KR20240018364A

KR20240018364A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20240018364A
Application number: KR1020230092994A
Authority: KR
Inventors: 다카히로 하마다
Original assignee: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
Priority date: 2022-08-02
Filing date: 2023-07-18
Publication date: 2024-02-13
Also published as: CN117497446A; TW202407793A; JP2024020745A

Abstract

[과제] 기판의 표면에 대한 다운플로우의 풍량을 증대시켜, 기판면에 처리액이 재부착하는 것을 방지하는 것.
[해결수단] 실시형태에 따른 기판 처리 장치는, 처리실과 회전 테이블과 공급부와 액받음부와 송풍부와 기류 형성부를 구비한다. 처리실은 기판을 처리한다. 회전 테이블은, 처리실 내에 설치되며, 기판을 유지하여 회전시킨다. 공급부는, 회전 테이블에 유지된 기판에 대하여 처리액을 공급한다. 액받음부는, 회전 테이블을 둘러싸도록 설치되며, 상단에 원형의 개구를 갖고, 회전 테이블의 회전에 의해서 회전하는 기판으로부터 비산하는 처리액을 받아낸다. 송풍부는, 처리실의 천장 측에 설치되어, 처리실 안에 하강 기류를 발생시킨다. 기류 형성부는, 액받음부와 송풍부 사이에 설치되며, 상단 및 하단에 원형의 개구를 각각 갖는 통형으로 형성되어, 송풍부에 의해서 발생한 하강 기류를, 액받음부의 상단의 개구의 내측에 집중시킨다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명의 실시형태는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼 등의 기판에 대하여 약액 처리 혹은 세정 처리를 실행하는 기판 처리 장치는, 처리의 균일성이나 재현성의 관점에서, 기판을 1장씩 처리하는 매엽(枚葉) 방식이 널리 채용되고 있다. 매엽 방식의 기판 처리 장치는, 기판을 회전 테이블에 고정하고, 기판 중심에 직교하는 축을 회전축으로 기판을 회전시켜, 기판의 중심부에 처리액(예컨대 약액이나 순수 등)을 공급하여, 기판면을 처리한다. 기판면에 공급된 처리액은, 원심력에 의해 기판의 엣지로 향해 퍼져 나가고, 기판 엣지로부터 박리되어, 회전 테이블의 주위를 덮는 컵의 내주면에 의해 받아진다.

또한, 기판 처리 장치는, 처리실 안의 천장 측에 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit: FFU)이 설치되어 있다. FFU는, 청정한 공기를 천장 측에서 아래쪽으로 향하여 송출함으로써 하강 기류(다운플로우)를 발생시켜, 처리실 내부를 높은 레벨의 청정도로 유지한다. 예컨대 FFU는, FFU에 의해서 발생시킨 청정한 공기의 다운플로우가 기판면에 공급됨으로써, 기판면에 공급되는 처리액의 점핑이나 바운싱을 억제하여, 기판면 상에서 컵의 바깥쪽으로 비산하는 것을 방지하고 있다. 또한, 다운플로우는, 처리실의 하부 측으로부터 배기함으로써, 공기와 함께 기판의 엣지로부터 박리된 처리액이나 처리실 안을 떠도는 먼지 등을 처리실로부터 배출한다.

특허문헌 1: 일본 특허공개 2014-27201호 공보

상기한 기판 처리 장치에서는, 상기 FFU를 이용하고 있는 경우라도, 기판의 표면에 처리액을 공급하여 기판면을 처리할 때에, 기판의 표면 상이나 기판의 주변에서 처리액의 점핑이나 바운싱이 생기는 경우가 있다. 이러한 처리액의 점핑이나 바운싱은 기판면에의 처리액 재부착을 발생시켜, 제품 불량의 원인이 된다. 예컨대 기판의 표면을 건조시키는 건조 공정에 있어서, 건조 처리가 종료된 기판면에 대하여, 점핑이나 바운싱으로 인해 날아 오른 처리액이 부착되면, 기판의 표면에서 워터마크(물얼룩)으로 되어 버려, 제품의 품질이 저하한다. 따라서, 처리액의 점핑이나 바운싱을 억제하는 것은, 처리액이 기판면에 재부착하는 것을 방지하여, 제품의 품질을 향상시키는 데에 있어서 중요한 것이다.

이 처리액의 점핑이나 바운싱을 억제하는 대책으로서, FFU로부터 송출시키는 공기의 양을 증량하여 보다 강한 다운플로우를 발생시킴으로써, 기판 표면 상에서의 처리액의 점핑이나 바운싱을 보다 억누르는 것을 생각할 수 있다. 그러나, FFU로부터 송출하는 공기의 양을 증량하면, 처리실 내부 압력이 올라, 처리실 안에 있는 처리액의 미스트 등이 처리실 밖으로 유출될 우려가 있다. 따라서, FFU로부터 송출시키는 공기의 양을 증량할 수는 없어, 처리액의 점핑나 바운싱을 보다 억누르기는 어렵다.

본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 그 목적은, FFU로부터 송출하는 공기의 양을 증량시키지 않고서 기판의 표면에 대한 다운플로우의 풍량을 증대시켜, 기판면에 처리액이 재부착하는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 데에 있다.

상술한 과제를 해결하여 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일 양태에 따른 기판 처리 장치는, 처리실과 회전 테이블과 공급부와 액받음부와 송풍부와 기류 형성부를 구비한다. 처리실은 기판을 처리한다. 회전 테이블은, 상기 처리실 내에 설치되어, 상기 기판을 유지하여 회전시킨다. 공급부는, 상기 기판 테이블에 유지된 상기 기판에 대하여 처리액을 공급한다. 액받음부는, 상기 회전 테이블을 둘러싸도록 형성되며, 상단에 원형의 개구를 갖고, 상기 회전 테이블의 회전에 의해서 회전하는 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 받아낸다. 송풍부는, 상기 처리실의 천장 측에 설치되어, 상기 처리실 내에 하강 기류를 발생시킨다. 기류 형성부는, 상기 액받음부와 상기 송풍부 사이에 설치되며, 상단 및 하단에 원형의 개구를 각각 갖는 통형으로 형성되어, 상기 송풍부에 의해서 발생한 하강 기류를 상기 액받음부의 상단의 개구의 내측에 집중시킨다.

본 발명의 일 양태에 의하면, 기판면에 처리액이 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

도 1a는 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다.
도 1b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 개요를 설명하기 위한 모식도이다.
도 2a는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 측면도이다.
도 2b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 상면도이다.
도 3은 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 구성의 일례를 도시하는 도면이다.
도 4a는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 4b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 5는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 사이즈 및 설치 위치를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구에 의해서 형성되는 기류를 설명하기 위한 도면이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본원이 개시하는 기판 처리 장치의 실시형태를 상세히 설명한다. 또한, 본원이 개시하는 기판 처리 장치는 이하의 실시형태에 의해 한정되는 것은 아니다.

(제1 실시형태)

도 1a는 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 개략 구성을 도시하는 도면이다. 도 1a에 도시하는 것과 같이, 기판 처리 장치(1)는 내실(11)을 갖고 있다. 내실(11)은, 구획벽(11a)에 의해서 상하로 2개의 공간으로 구획되고 있고, 하측의 공간이 처리실(11b)로서 형성되어 있다. 구획벽(11a)은 베이스체(21)와 상하 방향으로 대향하고 있다. 즉, 처리실(11b)은 구획벽(11a)(천장) 및 베이스체(21)(베이스)와 내실(11)의 측벽으로 형성된다. 또한, 상기한 상하란, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 상측과 하측을 의미한다(즉, 도 1a에서의 상측과 하측을 의미한다). 여기서, 본 실시형태에서는 상측 및 하측을 각각 위쪽 및 아래쪽이라고 기재하는 경우가 있다.

내실(11)의 측벽에 있어서, 처리실(11b)에 대응하는 위치에 반출입구(도시하지 않음)가 형성되어 있다. 반출입구는, 처리실(11b) 안으로의 기판(W)의 반입 및 반출을 행하기 위한 출입구이며, 개폐 가능한 셔터 등에 의해서 형성되어 있다. 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)의 처리실(11b) 안으로의 반입 시 및 처리 완료된 기판(W)의 처리실(11b) 안으로부터의 반출 시에 셔터를 열어, 기판(W)을 반송하는 반송 아암의 처리실(11b) 안으로의 삽입을 가능하게 한다. 또한, 기판(W)에 대하여 처리가 실행되고 있는 동안은 셔터가 닫힌 상태가 된다.

또한, 도 1a에 도시하는 것과 같이, 기판 처리 장치(1)는, 중앙에 관통 구멍을 갖는 베이스체(21)와, 베이스체(21)의 위쪽에 회전 가능하게 설치된 회전 테이블(22)과, 회전 테이블(22)의 구동원이 되는 모터(23)와, 회전 테이블(22)을 둘러싸는 환상의 액받음부(24)(컵)와, 기판(W)에 처리액을 공급하는 노즐(25)(공급부)과, 팬 필터 유닛(Fun Filter Unit: FFU)(26)(송풍부)과, 이오나이저(27)(정전기 제거부)와, 기류 형성 기구(30)(기류 형성부)와, 제어 장치(40)(제어부)와, 기체 공급원(50)(기체 공급부)을 구비하고 있다.

회전 테이블(22)은, 베이스체(21)의 상면 측에 배치되고, 중심이 모터(23)의 회전축에 일치하도록 모터(23)의 회전자(23b)의 상단에 고정되어 있다. 또한, 회전 테이블(22)에는, 기판(W)이 배치되는 측의 면에 기판(W)을 파지하는 복수(예컨대 6개)의 척 핀(22a)이 소정의 간격으로 마련되어 있다. 복수의 척 핀(22a)이 처리 대상인 기판(W)의 외주면을 파지함으로써, 기판(W)은 회전 테이블(22)에 유지된다.

모터(23)는, 통형의 고정자(23a)와, 고정자(23a) 안에 회전 가능하게 삽입된 통형의 회전자(23b)에 의해 구성되어 있다. 고정자(23a)는 베이스체(21)의 아래쪽에 부착되어 있고, 회전자(23b)의 상단 측은 베이스체(21)의 위쪽에서 회전 테이블(22)과 접속된다. 모터(23)는 회전 테이블(22)을 회전시키기 위한 구동원의 일례이다. 모터(23)는 전기적으로 제어 장치(40)에 접속되어 있으며, 제어 장치(40)의 제어에 따라서 구동된다. 이로써, 회전 테이블(22)은 모터(23)의 구동에 의해서 회전하게 된다. 회전 테이블(22) 및 모터(23)의 회전축이 기판 회전축(A1)이 된다.

액받음부(24)는, 기판(W)으로부터 비산한 처리액이나 흘러 내린 처리액을 수취하는 환상의 가동 액받음부(24a)와, 환상의 고정 액받음부(24b)에 의해 구성되어 있다. 액받음부(24)는 회전 테이블(22)을 둘러싸도록 형성되어 있다. 즉, 이 액받음부(24)는 회전 테이블(22)에 유지된 기판(W)의 표면이 노출되도록 개구되어 있다. 가동 액받음부(24a)는, 예컨대 실린더 등의 승강 기구(도시하지 않음)에 의해 상하 방향으로 이동할 수 있게 구성되어 있다. 가동 액받음부(24a)의 상부는 직경 방향 내측으로 향하여 경사져 있다. 고정 액받음부(24b)는 베이스체(21)의 상면에 고정되어 있고, 고정 액받음부(24b)의 바닥면에는 처리실(11b) 안의 기체나 기판(W)으로부터 배출되는 처리액(예컨대 약액이나 순수 등)을 배출하기 위한 배관(12)이 접속되어 있다.

배관(12)은, 처리실(11b) 안의 기체를 외부로 배출시키는 배기 펌프(도시하지 않음)로 향하는 배기관(14)과, 액받음부(24)에 의해서 받아내어져 적하하는 처리액을 외부로 배출하기 위한 폐액관(13)이 접속되어 있다.

노즐(25)은 회전 테이블(22)에 유지된 기판(W)에 대하여 처리액을 공급한다. 구체적으로 노즐(25)은, 베이스체(21) 상의 소정의 위치에 설치된 노즐 이동 기구에 의해서 유지되며, 기판(W)을 처리하는 동안, 아래쪽으로 향해서 처리액을 분출한다. 노즐 이동 기구는, 가동 아암과 아암 요동 기구를 갖고, 기판(W)을 처리할 때에, 노즐(25)을 기판(W)의 중심부와 기판(W)의 주변부 사이에서 왕복동시킨다. 구체적으로 가동 아암은, 한쪽의 단부에 노즐(25)이 설치되어 있고, 다른 쪽의 단부가 아암 요동 기구에 의해서 지지되어 있다. 아암 요동 기구는 가동 아암에 있어서의 다른 쪽의 단부를 지점으로 하여 가동 아암을 요동시킨다. 또한, 기판(W)의 처리가 종료되면, 아암 요동 기구는 기판(W)으로부터 떨어진 대기 위치로 노즐(25)을 후퇴시키도록 가동 아암을 요동시킨다.

FFU(26)는 내실(11)의 구획벽(11a) 상에 설치되어 있다. FFU(26)는, 팬이 내장되어 있고, 팬의 아래쪽에 필터(예컨대 ULPA 필터(Ultra Low Penetration Air Filter) 등)가 설치되어, 필터를 통과시킨 청정한 기체를, 구획벽(11a)을 통해서 처리실(11b) 안으로 송출한다. 처리실(11b) 안에서는, FFU(26)에 의해서 송출된 기체에 의해, 베이스체(21) 측으로 향하는 하강 기류가 발생하고 있다.

이오나이저(27)는, 가늘고 긴 막대형(바 타입)의 제전기(除電器)이며, FFU(26)의 아래쪽에 설치되어, 정전기를 제거한다. 구체적으로 이오나이저(27)는, 플러스 및 마이너스의 어느 한쪽의 이온을 전환하여 방출하도록 형성되어 있고, FFU(26)로부터 송출된 기체에 대하여 이온을 부여한다. 이에 따라, 이온이 부여된 기체가 기판(W)에 공급되어, 기판(W)의 대전이 중화된다.

기류 형성 기구(30)는, 액받음부(24)와 FFU(26) 사이 또한 기판(W) 상에 배치된 노즐(25)(환언하면 가동 아암)의 위쪽에 설치되어, FFU(26)에 의해서 발생된 하강 기류를, 액받음부(24)에 있어서의 개구의 내측에 집중시킨다. 도 1b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 개요를 설명하기 위한 모식도이다. 도 1b에 도시하는 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, 상단 및 하단에 원형의 개구(상단의 개구(30a) 및 하단의 개구(30b))를 각각 갖는 통형(링형)으로 형성되어, 회전 테이블(22)의 회전축과 개구(30a) 및 개구(30b)의 중심이 일치하도록 이오나이저(27)의 아래쪽에 설치된다. 그리고, 기류 형성 기구(30)는, 처리실(11b)의 천장 측에 설치된 FFU(26)에 의해서 발생되어 이오나이저(27)에 의해서 이온이 부여된 하강 기류를, 상단의 개구(30a)로부터 받아 들여, 하단의 개구(30b)로부터 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내측으로 송출시킨다. 여기서, 기류 형성 기구(30)는, 기체 공급원(50)에 의해서 공급된 기체를 토출함으로써 생기는 유인 현상 및 코안다 효과에 의해, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내측으로 송출시키는 하강 기류(다운플로우)를 증대시키도록 형성되어 있다. 또한, 기류 형성 기구(30)의 상세한 점에 관해서는 후술한다.

제어 장치(40)는 모터(23), 기체 공급원(50)을 포함하는 각 구성을 제어한다. 예컨대 제어 장치(40)는 기체 공급원(50)을 제어함으로써 기류 형성 기구(30)에 대한 기체의 공급을 제어한다.

기체 공급원(50)은 기류 형성 기구(30)와 배관을 통해 접속된다. 또한, 기체 공급원(50)이 제어 장치(40)와 전기적으로 접속되어, 제어 장치(40)에 의한 제어에 따라서 기류 형성 기구(30)에 대하여 기체(예컨대 질소 가스나 공기 등)를 공급한다. 여기서, 기체 공급원(50)과 기류 형성 기구(30)를 접속하는 배관에는, FFU(26)와 같은 식의 필터(예컨대 ULPA 필터 등)가 설치되어 있다. 즉, 기류 형성 기구(30)는 필터를 통과한 청정한 기체가 공급되고, 공급된 청정한 기체를 토출한다.

이하, 본 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)에 관해서 상세히 설명한다. 도 2a는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 측면도이다. 도 2b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 상면도이다. 예컨대 기류 형성 기구(30)는, 도 2a 및 도 2b에 도시하는 것과 같이, 측면에 등간격으로 4개의 기체 도입구(31a)가 형성되어 있다. 기체 도입구(31a)는 기류 형성 기구(30)의 내부에 형성된 챔버(공간)와 기류 형성 기구(30)의 외부를 연통시킨다. 그리고, 기체 도입구(31a)는 외부 측의 개구에 기체 공급원(50)과 접속된 배관이 접속된다. 즉, 기체 도입구(31a)는 기체 공급원(50)으로부터 공급된 기체를, 기류 형성 기구(30)의 내부에 형성된 챔버에 도입시키는 도입구이다. 예컨대 기류 형성 기구(30)는, 4개의 기체 도입구(31a)의 외주면 각각이 지지 부재(도시하지 않음)에 의해서 지지됨으로써, 이오나이저(27)의 아래쪽 위치에 유지된다.

도 3은 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 구성의 일례를 도시하는 도면이다. 도 3에 도시하는 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는 제1 원환형 부재(31)와 제2 원환형 부재(32)로 형성되어 있다. 구체적으로 기류 형성 기구(30)는, 기체 도입구(31a)가 형성된 제1 원환형 부재(31)의 내측 벽면이, 제2 원환형 부재(32)에 있어서의 외측 벽면의 일부를 덮도록 겹쳐져 형성되어 있다. 즉, 제2 원환형 부재(32)에 있어서의 상단의 외경이 제1 원환형 부재(31)에 있어서의 하단의 내경보다 작게 형성되고, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐짐으로써 기류 형성 기구(30)가 형성되어 있다.

여기서, 기류 형성 기구(30)는, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐짐으로써 내부에 기체를 모아 압축하기 위한 챔버가 형성되어 있다. 도 4a는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 개략 구성을 도시하는 단면도이다. 또한, 도 4a는 도 3에 있어서의 A-A 단면의 단면도를 도시한다. 즉, 도 4a는 기판 처리 장치(1)에 있어서의 상하 방향의 단면도이다.

도 4a에 도시하는 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐짐으로써 챔버(33)가 형성되어 있다. 구체적으로 기류 형성 기구(30)는, 제1 원환형 부재(31)의 내측의 벽면과 제2 원환형 부재(32)의 외측의 벽면의 일부에 의해서 둘러싸인 챔버(33)가 형성되어 있다. 여기서, 기류 형성 기구(30)는 그 내부의 전체 둘레에 걸쳐 챔버(33)가 형성되어 있다.

챔버(33)는, 4개의 기체 도입구(31a)(도시하지 않음)와 각각 연결되며 또한 기류 형성 기구(30) 내측의 전체 둘레에 걸쳐 형성된 슬릿(34)(기체 토출부)과 이어진다. 그리고, 챔버(33)에는, 4개의 기체 도입구(31a)를 통해 기체 공급원(50)으로부터 기체가 공급된다. 기체 공급원(50)으로부터 공급된 기체는 챔버(33) 안으로 퍼져 나가 슬릿(34)으로부터 토출된다. 여기서, 챔버(33)는, 기체 공급원(50)으로부터 공급된 기체를, 슬릿(34)의 전체 둘레로부터 안정적으로 토출할 수 있게 하기위한 버퍼 기능을 갖고 있다. 구체적으로 챔버(33)는, 기체 공급원(50)으로부터 기체가 공급되면, 전체에 기체가 가득찬 상태가 되고, 계속해서 공급되는 기체에 의해, 압축된 기체가 가득찬 상태를 유지하면서 기체가 슬릿(34)으로부터 토출된다.

이러한 버퍼 기능을 실현하기 위해서, 챔버(33)는, 기체 도입구(31a)와 슬릿(34)이 상하 방향으로 틀어진 위치에 이어져 있다. 도 4b는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구의 개략 구성을 도시하는 단면도이다. 또한, 도 4b는 기류 형성 기구(30)의, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 상하 방향의 단면이며, 기체 도입구(31a)를 포함하는 단면도이다. 도 4b에 도시하는 것과 같이, 기체 도입구(31a)는 챔버(33) 하단 측의 외벽(37)에 설치되어, 기체 공급원(50)으로부터 공급되는 기체를 챔버(33)에 도입한다. 또한, 도 4b에 도시하는 것과 같이, 슬릿(34)은 챔버(33)의 상단 측의 내벽(36)에 형성된다.

기체 도입구(31a)와 챔버(33)와 슬릿(34)을, 도 4b에 도시하는 위치 관계로 함으로써, 4개의 기체 도입구(31a)로부터 챔버(33)에 도입된 기체가 곧바로 슬릿(34)으로부터 토출되지 않고서 챔버(33) 내에 체류하게 된다. 이에 따라, 챔버(33)는, 전체에 기체가 가득찬 상태가 되어, 기체 공급원(50)으로부터 공급된 기체가 슬릿(34)의 전체 둘레로부터 안정적으로 토출된다.

또한, 기류 형성 기구(30)는, 도 4a에 도시하는 것과 같이, 제2 원환형 부재(32)의 위쪽에 제1 원환형 부재(31)가 끼워져 들어가, 제2 원환형 부재(32)와 제1 원환형 부재(31)가 결합함으로써 형성되어 있다. 여기서, 제2 원환형 부재(32)와 제1 원환형 부재(31)의 결합부(39)는, 챔버(33)에 공급된 기체가 새지 않도록 높은 기밀성을 갖는 구조로 형성되어 있다. 예컨대 결합부(39)는, 도 4a에 도시하는 것과 같이, 제1 원환형 부재(31)의 내벽 하단에 절결이 형성되고, 이 절결과 계합하는 절결이 제2 원환형 부재(32)의 외벽에 형성되어 있다. 또한, 결합부(39)는 보다 높은 기밀성을 유지하기 위해서 시일 부재가 이용되는 경우라도 좋다.

또한, 도 4a, 도 4b에 도시하는 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐진 상태에서의 외측의 벽면인 외벽(37)과, 상하 방향의 단면에 있어서, 상하 방향에 있어서의 중앙부가 외벽(37) 방향으로 만곡하는 내벽(36)과, 내벽(36)에 형성되며, 하단의 개구(30b)로 향하여 흐르는 기체를 토출하는 슬릿(34)과, 상하 방향의 단면에 있어서, 외형이 위쪽으로 향해서 팽창된 곡면이며, 외벽(37)의 상단으로부터 위쪽으로 연장된 후, 슬릿(34)의 위치까지 아래쪽으로 연장되는 곡면(35)을 갖는다.

외벽(37)은, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐진 상태에서의 기류 형성 기구(30)의 외측의 벽면이며, 제1 원환형 부재(31)의 외측의 벽면과, 제2 원환형 부재(32)의 외측의 벽면의 일부(챔버(33)를 형성하지 않은 외측의 벽면)에 의해 구성되어 있다. 내벽(36)은, 제2 원환형 부재(32)의 내측의 벽면에 상당하며, 상하 방향의 단면에 있어서, 상단 측으로 향하여 내측으로 경사지도록 형성되어 있다. 즉, 제2 원환형 부재(32)는, 내경이 상단 측으로 향하여 서서히 작아지도록 형성되어 있다.

곡면(35)은, 제1 원환형 부재(31)의 상단 측에 형성되어, 제1 원환형 부재(31)의 상단으로부터 외측 벽면의 상단부로 향하여 하강하는 곡면과, 제1 원환형 부재(31)의 상단에서 내측으로 향하여 슬릿(34)까지 하강하는 곡면으로 구성되어 있다. 또한, 제1 원환형 부재(31)의 내측의 벽면은, 도 4a, 도 4b에 도시하는 것과 같이, 상하 방향의 단면에 있어서, 외형이 위쪽으로 향해서 팽창된 형상을 갖고, 내측 벽면의 단부가 곡면(35)의 슬릿(34) 측단부와 이어지도록 형성되어 있다.

슬릿(34)은, 제1 원환형 부재(31)의 내측의 벽면에 있어서 곡면(35)과 이어지는 위치 근방의 벽면과, 제2 원환형 부재(32)의 상단 측의 단부면(제2 원환형 부재(32)의 외측의 벽면과 내측의 벽면을 잇는 평면)으로 형성되는 공간이며, 챔버(33)와 외부(기류 형성 기구(30)의 내측)를 연통시킨다. 슬릿(34)은 챔버(33)에 공급된 기체를 하단의 개구(30b)로 향해서 흐르도록 토출한다. 또한, 토출된 기체의 일부는 내벽(36)을 따라 하단의 개구(30b)로 향하여 흐른다. 즉, 슬릿(34)은, 챔버(33) 내에서 모여서 압축된 기체를, 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b) 방향으로 확산하여 토출하고, 이 확산된 기체의 일부가 내벽(36)을 따라서 하단의 개구(30b)를 향하는 방향으로 흐른다. 상기한 것과 같이, 슬릿(34)은, 기류 형성 기구(30)의 전체 둘레에 걸쳐 내벽(36)에 형성되어 있고, 전체 둘레로부터 안정적으로 기체를 토출한다. 따라서, 슬릿(34)은, 기류 형성 기구(30)의 전체 둘레로부터 하단의 개구(30b)로 향해서 기체를 확산하여 토출하고, 기류 형성 기구(30)의 내벽(36) 전체 둘레에 있어서, 토출된 기체의 일부가 내벽(36)을 따라 흐른다.

이어서, 기류 형성 기구(30)의 사이즈 및 설치 위치에 관해서 설명한다. 도 5는 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)의 사이즈 및 설치 위치를 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 5에서는 도 4과 마찬가지로 상하 방향의 단면도를 도시한다.

도 5에 도시하는 슬릿(34)의 폭 「a」(슬릿(34)을 형성하는 제1 원환형 부재(31)의 내측의 벽면과 제2 원환형 부재(32)의 상단 측의 단부면과의 거리)은, 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체의 풍속이 원하는 풍속이 되는 사이즈로 형성되어 있다. 구체적으로 슬릿(34)은, 기류 형성 기구(30)의 상단의 개구(30a) 부근에 있어서, 그 주위의 기체를 감아 들일 수 있게 될 정도의 풍속의 하강 기류를 실현하는 폭 「a」로 형성되어 있다. 즉, 슬릿(34)은, 유인 현상 및 코안다 효과를 일으킬 수 있게 되는 풍속으로 기체를 토출하는 폭 「a」(예컨대 0.1 mm∼1.5 mm 정도)로 형성되어 있다. 여기서, 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체를 상기한 풍속으로 되도록 슬릿(34)에 있어서 가속하면서 토출시키기 때문에, 챔버(33) 내부 압력이 소정의 압력으로 되도록 챔버(33)에 공급되는 기체의 압력이 조절된다. 예컨대 0.3 Mpa∼0.5 Mpa의 기체가 챔버(33)에 공급되고, 챔버(33) 내에서 상기한 소정의 압력까지 압축된다. 이와 같이 슬릿(34)이 소정의 폭으로 형성되어, 챔버(33) 내부 압력이 소정의 압력으로 되도록 조절됨으로써, 슬릿(34)은 유인 현상 및 코안다 효과를 일으킬 수 있게 되는 풍속의 기체를 토출할 수 있다.

상기한 것과 같이, 슬릿(34)이 유인 현상 및 코안다 효과를 일으킬 수 있게 되는 풍속의 기체를 토출함으로써, 기류 형성 기구(30)로부터 송출되는 기체의 풍량(즉, 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 기체의 풍량)이 FFU(26)로부터의 풍량보다 많아진다. 즉, 슬릿(34)으로부터 토출된 기류와, 유인 현상 및 코안다 효과에 의해 발생한 기류에 의해, 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 기체의 풍량이 FFU(26)로부터의 풍량보다 많아진다. 예컨대 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 기체의 풍량이 FFU(26)로부터의 풍량의 2배 이상이 된다.

또한, 슬릿(34)의 벽 형상은, 슬릿(34)에 있어서의 기체의 토출 각도 「θ」가 원하는 각도로 되도록 설정된다. 즉, 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체가 상하 방향으로 퍼져 나가는 상태가 원하는 확산 상태가 되도록 슬릿(34)의 벽 형상이 설정된다. 예컨대 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체가 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)로 향해서 흐르고, 그 일부가 내벽(36)을 따라 흐르는 식으로 퍼져 나가는 각도 「θ」로 토출되도록 슬릿(34)의 벽 형상이 설정된다. 또한, 상기 한 슬릿(34)의 폭 「a」 및 기체의 토출 각도 「θ」는 실험이나 시뮬레이션 등으로부터 최적의 수치가 결정된다.

또한, 도 5에 도시하는 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, 하단의 개구(30b)의 내경 「b」가 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경 「c」보다 작게 되도록 형성되어 있다. 즉, 기류 형성 기구(30)의 하단으로부터 송출되는 기류는, 기류 형성 기구(30)의 반경 방향으로 확산하므로, 기류 형성 기구(30)의 하단으로부터 송출되는 기류를, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내측에 집중시키기 위해서, 하단의 개구(30b)의 내경 「b」가 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경 「c」보다 작게 되도록 형성되어 있다.

또한, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)와 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)의 거리 「d」는, 하단의 개구(30b)의 내경 「b」와 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경 「c」와, 하단의 개구(30b)에 있어서의 기류의 확산 각도 「φ」에 기초하여 결정된다. 즉, 하단의 개구(30b)에 있어서 각도 「φ」로 확산한 기류가 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경 「c」의 내측에 수습되도록 거리 「d」가 결정된다. 여기서, 거리 「d」는 상기한 조건을 만족하면서 아암 요동 기구에 의한 가동 아암의 요동을 저해하지 않는 높이가 되도록 결정된다. 또한, 상기한 하단의 개구(30b)의 내경 「b」 및 거리「d」는 실험이나 시뮬레이션 등으로부터 최적의 수치가 결정된다.

기판 처리 장치(1)는, 상기한 기류 형성 기구(30)를 구비함으로써, FFU(26)로부터 송출하는 공기의 양을 증량시키는 일 없이 기판의 표면에 대한 다운플로우의 풍량을 증대시킬 수 있다. 도 6은 제1 실시형태에 따른 기류 형성 기구(30)에 의해서 형성되는 기류를 설명하기 위한 도면이다. 상기한 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, 기체 도입구(31a)를 통해 챔버(33)에 기체가 공급되어, 슬릿(34)으로부터 기류를 토출한다. 이에 따라, 도 6에 도시하는 것과 같이, 기류가 슬릿(34)으로부터 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)로 향해서 기세좋게 토출된다. 이것은, 챔버(33) 내에서 압축된 기체가 좁은 개구의 슬릿(34)을 지나 토출되기 때문이다. 상기한 것과 같이, 슬릿(34)의 개구 직경(폭)은 수밀리미터(예컨대 0.1 mm∼1.5 mm) 정도로 형성되어 있다. 즉, 챔버(33)로부터 매우 좁은 슬릿(34)으로 향하여 기체가 흐르므로, 슬릿(34) 내에서 기류의 속도가 빨라진다(베르누이의 정리). 그 결과, 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체는 기세좋게 토출된다. 이와 같이 슬릿(34)으로부터 기체를 기세좋게 토출시킴으로써, 기류 형성 기구(30)의 상단의 개구(30a)에 있어서 주위의 기체를 감아 들이는 힘이 강해지고, 결과적으로 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 풍량이 FFU(26)로부터의 풍량의 수배(數倍)가 된다.

상기한 것과 같이, 기류 형성 기구(30)는, FFU(26)로부터의 하강 기류(FFU(26)로부터 기류 형성 기구(30)의 내측으로 직접 들어가는 기류)를 받아 들이면서 기류 형성 기구(30)의 주위(특히 기류 형성 기구(30)의 상단의 주위)의 기체를 감아 들임으로써, 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 풍량을 증대시킨다. 또한, 슬릿(34)으로부터 토출된 기체가 기류 형성 기구(30)의 하단으로부터 송출됨으로써, 기류 형성 기구(30)의 하단(즉, 개구(30b))의 주위에 있는 기체를 감아 들여(유인 현상), 하강 기류를 형성시킨다. 또한, 더구나 하단의 개구(30b)로부터 송출되는 하강 기류가 그 기류 주위의 기체를 받아 들이면서 기판(W)에 공급되기 때문에, 기판(W)에 공급되는 하강 기류의 풍량은 더욱 증대되게 된다. 즉, 기류 형성 기구(30)를 이용함으로써 FFU(26)로부터 송출된 풍량보다도 많은 하강 기류를 기판(W)에 집중적으로 흘릴 수 있다. 여기서, 기류 형성 기구(30)는, 주위에 있는 공기를 기류 형성 기구(30) 안으로 효율적으로 받아 들이기 위해서, 상단에 곡면(35)이 형성되어, 흐름이 곡면을 따라가는 코안다 효과를 발생시키고 있다.

이와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 기체 공급원(50)으로부터 기류 형성 기구(30)에 기체를 공급하여, 슬릿(34)으로부터 기세좋게 기류를 토출시킴으로써, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내측에 FFU(26)로부터 송출되는 다운플로우보다 강한 다운플로우를 형성시킬 수 있다. 여기서, 기판 처리 장치(1)는, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내측에 집중시킨 다운플로우를 임의의 타이밍에 형성시킬 수 있다. 구체적으로 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)에 대한 처리를 실행하고 있는 동안, 기류 형성 기구(30)에 의해서 다운플로우를 형성시키고, 기판(W)에 대한 처리가 실행되고 있지 않은 동안은, 기류 형성 기구(30)에 의한 다운플로우의 형성을 정지한다.

기판(W)에 대한 처리가 실행되고 있지 않은 타이밍으로는, 예컨대 기판(W)의 처리실(11b) 안으로의 반출입 타이밍을 들 수 있다. 즉, 제어 장치(40)는, 기판(W)의 처리실(11b) 안으로의 반출입 시에, 기체 공급원(50)에 의한 기체의 공급을 정지하도록 제어한다. 이 경우, 예컨대 제어 장치(40)는, 기판(W)의 반출입구의 셔터가 열려 있는 동안, 기체 공급원(50)에 의한 기체의 공급을 정지하도록 제어한다.

또한, 상기한 예는 어디까지나 일례이며, 기타 임의의 타이밍에 기류 형성 기구(30)에 의한 다운플로우를 형성시키는 경우라도 좋다. 예컨대 제어 장치(40)는, 기판(W)의 건조 공정에서만 기류 형성 기구(30)에 의한 다운플로우를 형성시키도록 제어하여도 좋다.

상기한 것과 같이, 제1 실시형태에 의하면, 처리실(11b)은 상하 방향으로 대향하는 구획벽(11a)과 베이스체(21)로 형성된다. 회전 테이블(22)은 처리실(11b)의 베이스체(21) 측에 설치되어 기판(W)을 회전시킨다. 노즐(25)은 회전 테이블(22)에 유지된 기판(W)에 대하여 처리액을 공급한다. 액받음부(24)는, 회전 테이블(22)을 둘러싸도록 설치되며, 상단에 원형의 개구(24c)를 갖고, 회전 테이블(22)의 회전에 의해서 회전하는 기판(W)으로부터 비산하는 처리액을 받아낸다. FFU(26)는 처리실(11b)의 구획벽(11a) 측에 설치되어, 처리실(11b) 안에 하강 기류를 발생시킨다. 기류 형성 기구(30)는, 액받음부(24)와 FFU(26) 사이에 설치되어, FFU(26)에 의해서 발생된 하강 기류를, 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 집중시킨다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, FFU(26)로부터 송출하는 공기의 양을 증량시키는 일 없이, 기판(W)의 표면에 대한 다운플로우의 풍량을 증대시킬 수 있어, 기판의 표면 상에서의 처리액의 점핑이나 바운싱을 억누를 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)는, 처리액이 기판(W)에 재부착하는 것을 억지하여, 기판 품질을 향상시킬 수 있게 한다.

또한, 기판 처리 장치(1)는, FFU(26)에 의해서 발생된 하강 기류를, 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 집중시킴으로써, 액받음부(24) 주변에서의 난기류 발생을 방지할 수 있다. 예컨대 액받음부(24)의 주변(예컨대 노즐(25)이 설치된 위치 등)에 FFU(26)로부터의 하강 기류가 흐른 경우, 베이스체(21)의 상면에 있어서 하강 기류가 바운싱되어 난기류가 생기는 경우가 있다. 이러한 난기류는, 처리액의 미스트가 발생한 경우에, 처리액의 미스트를 처리실 안에서 날아 올오르게 하여, 기판(W)에의 재부착을 발생시킬 우려가 있다. 본 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 하강 기류를 집중시킴으로써, 이러한 난기류의 발생을 방지하여, 처리액의 미스트가 발생한 경우라도, 처리액의 미스트가 처리실(11b) 안에서 날아 오르는 것을 억지할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)는 처리액이 기판(W)에 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 제1 실시형태에 의하면, 기류 형성 기구(30)는, 상단 및 하단에 원형의 개구를 각각 갖는 통형으로 형성되고, 제2 원환형 부재(32)에 대하여 제1 원환형 부재(31)가 겹쳐진 상태에서의 외측의 벽면인 외벽(37)과, 상하 방향의 단면에 있어서, 상하 방향에 있어서의 중앙부가 외벽(37) 방향으로 만곡하는 내벽(36)과, 내벽(36)에 형성되어, 하단의 개구(30b)로 향하여 흐르는 기체를 토출하는 슬릿(34)과, 상하 방향의 단면에 있어서, 외형이 위쪽으로 향해서 팽창된 곡면이며, 외벽(37)의 상단으로부터 위쪽으로 연장된 후, 슬릿(34)의 위치까지 아래쪽으로 연장되는 곡면(35)을 갖고, 상단의 개구(30a)로부터 하강 기류를 받아 들여, 하단의 개구(30b)로부터 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 하강 기류를 송출시킨다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 유인 현상 및 코안다 효과를 발생시켜 다운플로우를 증폭시킬 수 있고, FFU(26)로부터의 풍량을 삭감시킬 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)는 기판 처리에 드는 소비 에너지를 저감시킬 수 있다.

또한, 기판 처리 장치(1)는, 하강 기류를 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 집중시킴으로써, 처리액의 배출 효율을 향상시킬 수 있다. 상기한 것과 같이, 기판 처리 장치(1)는, 종래의 FFU만의 하강 기류를 발생시키고 있는 경우와 비교하여, 액받음부(24) 안으로 흐르는 기류의 양이 증대되고 있다. 그 때문에, 액받음부(24) 안을 흐르는 기류의 유속도 빨라져, 기판(W)으로부터 비산하는 처리액의 미스트 및 기판(W)의 주변에 떠도는 미스트를 배관(12)에 들여 보내기 쉽게 된다. 이와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 처리액의 미스트를 효율적으로 배출시킬 수 있고, 그 결과, 처리액의 미스트가 기판(W)의 주변에 떠도는 것을 억제하여, 기판(W) 상면에 처리액이 재부착하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 제1 실시형태에서는, 기류 형성 기구(30)의 하단의 개구(30b)의 내경은 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경보다 작다. 또한, 기류 형성 기구(30)는, 하단의 개구(30b)와 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)와의 거리가, 하단의 개구(30b)의 내경과, 액받음부(24)의 상단의 개구(24c)의 내경과, 하단의 개구(30b)에 있어서의 기류의 확산 각도에 기초한 거리가 되도록 처리실(11b) 내에 설치되어 있다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기류의 확산을 고려할 수 있어, 하강 기류를 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 보다 정밀도 좋게 집중시킬 수 있다.

또한, 제1 실시형태에 의하면, 이오나이저(27)가 FFU(26)의 아래쪽에 설치되어 정전기를 제거한다. 기류 형성 기구(30)는 이오나이저(27)의 아래쪽에 설치된다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 이오나이저(27)에 의해서 이온이 부여된 하강 기류를, 액받음부(24)에 있어서의 개구(24c)의 내측에 집중시킬 수 있어, 기판(W)의 대전을 중화할 수 있다.

또한, 제1 실시형태에 의하면, 기체 공급원(50)은 슬릿(34)으로부터 토출되는 기체를 공급한다. 기류 형성 기구(30)는 제1 원환형 부재(31)와 제2 원환형 부재(32)로 형성된다. 제1 원환형 부재(31)와 제2 원환형 부재(32)에 의해서, 기체를 모아 압축하기 위한 챔버(33)를 형성한다. 슬릿(34)은 기체 공급원(50)으로부터 챔버(33)에 공급된 기체를 토출한다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는 슬릿(34)으로부터 안정적으로 기체를 토출시킬 수 있다.

또한, 기체가 공급되는 챔버(33)를 2개의 부재(제1 원환형 부재(31)와 제2 원환형 부재(32))에 의해서 형성하는 구성으로 함으로써, 기류 형성 기구(30)를 분해하여 세정할 수 있다. 따라서, 챔버(33) 내부를 항상 청정한 상태로 유지할 수 있어, 기판(W)에 대하여 오염된 기체를 공급하는 것을 방지하여, 기판(W)의 오염 발생을 피할 수 있다.

또한, 제1 실시형태에 의하면, 기체 공급원(50)으로부터 공급되는 기체를 챔버(33)에 도입하는 기체 도입구(31a)가 챔버(33) 하단 측의 외벽(37)에 형성되고, 슬릿(34)이 챔버(33) 상단 측의 내벽(36)에 형성된다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 챔버(33) 전체에 압축된 기체가 가득찬 상태를 만들 수 있어, 슬릿(34)의 전체 둘레로부터 안정적으로 기체를 토출시킬 수 있다.

또한, 제1 실시형태에 의하면, 제어 장치(40)는 기체 공급원(50)에 의한 기체의 공급을 제어한다. 제어 장치(40)는, 기판(W)의 처리실(11b) 안으로의 반출입 시에, 기체 공급원(50)에 의한 기체의 공급을 정지하도록 제어한다. 따라서, 제1 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)의 반출입 시에, 기판(W)에 대하여 불필요한 강한 다운플로우를 맞히는 것을 피할 수 있다.

1: 기판 처리 장치, 11b: 처리실, 22: 회전 테이블, 24: 액받음부, 24c: 개구, 25: 노즐, 26: FFU, 27: 이오나이저, 30: 기류 형성 기구, 30a, 30b: 개구, 31: 제1 원환형 부재, 31a: 기체 도입구, 32: 제2 원환형 부재, 33: 챔버, 34: 슬릿, 35: 곡면, 36: 내벽, 37: 외벽, 40: 제어 장치, 50: 기체 공급원.

Claims

기판 처리 장치로서,
기판을 처리하는 처리실과,
상기 처리실 내에 설치되며, 상기 기판을 유지하여 회전시키는 회전 테이블과,
상기 회전 테이블에 유지된 상기 기판에 대하여 처리액을 공급하는 공급부와,
상기 회전 테이블을 둘러싸도록 설치되며, 상단에 원형의 개구를 갖고, 상기 회전 테이블의 회전에 의해서 회전하는 상기 기판으로부터 비산하는 처리액을 받아내는 액받음부와,
상기 처리실의 천장 측에 설치되어, 상기 처리실 내에 하강 기류를 발생시키는 송풍부와,
상기 액받음부와 상기 송풍부 사이에 설치되며, 상단 및 하단에 원형의 개구를 각각 갖는 통형으로 형성되어, 상기 송풍부에 의해서 발생한 하강 기류를, 상기 액받음부의 상단의 개구의 내측에 집중시키는 기류 형성부
를 구비하는, 기판 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 기류 형성부는,
내벽과 외벽과 곡면과 기체 토출부를 갖고,
상기 내벽은, 상하 방향의 단면에 있어서, 상기 상하 방향에 있어서의 중앙부가 외벽 방향으로 만곡되고,
상기 기체 토출부는, 상기 내벽에 설치되어, 상기 하단의 개구로 향하여 흐르는 기체를 토출하고,
상기 곡면은, 상기 상하 방향의 단면에 있어서, 외형이 위쪽으로 향해서 팽창된 곡면이며, 상기 외벽의 상단으로부터 위쪽으로 연장된 후, 상기 기체 토출부의 위치까지 아래쪽으로 연장되는 것인, 기판 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기류 형성부의 하단의 개구의 내경은 상기 액받음부의 상단의 개구의 내경보다 작은 것인, 기판 처리 장치.
제3항에 있어서,
상기 기류 형성부는, 상기 하단의 개구와 상기 액받음부의 상단의 개구와의 거리가, 상기 하단의 개구의 내경과, 상기 액받음부의 상단의 개구의 내경과, 상기 하단의 개구에 있어서의 기류의 확산 각도에 기초한 거리가 되도록, 상기 처리실 내에 설치되어 있는 것인, 기판 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 송풍부의 아래쪽에 설치되어 정전기를 제거하는 정전기 제거부
를 더 구비하고,
상기 기류 형성부는 상기 정전기 제거부의 아래쪽에 설치되는 것인, 기판 처리 장치.
제2항에 있어서,
상기 기체 토출부로부터 토출되는 기체를 상기 기류 형성부에 공급하는 기체 공급부
를 더 구비하고,
상기 기류 형성부는 제1 원환형 부재와 제2 원환형 부재로 형성되고,
상기 제1 원환형 부재와 상기 제2 원환형 부재에 의해서, 상기 기체를 모아 압축하기 위한 공간을 형성하고,
상기 기체 토출부는 상기 기체 공급부로부터 상기 공간에 공급된 기체를 토출하는 것인, 기판 처리 장치.
제6항에 있어서,
상기 기체 공급부로부터 토출되는 기체를 상기 공간에 도입하는 기체 도입구가 상기 공간의 하단 측의 상기 외벽에 형성되고,
상기 기체 토출부는 상기 공간의 상단 측의 상기 내벽에 설치되는 것인, 기판 처리 장치.
제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 기체 공급부에 의한 기체의 공급을 제어하는 제어부
를 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 기판의 상기 처리실 안으로의 반출입 시에, 상기 기체 공급부에 의한 상기 기체의 공급을 정지하도록 제어하는 것인, 기판 처리 장치.