fr) | Procédé amélioré de récupération du palladium des autres éléments métalliques présents dans une phase aqueuse nitrique utilisant comme extractants des malonamides | |
JP6121359B2 (ja) | 金属酸化物の浸出方法 | |
JP6502182B2 (ja) | 希土類元素の回収方法および希土類元素の回収装置 | |
EP3172347B1 (fr) | Procede de separation des composants d'un substrat solide comprenant un support a base d'oxyde de terre rare et des particules d'un metal noble, par dissolution selective du support | |
JP5629166B2 (ja) | Ptの回収方法 | |
JP7410361B2 (ja) | 分離方法 |