KR20240017069A - 노광 장치, 노광 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 노광 데이터 작성 방법 - Google Patents

Abstract

노광 장치는, 조명 광학계와, 조명 광학계로부터의 광에 의해서 조명되는 복수의 공간 광변조기와, 공간 광변조기로부터 출사되는 광을 노광 대상에 조사하는 복수의 투영 광학계와, 노광 대상이 재치되는 스테이지를 구비한다. 스테이지는, 복수의 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 노광 대상에 조사되는 광이 노광 대상 상을 주사한다. 공간 광변조기는, 노광에 있어서, 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부 (Oa) 의 조도가, 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부 (Sa, Sb) 의 조도에 비해서 높아지도록 설정된다.

Description

노광 장치, 노광 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 노광 데이터 작성 방법

본 발명은 노광 장치, 노광 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 노광 데이터 작성 방법에 관한 것이다.

본원은 2021년 7월 5일에 출원된 일본 특허출원 2021-111848호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.

종래, 광학계를 개재하여 기판에 조명광을 조사하는 노광 장치로서, 공간 광변조기를 이용하여 변조된 광을 투영 광학계에 통과시키고, 이 광에 의한 이미지를 기판에 도포되어 있는 레지스트 상에 결상시켜 노광하는 노광 장치가 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 1 참조).

일본 공개특허공보 2005-266779호

본 발명의 제 1 양태에 의하면, 복수의 소자를 갖는 복수의 공간 광변조기와, 펄스광에 의해서, 상기 복수의 공간 광변조기를 조명하는 조명 광학계와, 상기 공간 광변조기로부터 출사되는 광을 노광 대상에 조사하는 복수의 투영 광학계와, 상기 노광 대상이 재치 (載置) 되는 스테이지와, 상기 복수의 소자를, 상기 펄스광을 상기 투영 광학계로 유도하는 제 1 상태와, 상기 투영 광학계로 유도하지 않는 제 2 상태로 전환하는 제어부를 구비하고, 상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하고, 상기 제어부는, 노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는, 노광 장치가 제공된다.

본 발명의 제 2 양태에 의하면, 상기 서술한 노광 장치를 사용하여 노광 대상을 노광하는 방법으로서, 상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하고, 이 때, 노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는, 노광 방법이 제공된다.

본 발명의 제 3 양태에 의하면, 상기 서술한 노광 방법에 의해서 노광 대상을 노광하는 것과, 상기 노광된 노광 대상을 현상하는 것을 포함하는 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 제 4 양태에 의하면, 복수의 소자를 갖는 복수의 공간 광변조기와, 펄스광에 의해서, 상기 복수의 공간 광변조기를 조명하는 조명 광학계와, 상기 공간 광변조기로부터 출사되는 광을 노광 대상에 조사하는 복수의 투영 광학계와, 상기 노광 대상이 재치되는 스테이지와, 상기 복수의 소자를, 상기 펄스광을 상기 투영 광학계로 유도하는 제 1 상태와, 상기 투영 광학계로 유도하지 않는 제 2 상태로 전환하는 제어부를 구비하고, 상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하는 노광 장치에 사용되고, 노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는 노광 데이터를 작성하는, 노광 데이터 작성 방법이 제공된다.

도 1 은, 제 1 실시형태의 노광 장치의 외관 구성의 개요를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 조명 모듈 및 투영 모듈의 구성의 개요를 나타내는 도면이다.
도 3 은, 조명 모듈의 구성의 개요를 나타내는 도면이다.
도 4 는, 광변조부의 구성의 개요를 나타내는 도면이다.
도 5 는, 광변조부의 구성의 개요를 나타내는 도면으로서, 지면 중앙의 미러의 온 상태를 나타내는 도면이다.
도 6 은, 광변조부의 구성의 개요를 나타내는 도면으로서, 지면 중앙의 미러의 오프 상태를 나타내는 도면이다.
도 7(A) 는, 2 개의 투영 모듈의 노광 시야를 나타내는 도면이다. (B) 는, 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (C) 는, 주사 노광에 의한 감광량을 나타내는 그래프이다. (D) 는, 노광 대상물에 조사되는 광의 적산 조도 (적산 노광량) 를 나타내는 그래프이다.
도 8(A) 는, 2 개의 투영 모듈의 노광 시야를 나타내는 도면이다. (B) 는, 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (C) 는, 주사 노광에 의한 감광량을 나타내는 그래프이다. (D) 는, 노광 대상물에 조사되는 광의 적산 조도 (적산 노광량) 를 나타내는 그래프이다.
도 9 는, 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치의 기판 상에 투영되는 공간 광변조기의 직사각 형상의 투영 영역의 배치예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 10 은, 도 9 중의 2 개의 투영 영역만에 의한 연속 노광 (통상 노광 모드) 의 모습을 나타내는 도면이다.
도 11 은, 네거티브 레지스트의 경우의 특수 노광 모드의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 12 는, 변형예에 있어서 연속 영역 내에 노광되는 온 상태의 미러의 적산 개수의 Y 방향의 분포의 일례를 나타내는 도면이다. (A) 는, 통상 노광 모드에 있어서의 분포의 일례를 나타내는 도면이고, (B) 는, 특수 노광 모드에 있어서의 분포의 일례를 나타내는 도면이다.
도 13(A) 는, 제 3 실시형태에 관련된 노광 대상물이 노광되었을 때에 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (B) 는, 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (C) 는, 주사 노광에 의한 적산 펄스수를 나타내는 그래프이다.
도 14 는, 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치의 노광 모드의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 이하의 상세한 설명은 예시적인 것에 지나지 않고, 한정되는 것은 아니다. 도면 및 이하의 상세한 설명의 전체에 걸쳐서, 동일하거나 또는 동등한 참조 부호가 사용된다.

[제 1 실시형태]

[노광 장치]

도 1 은, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 의 외관 구성의 개요를 나타내는 도면이다. 노광 장치 (1) 는, 노광 대상물에 변조광을 조사하는 장치이다. 특정한 실시형태에 있어서, 노광 장치 (1) 는, 액정 표시 장치 (플랫 패널 디스플레이) 등의 전자 디바이스에 사용되는 직사각형 (각형) 의 유리 기판을 노광 대상물로 하는 스텝·앤드·스캔 방식의 투영 노광 장치, 이른바 스캐너이다. 노광 대상물인 유리 기판은, 적어도 1 변의 길이, 또는 대각 길이가 500 ㎜ 이상이어도 된다. 노광 대상물인 유리 기판은, 플랫 패널 디스플레이용의 기판이어도 된다. 노광 장치 (1) 에 의해서 노광된 노광 대상물 (예를 들어, 플랫 패널 디스플레이용의 기판) 은, 현상됨으로써 제품에 제공된다. 노광 대상물의 표면에는 레지스트 (예를 들어, 네거티브 레지스트) 가 형성된다.

노광 장치 (1) 의 장치 본체는, 예를 들어, 미국 특허출원공개 제2008/0030702호 명세서에 개시되는 장치 본체와 동일하게 구성되어 있다.

노광 장치 (1) 는, 베이스 (11), 방진대 (12), 메인 칼럼 (13), 스테이지 (14), 광학 정반 (15), 조명 모듈 (16), 투영 모듈 (17) (투영 광학계), 광원 유닛 (18), 광 파이버 (19), 광변조부 (20) (도 1 에는 도시 생략) 및 제어부 (21) 를 구비한다.

이하에 있어서, 광변조부 (20) 에서 변조된 광을 노광 대상물에 조사하는 투영 모듈 (17) 의 광축 방향으로 평행한 방향을 Z 축 방향으로 하고, Z 축에 직교하는 소정 평면의 방향을 X 축 방향, Y 축 방향으로 하는 3 차원 직교 좌표계를 필요에 따라서 사용하면서 설명한다. X 축 방향과 Y 축 방향은 서로 직교 (교차) 하는 방향이다. 본 실시형태에 있어서, X 축 방향은, 노광 대상물 (기판) (23) 의 주사 이동 방향이고, Y 축 방향은, 노광 대상물 (기판) (23) 의 스텝 방향이다.

베이스 (11) 는, 노광 장치 (1) 의 기대로서, 방진대 (12) 상에 설치된다. 베이스 (11) 는, 노광 대상물이 재치되는 스테이지 (14) 를, X 축 방향 및 Y 축 방향으로 이동 가능하게 지지한다.

스테이지 (14) 는, 노광 대상물을 지지하는 것이다. 스테이지 (14) 는, 주사 노광에 있어서, 투영 모듈 (17) 을 개재하여 투영되는 회로 패턴의 복수의 부분 이미지에 대해서 노광 대상물을 고정밀도로 위치 결정하기 위한 것이다. 스테이지 (14) 는, 노광 대상물을 6 자유도 방향 (상기 서술한 X 축, Y 축 및 Z 축 방향 및 각각의 축에 대한 회전 방향) 으로 구동시킨다.

스테이지 (14) 는, 주사 노광시에 X 축 방향으로 소정의 등속도로 이동되고, 노광 대상물 상의 노광 대상 영역을 변경할 때에 Y 축 방향으로 스텝 이동된다. 또한, 노광 대상물은, 복수의 노광 대상 영역이 형성된다. 스테이지 (14) 는, 노광 대상물과 투영 모듈 (17) 을 주사 방향으로 상대 이동시킨다.

노광 장치 (1) 는, 1 장의 노광 대상물 상에서, 복수의 노광 대상 영역을 각각 노광하는 것이 가능하다. 스테이지 (14) 의 구성으로는, 특별히 한정되지 않지만, 미국 특허출원공개 제2012/0057140호 명세서 등에 개시되는 스테이지 장치를 사용할 수 있다. 스테이지 장치는, 예를 들어, 갠트리 타입의 2 차원 조동 (粗動) 스테이지와, 그 2 차원 조동 스테이지에 대해서 미소 구동되는 미동 (微動) 스테이지를 포함하는, 이른바 조미동 구성의 스테이지 장치이다. 조미동 구성의 스테이지 장치는, 조동 스테이지에 의해서 노광 대상물이 수평면 내의 3 자유도 방향으로 이동 가능하며, 또한 미동 스테이지에 의해서 노광 대상물이 6 자유도 방향으로 미동 가능하게 되어 있다.

메인 칼럼 (13) 은, 스테이지 (14) 의 상방 (Z 축의 정방향) 에 광학 정반 (15) 을 지지한다. 광학 정반 (15) 은, 조명 모듈 (16) 과 투영 모듈 (17) 과 광변조부 (20) 를 지지한다.

도 2 는, 조명 모듈 (16) 과 투영 모듈 (17) 과 광변조부 (20) 의 구성의 개요를 나타내는 도면이다.

조명 모듈 (16) 은, 광학 정반 (15) 의 상방에 배치되고, 광 파이버 (19) 를 개재하여 광원 유닛 (18) 에 접속된다. 본 실시형태의 일례에 있어서, 조명 모듈 (16) 에는, 제 1 조명 모듈 (16A), 제 2 조명 모듈 (16B), 제 3 조명 모듈 (16C) 및 제 4 조명 모듈 (16D) 이 포함된다. 이하의 설명에 있어서, 제 1 조명 모듈 (16A) ∼ 제 4 조명 모듈 (16D) 을 구별하지 않는 경우에는, 이것들을 총칭하여 조명 모듈 (16) 로 기재한다.

제 1 조명 모듈 (16A) ∼ 제 4 조명 모듈 (16D) 의 각각은, 광 파이버 (19) 를 개재한 광원 유닛 (18) 으로부터 출사되는 광을, 제 1 광변조부 (20A), 제 2 광변조부 (20B), 제 3 광변조부 (20C) 및 제 4 광변조부 (20D) 의 각각에 도광한다. 조명 모듈 (16) 은, 광변조부 (20) 를 조명한다.

광변조부 (20) 는, 후단에서 더욱 상세하게 서술하지만, 노광 대상물로서의 기판 (23) 에 전사해야 할 회로 패턴의 묘화 데이터 (2 차원의 비트 맵 형식 등의 디지털 데이터) 에 기초하여 제어되고, 조명 모듈 (16) 로부터의 조명광의 공간적인 강도 분포를 노광해야 할 패턴에 따라서 동적으로 변조한다. 광변조부 (20) 에 의해서 변조된 변조광은, 투영 모듈 (17) 로 유도된다. 제 1 광변조부 (20A) ∼ 제 4 광변조부 (20D) 는, XY 평면 상 내에서 서로 상이한 위치에 배치된다. 이하의 설명에 있어서, 제 1 광변조부 (20A) ∼ 제 4 광변조부 (20D) 를 구별하지 않는 경우에는, 이것들을 총칭하여 광변조부 (20) 로 기재한다.

투영 모듈 (17) 은, 광학 정반 (15) 의 하방에 배치되고, 광변조부 (20) 에 의해서 변조된 변조광을 스테이지 (14) 상에 재치된 기판 (23) (표면에 감광층을 갖는다) 에 조사한다. 투영 모듈 (17) 은, 광변조부 (20) 에서 변조된 광 (패턴에 따른 광 강도 분포의 이미지) 을, 기판 (23) 상에서 결상시키고, 기판 (23) 의 감광층 (포토레지스트) 을 노광한다. 바꾸어 말하면, 투영 모듈 (17) 은, 광변조부 (20) 에서 생성되는 동적인 가변 패턴의 이미지를 기판 (23) 에 투영한다. 본 실시형태의 일례에 있어서, 투영 모듈 (17) 에는, 상기 서술한 제 1 조명 모듈 (16A) ∼ 제 4 조명 모듈 (16D) 및 제 1 광변조부 (20A) ∼ 제 4 광변조부 (20D) 에 대응하는, 제 1 투영 모듈 (17A) ∼ 제 4 투영 모듈 (17D) 이 포함된다. 이하의 설명에 있어서, 제 1 투영 모듈 (17A) ∼ 제 4 투영 모듈 (17D) 을 구별하지 않는 경우에는, 이것들을 총칭하여 투영 모듈 (17) 로 기재한다.

제 1 조명 모듈 (16A) 과, 제 1 광변조부 (20A) 와, 제 1 투영 모듈 (17A) 에 의해서 구성되는 유닛을, 제 1 노광 모듈이라고 부른다. 동일하게, 제 2 조명 모듈 (16B) 과, 제 2 광변조부 (20B) 와, 제 2 투영 모듈 (17B) 에 의해서 구성되는 유닛을, 제 2 노광 모듈이라고 부른다. 각 노광 모듈은, XY 평면 상에서 서로 상이한 위치에 형성되어, 스테이지 (14) 에 재치된 노광 대상물의 상이한 위치에 패턴을 노광할 수 있다. 스테이지 (14) 는, 노광 모듈에 대해서 주사 방향인 X 축 방향으로, 상대적으로 이동함으로써, 노광 대상물의 전체 면 혹은 노광 대상 영역의 전체 면을 주사 노광할 수 있다. 또, 도 1 로부터도 알 수 있는 바와 같이, 도 2 중에 있어서의 제 1 조명 모듈 (16A), 제 1 투영 모듈 (17A) 및 제 1 광변조부 (20A) 의 제 1 노광 모듈은, Y 축 방향으로도 복수 나열되어 배치되어 있다. 동일하게, 도 2 중에 있어서의 제 2 조명 모듈 (16B), 제 2 투영 모듈 (17B) 및 제 2 광변조부 (20B) 의 제 2 노광 모듈은, Y 축 방향으로도 복수 나열되어 배치되어 있다. 동일하게, 도 2 중에 있어서의 제 3 조명 모듈 (16C), 제 3 투영 모듈 (17C) 및 제 3 광변조부 (20C) 에 의한 제 3 노광 모듈은, Y 축 방향으로도 복수 나열되어 배치되어 있다. 동일하게, 도 2 중에 있어서의 제 4 조명 모듈 (16D), 제 4 투영 모듈 (17D) 및 제 4 광변조부 (20D) 에 의한 제 4 노광 모듈은, Y 축 방향으로도 복수 나열되어 배치되어 있다.

또한, 조명 모듈 (16) 을 조명계라고도 한다. 조명 모듈 (16) (조명계) 은, 광변조부 (20) 의 후술하는 공간 광변조기 (201) (공간 광변조 소자) 를 조명한다.

또, 투영 모듈 (17) 은, 투영부라고도 한다. 투영 모듈 (17) (투영부) 은, 광변조부 (20) 상의 패턴의 이미지를 등배로 투영하는 등배계여도 되고, 확대계 또는 축소계여도 된다. 또, 투영 모듈 (17) 은, 단일 혹은 2 종의 초재 (硝材) (특히 석영 혹은 형석) 에 의해서 구성되는 것이 바람직하다.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 광원 유닛 (18) 은, 1 쌍 (광원 유닛 R (18R), 광원 유닛 L (18L)) 형성되어 있다. 광원 유닛 (18) 으로는, 간섭성이 높은 레이저를 광원으로 하는 광원 유닛, 반도체 레이저 타입의 UV-LD 와 같은 광원을 사용한 광원 유닛, 및 렌즈 릴레이식의 리타더에 의한 광원 유닛을 채용할 수 있다. 광원 유닛 (18) 이 구비하는 광원 (18a) 으로는, 405 ㎚ 나 365 ㎚ 등의 파장을 출사하는 램프나 레이저 다이오드 등을 들 수 있다. 광원 유닛 (18) 은, 각 광 파이버 (19) 에 거의 동일한 조도의 조명광 (펄스광) 을 공급하는 광 분배계를 포함해도 된다. 또, 광원 유닛 (18) 으로서, 자외 파장역 (300 ∼ 436 ㎚) 내의 특정한 파장에서 피크 강도를 갖고, 발광 시간이, 예를 들어 수십 피코초 이내로 극히 짧은 자외 펄스를 100 KHz 이상의 주파수로 출력 가능한 파이버 앰프 레이저 광원을 이용할 수도 있다.

노광 장치 (1) 는, 상기 서술한 각 부에 더하여, 간섭계나 인코더 등으로 구성되는 위치 계측부 (도시 생략) 를 구비하고 있고, 광학 정반 (15) 에 대한 스테이지 (14) 의 상대 위치를 계측한다. 노광 장치 (1) 는, 상기 서술한 각 부에 더하여, 스테이지 (14) 혹은 스테이지 (14) 상의 기판 (23) 의 Z 축 방향의 위치를 계측하는 AF (Auto Focus) 부 (42) 를 구비하고 있다. 또한 노광 장치 (1) 는, 기판 (23) 상에 이미 노광된 패턴 (하지층) 에 대해서 다른 패턴을 중첩하여 노광할 때에, 각각의 패턴의 상대 위치를 맞추기 위해서 하지층에 형성된 얼라인먼트 마크의 위치를 계측하는 얼라인먼트부 (41) 를 구비한다. AF 부 (42) 및/또는 얼라인먼트부 (41) 는, 투영 모듈 (17) 을 개재하여 계측하는 TTL (Through the lens) 의 구성이어도 된다.

도 3 은, 노광 모듈의 구성의 개요를 나타내는 도면이다. 제 1 노광 모듈을 일례로 하여, 조명 모듈 (16) 과 광변조부 (20) 와 투영 모듈 (17) 의 구체적인 구성의 일례에 대해서 설명한다.

조명 모듈 (16) 은, 모듈 셔터 (161) 와, 조명 광학계 (162) 를 구비한다. 모듈 셔터 (161) 는, 광 파이버 (19) 로부터 소정의 강도, 소정의 주기로 공급되는 펄스광을, 조명 광학계 (162) 에 도광할지의 여부를 전환한다.

조명 광학계 (162) 는, 광 파이버 (19) 로부터 공급되는 펄스광을, 콜리메이터 렌즈 (162A), 플라이아이 렌즈 (162C), 콘덴서 렌즈 (162E) 등을 개재하여, 광변조부 (20) 에 출사함으로써, 광변조부 (20) 를 거의 균일하게 조명한다. 플라이아이 렌즈 (162C) 는, 플라이아이 렌즈 (162C) 에 입사되는 펄스광을 파면 분할하고, 콘덴서 렌즈 (162E) 는, 파면 분할된 광을 광변조부 (20) 상에 중첩시킨다. 또한, 조명 광학계 (162) 는, 플라이아이 렌즈 (162C) 대신에, 로드 인터그레이터를 구비하고 있어도 된다. 본 실시형태의 조명 광학계 (162) 는, 추가로 가변 감광 필터 (162B), 가변 개구 조리개 (162D) 및 평면 미러 (162F) 를 구비한다. 가변 감광 필터 (162B) 는, 플라이아이 렌즈 (162C) 에 입사되는 조명광 (펄스광) 의 조도를 감쇠시켜 노광량을 조정한다. 가변 개구 조리개 (162D) 는, 플라이아이 렌즈 (162C) 의 사출면측에 형성되는 거의 원형의 광원 이미지의 크기 (직경) 를 조정하여 조명 σ 를 변화시킨다. 평면 미러 (162F) 는, 콘덴서 렌즈 (162E) 로부터의 조명광 (펄스광) 이 광변조부 (20) 를 경사지게 조명하도록 반사시킨다.

광변조부 (20) 는, 조명광의 반사광의 공간적인 강도 분포를 묘화 데이터에 기초하여 고속으로 패턴 변경되는 가변 마스크로서 기능하는 공간 광변조기 (SLM : Spatial Light Modulator) (201) 와, 오프광 흡수판 (202) 을 구비한다.

공간 광변조기 (201) 는, 디지털 미러 디바이스 (디지털 마이크로 미러 디바이스, DMD) 이다. 공간 광변조기 (201) 는, 조명광을 공간적으로, 또한, 시간적으로 변조할 수 있다.

도 4 는, 본 실시형태의 공간 광변조기 (201) 의 구성의 개요를 나타내는 도면이다. 동 도면에 있어서 Xm 축·Ym 축·Zm 축의 3 차원 직교 좌표계를 사용하여 설명한다. 공간 광변조기 (201) 는, XmYm 평면에 배열된 복수의 마이크로 미러 (203) (미러) 를 구비한다. 마이크로 미러 (203) 는, 공간 광변조기 (201) 의 소자 (화소) 를 구성한다. 마이크로 미러 (203) 는, Xm 축 둘레 및 Ym 축 둘레로 경사각을 각각 변경 가능하다. 마이크로 미러 (203) 는, 예를 들어 도 5 에 나타내는 바와 같이, Ym 축 둘레로 경사짐으로써 온 상태 (제 1 상태) 로 된다. 마이크로 미러 (203) 는, 도 6 에 나타내는 바와 같이 Xm 축 둘레로 경사짐으로써 오프 상태 (제 2 상태) 로 된다. 온 상태의 마이크로 미러 (203) 는, 투영 모듈 (17) 로 펄스광을 유도한다. 오프 상태의 마이크로 미러 (203) 는, 투영 모듈 (17) 로 펄스광을 유도하지 않는다.

공간 광변조기 (201) 는, 마이크로 미러 (203) 의 경사 방향을 마이크로 미러 (203) 마다 전환함으로써, 입사광이 반사되는 방향을 마이크로 미러 (소자) 마다 제어한다. 일례로서, 공간 광변조기 (201) 의 디지털 마이크로 미러 디바이스는, 4 M pixel 정도의 화소수를 갖고 있고, 10 kHz 정도의 주기로 마이크로 미러 (203) 의 온 상태와 오프 상태를 전환 가능하다.

공간 광변조기 (201) 는, 복수의 소자가 소정 시간 간격으로 개별적으로 제어된다. 공간 광변조기 (201) 가 DMD 인 경우, 소자란, 마이크로 미러 (203) 이고, 소정 시간 간격이란, 마이크로 미러 (203) 의 온 상태와 오프 상태를 전환하는 주기 (예를 들어, 주기 10 kHz) 이다.

도 3 으로 되돌아와, 오프광 흡수판 (202) 은, 공간 광변조기 (201) 의 오프 상태로 된 소자로부터 출사 (반사) 되는 광 (오프광) 을 흡수한다. 공간 광변조기 (201) 의 온 상태로 된 소자로부터 출사되는 광은, 투영 모듈 (17) 에 도광된다.

투영 모듈 (17) 은, 공간 광변조기 (201) 의 온 상태로 된 소자로부터 사출된 광을, 노광 대상물 상에 투영한다. 투영 모듈 (17) 은, 배율 조정부 (171) 와 포커스 조정부 (172) 를 구비한다. 배율 조정부 (171) 에는, 공간 광변조기 (201) 에 의해서 변조된 광 (변조광) 이 입사된다.

배율 조정부 (171) 는, 일부의 렌즈를 광축 방향으로 구동시킴으로써, 공간 광변조기 (201) 로부터 출사된 변조광의 결상면 (163) 의 배율을 조정한다. 결상면 (163) 은, 투영 모듈 (17) 에 의해서 만들어지는, 공간 광변조기 (201) 의 전체적인 반사면과 공액의 결상면 (베스트 포커스면) 이다. 바꾸어 말하면, 배율 조정부 (171) 는, 노광 대상물로서의 기판 (23) 의 표면에 있어서의 이미지의 배율을 조정한다.

포커스 조정부 (172) 는, 렌즈군 전체를 광축 방향으로 구동시킴으로써, 공간 광변조기 (201) 로부터 출사된 변조광이, 앞서 서술한 AF 부 (42) 에 의해서 계측된 기판 (23) 의 표면에 결상되도록, 결상 위치, 요컨대 포커스를 조정한다.

투영 모듈 (17) 은, 공간 광변조기 (201) 의 온 상태로 된 소자로부터 사출되는 광의 이미지만을, 노광 대상물의 표면에 투영한다. 그 때문에, 투영 모듈 (17) 은, 공간 광변조기 (201) 의 온 소자에 의해서 형성된 패턴의 이미지를, 기판 (23) 의 표면에 투영 노광할 수 있다. 요컨대, 투영 모듈 (17) 은, 공간적으로 변조된 가변 마스크의 이미지를, 기판 (23) 의 표면에 형성할 수 있다. 또 공간 광변조기 (201) 는, 앞서 서술한 바와 같이 소정의 주기 (주파수) 로 마이크로 미러 (203) 의 온 상태와 오프 상태를 전환할 수 있기 때문에, 투영 모듈 (17) 은, 시간적으로 변조된 변조광 (즉, 공간 광변조기 (201) 에서 반사되어 투영 모듈 (17) 에 입사되는 결상 광속의 XY 면 내에서의 명암의 형상 (광 분포) 이 시간과 함께 고속으로 변화하는 변조광) 을, 기판 (23) 의 표면에 형성할 수 있다.

투영 모듈 (17) 의 동공 위치에는, 공간 광변조기 (201) 의 온 상태의 마이크로 미러에서 반사된 결상 광속의 기판 (23) 측의 개구수 (NA) 를 조정 (제한) 하여, 해상도나 초점 심도 DOF 를 변화시킬 때에 사용되는 가변 개구 조리개 (173) 가 형성된다. 가변 개구 조리개 (162D) 와 가변 개구 조리개 (173) 는 광학적으로 거의 공액 관계로 되어 있다.

앞서 서술한 바와 같이, 공간 광변조기 (201) 는, 소정의 주기로 공급되는 펄스광에 의해서 조명된다. 따라서, 공간 광변조기 (201) 는, 펄스광의 주기의 정수배의 주기로 구동된다. 예를 들어, 공간 광변조기 (201) 의 마이크로 미러의 구동 주파수 (10 KHz) 의 주기를 Tm, 펄스광의 주기를 Tp 로 했을 때, Tm/Tp 가 정수가 되도록 설정된다. 투영 모듈 (17) 은, 공간 광변조기 (201) 에 의해서 변조된 펄스광을, 기판 (23) 에 조사한다. 기판 (23) 에는, 펄스광의 집합체에 의해서 패턴이 형성된다. 투영 모듈 (17) 에 의해서 노광 대상물로 유도되는 복수의 펄스광 (그 중심 위치) 은, 기판 (23) 상의 상이한 위치로 유도된다.

도 4 내지 도 6 에 나타내는 공간 광변조기 (201) 에서는, Xm 축이 X 축과 평행이 되고, Ym 축이 Y 축과 평행이 된다. 이로써, 온 상태의 마이크로 미러 (203) (Ym 축 둘레로 경사진 마이크로 미러 (203)) 가, 주사 방향인 X 축 방향에 대해서 경사진다.

Ym 축을 제 1 틸트축 T1 이라고도 한다. 공간 광변조기 (201) 에서는, 복수의 마이크로 미러 (203) 가 각각 제 1 틸트축 T1 (Ym 축) 둘레로 회전하고, 복수의 마이크로 미러 (203) 가 각각의 주사 방향에 대한 경사를 조정하여 온 상태로 됨으로써, 투영 모듈 (17) 에 광을 출사시킨다.

또한, 공간 광변조기 (201) 에서는, 복수의 마이크로 미러 (203) 가 주사 방향으로 직선상으로 나열되며, 또한, 복수의 마이크로 미러 (203) 가 제 1 틸트축 T1 방향으로도 나열된다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 제어부 (21) 는, 예를 들어, CPU 등의 연산부와 기억부를 갖는 컴퓨터에 의해서 구성된다. 컴퓨터는, 노광 처리에서 동작하는 각 부의 제어를 실행시키는 프로그램에 따라서, 노광 장치 (1) 의 각 부를 제어한다. 제어부 (21) 는, 예를 들어, 조명 모듈 (16), 광변조부 (20), 투영 모듈 (17) 및 스테이지 (14) 의 동작을 제어한다. 제어부 (21) 는, 복수의 마이크로 미러 (203) 를, 온 상태 (제 1 상태) 와, 오프 상태 (제 2 상태) 로 전환한다.

기억부는, 메모리 등의, 컴퓨터 판독 출력 가능한 기억 매체 장치를 사용하여 구성된다. 기억부는, 노광 처리에 관한 각종 정보를 기억한다. 기억부는, 예를 들어, 노광 처리시의 노광 패턴에 관한 정보 (묘화 데이터 외에, 목표 노광량, 주사 속도 등의 레시피 정보가 포함된다) 를 기억한다. 기억부는, 예를 들어, 통신부 또는 입력부를 개재하여 입력된 정보를 기억한다. 통신부는, 노광 장치를 외부 장치에 접속하기 위한 통신 인터페이스를 포함하여 구성된다. 입력부는, 마우스나 키보드, 터치 패널 등의 입력 장치를 포함하여 구성된다. 입력부는, 노광 장치에 대한 각종 정보의 입력을 접수한다.

[노광 방법]

스테이지 (14) 는, 노광 모듈에 대해서, 기판 (23) 을 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시킨다. 이로써, 노광 모듈에 의해서 조사되는 광은, 기억부에 기억된 노광 패턴에 관한 정보에 기초하여, 기판 (23) 을 주사하고, 소정의 노광 패턴이 형성된다.

도 7(A) 는, 기판 (23) 상에서의, 이웃하는 2 개의 투영 모듈 (17) 의 노광 시야 (PIa, PIb) 를 나타내는 도면이다. 도 7(A) 에 나타내는 바와 같이, 노광 시야 (PIa, PIb) 는 직사각 형상이다. 노광 시야 (PIa, PIb) 의 장변 방향은 X 방향 및 Y 방향에 대해서 경사진다. 노광 시야 (PIa, PIb) 는, 각각 공간 광변조기 (201) 의 다수의 마이크로 미러가 배열되는 영역 전체의 형상과 서로 유사한 형상이다.

노광 시야 (PIa) 중, 2 개의 장변이 X 방향으로 중첩되는 영역을 중앙 영역 (PIac) 이라고 한다. 노광 시야 (PIa) 중, 중앙 영역 (PIac) 에 포함되지 않는 -Y 측의 단부 영역을 제 1 단 영역 (PIa1) 이라고 한다. 노광 시야 (PIa) 중, 중앙 영역 (PIac) 에 포함되지 않는 ＋Y 측의 단부 영역을 제 2 단 영역 (PIa2) 이라고 한다.

노광 시야 (PIb) 중, 2 개의 장변이 X 방향으로 중첩되는 영역을 중앙 영역 (PIbc) 이라고 한다. 노광 시야 (PIb) 중, 중앙 영역 (PIbc) 에 포함되지 않는 -Y 측의 단부 영역을 제 1 단 영역 (PIb1) 이라고 한다. 노광 시야 (PIb) 중, 중앙 영역 (PIbc) 에 포함되지 않는 ＋Y 측의 단부 영역을 제 2 단 영역 (PIb2) 이라고 한다.

노광 시야 (PIa, PIb) 의 중앙 영역 (PIac, PIbc) 의 Y 방향의 길이는 어느 것이나 폭 Ws 이다. 제 1 단 영역 (PIa1, PIb1) 및 제 2 단 영역 (PIa2, PIb2) 의 길이는, 어느 것이나 폭 Wo 이다. Y 방향으로 이웃하는 노광 시야 (PIa, PIb) 에 있어서, 제 1 단 영역 (PIa1) 과 제 2 단 영역 (PIb2) 의 X 방향의 위치는, 대체로 일치하고 있다.

노광 시야 (PIa, PIb) 의 형상 및 위치의 설정은, 노광 모듈의 배치, 조리개등의 설정에 의해서 행한다.

도 7(B) 는, 노광 대상물이 스테이지 (14) 에 의해서 X 방향으로 주사되고, 노광 시야 (PIa, PIb) 에 의해서 노광되었을 때에, 기판 (23) 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. 도 7(B) 에 나타내는 바와 같이, 기판 (23) 상에는, 노광 시야 (PIa) 에 의해서 노광되는 주사 노광 영역 (SIa) 과, 노광 시야 (PIb) 에 의해서 노광되는 주사 노광 영역 (SIb) 이 형성된다.

주사 노광 영역 (SIa, SIb) 은, 노광 시야 (PIa, PIb) 가 X 방향으로의 주사 노광에 의해서 X 방향으로 연장된 것이라고 할 수 있다. 주사 노광 영역 (SIa, SIb) 의 비주사 방향의 단부는, 이웃하는 다른 주사 노광 영역 (SIa, SIb) 의 비주사 방향의 단부와 오버랩되어 있다. 예를 들어, 제 1 단 영역 (PIa1) 에 의한 노광 영역과, 제 2 단 영역 (PIb2) 에 의한 노광 영역은 일치한다. 「비주사 방향」은, 주사 방향과 교차하는 방향이다.

도 7(C) 는, X 방향으로의 주사 노광에 의해서, 감광된 기판 (23) 상의 감광량을 나타내는 그래프이다. 그래프의 세로축은 감광량이다. 감광량은, 후술하는「비오버랩 영역」에 있어서의 노광 대상물 상의 감광량에 대한「오버랩 영역」에 있어서의 감광량을 나타낸 값이다. 가로축은 Y 방향의 좌표이다.

도 7(C) 에 나타내는 바와 같이, 노광 대상물 상의 감광량 E 는, 일정한 값 E1 로 된다. 즉, Y 방향 중, 주사 노광 시야 (SIa, SIb) 중 1 개에 의해서 노광된 부분 (이하,「비오버랩부」라고도 부른다) (Sa, Sb) 에 있어서의 감광량 E 와, 주사 노광 시야 (SIa, SIb) 의 2 개가 오버랩되어 노광된 부분 (이하,「오버랩부」라고도 부른다) (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는, 어느 것이나 감광량 E 의 값이 E1 로 된다. 그 때문에, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 감광량 E 와 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는 동등하다.

비오버랩부 (Sa, Sb) 는, 오버랩 없이 노광되는 영역이다.

도 7(D) 는, X 방향으로의 주사 노광에 의해서 노광 대상물에 조사되는 광의 적산 조도 (적산 노광량) 를 나타내는 그래프이다. 그래프의 세로축은 적산 조도이다. 적산 조도란,「비오버랩 영역」과「오버랩 영역」의 각각에 있어서 노광 대상물에 조사되는 (펄스) 광의 총합이다. 요컨대, 펄스수가 많아지면 질수록 적산 조도는 커지고, 펄스수가 적어지면 질수록 적산 조도는 작아진다. 가로축은 Y 방향의 좌표이다.

도 7(D) 에 나타내는 바와 같이, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 조도는, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 조도보다 높다. 이로써, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 감광량 E 와, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는 동일해진다.

오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 조도를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 조도보다 높게 하려면, 다음의 수법을 채용한다.

제어부 (21) 는, 노광 시야 (PIa, PIb) 의 영역 (제 1 단 영역 (PIa1) 및 제 2 단 영역 (PIb2)) 에 상당하는 영역에 있어서, 공간 광변조기 (201) 의 마이크로 미러 (203) 의 온 상태 및 오프 상태를 제어한다. 상세하게는, 제어부 (21) 는, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 펄스광의 수가, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 펄스광의 수보다 많아지도록 복수의 마이크로 미러 (203) 를 제어한다. 예를 들어, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의, 단위 면적당 온 상태의 마이크로 미러 (203) 의 수를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의, 단위 면적당 온 상태의 마이크로 미러 (203) 의 수보다 많게 할 수 있다.

이로써, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 조도를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 조도보다 높게 할 수 있다.

노광 장치 (1) 에서는, 제어부 (21) 는, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 펄스광의 수가, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 펄스광의 수보다 많아지도록 복수의 마이크로 미러 (203) 를 제어한다. 이로써, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 감광량 E 와, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는 동등해진다. 따라서, 비오버랩부 (Sa, Sb) 와 오버랩부 (Oa) 의 감광량의 편중을 억제할 수 있다.

노광 장치 (1) 를 사용한 노광 방법에서는, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 펄스광의 수가, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 펄스광의 수보다 많아지도록 복수의 마이크로 미러 (203) 를 제어한다. 이로써, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 감광량 E 와, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는 동등해진다. 따라서, 비오버랩부 (Sa, Sb) 와 오버랩부 (Oa) 의 감광량의 편중을 억제할 수 있다.

노광 장치 (1) 는, 동기용의 기준이 되는 마스터 클록 (마스터 클록을 발하는 발진기) (도시 생략) 을 구비하고 있어도 된다. 노광 장치 (1) 에서는, 예를 들어, 스테이지 (14), 조명 모듈 (16), 투영 모듈 (17), 광변조부 (20) 등의 디바이스는, 마스터 클록을 기준으로 하여 구동되어도 된다. 제어부 (21) 는, 마스터 클록을 기준으로 하여, 광원 (18) 의 펄스 발광의 타이밍이나 각 디바이스의 동작을 제어 가능하다. 마스터 클록의 참조에 의해서, 각 디바이스의 동작 타이밍이 개별적으로 적절히 조정됨과 함께, 복수의 디바이스간의 동작 타이밍의 관계가 적절히 설정된다.

실시형태의 노광 장치 (1) 에 있어서의 효과를 명확하게 하기 위해서 비교 형태를 제시한다.

도 8(A) ∼ (B) 는, 비교 형태를 나타낸다. 도 8(A) 는, 이웃하는 2 개의 투영 모듈 (17) 의 노광 시야 (PIa, PIb) 를 나타내는 도면이다. 도 8(B) 는, 노광 시야 (PIa, PIb) 에 의해서 노광되었을 때에, 기판 (23) 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. 도 8(C) 는, X 방향으로의 주사 노광에 의한 감광량을 나타내는 그래프이다. 도 8(D) 는, X 방향으로의 주사 노광에 의해서 기판 (23) 에 조사되는 광의 적산 조도를 나타내는 그래프이다.

도 8(D) 에 나타내는 바와 같이, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 조도는, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 조도와 동등하다. 도 8(C) 에 나타내는 바와 같이, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량 E 는, 비오버랩부 (Sa, Sb) 의 감광량 E2 보다 낮다. 이 비교 형태에서는, 오버랩부 (Oa) 에 있어서 감광량의 저하가 발생되었다. 그 때문에, 비오버랩부 (Sa, Sb) 와 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 감광량의 편중은 커진다. 이 비교 형태에서는, 예를 들어, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 펄스광의 수가, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 펄스광의 수와 동등하다.

도 7(A) 에 나타내는 바와 같이, 노광 장치 (1) 에서는, 제 1 단 영역 (PIa1) 과, 제 2 단 영역 (PIb2) 은 X 방향의 위치는 거의 일치하고 있지만, 제 1 단 영역 (PIa1) 과, 제 2 단 영역 (PIb2) 의 위치 관계는 도시예에 한정되지 않는다. 도 7(A) 에 비해서, 노광 시야 (PIa) 와 노광 시야 (PIb) 를 서로 접근하는 방향 또는 이간되는 방향으로 위치 조정하면, 오버랩부에 있어서의 적산 조도를 조정할 수 있다. 예를 들어, 노광 시야 (PIa) 와 노광 시야 (PIb) 가 서로 가까우면, 오버랩부에 있어서의 적산 조도는 커진다.

[노광 데이터 작성 방법]

도 7(C) 및 (D) 에 나타내는 노광 데이터를 작성하는 방법의 일례를 설명한다.

도 2 에 나타내는 제어부 (21) 에, 오버랩부 (Oa) 및 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 온 상태의 마이크로 미러 (203) 의 수를 조정하기 위한 정보를 입력한다. 이로써, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 펄스광의 수가, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 펄스광의 수보다 많아지는 노광 데이터를 얻는다.

노광 장치 (1) 에서는, 다음에 나타내는 바와 같이, 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정뿐만 아니라, 차광 부재를 사용하는 수법을 병용해도 된다. 차광 부재의 구성으로는, 특별히 한정되지 않지만, 국제 공개 2020/145044호, 국제 공개 2020/203002호, 국제 공개 2020/203003호, 국제 공개 2020/203111호, 및 국제 공개 2020/138497호에 개시되는 차광 부재, 혹은 감광 필터를 사용할 수 있다.

차광 부재는, 노광 시야 (PIa, PIb) (도 7(A) 참조) 중의 중앙 영역 (PIac, PIbc) 에 조사되는 광을 차광할 수 있다. 이로써, 중앙 영역 (PIac, PIbc) 의 적산 조도를, 제 1 단 영역 (PIa1) 및 제 2 단 영역 (PIb2) 에 비해서 낮게 할 수 있다.

실시형태의 노광 장치에서는, 주사 노광 시야의 에지부에 있어서 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정을 행하면, 주사 노광 시야의 에지부의 위치가 확폭 방향으로 어긋나는 경우가 있다. 주사 노광 시야의 중앙에 가까운 위치에 있어서 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정을 행하면, 이와 같은 위치 어긋남은 잘 발생되지 않는다. 이것을 고려하여, 온 상태로 하는 마이크로 미러를 선택하는 것이 바람직하다.

주사 노광 시야의 양방의 에지부에 균등하게 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정을 행하면, 위치 어긋남을 억제하기 쉬워지는 경우가 있다. 주사 노광 시야의 양방의 에지부에 불균등하게 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정을 행함으로써, 의도적으로 위치 어긋남을 발생시키게 해도 된다.

[플랫 패널 디스플레이의 제조 방법]

노광 장치 (1) 는, 전술한 노광 방법을 이용하여, 액정 표시 장치 (플랫 패널 디스플레이) 등의 전자 디바이스를 제조할 수 있다.

[제 2 실시형태]

도 9 는, 도 2 에 나타낸 투영 모듈 (17A, 17B) 의 각각에 의해서 기판 (23) 상에 투영되는 공간 광변조기 (201) 의 직사각 형상의 투영 영역 (PIa, PIb) 의 배치예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 동 도면을 참조하면서, 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (1) 및 노광 방법의 일례에 대해서 설명한다. 이후의 설명에 있어서, 제 1 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 동일한 부호를 붙임으로써 설명을 생략하는 경우가 있다. 또한, 도 9 에서는 투영 모듈 (17A, 17B) 이외의 투영 모듈 (17C, 17D) 에 대해서 도시를 생략하고 있지만, 투영 모듈 (17C, 17D) 에 대해서도 투영 모듈 (17A, 17B) 과 동일한 것을 말할 수 있다.

17a, 17b 는 원형의 투영 시야를 나타낸다. 여기서, 투영 시야 (17a, 17b) 의 각각의 중심 (Axa, Axb) 을 각각 투영 모듈 (17A, 17B) 의 광축 위치로 하여, 노광 시야 (이하, 투영 영역이라고도 부른다) (PIa, PIb) 의 각각의 중심과 일치하고 있는 것으로 한다. Y 방향으로 일정 간격을 두고 나열되는 복수의 투영 영역 (PIa) 과, Y 방향으로 일정 간격을 두고 나열되는 투영 영역 (PIb) 은, X 방향으로도 일정한 간격으로 배치된다. 또한, 투영 영역 (PIa) 과 투영 영역 (PIb) 은, 기판 (23) 의 표면과 평행한 XY 면 내에서 각도 θp 만큼 경사지게 배치됨과 함께, 서로 Y 방향으로 소정의 사이를 두고 배치된다. 기판 (23) 의 X 방향의 주사 노광에 의해서, 투영 영역 (PIa, PIb) 의 각각의 Y 방향의 단부가 오버랩됨으로써 연속 노광이 행해진다.

여기에서, 투영 영역 (PIa, PIb) 이 오버랩되는 부분을 연속 영역 (계속부) (PIw) 으로 하고, 오버랩되지 않는 부분을 비연속 영역 (PIac, PIbc) 으로 한다. 연속 영역 (PIw) 의 폭을 Wo, 비연속 영역 (PIac, PIbc) 의 폭을 Ws 로 한다. 또한, 각도 θp 는, 공간 광변조기 (201) 상의 마이크로 미러의 치수나 배열 피치, 투영 모듈 (17) 을 개재하여 기판 (23) 상에 투영되는 패턴 선폭의 묘화 정밀도 (묘화 분해능) 등으로 결정되지만, 대개 10 도 이내이다.

또, 투영 영역 (PIa, PIb) 의 단변 (X 방향으로 연장된 변) 의 치수를 Dx 로 하면, 연속 영역 (PIw) 의 Y 방향의 폭 Wo 는, 각 공간 광변조기 (201) 를 XY 방향으로 미소 시프트시키거나, XY 면 내에서 미소 회전시키거나 할 경우의 조정 범위를 고려하여, Wo ＞ Dx·sinθp 로 설정된다.

다음으로, 2 개의 투영 영역 (PIa, PIb) 에 의한 통상의 연속 노광의 상태 (통상) 를, 도 10 에 의해서 모식적으로 설명한다. 도 10 은, 도 9 중의 2 개의 투영 영역 (PIa, PIb) 만에 의한 연속 노광 (통상 노광 모드) 의 모습을 나타내는 도면이다. 도 10 에 있어서의 투영 영역 (PIa, PIb) 의 각각의 내부의 흑점 (도트) 은, 온 상태로 되는 마이크로 미러의 배치의 예를 나타낸다.

도 10 에 나타내는 바와 같이, 기판 (23) 상에서, 투영 영역 (PIb) 내의 비연속 영역 (Ws) 내를 통과하는 기판 (23) 상의 선 L1, L2 를 상정하고, 선 L1, L2 상에서 패턴 부분을 노광할 경우, 선 L1 상 및 선 L2 상의 각각에 위치하는 복수의 마이크로 미러가 선택되어, 기판 (23) 의 주사 이동 위치, 그리고 펄스광의 주기에 동기하여 순차적으로 온 상태 (도트) 로 된다. 그 때문에, 1 개의 선 L1 상 또는 L2 상의 복수의 도트는, 기판 (23) 상에서는 X 방향의 동일 점 상에서 펄스 노광된다.

비연속 영역 (Ws) 내에서 선 L1, L2 상에 위치하는 온 상태의 마이크로 미러의 수 (도트수) 는, 목표 노광량에 따라서 정해진 수로 된다. 따라서, 도 10 의 하단에 나타내는 바와 같이, 비연속 영역 (Ws) 에서는, 목표 노광량에 대응하여 온 상태의 마이크로 미러의 적산 개수 (펄스수) Nt 가 정해져 있다.

이상의 것은, 인근의 투영 영역 (PIa) 내의 비연속 영역 (Ws) 내의 선 L6, L7 의 각 위치에 있어서도 동일하고, 온 상태의 마이크로 미러의 적산 개수 (펄스수) 는 Nt 로 되도록 설정되어 있다. 또한, 도 10 의 하단에 있어서, 적산 개수가 제로로 되어 있는 Y 방향의 부분은, 마이크로 미러가 오프 상태로 설정되어 노광이 행해지지 않는 영역 (묘화 데이터 상에서 비노광의 부분) 이다.

한편, 도 10 중의 연속 영역 (Wo) 내를 지나는 선 L3, L4, L5 상의 각각에 위치하는 온 상태의 마이크로 미러 (도트) 의 적산 개수도, 목표 노광량에 대응한 Nt 로 되도록 설정된다. 여기서, 도 9 에서 설명한 바와 같이, Wo ＞ Dx·sinθp 로 설정되어 있기 때문에, 연속 영역 (Wo) 의 Y 방향의 폭의 중심에 위치하는 선 L4 상에서는, 투영 영역 (PIa) 측만, 및 (PIb) 측만에서, 각각 도트의 적산 개수 Nt 가 얻어지지만, 이 경우 연속 영역 (Wo) 이 오버 노광 상태로 되어 버린다. 그 때문에, 통상 노광의 모드에서는, 투영 영역 (PIa) 측의 연속 영역 (Wo) 내에서 선 L3, L4, L5 의 각각의 위에 위치하는 도트수와, 투영 영역 (PIb) 측의 연속 영역 (Wo) 내에서 선 LL3, L4, L5 의 각각의 위에 위치하는 도트수의 합이, 적산 개수 (펄스수) Nt 로 되도록 설정된다.

또한, 공간 광변조기 (201) 의 마이크로 미러가 4 K 화면의 화소수 (3840 × 1920) 에 대응한 것일 경우, 조명광의 조도와 각도 θp 에 따라서 상이하기도 하지만, 비연속 영역 (Ws) 내의 선 L1, L2, L6, L7 상의 온 상태의 마이크로 미러 (도트) 의 적산 개수 Nt 는 30 개 이상, 바람직하게는 50 개 이상인 것이 바람직하다. 또, 기판 (23) 상에서의 1 개의 도트의 크기는 1 ㎛ 정도가 된다.

그러나, 일부의 포토레지스트, 예를 들어 네거티브형 레지스트에서는, 연속 영역 (Wo) 에 비연속 영역 (Ws) 과 동일한 노광량 (적산 개수 Nt) 을 부여해도, 레지스트 현상 후에는, 그 노광량으로는 부족한 현상 (감광 특성의 비선형성에 의한 선폭의 변화 등) 이 있다.

도 11 은, 네거티브형 레지스트의 경우의 특수 노광 모드의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 11 중의 투영 영역 (PIa, PIb), 선 (L1 ∼ L7) 의 각각은, 도 10 중의 것과 동일하고, 투영 영역 (PIa, PIb) 에서 노광되는 패턴도 도 10 과 동일한 것으로 한다.

도 10 에서 설명한 바와 같이, Wo ＞ Dx·sinθp 로 설정되어 있다. 이로써, 연속 영역 (PIw) 내에서는, 투영 영역 (PIa) 내의 선 L3, L4, L5 상의 도트수 (온 상태의 마이크로 미러의 수) 와, 투영 영역 (PIb) 내의 선 L3, L4, L5 상의 도트수 (온 상태의 마이크로 미러의 수) 의 적산 개수를, 목표 노광량에 대응한 수 Nt 보다 많아지도록, DMD 의 미러를 구동시키는 묘화 패턴 데이터가 작성된다.

도 11 중에 나타낸 도트 중, 화살표로 나타낸 도트는, 도 10 중의 도트에 대해서 추가된 것이다. 연속 영역 (PIw) 내에서, 얼마나 도트수 (온 상태의 마이크로 미러의 수) 를 증가시킬지, 즉, 연속 영역 (PIw) 에 부여하는 노광량을 얼마나 증가시킬지는, 네거티브형 레지스트의 종류나 레지스트 층의 두께 등을 감안한 사전의 테스트 노광 등으로 구해진다. 도 11 에서는, 연속 영역 (PIw) 의 폭 방향의 중심의 위치 (선 L4 상) 에서의 적산 개수 Np 가 Nt 보다 크고, 최대치로 된다.

이런 종류의 노광 장치 (1) 에서는, 목표 노광량에 대한 오차를 수 ％ 이하, 바람직하게는 2 ％ 이하로 할 것이 요구된다. 만일, 목표 노광량을 얻기 위한 적산 개수 Nt (도 10, 11 참조) 가 50 개로 설정될 경우, 그 중의 1 개인 도트의 증감이 ±2 ％ 의 오차로 된다. 그 때문에, 목표 노광량에 대응한 적산 개수 Nt 는, 가능한 한 많은 것이 바람직하지만, 그에 따라서 묘화 패턴 데이터가 증대되기도 한다.

또, 이것은, Y 방향의 위치에 관해서 적산 개수 Nt 를 비교적 자유롭게 조정할 수 있는 것을 의미하기 때문에, 투영 영역 (PIa, PIb) 내에 나타나는 노광해야 할 패턴에 따라서, 적산 개수 Nt 를 ±1 도트 이상 상이하게 하여, 노광량을 미세 조정하는 것도 가능하다. 그러므로, 투영 영역 (PIa, PIb) 내에 미세한 라인 ＆ 스페이스 (L ＆ S) 패턴과 컨택트홀 (비아홀) 등이 혼재할 경우, 즉, 주기적 패턴과 고립 패턴이 혼재할 경우에, 그것들에 대해서 미미하게 상이한 노광량을 부여할 수도 있다. 따라서, 각 노광 모듈 (투영 모듈 (17)) 에서 노광되는 패턴 중의 국소적인 부분에서 노광량을 미세 조정할 수 있어, 보다 정밀한 선폭 (현상 후의 레지스트 상의 치수) 제어가 가능해진다.

[변형예]

도 12 는, 연속 영역 (PIw) 내에 노광되는 온 상태의 미러 (도트) 의 적산 개수의 Y 방향의 분포의 변형예를 나타내는 도면이다. 도 12(A) 및 (B) 는, 좌측의 투영 영역 (PIb) 을 생성하는 공간 광변조기 (201) 와, 우측의 투영 영역 (PIa) 을 생성하는 공간 광변조기 (201) 에 투사되는 조명광의 조도에 차가 발생된 경우의 대응을 모식적으로 나타낸다. 그리고, 도 12(A) 는, 도 10 의 통상 노광 모드의 경우에 대응하고, (B) 는 도 11 의 특수 노광 모드의 경우에 대응한다.

도 12(A) 에서는, 좌측의 투영 영역 (PIb) 쪽이 우측의 투영 영역 (PIa) 보다 조도가 높다. 그 때문에, 투영 영역 (PIb) 측에서 목표 노광량을 얻는 데에 필요한 온 상태의 미러의 적산 개수 Nt1 은, 투영 영역 (PIa) 측에서 목표 노광량을 얻는 데에 필요한 온 상태의 미러의 적산 개수 Nt2 보다 적게 설정된다. 그리고, 도 12(A) 와 같이 연속 영역 (PIw) 내의 적산 개수는, Nt1 과 Nt2 사이에서, Y 방향의 위치에 따라서 선형으로 변화하도록 설정된다.

도 12(B) 도 (A) 와 마찬가지로, 좌측과 우측에서 조도차가 발생된 경우이고, 연속 영역 (PIw) 내에서는, (A) 의 선형 변화보다 적산 개수가 많아지도록 설정된다. 본 변형예는, 다수의 노광 모듈간에서, 공간 광변조기 (201) 에의 조명광의 조도가 정밀하게 고르지 않게 되었을 경우, 혹은 모듈간에서 공간 광변조기 (201) 로부터의 반사광 강도가 정밀하게 고르지 않게 되었을 경우 등에 적용할 수 있어, 노광 장치의 안정 가동의 운용 시간을 연장시킬 수 있다.

이상의 제 2 실시형태나 변형예에서는, 도 11 에 나타낸 연속 영역 (PIw) 내에 존재하는 패턴의 X 방향으로 연장된 에지부에 있어서 온 상태의 마이크로 미러의 수의 조정을 행하면, 패턴의 에지부의 위치가 Y 방향으로 어긋나는 (선폭이 넓어지는) 경우가 있다. 그 경우, 추가되는 온 상태의 마이크로 미러는, 온 상태에서 투영되는 패턴의 에지부보다 내측에 위치하도록 선정된다. 이로써, 연속 영역 (PIw) 내에 존재하는 패턴의 위치 어긋남이나 선폭의 변동을 억제할 수 있다. 또, 네거티브형 레지스트의 노광시에 연속 영역 (PIw) 내의 패턴의 선폭이 비선형성의 영향으로 가늘어지는 경향인 경우에는, 연속 영역 (PIw) 내에 존재하는 패턴의 Y 방향의 양방의 에지부가 미미하게 확폭되도록, 양방의 에지부에 대응한 마이크로 미러를 의도적으로 추가하여 온 상태로 할 수도 있다.

[제 3 실시형태]

도 13(A) 는, 제 3 실시형태에 관련된 노광 대상물 (기판 (23)) 이 노광되었을 때에 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (B) 는, 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타내는 도면이다. (C) 는, 주사 노광에 의한 적산 펄스수를 나타내는 그래프이다. 동 도면을 참조하면서, 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (1) 및 노광 방법의 일례에 대해서 설명한다. 이후의 설명에 있어서, 제 1 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 동일한 부호를 붙임으로써 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 7 에서는, 주사 방향과 교차하는 방향 (예를 들어 Y 방향) 으로 이웃하는 2 개의 투영 모듈 (17) 을 사용하여, 오버랩부 (Oa) 를 노광하는 예를 나타내고 있지만, 도 13(A) 에서는, 주사 방향으로 이웃하는 2 개의 투영 모듈 (17) (예를 들어, 17b 와 17d) 을 사용하여, 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 펄스수를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 펄스수보다 높게 하는 예를 나타낸다.

도 13(A) 는, 노광 대상물이 스테이지 (14) 에 의해서 X 방향으로 주사되고, 노광 시야 (PIa, PIb) 에 의해서 노광되었을 때에, 노광 대상물 상에 형성되는 노광 영역을 나타낸다. 도 13(A) 에 나타내는 바와 같이, 노광 대상물 상에는, 노광 시야 (PIa) 에 의해서 노광되는 주사 노광 영역 (SIa) 과, 노광 시야 (PIb) 에 의해서 노광되는 주사 노광 영역 (SIb) 이 형성된다.

주사 노광 영역 (SIa, SIb) 은, 노광 시야 (PIa, PIb) 가 X 방향으로의 주사 노광에 의해서 X 방향으로 연장된 것이라고 할 수 있다. 주사 노광 영역 (SIa) 의 주사 방향의 단부는, 이웃하는 주사 노광 영역 (SIb) 의 주사 방향의 단부와 오버랩되어 있다.

비오버랩부 (Sa, Sb) 는, 주사 노광 영역 (SIa) 과 주사 노광 영역 (SIb) 이 오버랩되지 않고, 주사 노광 영역 (SIa) 만, 또는, 주사 노광 영역 (SIb) 만에서 노광되는 영역이다. 오버랩부 (Oa) 에 있어서의 적산 펄스수를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 있어서의 적산 펄스수보다 높게 할 수 있다. 또한, 주사 노광 영역 (SIa) 과 주사 노광 영역 (SIb) 은, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 비주사 방향에 있어서 오버랩부 (Oa) 를 가질 수 있다.

이로써, 네거티브 레지스트의 선폭을 소정량으로 하면서, 스테이지 (14) 의 주사 방향의 이동 거리를 작게 할 수 있다.

또한, 1 개의 투영 모듈 (17) 을 사용한 경우여도, 오버랩부 (Oa) 를 형성하는 것이 가능하다. 이 경우, 노광 대상물을 스테이지 (14) 에 의해서 ＋X 방향으로 주사하여, 주사 노광 영역 (SIa) 을 형성한 후, 오버랩부 (Oa) 에 대응하는 분만큼, 스테이지 (14) 를 -X 방향으로 이동시키고, 그 후, 노광 대상물을 스테이지 (14) 에 의해서 ＋X 방향으로 주사하여, 주사 노광 영역 (SIb) 을 형성할 수 있다.

이 예 (1 개의 투영 모듈 (17) 을 사용했을 경우) 에서는, 주사 노광 영역 (SIa), 주사 노광 영역 (SIb) 은, 노광 대상물을 동일한 방향으로 주사함으로써 형성하고 있지만, 주사 노광 영역 (SIa) 을 형성할 때에 노광 대상물을 주사하는 방향과, 주사 노광 영역 (SIb) 을 형성할 경우에 노광 대상물을 주사하는 방향은 역방향으로 해도 된다.

도 13 에 있어서, 오버랩부 (Oa) 의 주사 방향에 있어서의 폭은 변경 가능하다. 예를 들어, 폭을 크게 하면, 주사 노광시에 발생될 수 있는 스테이지의 이동 오차의 영향을 평균화하여 저감할 수 있다. 폭을 짧게 하면, 오버랩부 (Oa) 의 노광 시간을 단축할 수 있어, 스테이지가 주행하는 전체 거리를 단축할 수 있다.

도 13(C) 에 있어서, 가로축은, 노광 대상물의 주사 방향에 있어서의 위치를 나타낸다. 세로축은, 적산 펄스수이다. 노광 시야 (PIa) 에 의해서 오버랩부 (Oa) 를 노광할 때, 적산 펄스수를 단조 변화 (단조 증가, 또는, 단조 감소) 시킬 수 있다. 노광 시야 (PIb) 에 의해서 오버랩부 (Oa) 를 노광할 때, 적산 펄스수를 단조 변화 (단조 증가, 또는, 단조 감소) 시킬 수 있다. 단조 변화에는, 도 13(C) 와 같이 선형적으로 단조 변화하는 경우뿐만 아니라, 비선형적으로 단조 변화하는 경우도 포함된다. 레지스트의 감광 특성이 비선형인 경우에는, 오버랩부 (Oa) 를 노광할 때, 적산 펄스수를 비선형적으로 변화시키는 것은 특히 유효하다.

[제 4 실시형태]

도 14 는, 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치의 노광 모드의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다. 동 도면을 참조하면서, 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치 (1) 및 노광 방법의 일례에 대해서 설명한다. 이후의 설명에 있어서, 제 1 실시형태와 동일한 구성에 대해서는, 동일한 부호를 붙임으로써 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 14 에 나타내는 바와 같이, 비오버랩부 (Sa, Sb) 를 노광할 때에는, 공간 광변조기 (201) 의 다수의 마이크로 미러의 2 차원 배열 중 장변과 단변을 이루는 주변 영역 (망점부) 의 마이크로 미러 이외의 마이크로 미러를 사용하여 노광하고, 오버랩부 (Oa) 를 노광할 때에는, 주변 영역 (망점부) 의 마이크로 미러도 사용하여 노광해도 된다. 이로써, 네거티브 레지스트의 노광시에는, 오버랩부 (Oa) 에 조사되는 적산 펄스광의 수를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 에 조사되는 적산 펄스광의 수보다 많게 할 수 있다. 요컨대, 오버랩부 (Oa) 를 노광하는 데에 사용 가능한 마이크로 미러의 수를, 비오버랩부 (Sa, Sb) 를 노광하는 데에 사용 가능한 마이크로 미러의 수보다 많게 할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서 인용한 노광 장치 등에 관한 모든 미국 특허출원공개 명세서 및 미국 특허 명세서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재된 일부로 한다.

이상, 도면을 참조하여 이 발명의 일 실시형태에 대해서 상세하게 설명하여 왔지만, 구체적인 구성은 상기 서술한 것에 한정되지 않고, 이 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에서 다양한 설계 변경 등을 하는 것이 가능하다.

상기 실시형태에서는, 노광의 길이 (즉, 펄스수) 를 늘림으로써, 또는 펄스수를 줄임으로써 실질적인 적산 조도를 오버랩부에서 상대적으로 높게 하지만, 오버랩부의 적산 조도를 조정하는 수법은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 실제의 노광 결과에 기초하여, 선폭을 설계치로 되도록 보정하는 수법도 생각할 수 있다. 이 경우에는, 실제로 노광되는 선의 에지 부근에 펄스를 추가·삭제함으로써 네거티브 레지스트의 선폭을 소정량으로 하는 것이 가능하다. 그 때문에, 실질적으로 균일한 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 실질적으로 오버랩부와 비오버랩부의 네거티브 레지스트로 형성되는 패턴의 형상 및 선폭이 서로 동일해지도록, 노광되는 패턴의 패턴 근방으로의 펄스수의 증감에 의한 선폭 보정과 패턴 에지부 이외의 장소에의 펄스수의 증감에 의한 형상 보정에 대해서, 노광 결과로부터 보정을 행해도 된다.

실시형태의 노광 방법은, 다음의 양태를 포함한다.

비오버랩부의 노광 패턴의 선폭과 형상과, 오버랩부의 각각이 거의 동일해지도록 비오버랩 혹은 오버랩부, 또는 그 쌍방의 노광 패턴 근방의 펄스수를 증감시키거나 또는 패턴 근방 이외의 내부의 펄스수를 증감시키는 노광 방법.

노광 대상에 형성되는 레지스트는, 예를 들어, 광이 조사된 부분이 광 반응에 의해서 현상 후에 형성되는 네거티브형의 레지스트이다.

실시형태의 노광 데이터 작성 방법은, 다음의 양태를 포함한다.

비오버랩부의 노광 패턴의 선폭과 형상과, 오버랩부의 각각이 거의 동일해지도록 비오버랩 혹은 오버랩부, 또는 그 쌍방의 노광 패턴 근방의 펄스수를 증감시키거나 또는 패턴 근방 이외의 내부의 펄스수를 증감시키는 노광 데이터 작성 방법.

노광 대상에 형성되는 레지스트는, 예를 들어, 광이 조사된 부분이 광 반응에 의해서 현상 후에 형성되는 네거티브형의 레지스트이다.

1 : 노광 장치
14 : 스테이지
17 : 투영 모듈 (투영 광학계)
162 : 조명 광학계
201 : 공간 광변조기
203 : 마이크로 미러 (소자)
Oa : 오버랩부
Sa, Sb : 비오버랩부

Claims (4)

1. 복수의 소자를 갖는 복수의 공간 광변조기와,
   펄스광에 의해서, 상기 복수의 공간 광변조기를 조명하는 조명 광학계와,
   상기 공간 광변조기로부터 출사되는 광을 노광 대상에 조사하는 복수의 투영 광학계와,
   상기 노광 대상이 재치되는 스테이지와,
   상기 복수의 소자를, 상기 펄스광을 상기 투영 광학계로 유도하는 제 1 상태와, 상기 투영 광학계로 유도하지 않는 제 2 상태로 전환하는 제어부를 구비하고,
   상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하고,
   상기 제어부는, 노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는, 노광 장치.
2. 제 1 항에 기재된 노광 장치를 사용하여 노광 대상을 노광하는 방법으로서,
   상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하고,
   이 때, 노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는, 노광 방법.
3. 제 2 항에 기재된 노광 방법에 의해서 노광 대상을 노광하는 것과,
   상기 노광된 노광 대상을 현상하는 것을 포함하는 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법.
4. 복수의 소자를 갖는 복수의 공간 광변조기와, 펄스광에 의해서, 상기 복수의 공간 광변조기를 조명하는 조명 광학계와, 상기 공간 광변조기로부터 출사되는 광을 노광 대상에 조사하는 복수의 투영 광학계와, 상기 노광 대상이 재치되는 스테이지와, 상기 복수의 소자를, 상기 펄스광을 상기 투영 광학계로 유도하는 제 1 상태와, 상기 투영 광학계로 유도하지 않는 제 2 상태로 전환하는 제어부를 구비하고, 상기 스테이지는, 복수의 상기 투영 광학계에 의해서 주사 노광 시야를 오버랩시키면서, 상기 노광 대상을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써, 상기 노광 대상에 조사되는 광이 상기 노광 대상 상을 주사하는 노광 장치에 사용되고,
   노광에 있어서, 상기 복수의 소자의 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하고, 상기 노광 대상 상에서 오버랩되어 노광되는 오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수가, 상기 노광 대상 상에서 오버랩 없이 노광되는 비오버랩부에 상기 투영 광학계를 개재하여 조사되는 상기 펄스광의 수보다 많아지도록, 상기 복수의 소자를 제어하는 노광 데이터를 작성하는, 노광 데이터 작성 방법.