KR20240007192A - Laminates and display devices for display devices - Google Patents

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KR20240007192A
KR20240007192A KR1020237041726A KR20237041726A KR20240007192A KR 20240007192 A KR20240007192 A KR 20240007192A KR 1020237041726 A KR1020237041726 A KR 1020237041726A KR 20237041726 A KR20237041726 A KR 20237041726A KR 20240007192 A KR20240007192 A KR 20240007192A
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layer
eraser
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KR1020237041726A
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사오리 가와구치
게이스케 야마다
준 사토
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

본 개시는 기재층과, 불소를 함유하는 기능층을 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 10.0nC 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.The present disclosure is a laminate for a display device having a base layer and a functional layer containing fluorine, wherein a load of 9.8 N is applied to the surface of the display device laminate on the functional layer side using an eraser with a diameter of 6 mm to 2500 A laminate for a display device is provided, wherein the absolute value of the amount of charge on the surface on the functional layer side of the laminate for a display device after performing a reciprocating rubbing eraser test is 10.0 nC or less.

Description

표시 장치용 적층체 및 표시 장치Laminates and display devices for display devices

본 개시는 표시 장치용 적층체 및 그것을 사용한 표시 장치에 관한 것이다.This disclosure relates to a laminate for a display device and a display device using the same.

표시 장치의 표면에는, 예를 들어 하드 코트성, 내찰상성, 반사 방지성, 방현성, 대전 방지성, 방오성 등, 다양한 성능을 갖는 기능층을 구비하는 적층체가 배치되어 있다.On the surface of the display device, a laminate including functional layers having various performances such as hard coat properties, scratch resistance, antireflection properties, antiglare properties, antistatic properties, and antifouling properties is disposed.

근년, 스마트폰이나 태블릿 단말기뿐만 아니라, 노트북형 퍼스널 컴퓨터 등의 표시 장치에 있어서도, 터치 기능을 갖는 것이 있다. 터치 기능을 갖는 표시 장치에 있어서는, 그 표면을 손가락 등으로 직접 접촉하여 조작하기 때문에, 내마모성이나 미끄럼성이 요구되고 있다.In recent years, not only smartphones and tablet terminals but also display devices such as notebook-type personal computers have a touch function. A display device with a touch function is operated by directly touching the surface with a finger or the like, so wear resistance and slipperiness are required.

또한, 스마트폰이나 태블릿 단말기와 같은 휴대형의 표시 장치는, 예를 들어 의복의 포켓이나 가방에 수납되는 경우가 있고, 의복이나 가방의 천, 의복의 포켓이나 가방 내의 다른 수납물 등에 의해 표시 장치의 표면이 쓸리는 경우도 있다. 이 때문에, 휴대형의 표시 장치에 있어서는, 내마모성이 더 요구되고 있다.Additionally, portable display devices such as smartphones and tablet terminals may be stored in, for example, pockets or bags of clothing, and may be exposed to the display device by the fabric of the clothing or bag, or other items contained within the clothing pocket or bag. In some cases, the surface may be chafed. For this reason, more wear resistance is required for portable display devices.

최근에는, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 디스플레이가 주목받고 있어, 플렉시블 디스플레이의 표면에 배치되는 적층체의 개발이 왕성하게 진행되고 있다. 예를 들어 유리 기재 대신에 수지 기재를 사용하는 것이 검토되고 있고, 예를 들어 특허문헌 1에는, 높은 경도 및 우수한 광학적 물성을 갖는 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 적어도 한쪽 면에 배치된 하드 코팅층을 갖는 표시 장치 윈도우 필름이 제안되어 있다.Recently, flexible displays such as foldable displays, rollable displays, and bendable displays have been attracting attention, and the development of laminates disposed on the surface of flexible displays is actively progressing. For example, the use of a resin substrate instead of a glass substrate is being considered. For example, in Patent Document 1, a plastic substrate having high hardness and excellent optical properties, and a hard coating layer disposed on at least one side of the plastic substrate are described. A display device window film having a display device has been proposed.

플렉시블 디스플레이는, 예를 들어 굴곡된 상태로 사용하거나 수납하거나 하기 때문에, 굴곡부의 표면이 쓸리기 쉽다. 이 때문에, 플렉시블 디스플레이에서는, 굴곡부에 있어서 우수한 내마모성이 더 요구된다.Since flexible displays are used or stored in a bent state, for example, the surface of the curved portion is likely to be chafed. For this reason, in flexible displays, excellent wear resistance is further required in the bent portion.

내마모성을 높게 하기 위해서는, 예를 들어 마찰 계수를 작게 하는 것이 알려져 있다. 구체적으로는, 불소계 표면 처리제를 코팅하거나, 불소계 첨가제를 첨가하거나 함으로써, 저마찰성을 부여하는 기술이 알려져 있다. 예를 들어 특허문헌 2에는, 발수 발유성, 내찰상성, 저 동마찰성, 내마모성이 우수한 코팅을 부여할 수 있는, 플루오로옥시알킬렌기 함유 폴리머 조성물을 포함하는 표면 처리제가 개시되어 있다.In order to increase wear resistance, it is known, for example, to reduce the coefficient of friction. Specifically, a technique for providing low friction by coating a fluorine-based surface treatment agent or adding a fluorine-based additive is known. For example, Patent Document 2 discloses a surface treatment agent containing a fluoroxyalkylene group-containing polymer composition that can provide a coating excellent in water and oil repellency, scratch resistance, low dynamic friction, and wear resistance.

그러나, 상기 적층체에서의 기능층의 표면이 쓸림으로써, 기능층에 포함되는 성분이 쓸려 제거되어 버리거나, 기능층이 쓸려 닳아 버리거나 함으로써, 기능층의 성능이 저하되는 경우가 있어, 한층 더한 내마모성의 향상이 요망된다.However, when the surface of the functional layer in the above-mentioned laminate is chafed, the components contained in the functional layer are swept away or the functional layer is chafed away, which sometimes reduces the performance of the functional layer, resulting in further wear resistance. Improvement is required.

일본 특허 공개 제2016-125063호 공보Japanese Patent Publication No. 2016-125063 일본 특허 제6140348호 공보Japanese Patent No. 6140348 Publication

본 개시는 상기 실정에 비추어 이루어진 것으로, 내마모성이 우수한 표시 장치용 적층체 및 표시 장치를 제공하는 것을 주목적으로 한다.The present disclosure has been made in light of the above-described circumstances, and its main purpose is to provide a laminate for a display device and a display device having excellent wear resistance.

본 개시의 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해, 마모 시험으로서 지우개 시험에 주목하여, 표시 장치용 적층체의 내마모성에 대하여 예의 검토를 행한 결과, 놀랍게도, 내마모성과 전하량의 절댓값에 상관이 있다는 것을 새로이 알아냈다. 본 개시는 이러한 지견에 기초한 것이다.In order to solve the above problems, the inventors of the present disclosure paid attention to the eraser test as an abrasion test and conducted a thorough study on the abrasion resistance of the laminate for a display device. As a result, surprisingly, they found that there is a correlation between the abrasion resistance and the absolute value of the electric charge. paid it The present disclosure is based on this knowledge.

본 개시의 일 실시 형태는, 기재층과, 불소를 함유하는 기능층을 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 10.0nC 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.One embodiment of the present disclosure is a laminate for a display device having a base layer and a functional layer containing fluorine, wherein the surface of the display device laminate on the functional layer side is subjected to 9.8 N using an eraser with a diameter of 6 mm. Provided is a laminate for a display device, wherein the absolute value of the amount of charge on the surface on the functional layer side of the laminate for a display device is 10.0 nC or less after performing an eraser test of 2500 reciprocal rubbings by applying a load of .

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체에 있어서는, 초기의 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의, 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값에 대한, 상기 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값의 비율이, 1.7 이하인 것이 바람직하다.In the display device laminate according to the present disclosure, the frictional force against the eraser after the eraser test is relative to the average value of the initial frictional force against the eraser on the surface on the functional layer side of the display device laminate in the initial stage. It is desirable that the ratio of the maximum value of is 1.7 or less.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체에 있어서는, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 초기의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비에 대한, 상기 지우개 시험 후의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비의 비율이, 0.4 이상인 것이 바람직하다.In addition, in the display device laminate according to the present disclosure, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface on the functional layer side at the initial stage, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is: It is preferable that the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface on the functional layer side after the eraser test is 0.4 or more.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체에 있어서는, 상기 기능층이 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 대전 방지제가 도전성 고분자인 것이 바람직하다.Additionally, in the laminate for a display device in the present disclosure, it is preferable that the functional layer contains an antistatic agent. In this case, it is preferable that the antistatic agent is a conductive polymer.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측, 혹은 상기 기재층 및 상기 기능층 사이에, 충격 흡수층을 가질 수 있다.Additionally, the display device laminate in the present disclosure may have an impact absorption layer on the side of the base layer opposite to the functional layer or between the base layer and the functional layer.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측에 첩부용 점착층을 갖고 있어도 된다.Additionally, the laminate for a display device in the present disclosure may have an adhesive layer for sticking on the side of the base material layer opposite to the functional layer.

본 개시의 다른 실시 형태는, 표시 패널과, 상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 상술한 표시 장치용 적층체를 구비하는, 표시 장치를 제공한다.Another embodiment of the present disclosure provides a display device including a display panel and the above-described display device laminate disposed on an observer side of the display panel.

본 개시에 있어서는, 내마모성이 우수한 표시 장치용 적층체 및 표시 장치를 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.The present disclosure has the effect of providing a laminate for a display device and a display device having excellent wear resistance.

도 1은 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 예시하는 개략 단면도이다.
도 2는 지우개에 대한 마찰력의 측정 방법을 설명하는 모식도이다.
도 3은 동적 굴곡 시험을 설명하는 모식도이다.
도 4는 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 예시하는 개략 단면도이다.
도 5는 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 예시하는 개략 단면도이다.
도 6은 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 예시하는 개략 단면도이다.
도 7은 본 개시에 있어서의 표시 장치를 예시하는 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view illustrating a laminate for a display device according to the present disclosure.
Figure 2 is a schematic diagram explaining a method of measuring frictional force on an eraser.
Figure 3 is a schematic diagram explaining a dynamic bending test.
4 is a schematic cross-sectional view illustrating a laminate for a display device in the present disclosure.
5 is a schematic cross-sectional view illustrating a laminate for a display device according to the present disclosure.
6 is a schematic cross-sectional view illustrating a laminate for a display device according to the present disclosure.
7 is a schematic cross-sectional view illustrating a display device in the present disclosure.

하기에, 도면 등을 참조하면서 본 개시의 실시 형태를 설명한다. 단, 본 개시는 많은 다른 양태로 실시하는 것이 가능하고, 하기에 예시하는 실시 형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것은 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확히 하기 위해, 실제의 형태에 비해, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 표현되는 경우가 있지만, 어디까지나 일 예로서, 본 개시의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출된 도면에 관하여 전술한 것과 마찬가지의 요소에는, 동일한 부호를 부여하여, 상세한 설명을 적절히 생략하는 경우가 있다.Below, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings and the like. However, the present disclosure can be implemented in many different aspects, and should not be construed as being limited to the description of the embodiments illustrated below. In addition, in order to make the explanation clearer, the drawings may schematically express the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the actual form, but are only examples and do not limit the interpretation of the present disclosure. . In addition, in this specification and each drawing, elements similar to those described above with respect to the existing drawings are given the same reference numerals, and detailed descriptions may be omitted as appropriate.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재 위에 다른 부재를 배치하는 양태를 표현함에 있어서, 단순히 「위에」, 혹은 「아래에」라고 표기하는 경우, 특별히 정함이 없는 한은, 어떤 부재에 접하도록, 바로 위, 혹은 바로 아래에 다른 부재를 배치하는 경우와, 어떤 부재의 상방, 혹은 하방에, 또 다른 부재를 개재시켜 다른 부재를 배치하는 경우의 양쪽을 포함하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 어떤 부재의 면에 다른 부재를 배치하는 양태를 표현함에 있어서, 단순히 「면 측에」 또는 「면에」라고 표기하는 경우, 특별히 정함이 없는 한은, 어떤 부재에 접하도록, 바로 위, 혹은 바로 아래에 다른 부재를 배치하는 경우와, 어떤 부재의 상방, 혹은 하방에, 또 다른 부재를 개재시켜 다른 부재를 배치하는 경우의 양쪽을 포함하는 것으로 한다.In this specification, when expressing the mode of arranging another member on top of another member, when simply expressed as “above” or “below”, unless otherwise specified, it means that, unless otherwise specified, it is placed in contact with a certain member, directly above, or immediately above. This includes both the case of arranging another member below and the case of arranging another member above or below a certain member with another member interposed. In addition, in this specification, when expressing the mode of arranging another member on the surface of a certain member, when simply expressed as “on the surface side” or “on the surface,” unless otherwise specified, so that it is in contact with a certain member, This includes both the case of arranging another member directly above or immediately below, and the case of arranging another member above or below a certain member with another member interposed.

본 개시의 발명자들은, 마모 시험으로서 지우개 시험에 주목하여, 표시 장치용 적층체의 내마모성에 대하여 예의 검토를 행한 결과, 이하의 지견을 얻었다.The inventors of the present disclosure paid attention to the eraser test as an abrasion test, conducted intensive studies on the abrasion resistance of the display device laminate, and obtained the following findings.

본 개시의 발명자들은, 표시 장치용 적층체에 대하여 지우개 시험을 행하여, 지우개 시험 전후의 마찰력 및 지우개 시험 후의 전하량을 측정한바, 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값이 비교적 작을 때에는, 지우개 시험 전후의 마찰력 변화가 비교적 작아지는 경향이 있다는 것을 알아냈다. 즉, 내마모성과 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값 사이에 상관이 있다는 것을 알아냈다. 또한, 내마모성과 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값의 관계를 상세하게 조사한바, 우수한 내마모성을 부여하기 위해서는, 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값을 소정의 값 이하로 하는 것이 중요하다는 것을 알아냈다.The inventors of the present disclosure performed an eraser test on a laminate for a display device and measured the friction force before and after the eraser test and the amount of charge after the eraser test. When the absolute value of the amount of charge after the eraser test was relatively small, the change in friction force before and after the eraser test was We found that it tends to be relatively small. In other words, it was found that there was a correlation between wear resistance and the absolute value of the electric charge after the eraser test. In addition, the relationship between wear resistance and the absolute value of the charge after the eraser test was investigated in detail, and it was found that in order to provide excellent wear resistance, it is important to keep the absolute value of the charge after the eraser test below a predetermined value.

이하, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체 및 표시 장치에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the laminate for a display device and the display device in the present disclosure will be described in detail.

A. 표시 장치용 적층체A. Laminate for display device

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 기재층과, 불소를 함유하는 기능층을 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 10.0nC 이하이다.The laminate for a display device in the present disclosure is a laminate for a display device having a base layer and a functional layer containing fluorine, and the surface of the laminate for a display device on the functional layer side is rubbed with an eraser having a diameter of 6 mm. After performing an eraser test of 2500 reciprocations by applying a load of 9.8 N, the absolute value of the electric charge on the surface of the display device laminate on the functional layer side is 10.0 nC or less.

도 1은 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체의 일 예를 나타내는 개략 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)는, 기재층(2)과, 기능층(3)을 갖는다. 또한, 소정의 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체(1)의 기능층(3) 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 값 이하가 된다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate for a display device in the present disclosure. As shown in FIG. 1, the laminate 1 for a display device has a base material layer 2 and a functional layer 3. Additionally, the absolute value of the electric charge on the surface of the display device laminate 1 on the functional layer 3 side after the predetermined eraser test becomes less than or equal to the predetermined value.

본 개시는 상술한 바와 같이, 표시 장치용 적층체에 있어서, 내마모성과 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값 사이에 상관이 있다는 새로운 지견에 기초하여 이루어진 것이다. 본 개시에 있어서는, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 값 이하임으로써, 우수한 내마모성을 얻을 수 있다.As described above, the present disclosure is made based on the new finding that, in a laminate for a display device, there is a correlation between wear resistance and the absolute value of the electric charge after an eraser test. In the present disclosure, excellent wear resistance can be obtained when the absolute value of the electric charge on the surface of the display device laminate after the eraser test on the functional layer side is below a predetermined value.

이 이유는 명확하지는 않지만, 이하와 같이 추측된다. 즉, 표시 장치용 적층체의 표면에 대하여 지우개 시험을 행하면, 지우개에 의한 마찰에 의해 표시 장치용 적층체의 표면이 대전된다. 일반적으로 불소를 포함하는 층의 표면은 마이너스로 대전되기 쉬운 경향이 있기 때문에, 불소를 함유하는 기능층은 마이너스로 대전되기 쉽고, 지우개에 의한 마찰에 의해 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면은 마이너스로 대전된다. 이 영향으로, 지우개의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면과의 접촉면은 플러스로 대전되게 된다. 이때, 지우개 시험을 행함으로써 정전기력이 커지면, 즉, 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값이 크면, 인력이 커지기 때문에, 기능층에 포함되는 불소가 탈리되어, 지우개에 부착되기 쉬워진다고 생각된다. 기능층에 포함되는 불소가 탈리되면, 불소에 의한 내마모성의 효과가 작아져 버린다. 한편, 지우개 시험을 행해도 정전기력이 작은 경우에는, 즉, 지우개 시험 후의 전하량의 절댓값이 작은 경우에는, 인력이 작기 때문에, 기능층에 포함되는 불소는 탈리되기 어렵다고 생각된다. 이 경우, 불소에 의한 내마모성의 효과를 유지할 수 있다. 따라서, 본 개시에 있어서는, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 값 이하임으로써, 지우개 시험에 의한 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 대전을 억제할 수 있어, 상기와 같은 지우개 시험에 의한 불소의 탈리를 억제할 수 있는 것으로 생각된다.The reason for this is not clear, but is guessed as follows. That is, when an eraser test is performed on the surface of a display device laminate, the surface of the display device laminate is charged due to friction caused by the eraser. In general, since the surface of the layer containing fluorine tends to be negatively charged, the functional layer containing fluorine is likely to be negatively charged, and the surface on the functional layer side of the display device laminate is affected by friction caused by the eraser. is negatively charged. Due to this effect, the contact surface of the eraser with the surface on the functional layer side of the display device laminate becomes positively charged. At this time, when the electrostatic force increases by performing the eraser test, that is, when the absolute value of the electric charge after the eraser test increases, the attractive force increases, so it is thought that the fluorine contained in the functional layer is detached and becomes more likely to adhere to the eraser. If the fluorine contained in the functional layer is desorbed, the effect of fluorine on wear resistance is reduced. On the other hand, when the electrostatic force is small even when the erase test is performed, that is, when the absolute value of the charge after the erase test is small, the attractive force is small, so it is thought that the fluorine contained in the functional layer is unlikely to be separated. In this case, the effect of wear resistance due to fluorine can be maintained. Therefore, in the present disclosure, the absolute value of the amount of charge on the surface on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test is less than or equal to a predetermined value, so that the surface on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test is It is thought that electrification can be suppressed and desorption of fluorine by the eraser test as described above can be suppressed.

그 결과, 우수한 내마모성을 얻을 수 있을 것으로 추측된다.As a result, it is assumed that excellent wear resistance can be obtained.

또한, 지우개에 의한 마찰은, 터치펜에 의한 마찰에 가까워, 지우개 시험에 의해, 예를 들어 터치펜, 손가락, 의복이나 가방의 천 등의 비교적 부드러운 것에 대한 내마모성을 평가할 수 있다. 본 개시에 있어서는, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 값 이하이기 때문에, 예를 들어 터치펜, 손가락, 의복이나 가방의 천 등의 비교적 부드러운 것에 대하여, 우수한 내마모성을 얻을 수 있다.In addition, the friction caused by an eraser is close to the friction caused by a touch pen, and the eraser test can evaluate the wear resistance against relatively soft objects such as a touch pen, fingers, and cloth of clothes or bags. In the present disclosure, since the absolute value of the electric charge on the surface of the functional layer side of the display device laminate after the eraser test is below a predetermined value, it can be applied to relatively soft objects such as touch pens, fingers, and cloth of clothes or bags, for example. In contrast, excellent wear resistance can be obtained.

이하, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체의 각 구성에 대하여 설명한다.Hereinafter, each configuration of the display device laminate in the present disclosure will be described.

1. 표시 장치용 적층체의 특성1. Characteristics of laminates for display devices

본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값은, 10.0nC 이하이며, 8nC 이하인 것이 바람직하고, 6nC 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 전하량의 절댓값이 상기 범위임으로써, 우수한 내마모성을 얻을 수 있다. 또한, 상기 전하량의 절댓값은, 작을수록 바람직하고, 예를 들어 0nc여도 된다.In the present disclosure, the surface of the functional layer side of the display device laminate is subjected to an eraser test in which a load of 9.8 N is applied using an eraser with a diameter of 6 mm and the surface of the display device laminate is rubbed 2500 times. The absolute value of the electric charge on the surface is 10.0 nC or less, preferably 8 nC or less, and more preferably 6 nC or less. When the absolute value of the electric charge is within the above range, excellent wear resistance can be obtained. In addition, the smaller the absolute value of the electric charge, the more preferable it is, and may be, for example, 0nc.

여기서, 지우개 시험은, 하기의 방법에 의해 행할 수 있다. 즉, 직경 6mm의 지우개를 사용하여, 직경 6mm의 구멍을 갖는 지그에 지우개의 선단이 4mm 노출되도록 삽입하고, 이 지우개 부착 지그를 학진형 마찰 시험기에 설치하여, 하중 9.8N, 이동 속도 80mm/초, 이동 거리 40mm의 조건으로, 지우개에 의해 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 2500왕복 문지른다. 직경 6mm의 지우개로서는, 예를 들어 minoan사제의 φ6mm의 지우개를 사용할 수 있다. 또한, 학진형 마찰 시험기로서는, 예를 들어 테스터 산교사제의 학진형 마찰 견뢰도 시험기 AB-301을 사용할 수 있다.Here, the eraser test can be performed by the following method. That is, using an eraser with a diameter of 6 mm, insert it into a jig with a hole with a diameter of 6 mm so that the tip of the eraser is exposed by 4 mm, and install this eraser attachment jig in a Hakjin type friction tester, with a load of 9.8 N and a moving speed of 80 mm/sec. , Under the condition of a moving distance of 40 mm, the surface on the functional layer side of the display device laminate is rubbed 2500 times with an eraser. As an eraser with a diameter of 6 mm, for example, an eraser with a diameter of ϕ6 mm manufactured by Minoan can be used. In addition, as a Gakjin type friction tester, for example, Hakjin type friction fastness tester AB-301 manufactured by Tester Sangyo can be used.

또한, 전하량은, 하기의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 시험대로서 유리판을 사용하여, 유리판에 이오나이저를 1분간 대어 제전한다. 또한, 표시 장치용 적층체를 20mm×80mm(지우개 시험부 6mm×40mm를 포함함.)의 크기로 잘라내어 시험편을 제작하고, 시험편의 양면에 이오나이저를 30초간 이상 60초간 이하 대어 제전한다.Additionally, the amount of electric charge can be measured by the following method. First, using a glass plate as a test stand, an ionizer is applied to the glass plate for 1 minute to eliminate static electricity. In addition, the display device laminate was cut to a size of 20 mm x 80 mm (including the eraser test section 6 mm x 40 mm) to produce a test piece, and an ionizer was applied to both sides of the test piece for more than 30 seconds and less than 60 seconds to eliminate static electricity.

이어서, 상기 시험편의 단부를 유리판 상에 셀로판 테이프로 고정하여, 상기의 지우개 시험을 행한다. 다음으로, 지우개 시험 후의 시험편을 패러데이 게이지에 세트하여, 온도 조건을 23±5℃, 또한 습도 조건을 40±10% RH로 설정하여, 전하량을 측정한다.Next, the end of the test piece is fixed on a glass plate with cellophane tape, and the eraser test is performed. Next, the test piece after the eraser test is set on a Faraday gauge, the temperature condition is set to 23 ± 5°C, and the humidity condition is set to 40 ± 10% RH, and the amount of charge is measured.

이때, 절연성 및 비자성의 핀셋을 사용하여, 지우개 미시험부(샘플의 단부)를 집어, 지우개 시험 후의 시험편을 들어 올린다. 또한, 지우개 시험 후의 시험편을 들어 올린 후에는, 다른 고정면에 접촉시키지 않고, 전하량을 측정한다. 전하량의 측정은, 지우개 시험 후부터 3분 이내에 행한다. 또한, 전하량의 측정 개소는, 샘플 사이즈 전체면으로 한다.At this time, using insulating and non-magnetic tweezers, the eraser-untested portion (end of the sample) is picked up and the test piece after the eraser test is lifted. In addition, after the test piece after the eraser test is lifted, the amount of charge is measured without touching it to another fixed surface. The measurement of electric charge is performed within 3 minutes after the eraser test. In addition, the measurement point of the electric charge amount is the entire sample size.

패러데이 게이지로서는, 예를 들어 가스가 덴키사제의 패러데이 케이지 「KQ-1400」을 사용할 수 있다. 또한, 이오나이저로서는, 예를 들어 가스가 덴키사제의 팬타입 이오나이저 「KD-750B」를 사용할 수 있다. 또한, 핀셋으로서는, 예를 들어 케니스사제의 ESD(정전 대책) 핀셋 「P-643-S」를 사용할 수 있다.As a Faraday gauge, for example, Faraday cage "KQ-1400" manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd. can be used. Additionally, as an ionizer, for example, a fan-type ionizer “KD-750B” manufactured by Gasga Denki Co., Ltd. can be used. In addition, as the tweezers, for example, ESD (electrostatic protection) tweezers “P-643-S” manufactured by Kenneth Inc. can be used.

지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값을 조정하는 방법으로서는, 예를 들어, 기능층의 표면 경도를 조정하는 방법, 기능층의 두께를 조정하는 방법, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 불소의 농도를 조정하는 방법, 대전 방지제의 함유량을 조정하는 방법, 대전 방지제를 함유하는 층의 위치를 조정하는 방법, 기능층 형성 시의 건조 온도를 조정하는 방법 등을 들 수 있다.Methods for adjusting the absolute value of the electric charge on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test include, for example, a method for adjusting the surface hardness of the functional layer, a method for adjusting the thickness of the functional layer, and a display device. Method of adjusting the concentration of fluorine on the functional layer side of the laminate, method of adjusting the content of the antistatic agent, method of adjusting the position of the layer containing the antistatic agent, and adjusting the drying temperature when forming the functional layer. How to do it, etc.

예를 들어, 기능층의 표면 경도가 높아지면, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있다. 또한, 예를 들어 기능층의 두께가 얇아지면, 기능층의 표면 경도가 낮아지고, 상기 전하량의 절댓값이 커지는 경향이 있고, 한편, 기능층의 두께가 두꺼워지면, 기능층의 표면 경도가 높아지고, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있다. 또한, 예를 들어 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 불소의 농도가 높아지면, 미끄럼성이 좋아지고, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있고, 한편, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 불소의 농도가 낮아지면, 미끄럼성이 저하되고, 상기 전하량의 절댓값이 커지는 경향이 있다.For example, as the surface hardness of the functional layer increases, the absolute value of the electric charge tends to decrease. In addition, for example, as the thickness of the functional layer becomes thinner, the surface hardness of the functional layer tends to decrease and the absolute value of the above charge tends to increase; on the other hand, as the thickness of the functional layer increases, the surface hardness of the functional layer increases, and the The absolute value of the charge tends to decrease. In addition, for example, as the fluorine concentration on the functional layer side of the display device laminate increases, slipperiness improves and the absolute value of the electric charge tends to decrease, while the display device laminate tends to have a lower fluorine concentration. As the concentration of fluorine on the surface on the functional layer side decreases, slipperiness decreases and the absolute value of the electric charge tends to increase.

또한, 예를 들어 대전 방지제의 함유량이 많아지면, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있기는 하지만, 대전 방지제의 함유량이 과도하게 많아지면, 기능층의 표면 경도가 낮아지고, 상기 전하량의 절댓값이 커지는 경향이 있고, 한편, 대전 방지제의 함유량이 적어지면, 기능층의 표면 경도가 높아지고, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있다.In addition, for example, as the content of the antistatic agent increases, the absolute value of the electric charge tends to decrease. However, if the content of the antistatic agent increases excessively, the surface hardness of the functional layer decreases, and the absolute value of the electric charge decreases. On the other hand, as the content of the antistatic agent decreases, the surface hardness of the functional layer increases and the absolute value of the electric charge tends to decrease.

또한, 예를 들어 지우개 시험이 행해지는 면과 대전 방지제를 함유하는 층의 거리가 가까워지면, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있고, 한편, 지우개 시험이 행해지는 면과 대전 방지제를 함유하는 층의 거리가 멀어지면, 상기 전하량의 절댓값이 커지는 경향이 있다.In addition, for example, as the distance between the surface on which the eraser test is performed and the layer containing the antistatic agent becomes closer, the absolute value of the electric charge tends to decrease, while on the other hand, the surface on which the eraser test is performed and the layer containing the antistatic agent tend to decrease. As the distance between increases, the absolute value of the electric charge tends to increase.

본 개시에 있어서는, 지우개 시험이 행해지는 면과, 대전 방지제를 함유하는 층의 거리가, 10㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히 6㎛ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 4㎛ 이하인 것이 바람직하다.In the present disclosure, the distance between the surface on which the eraser test is performed and the layer containing the antistatic agent is preferably 10 μm or less, particularly preferably 6 μm or less, and especially preferably 4 μm or less.

여기서, 「지우개 시험이 행해지는 면과, 대전 방지제를 함유하는 층의 거리」란, 이하의 거리를 말한다.Here, “the distance between the surface on which the eraser test is performed and the layer containing the antistatic agent” refers to the following distances.

즉, 「지우개 시험이 행해지는 면」이란, 표시 장치용 적층체에서의, 상기 기능층 측의 최표면을 말하는 것으로 한다. 또한, 「대전 방지제를 함유하는 층」이란, 상기 최표면 측으로부터 상기 기재층 측으로 본 경우에, 최초로 대전 방지제를 함유하는 층을 말한다. 즉, 최표면의 층에 대전 방지제가 함유되어 있으면 최표면의 층이 대전 방지제를 함유하는 층이며, 최표면의 층에 대전 방지층이 함유되어 있지 않고, 다음 층에 대전 방지제가 함유되어 있는 경우에는, 다음 층이 「대전 방지제를 함유하는 층」이 된다.In other words, “the surface on which the eraser test is performed” refers to the outermost surface on the functional layer side of the display device laminate. In addition, “the layer containing an antistatic agent” refers to the layer that first contains an antistatic agent when viewed from the outermost surface side to the base layer side. That is, if the outermost surface layer contains an antistatic agent, the outermost layer is a layer containing an antistatic agent. If the outermost surface layer does not contain an antistatic layer and the next layer contains an antistatic agent, then the outermost layer is a layer containing an antistatic agent. , the next layer becomes “a layer containing an antistatic agent.”

「지우개 시험이 행해지는 면과, 대전 방지제를 함유하는 층의 거리」란, 상기 최표면으로부터 상기 「대전 방지제가 함유되어 있는 층」의 최표면 측의 표면까지의 거리를 나타내는 것이다.“The distance between the surface where the eraser test is performed and the layer containing the antistatic agent” refers to the distance from the outermost surface to the surface on the outermost surface side of the “layer containing the antistatic agent.”

또한, 예를 들어 기능층 형성 시의 건조 온도가 낮아지면, 상기 전하량의 절댓값이 작아지는 경향이 있고, 한편, 기능층 형성 시의 건조 온도가 높아지면, 대전 방지제가 기능층의 표면으로 이행하기 어려워져, 상기 전하량의 절댓값이 커지는 경향이 있다.Additionally, for example, as the drying temperature during formation of the functional layer decreases, the absolute value of the above charge tends to decrease, and on the other hand, as the drying temperature during formation of the functional layer increases, the antistatic agent tends to migrate to the surface of the functional layer. This becomes difficult, and the absolute value of the amount of charge tends to increase.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 #0000의 스틸 울을 사용하여 소정의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 스틸 울 시험을 행한 경우에, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에 흠집이 확인되지 않는 최대 하중은, 예를 들어 4.9N 이상인 것이 바람직하고, 9.8N 이상인 것이 보다 바람직하고, 14.7N 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 최대 하중이 상기 범위임으로써, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 경도를 높여, 내찰상성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the present disclosure, when a steel wool test is performed in which the surface on the functional layer side of the display device laminate is rubbed 2500 times by applying a predetermined load using #0000 steel wool, the function of the display device laminate is determined. The maximum load at which no damage is observed on the surface of the layer side is, for example, preferably 4.9 N or more, more preferably 9.8 N or more, and even more preferably 14.7 N or more. When the maximum load is within the above range, the hardness of the surface on the functional layer side of the display device laminate can be increased and scratch resistance can be improved.

여기서, 스틸 울 시험은, 하기의 방법에 의해 행할 수 있다. 즉, #0000의 스틸 울을 사용하여, 스틸 울을 2cm×2cm의 지그에 고정하여, 왕복 속도: 40rpm, 왕복 거리: 40mm의 조건으로, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 2500왕복 문지른다. #0000의 스틸 울로서는, 닛폰 스틸 울사제의 본스타 #0000을 사용할 수 있다. 또한, 시험기로서는, 예를 들어 테스터 산교사제의 학진형 마찰 견뢰도 시험기 AB-301을 사용할 수 있다. 또한, 스틸 울 시험은, 예를 들어 4cm×10cm의 크기의 표시 장치용 적층체의 기재층 측의 면에, PET 기재의 편면에 점착층을 갖는 보호 필름을 접합한 후, 시험기에, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면이 바깥이 되도록 두고, 표시 장치용 적층체의 단부를 셀로판 테이프에 의해 고정한 상태에서 행한다.Here, the steel wool test can be performed by the following method. That is, using #0000 steel wool, the steel wool is fixed to a jig of 2 cm Rub it. As #0000 steel wool, Bonestar #0000 manufactured by Nippon Steel Wool Company can be used. In addition, as a testing machine, for example, Gakjin type friction fastness tester AB-301 manufactured by Tester Sangyo can be used. In addition, the steel wool test is performed, for example, by bonding a protective film having an adhesive layer on one side of a PET substrate to the side of the substrate layer side of a laminate for a display device with a size of 4 cm x 10 cm, and then attaching the display device to a tester. This is carried out in a state where the surface on the functional layer side of the laminate for a display device is placed on the outside, and the end of the laminate for a display device is fixed with a cellophane tape.

또한, 스틸 울 시험에 의해, 예를 들어 의복의 포켓이나 가방 내의 수납물 등의 비교적 딱딱한 것에 대한 내마모성을 평가할 수 있다.Additionally, the steel wool test can be used to evaluate abrasion resistance against relatively hard objects, such as pockets in clothing or items contained in a bag.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 연필 경도는, 예를 들어 H 이상인 것이 바람직하고, 2H 이상인 것이 보다 바람직하고, 3H 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 연필 경도가 상기 범위임으로써, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 경도를 높여, 내찰상성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the present disclosure, the pencil hardness of the surface on the functional layer side of the display device laminate is preferably, for example, H or higher, more preferably 2H or higher, and even more preferably 3H or higher. When the pencil hardness is within the above range, the hardness of the surface on the functional layer side of the display device laminate can be increased and scratch resistance can be improved.

여기서, 연필 경도는, JIS K5600-5-4(1999)에서 규정되는 연필 경도 시험으로 측정된다. 구체적으로는, JIS-S-6006이 규정하는 시험용 연필을 사용하여, JIS K5600-5-4(1999)에 규정하는 연필 경도 시험을 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에 행하여, 흠집이 생기지 않는 가장 높은 연필 경도를 평가함으로써 행할 수 있다. 측정 조건으로서는, 각도 45°, 하중(1000g), 속도 0.5mm/초 이상 1mm/초 이하, 온도 23±2℃로 할 수 있다. 연필 경도 시험기로서는, 예를 들어 도요 세이키(주)제 연필 긁기 도막 경도 시험기를 사용할 수 있다.Here, pencil hardness is measured by the pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4 (1999). Specifically, using the test pencil specified in JIS-S-6006, a pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4 (1999) was performed on the surface on the functional layer side of the display device laminate to determine whether there were any scratches. This can be done by evaluating the highest pencil hardness that does not occur. Measurement conditions include an angle of 45°, load (1000 g), speed of 0.5 mm/sec or more and 1 mm/sec or less, and temperature of 23 ± 2°C. As a pencil hardness tester, for example, a pencil scratching coating film hardness tester manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. can be used.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의, 지우개에 대한 마찰력의 평균값은, 예를 들어 0.98N 이상 9.80N 이하인 것이 바람직하고, 1.96N 이상 8.80N 이하인 것이 보다 바람직하고, 2.45N 이상 7.80N 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값이 상기 범위이면, 내마모성을 높게 할 수 있다.In addition, in the present disclosure, the average value of the frictional force against the eraser on the functional layer side of the display device laminate is preferably, for example, 0.98 N or more and 9.80 N or less, and more preferably 1.96 N or more and 8.80 N or less. It is preferable, and it is more preferable that it is 2.45N or more and 7.80N or less. If the average value of the initial frictional force against the eraser is within the above range, wear resistance can be increased.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의, 지우개에 대한 마찰력의 최댓값은, 예를 들어 0.98N 이상 9.80N 이하인 것이 바람직하고, 1.96N 이상 8.80N 이하인 것이 보다 바람직하고, 2.45N 이상 7.80N 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력이 상기 범위임으로써, 우수한 내마모성을 얻을 수 있음과 함께, 우수한 대전 방지성을 유지할 수 있다.In addition, in the present disclosure, the functional layer side of the display device laminate is subjected to an eraser test in which a load of 9.8 N is applied using an eraser with a diameter of 6 mm and the surface of the display device laminate is rubbed 2500 times. In terms of the maximum value of friction against the eraser, for example, it is preferably 0.98N or more and 9.80N or less, more preferably 1.96N or more and 8.80N or less, and even more preferably 2.45N or more and 7.80N or less. When the frictional force against the eraser after the above eraser test is within the above range, excellent wear resistance can be obtained and excellent antistatic properties can be maintained.

또한, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의, 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값에 대한, 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값의 비율은, 예를 들어 1.7 이하인 것이 바람직하고, 1.5 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.3 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 지우개에 대한 마찰력의 비율이 상기 범위임으로써, 내마모성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 지우개에 대한 마찰력의 비율은, 작을수록 바람직하고, 예를 들어 1.00이어도 된다.In addition, the ratio of the maximum value of the frictional force against the eraser after the eraser test to the average value of the initial frictional force against the eraser on the surface of the functional layer side of the display device laminate is preferably 1.7 or less, for example, 1.5. It is more preferable that it is 1.3 or less, and it is still more preferable that it is 1.3 or less. When the ratio of friction force to the eraser is within the above range, wear resistance can be improved. Additionally, the smaller the ratio of friction force to the eraser, the more preferable it is, and may be, for example, 1.00.

상기 지우개에 대한 마찰력의 비율은, 지우개 시험 전의 초기의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 지우개에 대한 마찰력의 평균값을 A, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값을 B라 했을 때, 하기 식에 의해 구해진다.The ratio of the frictional force against the eraser is A, the average value of the frictional force against the eraser on the surface on the functional layer side of the initial display device laminate before the eraser test, and A on the functional layer side surface of the display device laminate after the eraser test. When the maximum value of friction against the eraser is B, it is obtained by the following equation.

마찰력의 비율=B/ARatio of friction force = B/A

여기서, 지우개에 대한 마찰력은, 직경 6mm의 지우개를 사용하여, 직경 6mm의 구멍을 갖는 지그에 지우개의 선단이 4mm 노출되도록 삽입하고, 이 지우개 부착 지그를 마찰 측정기에 설치하여, 하중 1.96N 및 이동 속도 840mm/분으로 지우개에 의해 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 문질러, 측정할 수 있다. 직경 6mm의 지우개로서는, 예를 들어 minoan사제의 φ6mm의 지우개를 사용할 수 있다. 또한, 마찰 측정기로서는, 예를 들어 신토 가가쿠 가부시키가이샤제의 TRIBOGEAR TYPE18을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 먼저, 표시 장치용 적층체(1)의 기능층 측의 면(30)의 일부에 대하여 상술한 지우개 시험을 행하여, 직사각 형상의 지우개 시험 실시부(32)를 형성한다. 이어서, 지우개를 사용하여, 표시 장치용 적층체(1)의 기능층 측의 면(30)을, 화살표로 나타내는 바와 같이, 지우개 시험 미실시부(31), 지우개 시험 실시부(32) 및 지우개 시험 미실시부(31)의 순으로 문질러, 마찰력을 측정한다. 그때, 지우개를, 화살표로 나타내는 바와 같이, 직사각 형상의 지우개 시험 실시부(32)의 길이 방향에 대하여 수직으로 이동시킨다. 지우개 시험 미실시부의 지우개에 대한 마찰력의 평균값을 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값, 지우개 시험 실시부의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값을 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값으로 할 수 있다. 또한, 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 지우개 시험 실시부(32)의 지우개에 대한 마찰력이 최댓값이 되는 점을 0mm로 했을 때, 지우개 시험 미실시부(31)에 있어서, 상기의 점 0mm을 기준으로 하여 4.2mm 이상 9.8mm 이하의 범위에서의 마찰력의 평균값으로 한다.Here, the frictional force against the eraser is determined by using an eraser with a diameter of 6 mm, inserting it into a jig with a hole with a diameter of 6 mm so that the tip of the eraser is exposed by 4 mm, installing this eraser attachment jig in a friction measuring machine, and determining a load of 1.96 N and movement. Measurement can be made by rubbing the surface on the functional layer side of the display device laminate with an eraser at a speed of 840 mm/min. As an eraser with a diameter of 6 mm, for example, an eraser with a diameter of ϕ6 mm manufactured by Minoan can be used. Additionally, as a friction measuring device, for example, TRIBOGEAR TYPE18 manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd. can be used. Specifically, as shown in FIG. 2, first, the above-described eraser test is performed on a part of the surface 30 on the functional layer side of the display device laminate 1, and the eraser test implementation section 32 of a rectangular shape is ) to form. Next, using an eraser, the surface 30 on the functional layer side of the display device laminate 1 is divided into an erase test non-performed portion 31, an erase test performed portion 32, and an erase test portion, as indicated by arrows. The friction force is measured by rubbing in the order of the unimplemented portion 31. At that time, the eraser is moved perpendicularly to the longitudinal direction of the rectangular eraser test implementation section 32, as indicated by the arrow. The average value of the frictional force against the eraser in the part where the eraser test was not performed can be taken as the average value of the initial frictional force against the eraser, and the maximum value of the frictional force against the eraser in the eraser test conducted part can be the maximum value of the frictional force against the eraser after the eraser test. In addition, as shown in FIG. 2, the average value of the initial frictional force against the eraser is in the eraser test non-implementation part 31 when the point at which the frictional force against the eraser of the eraser test performing part 32 is the maximum value is set to 0 mm. In this case, the average value of the friction force in the range of 4.2 mm to 9.8 mm is taken based on the above point of 0 mm.

또한, 본 개시에 있어서, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, 예를 들어 7at% 이상 60at% 이하인 것이 바람직하고, 20at% 이상 50at% 이하인 것이 보다 바람직하고, 25at% 이상 45at% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 초기의 불소 원자수의 비가 상기 범위 내이면, 내마모성을 높게 할 수 있다.In addition, in the present disclosure, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface of the functional layer side of the display device laminate as measured by X-ray photoelectron spectroscopy is, for example, 7 at%. It is preferable that it is 60 at% or less, more preferably 20 at% or more and 50 at% or less, and even more preferably 25 at% or more and 45 at% or less. If the ratio of the initial number of fluorine atoms is within the above range, wear resistance can be increased.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, 예를 들어 7at% 이상 60at% 이하인 것이 바람직하고, 20at% 이상 50at% 이하인 것이 보다 바람직하고, 25at% 이상 45at% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 지우개 시험 후의 불소 원자수의 비가 상기 범위 내이면, 지우개 시험에 의해 기능층에 포함되는 불소가 탈리되는 것을 억제할 수 있어, 내마모성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the present disclosure, the surface on the functional layer side of the display device laminate is subjected to an eraser test in which a load of 9.8 N is applied using an eraser with a diameter of 6 mm and the surface is rubbed for 2,500 reciprocations, and then measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the functional layer side of the display device laminate is preferably, for example, 7 at% or more and 60 at% or less, and more preferably 20 at% or more and 50 at% or less. It is preferable, and it is more preferable that it is 25 at% or more and 45 at% or less. If the ratio of the number of fluorine atoms after the eraser test is within the above range, desorption of fluorine contained in the functional layer by the eraser test can be suppressed, and wear resistance can be improved.

또한, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 초기의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비에 대한, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비의 비율은, 예를 들어 0.4 이상인 것이 바람직하고, 0.6 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.7 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 불소의 원자수의 비의 비율이 상기 범위임으로써, 내마모성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 불소의 원자수의 비의 비율은, 클수록 바람직하고, 예를 들어 1.0이어도 된다.In addition, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface of the functional layer side of the initial display device laminate as measured by X-ray photoelectron spectroscopy, the display device laminate after the eraser test. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the functional layer side of the sieve is, for example, preferably 0.4 or more, more preferably 0.6 or more, and still more preferably 0.7 or more. When the ratio of the number of fluorine atoms is within the above range, wear resistance can be improved. In addition, the larger the ratio of the number of fluorine atoms, the more preferable it is, and may be, for example, 1.0.

상기 불소의 원자수의 비의 비율은, 지우개 시험 전의 초기의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 C, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 D라 했을 때, 하기 식에 의해 구해진다.The ratio of the ratio of the number of fluorine atoms is C, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface of the functional layer side of the initial display device laminate before the eraser test, C, and the display after the eraser test. When D is the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the functional layer side of the device laminate, it is obtained by the following equation.

불소의 원자수의 비의 비율=D/CRatio of the number of fluorine atoms = D/C

또한, 본 개시에 있어서, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 지우개의 표면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, 예를 들어 검출 한계 이하인 것이 바람직하다.Additionally, in the present disclosure, it is preferable that the ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements on the surface of the eraser, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is, for example, below the detection limit.

또한, 본 개시에 있어서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 지우개의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면과의 접촉면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, 예를 들어 15at% 이하인 것이 바람직하고, 10at% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5at% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 지우개 시험 후의 지우개의 접촉면에서의 불소의 원자수의 비가 상기 범위 내이면, 지우개 시험에 의해 기능층에 포함되는 불소가 탈리되어, 지우개에 부착되는 것을 억제할 수 있어, 내마모성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the present disclosure, the surface on the functional layer side of the display device laminate is subjected to an eraser test in which a load of 9.8 N is applied using an eraser with a diameter of 6 mm and the surface is rubbed for 2,500 reciprocations, and then measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface in contact with the surface on the functional layer side of the display device laminate of the eraser is preferably, for example, 15 at% or less, and more preferably 10 at% or less. And, it is more preferable that it is 5 at% or less. If the ratio of the number of fluorine atoms on the contact surface of the eraser after the eraser test is within the above range, the desorption of fluorine contained in the functional layer during the eraser test can be prevented from adhering to the eraser, and the wear resistance can be improved. there is.

여기서, 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, X선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정되는, 시료 표면에 존재하는 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비이며, 구체적으로는, 탄소 원자, 산소 원자, 불소 원자, 질소 원자, 규소 원자, 칼슘 원자 및 염소 원자의 총 원자수를 100at%라 했을 때의 불소 원자 원자수 비율(at%)을 말한다.Here, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements is the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements present on the sample surface, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). , specifically, refers to the fluorine atom number ratio (at%) when the total number of carbon atoms, oxygen atoms, fluorine atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, calcium atoms, and chlorine atoms is 100 at%.

전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비는, X선 광전자 분광 분석(XPS)에 의해 시료 표면의 조성 분석을 행함으로써 구할 수 있다. 구체적으로는, 이하의 수순으로 구할 수 있다. 먼저, X선 광전자 분광계를 사용하여 하기의 조건에서, 시료면으로부터 깊이 방향으로 X선을 조사하여, X선 광전자 스펙트럼을 측정한다. X선 광전자 분광계로서는, 예를 들어 Kratos사제의 AXIS-NOVA를 사용할 수 있다. 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 측정하는 경우에는, C, O, F, N, Si, Ca 및 Cl을 분석 대상 원소로 하여, 얻어진 스펙트럼으로부터, Shirley법으로 결정한 백그라운드를 차감하고, 피크의 면적으로부터 상대 감도 계수법을 사용하여, 탄소 원자, 산소 원자, 불소 원자, 질소 원자, 규소 원자, 칼슘 원자 및 염소 원자의 총 원자수를 100at%라 했을 때의 불소 원자의 원자수 비율(at%)을 구할 수 있다.The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements can be determined by analyzing the composition of the sample surface by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Specifically, it can be obtained by the following procedure. First, using an X-ray photoelectron spectrometer, X-rays are irradiated in the depth direction from the sample surface under the following conditions to measure the As an X-ray photoelectron spectrometer, for example, AXIS-NOVA manufactured by Kratos can be used. When measuring the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements, C, O, F, N, Si, Ca, and Cl are used as elements to be analyzed, and the background determined by the Shirley method is calculated from the obtained spectrum. Subtracted from the area of the peak, using the relative sensitivity coefficient method, the number of fluorine atoms when the total number of carbon atoms, oxygen atoms, fluorine atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, calcium atoms, and chlorine atoms is 100 at%. The ratio (at%) can be obtained.

<측정 조건><Measurement conditions>

· 입사 X선: Monochromated Al-Kα선(단색화 X선, Hv=1486.6eV)· Incident X-ray: Monochromated Al-Kα ray (monochromatized X-ray, Hv=1486.6eV)

· X선 조사 영역(측정 면적): 110㎛φ· X-ray irradiation area (measurement area): 110㎛ϕ

· X선 출력: 150W(15kV·6.7mA)· X-ray output: 150W (15kV·6.7mA)

· 광전자 도입 각도; 90°±15°(시료 법선을 0°로 함)· Photoelectron introduction angle; 90°±15° (sample normal is 0°)

· 대전 중화 조건: 전자 중화총(+6V, 0.05mA), 저가속 Ar+ 이온 조사· Charge neutralization conditions: electron neutralizing gun (+6V, 0.05mA), low-acceleration Ar + ion irradiation

· 측정 피크: C1s, O1s, F1s, N1s, Si2p, Ca2p, Cl2p· Measured peaks: C1s, O1s, F1s, N1s, Si2p, Ca2p, Cl2p

또한, 초기의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비 및 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 측정하는 경우에는, 예를 들어 상술한 바와 같이, 도 2에 나타내는 바와 같은 지우개 시험 실시부(32)를 형성하여, 지우개 시험 미실시부(31)의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 초기의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비로 하고, 지우개 시험 실시부(32)의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비를 지우개 시험 후의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비로 해도 된다.In addition, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface of the functional layer side of the initial display device laminate and the total elements on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test. In the case of measuring the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms, for example, as described above, an eraser test implementation section 32 as shown in FIG. 2 is formed, and an eraser test non-performance section 31 is formed. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements in the initial ratio is the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements in the eraser test implementation unit 32. The ratio of the number of fluorine atoms may be the ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements after the eraser test.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 전광선 투과율이, 예를 들어 85% 이상인 것이 바람직하고, 88% 이상인 것이 보다 바람직하고, 90% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 전광선 투과율이 높음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure preferably has a total light transmittance of, for example, 85% or more, more preferably 88% or more, and even more preferably 90% or more. As the total light transmittance is high in this way, a laminate for a display device with good transparency can be obtained.

여기서, 표시 장치용 적층체의 전광선 투과율은, JIS K7361-1에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들어 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제의 헤이즈 미터 HM150에 의해 측정할 수 있다.Here, the total light transmittance of the laminate for a display device can be measured based on JIS K7361-1, and can be measured, for example, with a haze meter HM150 manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Kenkyujo.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체의 헤이즈는, 예를 들어 5% 이하인 것이 바람직하고, 2% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 헤이즈가 낮음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다.The haze of the display device laminate in the present disclosure is preferably, for example, 5% or less, more preferably 2% or less, and still more preferably 1% or less. By having a low haze in this way, a laminate for a display device with good transparency can be obtained.

여기서, 표시 장치용 적층체의 헤이즈는, JIS K-7136에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들어 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제의 헤이즈 미터 HM150에 의해 측정할 수 있다.Here, the haze of the display device laminate can be measured based on JIS K-7136, and can be measured, for example, with a haze meter HM150 manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Kenkyujo.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 내굴곡성을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 표시 장치용 적층체에 대하여, 하기에 설명하는 동적 굴곡 시험을 행한 경우에, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.The laminate for a display device in the present disclosure preferably has bending resistance. Specifically, when the dynamic bending test described below is performed on the display device laminate, it is preferable that no cracks or fractures occur in the display device laminate.

동적 굴곡 시험은, 이하와 같이 하여 행해진다. 먼저, 20mm×100mm의 크기의 표시 장치용 적층체를 준비한다. 그리고, 동적 굴곡 시험에 있어서는, 도 3의 (a)에 나타내는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 짧은 변부(1C)와, 짧은 변부(1C)와 대향하는 짧은 변부(1D)를, 평행하게 배치된 고정부(51)로 각각 고정한다. 또한, 도 3의 (a)에 나타내는 바와 같이, 고정부(51)는 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 되어 있다. 다음으로, 도 3의 (b)에 나타내는 바와 같이, 고정부(51)를 서로 근접하도록 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 접도록 변형시키고, 또한 도 3의 (c)에 나타내는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 고정부(51)로 고정된 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 소정의 값이 되는 위치까지 고정부(51)를 이동시킨 후, 고정부(51)를 역방향으로 이동시켜 표시 장치용 적층체(1)의 변형을 해소시킨다. 도 3의 (a) 내지 (c)에 나타내는 바와 같이 고정부(51)를 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 180° 접을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체(1)의 굴곡부(1E)가 고정부(51)의 하단으로부터 비어져 나오지 않도록 동적 굴곡 시험을 행하고, 또한 고정부(51)가 가장 접근했을 때의 간격을 제어함으로써, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d를 소정의 값으로 할 수 있다. 예를 들어, 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 30mm일 경우, 굴곡부(1E)의 외경을 30mm로 간주한다.The dynamic bending test is performed as follows. First, prepare a laminate for a display device with a size of 20 mm x 100 mm. In the dynamic bending test, as shown in FIG. 3(a), the short edge 1C of the display device laminate 1 and the short edge 1D opposite the short edge 1C are, Each is fixed with fixing parts 51 arranged in parallel. Additionally, as shown in Fig. 3(a), the fixing portion 51 is capable of sliding in the horizontal direction. Next, as shown in FIG. 3(b), the display device laminate 1 is deformed to be folded by moving the fixing portions 51 closer to each other, and as shown in FIG. 3(c). Likewise, after moving the fixing part 51 to a position where the spacing d between the two opposing short sides 1C and 1D fixed by the fixing part 51 of the display device laminate 1 becomes a predetermined value, , the fixing portion 51 is moved in the reverse direction to eliminate the deformation of the display device laminate 1. As shown in FIGS. 3A to 3C , the display device laminate 1 can be folded by 180° by moving the fixing portion 51. In addition, a dynamic bending test is performed to prevent the bent portion 1E of the display device laminate 1 from protruding from the lower end of the fixing portion 51, and the gap when the fixing portion 51 is closest is controlled to , the spacing d between the two opposing short sides 1C and 1D of the display device laminate 1 can be set to a predetermined value. For example, if the spacing d between the short edges 1C and 1D is 30 mm, the outer diameter of the bent portion 1E is considered to be 30 mm.

표시 장치용 적층체에 있어서는, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 30mm가 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을, 20만회 반복하여 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하고, 50만회 반복하여 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 표시 장치용 적층체의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 20mm가 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복하여 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하고, 특히 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 10mm가 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복하여 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.In the display device laminate, when a dynamic bending test of 180° folding is repeated 200,000 times so that the spacing d between the opposing short edges 1C and 1D of the display device laminate 1 is 30 mm, no cracks or It is preferable that no fracture occurs, and it is more preferable that no crack or fracture occurs when the process is repeated 500,000 times. Among these, it is preferable that no cracks or fractures occur when the 180° folding dynamic bending test is repeated 200,000 times so that the spacing d between the opposing short edges 1C and 1D of the display device laminate is 20 mm. It is desirable that no cracks or fractures occur when the 180° folding dynamic bending test is repeated 200,000 times so that the spacing d between the opposing short edges 1C and 1D of the display device laminate 1 is 10 mm.

동적 굴곡 시험에서는, 기능층이 외측이 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되고, 혹은, 기능층이 내측이 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되지만, 어느 경우에도, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.In the dynamic bending test, the display device laminate may be folded so that the functional layer is on the outside, or the display device laminate may be folded so that the functional layer is on the inside, but in either case, the display device laminate may crack. Alternatively, it is desirable that no fracture occurs.

2. 기능층2. Functional layer

본 개시에 있어서의 기능층은, 기재층의 한쪽 면 측에 배치되고, 불소를 함유하는 층이다. 기능층은, 불소를 함유함으로써, 표시 장치용 적층체에 내마모성 및 방오성을 부여할 수 있다.The functional layer in the present disclosure is a layer disposed on one side of the base layer and containing fluorine. By containing fluorine, the functional layer can provide wear resistance and antifouling properties to the display device laminate.

기능층으로서는, 불소를 함유하는 것이면 특별히 한정되지는 않는다. 기능층은, 예를 들어 불소 화합물 및 수지를 함유하고 있어도 되고, 불소 수지를 함유하고 있어도 된다.The functional layer is not particularly limited as long as it contains fluorine. The functional layer may contain, for example, a fluorine compound and a resin, or may contain a fluorine resin.

기능층이 불소 화합물 및 수지를 함유하는 경우, 불소 화합물로서는, 예를 들어 불소계 방오제, 불소계 레벨링제, 불소계 계면 활성제 등으로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 불소 화합물로서는, 예를 들어 유기 불소 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 퍼플루오로 화합물을 들 수 있다. 퍼플루오로 화합물로서는, 예를 들어 퍼플루오로폴리에테르기, 퍼플루오로알킬렌기, 퍼플루오로알킬기 등을 갖는 퍼플루오로 화합물을 들 수 있다. 퍼플루오로알킬렌기 및 퍼플루오로알킬기는, 직쇄여도 되고 분지쇄여도 된다. 불소 화합물은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.When the functional layer contains a fluorine compound and a resin, as the fluorine compound, for example, those known as a fluorine-based antifouling agent, a fluorine-based leveling agent, a fluorine-based surfactant, etc. can be used. Examples of the fluorine compound include organic fluorine compounds, and specifically, perfluoro compounds. Examples of the perfluoro compound include perfluoro compounds having a perfluoropolyether group, perfluoroalkylene group, perfluoroalkyl group, etc. The perfluoroalkyl group and the perfluoroalkyl group may be straight chain or branched chain. A fluorine compound may be used individually by 1 type, or may be used in mixture of 2 or more types.

또한, 불소 화합물은, 수지 성분과 결합되어 있는 것이 바람직하다. 불소 화합물이 수지 성분과 결합되어 있음으로써, 불소 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있어, 내마모성이나 방오성을 장기에 걸쳐 지속할 수 있다. 또한, 지우개 시험 후에도 내마모성이나 방오성을 유지하기 쉽게 할 수 있다.Additionally, it is preferable that the fluorine compound is combined with the resin component. By bonding the fluorine compound to the resin component, bleed-out of the fluorine compound can be suppressed, and wear resistance and stain resistance can be maintained over a long period of time. In addition, it is easy to maintain wear resistance and stain resistance even after the eraser test.

불소 화합물로서는, 수지 성분과 결합되어 있는 것이 바람직하기 때문에, 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물이 바람직하게 사용된다. 즉, 기능층은, 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물과 후술하는 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물을 함유하는 것이 바람직하다. 반응성 관능기로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합기나, 에폭시기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다.Since the fluorine compound is preferably bonded to the resin component, a fluorine compound having a reactive functional group is preferably used. That is, the functional layer preferably contains a cured product of a resin composition containing a fluorine compound having a reactive functional group and a polymerizable compound described later. Examples of the reactive functional group include ethylenically unsaturated bonding groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group, epoxy group, and oxetanyl group.

불소 화합물이 갖는 반응성 관능기의 수는, 1 이상이면 되고, 바람직하게는 2 이상이다. 2 이상의 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물을 사용함으로써, 내찰상성 및 내마모성을 높일 수 있다.The number of reactive functional groups that the fluorine compound has may be 1 or more, and is preferably 2 or more. By using a fluorine compound having two or more reactive functional groups, scratch resistance and wear resistance can be improved.

또한, 불소 화합물은, 규소를 포함하고 있어도 된다. 즉, 기능층은, 불소 및 규소를 함유하고 있어도 된다. 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 분자 내에 실록산 결합을 갖는 불소 화합물을 들 수 있다. 실록산 결합을 갖는 불소 화합물을 사용함으로써, 미끄럼성을 향상시킬 수 있어, 내찰상성을 높일 수 있다. 또한, 손가락이나 터치펜 등으로 접촉했을 때의 미끄럼이 좋아지기 때문에, 촉감을 좋게 할 수 있다.Additionally, the fluorine compound may contain silicon. That is, the functional layer may contain fluorine and silicon. Examples of the fluorine compound containing silicon include fluorine compounds having a siloxane bond in the molecule. By using a fluorine compound having a siloxane bond, slipperiness can be improved and scratch resistance can be increased. Additionally, since slippage is improved when touched with a finger or a touch pen, the tactile feel can be improved.

불소 화합물은, 예를 들어 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물이나, 반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물인 것이 바람직하다.The fluorine compound is preferably, for example, a fluorine compound having a reactive functional group or a fluorine compound containing a reactive functional group and silicon.

반응성 관능기를 갖는 불소 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 불소 함유 모노머, 주쇄에 플루오로알킬렌기를 갖는 불소 함유 폴리머 혹은 올리고머, 주쇄 및 측쇄에 플루오로알킬렌기 혹은 플루오로알킬기를 갖는 불소 함유 폴리머 혹은 올리고머 등을 들 수 있다. 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2017-19247호 공보를 참조할 수 있다.Examples of the fluorine compound having a reactive functional group include fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond, fluorine-containing polymers or oligomers having a fluoroalkylene group in the main chain, and fluorine having a fluoroalkylene group or fluoroalkyl group in the main chain and side chains. Containing polymers or oligomers may be mentioned. For fluorine compounds having a reactive functional group, reference can be made to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-19247.

반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 상기의 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물에, 반응성 관능기를 분자 중에 갖는 유기 실리콘을 반응시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체 등을 들 수 있다.Examples of the fluorine compound containing a reactive functional group and silicon include, for example, a silicon-containing vinylidene fluoride copolymer obtained by reacting a fluorine compound having the above reactive functional group with an organic silicone having a reactive functional group in the molecule.

또한, 반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 반응성 관능기 및 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 불소 화합물, 그 중에서도 반응성 관능기를 갖는 실란 단위, 및 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 실란 단위를 포함하는 불소 화합물도 바람직하게 사용된다. 이러한 불소 화합물에 대해서는, 예를 들어 국제 공개 제2012/157682호를 참조할 수 있다.In addition, the fluorine compound containing a reactive functional group and silicon includes, for example, a fluorine compound having a reactive functional group and a perfluoropolyether group, especially a silane unit having a reactive functional group, and a silane unit having a perfluoropolyether group. Fluorine compounds are also preferably used. For these fluorine compounds, reference may be made to International Publication No. 2012/157682, for example.

기능층에 있어서, 불소 화합물은, 예를 들어 균일하게 존재하고 있어도 되고, 기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 편재되어 있어도 된다. 그 중에서도, 불소 화합물은 기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 편재되어 있는 것이 바람직하다. 적은 첨가량으로 충분한 내마모성이나 방오성을 얻을 수 있고, 기능층의 표면 경도의 저하를 억제할 수 있다.In the functional layer, the fluorine compound may exist uniformly, for example, or may be unevenly distributed on the side of the functional layer opposite to the base material layer. Among these, it is preferable that the fluorine compound is distributed on the surface of the functional layer opposite to the base material layer. Sufficient wear resistance and antifouling properties can be obtained with a small addition amount, and a decrease in the surface hardness of the functional layer can be suppressed.

기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 불소 화합물을 편재시키는 방법으로서는, 예를 들어, 기능층이 단층일 경우에는, 기능층의 형성 시에 있어서, 기재층 상에 기능층용 수지 조성물을 도포하여, 건조시키고, 경화시키기 전에, 도막을 가열하여, 도막에 포함되는 수지 성분의 점도를 낮춤으로써 유동성을 높임으로써, 불소 화합물을 기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 편재시키는 방법이나, 표면 장력이 낮은 불소 화합물을 사용하여, 도막의 건조 시에 열을 가하지 않고 도막의 표면에 불소 화합물을 뜨게 하고, 그 후, 도막을 경화시킴으로써, 불소 화합물을 기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 편재시키는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 예를 들어 기능층이 다층일 경우에는, 다층의 기능층 중, 기재층과는 반대 측의 면에 위치하는 층에 불소 화합물을 함유시킴으로써, 기능층의 기재층과는 반대 측의 면에 불소 화합물을 편재시킬 수 있다.As a method of localizing the fluorine compound on the side of the functional layer opposite to the base layer, for example, when the functional layer is a single layer, applying a resin composition for the functional layer on the base layer when forming the functional layer. Before drying and curing, the coating film is heated to lower the viscosity of the resin component contained in the coating film to increase fluidity, thereby localizing the fluorine compound on the side opposite to the base layer of the functional layer. By using a fluorine compound with a low surface tension, making the fluorine compound float on the surface of the coating film without applying heat when drying the coating film, and then curing the coating film, the fluorine compound is placed on the side opposite to the base layer of the functional layer. A method of distributing it on the surface can be mentioned. In addition, for example, when the functional layer is multilayered, the fluorine compound is contained in the layer located on the side opposite to the base material layer among the multilayer functional layers, so that it is placed on the side opposite to the base material layer of the functional layer. Fluorine compounds can be localized.

불소 화합물의 함유량으로서는, 상기의 전하량의 절댓값을 충족시키는 기능층을 얻을 수 있는 양이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 수지 성분 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 15질량부 이하인 것이 바람직하다. 불소 화합물의 함유량이 너무 적으면, 기능층에 충분한 내마모성이나 방오성을 부여하지 못할 가능성이 있다. 또한, 불소 화합물의 함유량이 너무 많으면, 기능층의 표면 경도가 저하되어, 내마모성이 저하될 가능성이 있다.The content of the fluorine compound is not particularly limited as long as it can obtain a functional layer that satisfies the absolute value of the above-mentioned charge. For example, it is preferably 0.01 parts by mass or more and 15 parts by mass or less per 100 parts by mass of the resin component. . If the content of the fluorine compound is too small, there is a possibility that sufficient wear resistance and antifouling properties may not be provided to the functional layer. Additionally, if the content of the fluorine compound is too high, the surface hardness of the functional layer may decrease and wear resistance may decrease.

또한, 기능층이 불소 화합물 및 수지를 함유하는 경우, 수지로서는, 예를 들어 중합성 화합물의 경화물을 들 수 있다. 중합성 화합물의 경화물은, 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지된 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.In addition, when the functional layer contains a fluorine compound and a resin, examples of the resin include a cured product of a polymerizable compound. The cured product of the polymerizable compound can be obtained by subjecting the polymerizable compound to a polymerization reaction by a known method, using a polymerization initiator as necessary.

중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 중합성 화합물로서는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 중 적어도 1종을 사용할 수 있다.A polymerizable compound has at least one polymerizable functional group in its molecule. As the polymerizable compound, for example, at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound can be used.

라디칼 중합성 화합물이란, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이다. 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성기로서는, 라디칼 중합 반응을 발생시킬 수 있는 관능기이면 되고, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 비닐기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 또한, 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성기는 각각 동일해도 되고, 달라도 된다.A radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radical polymerizable group possessed by the radical polymerizable compound may be any functional group capable of generating a radical polymerization reaction, and is not particularly limited, but examples include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, Examples include vinyl group and (meth)acryloyl group. In addition, when the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different.

라디칼 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 라디칼 중합성기의 수는, 기능층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하고, 3개 이상인 것이 더 바람직하다.The number of radical polymerizable groups in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, since the surface hardness of the functional layer increases and the scratch resistance improves.

라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성이 높은 점에서, 그 중에서도 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 예를 들어 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 멜라민(메트)아크릴레이트, 폴리플루오로알킬(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트 등으로 칭해지는 분자 내에 수개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백 내지 수천의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 및 올리고머를 바람직하게 사용할 수 있고, 또한 아크릴레이트 폴리머의 측쇄에 (메트)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 폴리머도 바람직하게 사용할 수 있다. 그 중에서도, 1분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 바람직하게 사용할 수 있다. 기능층이, 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 경화물을 포함함으로써, 기능층의 표면 경도를 높일 수 있어, 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 또한 밀착성을 향상시킬 수도 있다. 또한, 1분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머도 바람직하게 사용할 수 있다. 기능층이, 다관능 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머의 경화물을 포함함으로써, 기능층의 표면 경도를 높일 수 있어, 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 또한 굴곡 내성 및 밀착성을 향상시킬 수도 있다.As a radically polymerizable compound, because of its high reactivity, compounds having a (meth)acryloyl group are preferable, for example, urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and epoxy (meth)acrylate. Polyfunctional (meth)acrylate with several (meth)acryloyl groups in the molecule, called polyfluoroalkyl (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, polyfluoroalkyl (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, etc., has a molecular weight of hundreds to thousands ( Meth)acrylate monomers and oligomers can be preferably used, and polyfunctional (meth)acrylate polymers having two or more (meth)acryloyl groups in the side chain of the acrylate polymer can also be preferably used. Among them, a polyfunctional (meth)acrylate monomer having two or more (meth)acryloyl groups in one molecule can be preferably used. When the functional layer contains a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate monomer, the surface hardness of the functional layer can be increased and scratch resistance can be improved. Additionally, adhesion can be improved. Additionally, polyfunctional (meth)acrylate oligomers or polymers having two or more (meth)acryloyl groups in one molecule can also be preferably used. When the functional layer contains a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate oligomer or polymer, the surface hardness of the functional layer can be increased and scratch resistance can be improved. It can also improve bending resistance and adhesion.

또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴로일이란, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 각각을 나타내고, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 각각을 나타낸다.In addition, in this specification, (meth)acryloyl represents each of acryloyl and methacryloyl, and (meth)acrylate represents each of acrylate and methacrylate.

다관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2019-132930호 공보에 기재된 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 반응성이 높고, 기능층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 1분자 중에 3개 이상 6개 이하의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하다. 이러한 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 예를 들어 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PETTA), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA), 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.Specific examples of polyfunctional (meth)acrylate monomers include those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-132930. Among them, it is preferable to have 3 to 6 (meth)acryloyl groups per molecule because it has high reactivity, increases the surface hardness of the functional layer, and improves scratch resistance. Examples of such polyfunctional (meth)acrylate monomers include pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), and dipentaerythritol penta. Acrylate (DPPA), trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, etc. can be preferably used. In particular, at least one selected from pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate is preferable.

또한, 라디칼 중합성 화합물을 사용하는 경우, 분자 구조 내의 유연성기에 의해 내찰상성이 저하되는 경우가 있다. 그 때문에, 유연성 성분(소프트 세그먼트)에 의한 내찰상성의 저하를 억제하기 위해, 라디칼 중합성 화합물은, 분자 구조에 유연성기가 도입되어 있지 않은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, EO 또는 PO 변성되어 있지 않은 라디칼 중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 라디칼 중합성 화합물을 사용함으로써, 가교점을 증가시켜, 내찰상성을 향상시킬 수 있다.Additionally, when a radically polymerizable compound is used, scratch resistance may be reduced due to a flexible group in the molecular structure. Therefore, in order to suppress the decrease in scratch resistance caused by the flexible component (soft segment), it is preferable to use a radically polymerizable compound that does not have a flexible group introduced into the molecular structure. Specifically, it is preferable to use a radically polymerizable compound that is not modified with EO or PO. By using such a radically polymerizable compound, the crosslinking point can be increased and the scratch resistance can be improved.

기능층은, 경도나 점도 조정, 밀착성의 향상 등을 위해, 라디칼 중합성 화합물로서, 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 포함하고 있어도 된다. 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2019-132930호 공보에 기재된 것을 들 수 있다.The functional layer may contain a monofunctional (meth)acrylate monomer as a radically polymerizable compound in order to adjust hardness and viscosity, improve adhesion, etc. Specific examples of monofunctional (meth)acrylate monomers include those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-132930.

양이온 중합성 화합물이란, 양이온 중합성기를 갖는 화합물이다. 양이온 중합성 화합물이 갖는 양이온 중합성기로서는, 양이온 중합 반응을 발생시킬 수 있는 관능기이면 되고, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등을 들 수 있다. 또한, 양이온 중합성 화합물이 2개 이상의 양이온 중합성기를 갖는 경우, 이들 양이온 중합성기는 각각 동일해도 되고, 달라도 된다.A cationically polymerizable compound is a compound having a cationic polymerizable group. The cationic polymerizable group of the cationically polymerizable compound may be any functional group capable of causing a cationic polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples include an epoxy group, oxetanyl group, and vinyl ether group. Additionally, when the cationically polymerizable compound has two or more cationic polymerizable groups, these cationic polymerizable groups may be the same or different.

양이온 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 양이온 중합성기의 수는, 기능층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하고, 3개 이상인 것이 더 바람직하다.The number of cationic polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, since the surface hardness of the functional layer increases and the scratch resistance improves.

또한, 양이온 중합성 화합물로서는, 그 중에서도, 양이온 중합성기로서 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하고, 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는, 중합 반응에 수반되는 수축이 작다는 점에서 바람직하다. 또한, 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은 다양한 구조의 화합물을 입수하기 쉽고, 얻어진 기능층의 내구성에 악영향을 주지 않고, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성도 컨트롤하기 쉽다는 이점이 있다. 또한, 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교하여 중합도가 높은, 저독성이며, 얻어진 기능층을, 에폭시기를 갖는 화합물과 조합했을 때 도막 중에서의 양이온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하여, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응된 모노머를 막 중에 남기지 않고 독립된 네트워크를 형성하는 등의 이점이 있다.Moreover, as the cationically polymerizable compound, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationic polymerizable group is preferable, and a compound having two or more of at least one of an epoxy group and an oxetanyl group in one molecule is preferable. It is more desirable. Cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetanyl groups are preferable because the shrinkage accompanying the polymerization reaction is small. In addition, compounds having an epoxy group among the cyclic ether groups have the advantage that compounds with various structures are easy to obtain, do not adversely affect the durability of the obtained functional layer, and compatibility with radically polymerizable compounds is easy to control. In addition, the oxetanyl group among the cyclic ether groups has a high degree of polymerization compared to the epoxy group and is low toxic, and when the obtained functional layer is combined with a compound having an epoxy group, the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound in the coating film is accelerated. , there are advantages such as forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film even in areas where radical polymerizable compounds exist.

에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 예를 들어 지환족환을 갖는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르, 또는 시클로헥센 환, 시클로펜텐 환 함유 화합물을, 과산화수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 지환족 에폭시 수지; 지방족 다가 알코올, 또는 그 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 호모폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지; 비스페놀A, 비스페놀F나 수소 첨가 비스페놀A 등의 비스페놀류, 또는 그것들의 알킬렌옥시드 부가체, 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피클로로히드린의 반응에 의해 제조되는 글리시딜에테르 및 노볼락에폭시 수지 등이며 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Cationically polymerizable compounds having an epoxy group include, for example, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols having an alicyclic ring, or alicyclic compounds obtained by epoxidizing a cyclohexene ring- or cyclopentene ring-containing compound with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. family epoxy resin; Aliphatic epoxy resins such as polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or their alkylene oxide adducts, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, and homopolymers and copolymers of glycidyl (meth)acrylate; Glycidyl ethers and novolacs produced by the reaction of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and hydrogenated bisphenol A, or their derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and epichlorohydrin. These include epoxy resins, and glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols.

지환족 에폭시 수지, 글리시딜에테르형 에폭시 수지, 및 옥세타닐기를 갖는 양이온 중합성 화합물의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2018-104682호 공보에 기재된 것을 들 수 있다.Specific examples of cycloaliphatic epoxy resins, glycidyl ether type epoxy resins, and cationic polymerizable compounds having an oxetanyl group include those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-104682.

기능층은, 필요에 따라 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이들 중합 개시제는, 광 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 혹은 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다. 또한, 기능층 중에는, 중합 개시제가 모두 분해되어 잔류하고 있지 않은 경우도 있다.The functional layer may contain a polymerization initiator as needed. As the polymerization initiator, radical polymerization initiator, cationic polymerization initiator, radical and cationic polymerization initiator, etc. can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of light irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. In addition, there are cases in which the polymerization initiator is completely decomposed and does not remain in the functional layer.

또한, 기능층이 불소 수지를 함유하는 경우, 불소 수지로서는, 예를 들어 불소를 함유하는 중합성 화합물의 경화물을 들 수 있다. 불소를 함유하는 중합성 화합물의 경화물은, 불소를 함유하는 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지된 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.In addition, when the functional layer contains a fluororesin, examples of the fluororesin include a cured product of a polymerizable compound containing fluorine. A cured product of a fluorine-containing polymerizable compound can be obtained by subjecting a fluorine-containing polymerizable compound to a polymerization reaction by a known method, using a polymerization initiator as necessary.

불소를 함유하는 중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 불소를 함유하는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 중 적어도 1종을 사용할 수 있다. 또한, 불소를 함유하는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 불소 함유 모노머, 올리고머 중 어느 것이나 사용할 수 있다.A polymerizable compound containing fluorine has at least one polymerizable functional group in the molecule. As the fluorine-containing polymerizable compound, for example, at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound can be used. Additionally, as the polymerizable compound containing fluorine, for example, any of fluorine-containing monomers and oligomers can be used.

또한, 기능층이 불소 수지를 함유하는 경우, 불소를 함유하는 중합성 화합물 외에, 불소를 함유하지 않는 중합성 화합물을 사용해도 된다. 즉, 기능층은, 불소를 함유하는 중합성 화합물과 불소를 함유하지 않는 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물을 함유하고 있어도 된다. 불소를 함유하지 않는 중합성 화합물로서는, 상기의 기능층이 불소 화합물 및 수지를 함유하는 경우에 사용되는 중합성 화합물과 마찬가지로 할 수 있다.Additionally, when the functional layer contains a fluorine resin, a polymerizable compound that does not contain fluorine may be used in addition to the polymerizable compound that contains fluorine. That is, the functional layer may contain a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound containing fluorine and a polymerizable compound that does not contain fluorine. The polymerizable compound that does not contain fluorine can be the same as the polymerizable compound used when the above functional layer contains a fluorine compound and a resin.

또한, 기능층은, 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 표시 장치용 적층체에 대전 방지성을 부여할 수 있다. 또한, 대전 방지제의 함유량을 조정함으로써, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 전하량의 절댓값을 소정의 범위가 되도록 조정할 수 있다.Additionally, the functional layer preferably contains an antistatic agent. Antistatic properties can be imparted to a laminate for a display device. Additionally, by adjusting the content of the antistatic agent, the absolute value of the electric charge on the surface on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test can be adjusted so that it falls within a predetermined range.

대전 방지제로서는, 예를 들어 이온 전도형 대전 방지제, 전자 전도형 대전 방지제 등을 들 수 있다. 대전 방지제는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of antistatic agents include ion conduction type antistatic agents and electron conduction type antistatic agents. Antistatic agents may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

이온 전도형 대전 방지제로서는, 예를 들어 저분자형 대전 방지제 및 고분자형 대전 방지제 중 어느 것이나 사용할 수 있다. 고분자형 대전 방지제는, 예를 들어 이온 전도형 대전 방지제를 고분자량화한 것이며, 이온 전도형 대전 방지제의 도전성 부여 관능기를 고분자에 도입한 것이다. 이온 전도형 대전 방지제로서는, 예를 들어 제4급 암모늄염, 피리디늄염 등의 양이온성 대전 방지제; 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 등과 같은, 술폰산, 인산, 카르복실산 등의 알칼리 금속염 등의 음이온성 대전 방지제; 아미노산계, 아미노산황산에스테르계 등의 양성 대전 방지제; 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 대전 방지제; 이온성 액체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 수지에 대하여 우수한 상용성을 나타내는 점에서, 제4급 암모늄염이나 리튬염이 바람직하다.As an ion conduction type antistatic agent, for example, either a low molecular type antistatic agent or a high molecular type antistatic agent can be used. The polymer type antistatic agent is, for example, a product obtained by increasing the molecular weight of an ion conductive type antistatic agent and introducing a conductivity imparting functional group of the ion conductive type antistatic agent into the polymer. Examples of the ion conductive antistatic agent include cationic antistatic agents such as quaternary ammonium salts and pyridinium salts; Anionic antistatic agents such as lithium salts, sodium salts, potassium salts, etc., and alkali metal salts such as sulfonic acid, phosphoric acid, and carboxylic acid; Positive antistatic agents such as amino acid series and amino acid sulfate ester series; Nonionic antistatic agents such as amino alcohol-based, glycerin-based, and polyethylene glycol-based; Ionic liquids, etc. can be mentioned. Among these, quaternary ammonium salts and lithium salts are preferable because they exhibit excellent compatibility with resins.

전자 전도형 대전 방지제로서는, 예를 들어 폴리아세틸렌계, 폴리티오펜계 등의 도전성 고분자; 금속 입자, 금속 산화물 입자, 카본 나노튜브 등의 도전성 입자나 도전성 섬유 등을 들 수 있다. 또한, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자에 도펀트를 조합한 대전 방지제나, 상기 도전성 고분자에 도전성 입자를 함유시킨 대전 방지제를 사용할 수도 있다. 이들 중에서도, 대전 방지성의 유지의 관점에서, 도전성 고분자가 바람직하다.Examples of the electron conductive antistatic agent include conductive polymers such as polyacetylene-based and polythiophene-based; Examples include conductive particles such as metal particles, metal oxide particles, and carbon nanotubes, and conductive fibers. Additionally, an antistatic agent that combines a dopant with a conductive polymer such as polyacetylene or polythiophene, or an antistatic agent that contains conductive particles in the conductive polymer can also be used. Among these, conductive polymers are preferable from the viewpoint of maintaining antistatic properties.

상기 도전성 고분자로서는, 구체적으로는, 폴리아세틸렌, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리페닐렌술피드, 폴리(1,6-헵타디인), 폴리비페닐렌(폴리파라페닐렌), 폴리파라피닐렌술피드, 폴리페닐아세틸렌, 폴리(2,5-티에닐렌), 또는 이들의 유도체 등의 도전성 고분자를 들 수 있다. 바람직하게는, 예를 들어 3,4-에틸렌디옥시티오펜(PEDOT) 등의 폴리티오펜계의 도전성 고분자를 들 수 있다. 대전 방지제로서 상기 도전성 고분자를 사용함으로써 장기간에 걸쳐 대전 방지성을 유지할 수 있다.Specifically, the conductive polymer includes polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene sulfide, poly(1,6-heptadiyne), polybiphenylene (polyparaphenylene), and polyparaffinyl. Conductive polymers such as lene sulfide, polyphenylacetylene, poly(2,5-thienylene), or derivatives thereof may be included. Preferred examples include polythiophene-based conductive polymers such as 3,4-ethylenedioxythiophene (PEDOT). By using the above-described conductive polymer as an antistatic agent, antistatic properties can be maintained over a long period of time.

상기 금속 미립자를 구성하는 금속으로서는, 예를 들어 Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, Pt 등의 단독, 또는 이들 금속의 합금을 들 수 있다.Examples of the metal constituting the metal fine particles include Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, and Pt alone or alloys of these metals.

상기 금속 산화물 입자를 구성하는 금속 산화물로서는 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 산화주석, 산화안티몬, 안티몬 도프 산화주석(ATO), 주석 도프 산화인듐(ITO), 알루미늄 도프 산화아연(AZO), 불소 도프 산화주석(FTO), 산화아연(ZnO) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 우수한 대전 방지성을 발휘하는 관점에서, 안티몬 도프 산화주석(ATO)이 바람직하다. 또한, ATO 중에서도, 복수의 ATO 입자가 연결된 쇄상 ATO가 바람직하다.The metal oxide constituting the metal oxide particle is not particularly limited and includes, for example, tin oxide, antimony oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), Fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide (ZnO), etc. can be mentioned. Among them, antimony-doped tin oxide (ATO) is preferable from the viewpoint of exhibiting excellent antistatic properties. Moreover, among ATO, chain-shaped ATO in which a plurality of ATO particles are connected is preferable.

상기의 대전 방지제 중에서도, 고분자형 대전 방지제 및 도전성 고분자가 바람직하고, 도전성 고분자가 보다 바람직하다. 고분자형 대전 방지제 및 도전성 고분자는, 소량으로도 대전 방지성을 부여할 수 있고, 표면 경도나 광학 특성을 유지할 수 있다.Among the above antistatic agents, polymer-type antistatic agents and conductive polymers are preferable, and conductive polymers are more preferable. Polymeric antistatic agents and conductive polymers can provide antistatic properties even in small amounts and can maintain surface hardness and optical properties.

또한, 기능층이 대전 방지제를 함유하는 경우이며, 후술하는 바와 같이 기능층이 다층일 경우, 다층의 기능층 중, 적어도 하나의 층이 대전 방지제를 함유하고 있으면 된다.In addition, in the case where the functional layer contains an antistatic agent, and as will be described later, when the functional layer is multilayered, at least one layer among the multilayered functional layers need only contain an antistatic agent.

이 경우, 다층의 기능층 중, 어느 층이 대전 방지제를 함유하고 있어도 되지만, 그 중에서도, 기재층과는 반대 측의 면에 가까운 위치에 있는 층이 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하고, 특히, 기재층과는 반대 측의 면에 위치하는 층, 즉 다층의 기능층 중 최표면의 층이 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 지우개 시험이 행해지는 면과 대전 방지층을 함유하는 층의 거리가 가까울수록, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값을 소정의 범위로 조정하기 쉽기 때문이다.In this case, any layer among the multi-layered functional layers may contain an antistatic agent, but it is preferable that the layer located close to the surface opposite to the base layer contains an antistatic agent, especially the base material layer. It is preferable that the layer located on the surface opposite to the layer, that is, the outermost layer among the multilayer functional layers, contains an antistatic agent. This is because the closer the distance between the surface on which the erase test is performed and the layer containing the antistatic layer, the easier it is to adjust the absolute value of the electric charge on the surface on the functional layer side of the display device laminate after the erase test to a predetermined range.

대전 방지제의 함유량으로서는, 상술한 전하량의 절댓값을 충족시키는 기능층을 얻을 수 있는 양이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 대전 방지제의 종류 등에 따라 적절히 선택된다. 대전 방지제의 함유량은, 예를 들어 수지 성분 100질량부에 대하여, 0.1질량부 이상 100질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.2질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.3질량부 이상 20질량부 이하인 것이 더욱 바람직하다. 대전 방지제의 함유량이 너무 적으면, 기능층에 충분한 대전 방지성을 부여하지 못할 가능성이 있다. 또한, 대전 방지제의 함유량이 너무 많으면, 기능층의 표면 경도가 낮아져, 내마모성이 저하될 가능성이 있다. 또한, 기능층이 대전 방지제를 함유하는 경우이며, 후술하는 바와 같이 기능층이 다층일 경우, 다층의 기능층 중, 대전 방지제를 함유하는 층에서의 대전 방지제의 함유량이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The content of the antistatic agent is not particularly limited as long as it is an amount that can obtain a functional layer that satisfies the absolute value of the charge amount described above, and is appropriately selected depending on the type of antistatic agent, etc. For example, the content of the antistatic agent is preferably 0.1 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, more preferably 0.2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and 0.3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, for example, based on 100 parts by mass of the resin component. It is more desirable. If the content of the antistatic agent is too small, there is a possibility that sufficient antistatic properties may not be imparted to the functional layer. Additionally, if the content of the antistatic agent is too high, the surface hardness of the functional layer may decrease and wear resistance may decrease. In addition, when the functional layer contains an antistatic agent and, as will be described later, when the functional layer is multilayered, it is preferable that the content of the antistatic agent in the layer containing the antistatic agent among the multilayer functional layers is within the above range.

기능층은, 필요에 따라, 예를 들어 무기 입자, 유기 입자, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광안정제, 방현제, 레벨링제, 계면 활성제, 이활제, 각종 증감제, 난연제, 접착 부여제, 중합 금지제, 표면 개질제 등의 첨가제를 함유할 수 있다.The functional layer may contain, as necessary, inorganic particles, organic particles, ultraviolet absorbers, antioxidants, light stabilizers, anti-glare agents, leveling agents, surfactants, lubricants, various sensitizers, flame retardants, adhesion agents, and polymerization inhibitors. It may contain additives such as chemicals and surface modifiers.

기능층은, 단층이어도 되고, 다층이어도 된다.The functional layer may be a single layer or may be a multilayer.

기능층의 두께로서는, 상술한 특성을 충족시키는 기능층을 얻을 수 있는 두께이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 0.5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1.0㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.5㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 기능층의 두께가 너무 얇으면, 기능층의 표면 경도가 저하되어, 내마모성이 저하될 가능성이 있다. 또한, 기능층의 두께가 너무 두꺼우면, 플렉시블성이 손상될 우려가 있다. 또한, 상술한 바와 같이, 기능층의 두께를 조정함으로써, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 전하량의 절댓값을 소정의 범위가 되도록 조정할 수 있다. 또한, 기능층이 다층일 경우, 다층의 기능층 중, 기재층과는 반대 측의 면에 위치하는 층의 두께가 이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The thickness of the functional layer is not particularly limited as long as it can obtain a functional layer that satisfies the above-mentioned characteristics. For example, it is preferably 0.5 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 1.0 μm or more and 40 μm or less, It is more preferable that it is 1.5 ㎛ or more and 30 ㎛ or less. If the thickness of the functional layer is too thin, the surface hardness of the functional layer may decrease and wear resistance may decrease. Additionally, if the thickness of the functional layer is too thick, there is a risk that flexibility may be impaired. Additionally, as described above, by adjusting the thickness of the functional layer, the absolute value of the amount of charge on the surface on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test can be adjusted to be within a predetermined range. In addition, when the functional layer is multilayered, it is preferable that the thickness of the layer located on the surface opposite to the base layer among the multilayered functional layers is within the above range.

여기서, 기능층의 두께는, 투과형 전자 현미경(TEM), 주사형 전자 현미경(SEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)에 의해 관찰되는 표시 장치용 적층체의 두께 방향의 단면으로부터 측정하여 얻어진 임의의 10개소의 두께의 평균값으로 할 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체가 갖는 다른 층의 두께의 측정 방법에 대해서도 마찬가지로 할 수 있다.Here, the thickness of the functional layer is an arbitrary value obtained by measuring from a cross section in the thickness direction of the display device laminate observed with a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), or a scanning transmission electron microscope (STEM). It can be taken as the average value of the thickness of 10 locations. In addition, the same method can be used for measuring the thickness of other layers of the display device laminate.

기능층은 기재층의 한쪽 면에 배치되어 있으면 되지만, 그 중에서도, 표시 장치용 적층체에 있어서, 기능층이 최표면에 배치되어 있는 것이 바람직하다.The functional layer may be disposed on one side of the base material layer, but among these, in the laminate for a display device, it is preferable that the functional layer be disposed on the outermost surface.

기능층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 기재층 상에 기능층용 수지 조성물을 도포하여, 경화시키는 방법을 들 수 있다.As a method of forming the functional layer, for example, a method of applying the resin composition for a functional layer on a base material layer and curing it is included.

3. 기재층3. Base layer

본 개시에 있어서의 기재층은, 상기 기능층을 지지하고, 투명성을 갖는 부재이다.The base layer in the present disclosure is a member that supports the functional layer and has transparency.

기재층으로서는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 수지 기재, 유리 기재 등을 들 수 있다.The base material layer is not particularly limited as long as it has transparency, and examples include a resin base material, a glass base material, etc.

(1) 수지 기재(1) Resin base material

수지 기재를 구성하는 수지로서는, 투명성을 갖는 수지 기재를 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지로서는, 예를 들어 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드 등을 들 수 있다. 폴리에스테르계 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내굴곡성을 갖고, 우수한 경도 및 투명성을 갖는 점에서, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 혹은 이들의 혼합물이 바람직하고, 폴리이미드계 수지가 보다 바람직하다.The resin constituting the resin substrate is not particularly limited as long as it can obtain a transparent resin substrate, and examples include polyimide resin, polyamide resin, and polyester resin. Examples of polyimide-based resins include polyimide, polyamidoimide, polyetherimide, and polyesterimide. Examples of polyester resins include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Among them, polyimide-based resins, polyamide-based resins, or mixtures thereof are preferable, and polyimide-based resins are more preferable because they have bending resistance and excellent hardness and transparency.

폴리이미드계 수지로서는, 투명성을 갖는 수지 기재를 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되지는 않지만, 상기한 것 중에서도, 폴리이미드, 폴리아미드이미드가 바람직하게 사용된다.The polyimide-based resin is not particularly limited as long as it can obtain a transparent resin substrate, but among the above-mentioned resins, polyimide and polyamidoimide are preferably used.

(a) 폴리이미드(a) polyimide

폴리이미드는, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 반응시켜 얻어지는 것이다. 폴리이미드로서는, 투명성 및 강성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 우수한 투명성 및 우수한 강성을 갖는 점에서, 하기 일반식 (1) 및 하기 일반식 (3)으로 표시되는 구조로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 구조를 갖는 것이 바람직하다.Polyimide is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component and a diamine component. The polyimide is not particularly limited as long as it has transparency and rigidity, but for example, it is selected from the group consisting of the structures represented by the following general formula (1) and the following general formula (3) in that it has excellent transparency and excellent rigidity. It is desirable to have at least one selected structure.

상기 일반식 (1)에 있어서, R1은 테트라카르복실산 잔기인 4가의 기, R2는, trans-시클로헥산디아민 잔기, trans-1,4-비스메틸렌시클로헥산디아민 잔기, 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 3,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 및 하기 일반식 (2)으로 표시되는 2가의 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 2가의 기를 나타낸다. n은 반복 단위수를 나타내고, 1 이상이다.In the general formula (1), R 1 is a tetravalent group that is a tetracarboxylic acid residue, R 2 is a trans-cyclohexanediamine residue, trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine residue, 4,4' -Represents at least one type of divalent group selected from the group consisting of a diaminodiphenylsulfone residue, a 3,4'-diaminodiphenylsulfone residue, and a divalent group represented by the following general formula (2). n represents the number of repeating units and is 1 or more.

상기 일반식 (2)에 있어서, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.In the general formula (2), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a perfluoroalkyl group.

상기 일반식 (3)에 있어서, R5는 시클로헥산테트라카르복실산 잔기, 시클로펜탄테트라카르복실산 잔기, 디시클로헥산-3,4,3',4'-테트라카르복실산 잔기, 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 4가의 기, R6은, 디아민 잔기인 2가의 기를 나타낸다.In the general formula (3), R 5 is a cyclohexanetetracarboxylic acid residue, a cyclopentanetetracarboxylic acid residue, a dicyclohexane-3,4,3',4'-tetracarboxylic acid residue, and 4 At least one tetravalent group selected from the group consisting of ,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residues, R 6 , represents a divalent group that is a diamine residue.

n'은 반복 단위수를 나타내고, 1 이상이다.n' represents the number of repeating units and is 1 or more.

또한, 「테트라카르복실산 잔기」란, 테트라카르복실산으로부터, 4개의 카르복실기를 제거한 잔기를 말하고, 테트라카르복실산 이무수물로부터 산 이무수물 구조를 제거한 잔기와 동일한 구조를 나타낸다. 또한, 「디아민 잔기」란, 디아민으로부터 2개의 아미노기를 제거한 잔기를 말한다.In addition, “tetracarboxylic acid residue” refers to a residue obtained by removing four carboxyl groups from tetracarboxylic acid, and represents the same structure as the residue obtained by removing the acid dianhydride structure from tetracarboxylic dianhydride. In addition, “diamine residue” refers to a residue obtained by removing two amino groups from diamine.

상기 일반식 (1)에서의, R1은 테트라카르복실산 잔기이며, 테트라카르복실산 이무수물로부터 산 이무수물 구조를 제거한 잔기로 할 수 있다. 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 국제 공개 제2018/070523호에 기재된 것을 들 수 있다. 상기 일반식 (1)에서의 R1로서는, 그 중에서도, 투명성이 향상되고, 또한 강성이 향상되는 점에서, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 잔기, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 잔기, 피로멜리트산 잔기, 2,3',3,4'-비페닐테트라카르복실산 잔기, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라카르복실산 잔기, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 잔기, 4,4'-옥시디프탈산 잔기, 시클로헥산테트라카르복실산 잔기, 및 시클로펜탄테트라카르복실산 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 잔기, 4,4'-옥시디프탈산 잔기, 및 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 더 바람직하다.In the general formula (1), R 1 is a tetracarboxylic acid residue, and can be a residue obtained by removing the acid dianhydride structure from tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydride include those described in International Publication No. 2018/070523. Examples of R 1 in the general formula (1) include, among others, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, 3,3', since transparency is improved and rigidity is improved; 4,4'-Biphenyltetracarboxylic acid residue, pyromellitic acid residue, 2,3',3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid residue a boxylic acid moiety, a 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid moiety, a 4,4'-oxydiphthalic acid moiety, a cyclohexanetetracarboxylic acid moiety, and a cyclopentanetetracarboxylic acid moiety. It is preferable to include at least one selected from the group consisting of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, 4,4'-oxydiphthalic acid residue, and 3,3',4, It is more preferable that it contains at least one type selected from the group consisting of 4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residues.

R1에 있어서, 이들 적합한 잔기를 합계로, 50몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 70몰% 이상 포함하는 것이 더 바람직하고, 90몰% 이상 포함하는 것이 보다 더 바람직하다.In R 1 , the total amount of these suitable residues is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and still more preferably 90 mol% or more.

또한, R1로서, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 잔기, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라카르복실산 잔기, 및 피로멜리트산 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종과 같은 강직성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 A)과, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 잔기, 2,3',3,4'-비페닐테트라카르복실산 잔기, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 잔기, 4,4'-옥시디프탈산 잔기, 시클로헥산테트라카르복실산 잔기, 및 시클로펜탄테트라카르복실산 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종과 같은 투명성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 B)을 혼합하여 사용하는 것도 바람직하다.Additionally, as R 1 , a group consisting of a 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, a 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid residue, and a pyromellitic acid residue. A tetracarboxylic acid residue group (Group A) suitable for improving rigidity, such as at least one selected from 4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue, 4,4'-oxydiphthalic acid residue, cyclohexanetetracarboxylic acid residue, and cyclo It is also preferable to use a mixture of at least one tetracarboxylic acid residue group (group B) suitable for improving transparency, such as at least one selected from the group consisting of pentanetetracarboxylic acid residues.

이 경우, 상기의 강직성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 A)과, 투명성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 B)의 함유 비율은, 투명성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 B) 1몰에 대하여, 강직성을 향상시키는 데 적합한 테트라카르복실산 잔기 군(그룹 A)이 0.05몰 이상 9몰 이하인 것이 바람직하고, 0.1몰 이상 5몰 이하인 것이 더 바람직하고, 0.3몰 이상 4몰 이하인 것이 보다 더 바람직하다.In this case, the content ratio of the tetracarboxylic acid residue group (group A) suitable for improving the rigidity and the tetracarboxylic acid residue group (group B) suitable for improving transparency is suitable for improving transparency. It is preferable that the tetracarboxylic acid residue group (Group A) suitable for improving rigidity is 0.05 mol or more and 9 mol or less, and more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, relative to 1 mole of the tetracarboxylic acid residue group (Group B). It is preferable, and it is more preferable that it is 0.3 mol or more and 4 mol or less.

상기 일반식 (1)에서의 R2로서는, 그 중에서도, 투명성이 향상되고, 또한 강성이 향상되는 점에서, 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 3,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 및 상기 일반식 (2)으로 표시되는 2가의 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 2가의 기인 것이 바람직하고, 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 3,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 그리고, R3 및 R4가 퍼플루오로알킬기인 상기 일반식 (2)으로 표시되는 2가의 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 2가의 기인 것이 더 바람직하다.Examples of R 2 in the general formula (1) include, among others, 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue and 3,4'-diaminodiphenylsulfone, since transparency is improved and rigidity is improved. It is preferable that it is at least one type of divalent group selected from the group consisting of a residue and a divalent group represented by the general formula (2), 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 3,4'-diamino It is more preferable that it is at least one type of divalent group selected from the group consisting of a diphenylsulfone residue and a divalent group represented by the general formula (2) above, wherein R 3 and R 4 are perfluoroalkyl groups.

상기 일반식 (3)에서의 R5로서는, 그 중에서도, 투명성이 향상되고, 또한 강성이 향상되는 점에서, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 잔기, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 잔기, 및 옥시디프탈산 잔기를 포함하는 것이 바람직하다.Examples of R 5 in the general formula (3) include, among others, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, 3,3', since transparency is improved and rigidity is improved; It is preferred that it contains a 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue and an oxydiphthalic acid residue.

R5에 있어서, 이들 적합한 잔기를, 50몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 70몰% 이상 포함하는 것이 더 바람직하고, 90몰% 이상 포함하는 것이 보다 더 바람직하다.For R 5 , it is preferable to contain 50 mol% or more of these suitable residues, more preferably 70 mol% or more, and even more preferably 90 mol% or more.

상기 일반식 (3)에서의 R6은 디아민 잔기이며, 디아민으로부터 2개의 아미노기를 제거한 잔기로 할 수 있다. 디아민으로서는, 예를 들어 국제 공개 제2018/070523호에 기재된 것을 들 수 있다. 상기 일반식 (3)에서의 R6으로서는, 그 중에서도, 투명성이 향상되고, 또한 강성이 향상되는 점에서, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 잔기, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰 잔기, 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 잔기, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰 잔기, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)디페닐에테르 잔기, 1,4-비스[4-아미노-2-(트리플루오로메틸)페녹시]벤젠 잔기, 2,2-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 잔기, 4,4'-디아미노-2-(트리플루오로메틸)디페닐에테르 잔기, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드 잔기, N,N'-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드 잔기, 및 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 2가의 기를 포함하는 것이 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 잔기, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰 잔기, 및 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 2가의 기를 포함하는 것이 더 바람직하다.R 6 in the general formula (3) is a diamine residue, and can be a residue obtained by removing two amino groups from diamine. Examples of diamine include those described in International Publication No. 2018/070523. Examples of R 6 in the general formula (3) include, among others, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residue, bis[4-(4-) because transparency is improved and rigidity is improved. Aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, bis[4-(3 -aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, 1,4-bis[4-amino-2-(trifluoro) Romethyl)phenoxy]benzene residue, 2,2-bis[4-(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, 4,4'-diamino-2-( Trifluoromethyl)diphenylether residue, 4,4'-diaminobenzanilide residue, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide residue, and 9,9-bis(4-aminophenyl)flu. It preferably contains at least one type of divalent group selected from the group consisting of orene residues, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residue, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, It is more preferable that it contains at least one type of divalent group selected from the group consisting of a residue and a 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue.

R6에 있어서, 이들 적합한 잔기를 합계로, 50몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 70몰% 이상 포함하는 것이 더 바람직하고, 90몰% 이상 포함하는 것이 보다 더 바람직하다.In R 6 , it is preferable that the total amount of these suitable residues is 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and even more preferably 90 mol% or more.

또한, R6으로서, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰 잔기, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드 잔기, N,N'-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드 잔기, 파라페닐렌디아민 잔기, 메타페닐렌디아민 잔기, 및 4,4'-디아미노디페닐메탄 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종과 같은 강직성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 C)과, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 잔기, 4,4'-디아미노디페닐술폰 잔기, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 잔기, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰 잔기, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)디페닐에테르 잔기, 1,4-비스[4-아미노-2-(트리플루오로메틸)페녹시]벤젠 잔기, 2,2-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 잔기, 4,4'-디아미노-2-(트리플루오로메틸)디페닐에테르 잔기, 및 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 잔기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종과 같은 투명성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 D)을 혼합하여 사용하는 것도 바람직하다.Additionally, as R 6 , a bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, a 4,4'-diaminobenzanilide residue, a N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide residue, para A group of diamine residues suitable for improving rigidity (group C), such as at least one selected from the group consisting of phenylenediamine residues, metaphenylenediamine residues, and 4,4'-diaminodiphenylmethane residues, 2 ,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residue, 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, bis [4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, 1,4-bis[4-amino- 2-(trifluoromethyl)phenoxy]benzene residue, 2,2-bis[4-(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, 4,4'-dia A diamine residue group suitable for improving transparency, such as at least one selected from the group consisting of mino-2-(trifluoromethyl)diphenyl ether residue and 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene residue. It is also preferable to use a mixture of (Group D).

이 경우, 상기의 강직성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 C)과, 투명성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 D)의 함유 비율은, 투명성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 D) 1몰에 대하여, 강직성을 향상시키는 데 적합한 디아민 잔기 군(그룹 C)이 0.05몰 이상 9몰 이하인 것이 바람직하고, 0.1몰 이상 5몰 이하인 것이 더 바람직하고, 0.3몰 이상 4몰 이하인 것이 보다 바람직하다.In this case, the content ratio of the diamine residue group (group C) suitable for improving the rigidity and the diamine residue group (group D) suitable for improving transparency is the diamine residue group (group D) suitable for improving transparency. ) Per mole, the diamine residue group (group C) suitable for improving rigidity is preferably 0.05 mol or more and 9 mol or less, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and more preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less. do.

상기 일반식 (1) 및 상기 일반식 (3)으로 표시되는 구조에 있어서, n 및 n'은 각각 독립적으로, 반복 단위수를 나타내고, 1 이상이다. 폴리이미드에서의 반복 단위수 n은, 구조에 따라 적절히 선택되면 되고, 특별히 한정되지는 않는다. 평균 반복 단위수는, 예를 들어 10 이상 2000 이하로 할 수 있고, 15 이상 1000 이하인 것이 바람직하다.In the structures represented by the general formula (1) and the general formula (3), n and n' each independently represent the number of repeating units and are 1 or more. The number n of repeating units in polyimide may be appropriately selected depending on the structure and is not particularly limited. The average number of repeating units can be, for example, 10 to 2000, and is preferably 15 to 1000.

또한, 폴리이미드는, 그 일부에 폴리아미드 구조를 포함하고 있어도 된다. 포함하고 있어도 되는 폴리아미드 구조로서는, 예를 들어 트리멜리트산 무수물과 같은 트리카르복실산 잔기를 포함하는 폴리아미드이미드 구조나, 테레프탈산과 같은 디카르복실산 잔기를 포함하는 폴리아미드 구조를 들 수 있다.In addition, the polyimide may contain a polyamide structure in part. Examples of the polyamide structure that may be included include a polyamideimide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic anhydride, and a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid. .

투명성을 향상시키고, 또한 표면 경도를 향상시키는 점에서, R1 또는 R5의 테트라카르복실산 잔기인 4가의 기, 및 R2 또는 R6의 디아민 잔기인 2가의 기 중 적어도 하나는, 방향족 환을 포함하고, 또한 (i) 불소 원자, (ii) 지방족 환 및 (iii) 방향족 환끼리를 술포닐기 또는 불소로 치환되어 있어도 되는 알킬렌기로 연결한 구조로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리이미드가, 방향족 환을 갖는 테트라카르복실산 잔기, 및 방향족 환을 갖는 디아민 잔기에서 선택되는 적어도 1종을 포함함으로써, 분자 골격이 강직해지고 배향성이 높아져서, 표면 경도가 향상되지만, 강직한 방향족 환 골격은 흡수 파장이 장파장으로 연장되는 경향이 있어, 가시광 영역의 투과율이 저하되는 경향이 있다. 한편, 폴리이미드가 (i) 불소 원자를 포함하면, 폴리이미드 골격 내의 전자 상태를 전하 이동하기 어렵게 할 수 있다는 점에서 투명성이 향상된다.In order to improve transparency and surface hardness, at least one of the tetravalent group that is the tetracarboxylic acid residue of R 1 or R 5 and the divalent group that is the diamine residue of R 2 or R 6 is an aromatic ring. It contains at least one selected from the group consisting of a structure in which (i) a fluorine atom, (ii) an aliphatic ring, and (iii) an aromatic ring are connected to each other by a sulfonyl group or an alkylene group that may be substituted with fluorine. It is desirable. When the polyimide contains at least one type selected from the group consisting of a tetracarboxylic acid residue having an aromatic ring and a diamine residue having an aromatic ring, the molecular skeleton becomes rigid and the orientation increases, and surface hardness is improved, but the rigid aromatic ring The skeleton tends to have an absorption wavelength extending to a long wavelength, so the transmittance in the visible light region tends to decrease. On the other hand, when the polyimide contains (i) a fluorine atom, transparency is improved in that charge transfer of the electronic state in the polyimide skeleton can be made difficult.

또한, 폴리이미드가 (ii) 지방족 환을 포함하면, 폴리이미드 골격 내의 π 전자의 공액을 끊음으로써 골격 내의 전하의 이동을 저해할 수 있다는 점에서 투명성이 향상된다. 또한, 폴리이미드가 (iii) 방향족 환끼리를 술포닐기 또는 불소로 치환되어 있어도 되는 알킬렌기로 연결한 구조를 포함하면, 폴리이미드 골격 내의 π 전자의 공액을 끊음으로써 골격 내의 전하의 이동을 저해할 수 있다는 점에서 투명성이 향상된다.Additionally, when the polyimide contains (ii) an aliphatic ring, transparency is improved in that the movement of charge within the polyimide skeleton can be inhibited by breaking the conjugation of π electrons within the polyimide skeleton. In addition, if the polyimide (iii) contains a structure in which aromatic rings are linked to a sulfonyl group or an alkylene group that may be substituted with fluorine, the movement of charge within the skeleton may be inhibited by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. Transparency is improved in that it can be done.

그 중에서도, 투명성을 향상시키고, 또한 표면 경도를 향상시키는 점에서, R1 또는 R5의 테트라카르복실산 잔기인 4가의 기, 및 R2 또는 R6의 디아민 잔기인 2가의 기 중 적어도 하나는, 방향족 환과 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하고, R2 또는 R6의 디아민 잔기인 2가의 기가, 방향족 환과 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하다.Among them, in terms of improving transparency and surface hardness, at least one of the tetravalent group that is the tetracarboxylic acid residue of R 1 or R 5 and the divalent group that is the diamine residue of R 2 or R 6 is , it is preferable that it contains an aromatic ring and a fluorine atom, and the divalent group which is the diamine residue of R2 or R6 preferably contains an aromatic ring and a fluorine atom.

이러한 폴리이미드의 구체예로서는, 국제 공개 제2018/070523호에 기재된 특정 구조를 갖는 것을 들 수 있다.Specific examples of such polyimides include those having a specific structure described in International Publication No. 2018/070523.

폴리이미드는, 공지된 방법에 의해 합성할 수 있다. 또한, 폴리이미드는, 시판중인 것을 사용해도 된다. 폴리이미드의 시판품으로서는, 예를 들어 미쓰비시 가스 가가쿠사제의 네오프림(등록상표) 등을 들 수 있다.Polyimide can be synthesized by a known method. Additionally, commercially available polyimide may be used. Commercially available products of polyimide include, for example, Neoprem (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

폴리이미드의 중량 평균 분자량은, 예를 들어 3000 이상 50만 이하인 것이 바람직하고, 5000 이상 30만 이하인 것이 보다 바람직하고, 1만 이상 20만 이하인 것이 더욱 바람직하다. 중량 평균 분자량이 너무 작으면, 충분한 강도가 얻어지지 않는 경우가 있고, 중량 평균 분자량이 너무 크면, 점도가 상승하여, 용해성이 저하되기 때문에, 표면이 평활하여 두께 균일한 기재층이 얻어지지 않는 경우가 있다.The weight average molecular weight of polyimide is preferably, for example, 3,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000, and even more preferably 10,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is too small, sufficient strength may not be obtained, and if the weight average molecular weight is too large, the viscosity increases and solubility decreases, so a base material layer with a smooth surface and uniform thickness cannot be obtained. There is.

또한, 폴리이미드의 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 폴리이미드를 0.1질량%의 농도 N-메틸피롤리돈(NMP) 용액으로 하고, 전개 용매는, 함수량 500ppm 이하의 30mmol% LiBr-NMP 용액을 사용하고, 도소제 GPC 장치(HLC-8120, 사용 칼럼: SHODEX제 GPC LF-804)를 사용하여, 샘플 타입양 50μL, 용매 유량 0.4mL/분, 37℃의 조건에서 측정을 행한다. 중량 평균 분자량은, 샘플과 동일 농도의 폴리스티렌 표준 샘플을 기준으로 구한다.In addition, the weight average molecular weight of polyimide can be measured by gel permeation chromatography (GPC). Specifically, the polyimide was set as an N-methylpyrrolidone (NMP) solution with a concentration of 0.1% by mass, a 30mmol% LiBr-NMP solution with a water content of 500ppm or less was used as the developing solvent, and the coating agent GPC device (HLC- 8120, column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX), and the measurement was performed under the conditions of 50 μL sample volume, 0.4 mL/min solvent flow rate, and 37°C. The weight average molecular weight is determined based on a polystyrene standard sample of the same concentration as the sample.

(b) 폴리아미드이미드(b) polyamideimide

폴리아미드이미드로서는, 투명성을 갖는 수지 기재를 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 디안히드리드 유래의 구성 단위 및 디아민 유래의 구성 단위를 포함하는 제1 블록과, 방향족 디카르보닐 화합물 유래의 구성 단위 및 방향족 디아민 유래의 구성 단위를 포함하는 제2 블록을 갖는 것을 들 수 있다. 상기 폴리아미드이미드에 있어서, 상기 디안히드리드는, 예를 들어 비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물(6FDA)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 디아민은, 비스트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 폴리아미드이미드는, 디안히드리드 및 디아민을 포함하는 단량체가 공중합된 제1 블록과, 방향족 디카르보닐 화합물 및 방향족 디아민을 포함하는 단량체가 공중합된 제2 블록을 갖는 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화시킨 구조를 갖는 것이다.The polyamideimide is not particularly limited as long as it can obtain a transparent resin substrate, and includes, for example, a first block containing a dianhydride-derived structural unit and a diamine-derived structural unit, and an aromatic dicarbonyl compound. and those having a second block containing structural units derived from aromatic diamine and structural units derived from aromatic diamine. In the polyamideimide, the dianhydride is, for example, biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride (6FDA). It can be included. Additionally, the diamine may include bistrifluoromethylbenzidine (TFDB). That is, the polyamideimide is a polyamideimide precursor having a first block in which monomers containing dianhydride and diamine are copolymerized, and a second block in which monomers containing an aromatic dicarbonyl compound and an aromatic diamine are copolymerized. It has an imidized structure.

상기 폴리아미드이미드는, 이미드 결합을 포함하는 제1 블록과 아미드 결합을 포함하는 제2 블록을 가짐으로써, 광학 특성뿐만 아니라, 열적, 기계적 특성이 우수한 것이 된다. 특히, 제1 블록을 형성하는 디아민으로서, 비스트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 사용함으로써, 열 안정성 및 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 제1 블록을 형성하는 디안히드리드로서, 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물(6FDA) 및 비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA)을 사용함으로써, 복굴절의 향상 및 내열성의 확보를 도모할 수 있다.The polyamideimide has excellent optical properties as well as thermal and mechanical properties by having a first block containing an imide bond and a second block containing an amide bond. In particular, thermal stability and optical properties can be improved by using bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) as the diamine forming the first block. Additionally, by using 2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) as dianhydride forming the first block, It is possible to improve birefringence and secure heat resistance.

제1 블록을 형성하는 디안히드리드는, 2종류의 디안히드리드, 즉, 6FDA 및 BPDA를 포함한다. 제1 블록에는, TFDB 및 6FDA가 결합된 중합체와 TFDB 및 BPDA가 결합된 중합체가, 별도의 반복 단위를 기준으로 각각 구분되어 포함되어 있어도 되고, 동일한 반복 단위 내에 규칙적으로 배열되어 있어도 되고, 혹은 완전히 랜덤하게 배열되어 포함되어 있어도 된다.The dianhydride forming the first block includes two types of dianhydride, namely 6FDA and BPDA. In the first block, a polymer to which TFDB and 6FDA are bonded and a polymer to which TFDB and BPDA are bonded may be contained separately based on separate repeating units, may be arranged regularly within the same repeating unit, or may be completely arranged. It may be included in a random arrangement.

제1 블록을 형성하는 단량체 중, 디안히드리드로서, BPDA 및 6FDA가 1:3 내지 3:1의 몰비로 포함되는 것이 바람직하다. 광학적 특성의 확보뿐만 아니라, 기계적 특성 및 내열성의 저하를 억제할 수 있고, 우수한 복굴절을 가질 수 있기 때문이다.Among the monomers forming the first block, it is preferable that BPDA and 6FDA are included as dianhydride in a molar ratio of 1:3 to 3:1. This is because it not only secures optical properties, but also suppresses deterioration of mechanical properties and heat resistance, and has excellent birefringence.

제1 블록 및 제2 블록의 몰비는, 5:1 내지 1:1인 것이 바람직하다. 제2 블록의 함유량이 현저하게 낮은 경우, 제2 블록에 의한 열적 안정성 및 기계적 특성의 향상의 효과가 충분히 얻어지지 않는 경우가 있다. 또한, 제2 블록의 함유량이 제1 블록의 함유량보다 더욱 높을 경우, 열적 안정성 및 기계적 특성은 향상될 수 있지만, 황색도나 투과도 등이 저하되는 등, 광학 특성이 나빠지고, 복굴절 특성도 높아지는 경우가 있다. 또한, 제1 블록 및 제2 블록은, 랜덤 공중합체여도 되고, 블록 공중합체여도 된다. 블록의 반복 단위는 특별히 한정되지는 않는다.The molar ratio of the first block and the second block is preferably 5:1 to 1:1. When the content of the second block is significantly low, the effects of improving thermal stability and mechanical properties by the second block may not be sufficiently obtained. In addition, when the content of the second block is higher than the content of the first block, thermal stability and mechanical properties may be improved, but optical properties such as yellowness and transmittance may decrease, and birefringence characteristics may also increase. there is. In addition, the first block and the second block may be a random copolymer or a block copolymer. The repetition unit of the block is not particularly limited.

제2 블록을 형성하는 방향족 디카르보닐 화합물로서는, 예를 들어 테레프탈로일 클로라이드(p-Terephthaloyl chloride, TPC), 테레프탈산(Terephthalic acid), 이소프탈로일 디클로라이드(Iso-phthaloyl dichloride) 및 4,4'-벤조일 디클로라이드 (4,4'-benzoyl chloride)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 들 수 있다. 바람직하게는, 테레프탈로일 클로라이드(p-Terephthaloyl chloride, TPC) 및 이소프탈로일 디클로라이드(Iso-phthaloyl dichloride) 중에서 선택되는 1종 이상으로 할 수 있다.As the aromatic dicarbonyl compound forming the second block, for example, terephthaloyl chloride (TPC), terephthalic acid, isophthaloyl dichloride (Iso-phthaloyl dichloride), and 4,4 One or more species selected from the group consisting of '-benzoyl dichloride (4,4'-benzoyl chloride) can be mentioned. Preferably, it may be one or more selected from terephthaloyl chloride (TPC) and isophthaloyl dichloride (Iso-phthaloyl dichloride).

제2 블록을 형성하는 디아민으로서는, 예를 들어 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP), 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPS), 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM), 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS), 3,3'-디아미노디페닐술폰(3DDS), 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐프로판(BAPP), 4,4'-디아미노디페닐프로판(6HDA), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(134APB), 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(133APB), 1,4-비스(4-아미노페녹시)비페닐(BAPB), 4,4'-비스(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)비페닐(6FAPBP), 3,3-디아미노-4,4-디히드록시디페닐술폰(DABS), 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시록시페닐)프로판(BAP), 4,4'-디아미노디페닐메탄(DDM), 4,4'-옥시디아닐린(4-ODA) 및 3,3'-옥시디아닐린(3-ODA)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 유연기를 갖는 디아민을 들 수 있다.As the diamine forming the second block, for example, 2,2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane (HFBAPP), bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl) Sulfone (BAPS), bis(4-(3-aminophenoxy)phenyl)sulfone (BAPSM), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (4DDS), 3,3'-diaminodiphenylsulfone (3DDS) , 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenylpropane (BAPP), 4,4'-diaminodiphenylpropane (6HDA), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene ( 134APB), 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene (133APB), 1,4-bis(4-aminophenoxy)biphenyl (BAPB), 4,4'-bis(4-amino-2) -Trifluoromethylphenoxy)biphenyl (6FAPBP), 3,3-diamino-4,4-dihydroxydiphenylsulfone (DABS), 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyoxy) Phenyl)propane (BAP), 4,4'-diaminodiphenylmethane (DDM), 4,4'-oxydianiline (4-ODA), and 3,3'-oxydianiline (3-ODA). and diamines having one or more types of flexible groups selected from the group.

방향족 디카르보닐 화합물을 사용하는 경우, 높은 열 안정성 및 기계적 물성을 실현하기에는 용이하지만, 분자 구조 내의 벤젠환에 의해 높은 복굴절을 나타내는 경우가 있다. 그 때문에, 제2 블록에 의한 복굴절의 저하를 억제하기 위해, 디아민은, 분자 구조에 유연기가 도입된 것을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 디아민은, 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM), 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS) 및 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP) 중에서 선택되는 1종 이상의 디아민인 것이 보다 바람직하다. 특히, BAPSM과 같이 유연기의 길이가 길고, 치환기의 위치가 메타 위치에 있는 디아민일수록, 우수한 복굴절률을 나타낼 수 있다.When using an aromatic dicarbonyl compound, it is easy to realize high thermal stability and mechanical properties, but it may exhibit high birefringence due to the benzene ring in the molecular structure. Therefore, in order to suppress the decrease in birefringence due to the second block, it is preferable to use a diamine in which a flexible group is introduced into the molecular structure. Specifically, diamines include bis(4-(3-aminophenoxy)phenyl)sulfone (BAPSM), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (4DDS), and 2,2-bis(4-(4- More preferably, it is one or more diamines selected from aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane (HFBAPP). In particular, diamines such as BAPSM, where the length of the flexible group is long and the position of the substituent in the meta position, can exhibit excellent birefringence.

비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물(6FDA)을 포함하는 디안히드리드와, 비스트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 포함하는 디아민이 공중합된 제1 블록, 그리고, 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민이 공중합된 제2 블록을 분자 구조 내에 포함하는 폴리아미드이미드 전구체는, GPC에 의해 측정한 중량 평균 분자량이 예를 들어 200,000 이상 215,000 이하인 것이 바람직하고, 점도가 예를 들어 2400poise 이상 2600poise 이하인 것이 바람직하다.Dianhydrides including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride (6FDA), and bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) The polyamidoimide precursor, which includes in its molecular structure a first block in which a diamine containing a copolymerization and a second block in which an aromatic dicarbonyl compound and an aromatic diamine are copolymerized, has a weight average molecular weight measured by GPC, for example For example, it is preferable that it is 200,000 or more and 215,000 or less, and it is preferable that the viscosity is, for example, 2400 poise or more and 2600 poise or less.

폴리아미드이미드는, 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화함으로써 얻을 수 있다. 또한, 폴리아미드이미드를 사용하여 폴리아미드이미드 필름을 얻을 수 있다. 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화하는 방법 및 폴리아미드이미드 필름의 제조 방법에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공표 제2018-506611호 공보를 참조할 수 있다.Polyamideimide can be obtained by imidizing a polyamideimide precursor. Additionally, a polyamideimide film can be obtained using polyamideimide. For a method of imidizing a polyamideimide precursor and a method of producing a polyamideimide film, refer to, for example, Japanese Patent Publication No. 2018-506611.

(2) 유리 기재(2) Glass substrate

유리 기재를 구성하는 유리로서는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 규산염 유리, 실리카 유리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 붕규산 유리, 알루미노 규산염 유리, 알루미노 붕규산 유리가 바람직하고, 무알칼리 유리가 보다 바람직하다. 유리 기재의 시판품으로서는, 예를 들어 닛폰 덴키 가라스사의 초박판 유리 G-Leaf나, 마쯔나미 가라스 고교사의 극박막 유리 등을 들 수 있다.The glass constituting the glass substrate is not particularly limited as long as it has transparency, and examples include silicate glass and silica glass. Among them, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and aluminoborosilicate glass are preferable, and alkali-free glass is more preferable. Examples of commercially available glass substrates include ultra-thin glass G-Leaf from Nippon Denki Glass Co., Ltd. and ultra-thin glass from Matsunami Glass Co., Ltd.

또한, 유리 기재를 구성하는 유리는, 화학 강화 유리인 것도 바람직하다. 화학 강화 유리는 기계적 강도가 우수하고, 그만큼 얇게 할 수 있다는 점에서 바람직하다. 화학 강화 유리는, 전형적으로는, 유리의 표면 근방에 대하여, 나트륨을 칼륨으로 바꾸는 등, 이온 종을 일부 교환함으로써, 화학적인 방법에 의해 기계적 물성을 강화한 유리이며, 표면에 압축 응력층을 갖는다.Additionally, it is preferable that the glass constituting the glass substrate is chemically strengthened glass. Chemically strengthened glass is desirable because it has excellent mechanical strength and can be made as thin as possible. Chemically strengthened glass is typically glass whose mechanical properties have been strengthened through a chemical method by partially exchanging ionic species, such as changing sodium to potassium, near the surface of the glass, and has a compressive stress layer on the surface.

화학 강화 유리 기재를 구성하는 유리로서는, 예를 들어 알루미노 규산염 유리, 소다 석회 유리, 붕규산 유리, 납유리, 알칼리 바륨 유리, 알루미노 붕규산 유리 등을 들 수 있다.Examples of glass constituting the chemically strengthened glass base material include aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, lead glass, alkali barium glass, and aluminoborosilicate glass.

화학 강화 유리 기재의 시판품으로서는, 예를 들어 코닝사의 Gorilla Glass(고릴라 글라스), AGC사의 Dragontrail(드래곤 트레일), 샷사의 화학 강화 유리 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products based on chemically strengthened glass include Corning's Gorilla Glass, AGC's Dragontrail, and Shot's chemically strengthened glass.

(3) 기재층의 구성(3) Composition of base layer

기재층으로서는, 상술한 것 중에서도, 폴리이미드계 수지를 함유하는 폴리이미드계 수지 기재 또는 유리 기재인 것이 바람직하다. 굴곡 내성을 갖고, 우수한 경도 및 투명성을 갖는 기재층으로 할 수 있기 때문이다.As the base material layer, among those mentioned above, a polyimide-based resin base material or a glass base material containing polyimide-based resin is preferable. This is because it can be used as a base layer that has bending resistance and excellent hardness and transparency.

기재층의 두께로서는, 유연성을 갖는 것이 가능한 두께이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 기재층의 종류 등에 따라 적절히 선택된다.The thickness of the base layer is not particularly limited as long as it has flexibility and is appropriately selected depending on the type of base layer, etc.

수지 기재의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상, 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 25㎛ 이상, 80㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 수지 기재의 두께가 상기 범위 내임으로써, 양호한 유연성을 얻을 수 있음과 함께, 충분한 경도를 얻을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 컬을 억제할 수도 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 경량화 면에서 바람직하다.The thickness of the resin substrate is preferably, for example, 10 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 80 μm or less. When the thickness of the resin base material is within the above range, good flexibility can be obtained and sufficient hardness can be obtained. Additionally, curling of the display device laminate can be suppressed. Additionally, it is desirable in terms of reducing the weight of the laminate for a display device.

유리 기재의 두께는, 예를 들어 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 15㎛ 이상, 100㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 20㎛ 이상, 90㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25㎛ 이상, 80㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 유리 기재의 두께가 상기 범위 내임으로써, 양호한 유연성을 얻을 수 있음과 함께, 충분한 경도를 얻을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 컬을 억제할 수도 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 경량화 면에서 바람직하다.The thickness of the glass substrate is, for example, preferably 200 μm or less, more preferably 15 μm or more and 100 μm or less, more preferably 20 μm or more and 90 μm or less, and especially preferably 25 μm or more and 80 μm or less. do. When the thickness of the glass base material is within the above range, good flexibility can be obtained and sufficient hardness can be obtained. Additionally, curling of the display device laminate can be suppressed. Additionally, it is desirable in terms of reducing the weight of the laminate for a display device.

4. 제2 기능층4. Second functional layer

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 상기 기재층과 상기 기능층 사이, 또는 상기 기능층의 상기 기재층과는 반대 측에 제2 기능층을 가질 수 있다. 제2 기능층으로서는, 예를 들어 하드 코트층, 반사 방지층, 방현층, 비산 방지층, 프라이머층 등을 들 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure may have a second functional layer between the base layer and the functional layer, or on the side of the functional layer opposite to the base layer. Examples of the second functional layer include a hard coat layer, an anti-reflection layer, an anti-glare layer, an anti-scattering layer, and a primer layer.

또한, 제2 기능층은, 단층이어도 되고, 다층이어도 된다. 또한, 제2 기능층은, 단일의 기능을 갖는 층이어도 되고, 서로 다른 기능을 갖는 복수의 층을 갖고 있어도 된다.Additionally, the second functional layer may be a single layer or may be a multilayer. In addition, the second functional layer may be a layer having a single function, or may have a plurality of layers having different functions.

(1) 하드 코트층(1) Hard coat layer

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 예를 들어 도 4에 나타내는 바와 같이, 기재층(2)과 기능층(3) 사이에 하드 코트층(4)을 가질 수 있다. 하드 코트층은, 표면 경도를 높이기 위한 부재이다. 하드 코트층이 배치되어 있음으로써, 내흠집성을 향상시킬 수 있다. 특히, 상기 기재층이 수지 기재일 경우에는, 하드 코트층이 배치되어 있음으로써, 내흠집성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure may have a hard coat layer 4 between the base material layer 2 and the functional layer 3, for example, as shown in FIG. 4 . The hard coat layer is a member for increasing surface hardness. By disposing the hard coat layer, scratch resistance can be improved. In particular, when the base material layer is a resin base material, scratch resistance can be effectively improved by providing a hard coat layer.

하드 코트층의 재료로서는, 예를 들어 유기 재료, 무기 재료, 유기 무기 복합 재료 등을 사용할 수 있다.As a material for the hard coat layer, for example, organic materials, inorganic materials, organic-inorganic composite materials, etc. can be used.

그 중에서도, 하드 코트층의 재료는 유기 재료인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 하드 코트층은, 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것이 바람직하다. 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물은, 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지된 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.Among these, it is preferable that the material of the hard coat layer is an organic material. Specifically, it is preferable that the hard coat layer contains a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound. A cured product of a resin composition containing a polymerizable compound can be obtained by subjecting the polymerizable compound to a polymerization reaction by a known method, using a polymerization initiator as necessary.

또한, 중합성 화합물에 대해서는, 상기 기능층의 항에 기재한 것과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.In addition, the polymerizable compound can be used in the same manner as described in the above functional layer section, so description here is omitted.

하드 코트층은, 필요에 따라 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 또한, 중합 개시제에 대해서는, 상기 기능층의 항에 기재한 것과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.The hard coat layer may contain a polymerization initiator as needed. In addition, the polymerization initiator can be used in the same manner as described in the above functional layer section, so description here is omitted.

또한, 하드 코트층은, 대전 방지제를 함유하고 있어도 된다. 그 중에서도, 상기 기능층이 대전 방지제를 함유하지 않는 경우에는, 하드 코트층이 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 표시 장치용 적층체에 대전 방지성을 부여할 수 있다. 또한, 대전 방지제의 함유량을 조정함으로써, 지우개 시험 후의 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면의 전하량의 절댓값을 소정의 범위가 되도록 조정할 수 있다.Additionally, the hard coat layer may contain an antistatic agent. Among these, when the functional layer does not contain an antistatic agent, it is preferable that the hard coat layer contains an antistatic agent. Antistatic properties can be imparted to a laminate for a display device. Additionally, by adjusting the content of the antistatic agent, the absolute value of the electric charge on the surface on the functional layer side of the display device laminate after the eraser test can be adjusted so that it falls within a predetermined range.

대전 방지제의 종류 및 함유량에 대해서는, 상기 기능층에서의 대전 방지제의 종류 및 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.The type and content of the antistatic agent can be the same as the type and content of the antistatic agent in the functional layer.

하드 코트층은, 필요에 따라, 첨가제를 더 함유할 수 있다. 첨가제로서는, 하드 코트층에 부여하는 기능에 따라 적절히 선택되며, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 무기 입자, 유기 입자, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 방오제, 방현제, 레벨링제, 계면 활성제, 이활제, 각종 증감제, 난연제, 접착 부여제, 중합 금지제, 산화 방지제, 광안정화제, 표면 개질제 등을 들 수 있다.The hard coat layer may further contain additives as needed. The additive is appropriately selected depending on the function provided to the hard coat layer, and is not particularly limited, but examples include inorganic particles, organic particles, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antifouling agents, antiglare agents, leveling agents, surfactants, lubricants, etc. agents, various sensitizers, flame retardants, adhesion imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, light stabilizers, surface modifiers, etc.

하드 코트층의 두께는, 하드 코트층이 갖는 기능 및 표시 장치용 적층체의 용도에 따라 적절히 선택되면 된다. 하드 코트층의 두께는, 예를 들어 0.5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1.0㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.5㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 하드 코트층의 두께가 상기 범위 내이면, 하드 코트층으로서 충분한 경도를 얻을 수 있다.The thickness of the hard coat layer may be appropriately selected depending on the function of the hard coat layer and the intended use of the display device laminate. The thickness of the hard coat layer is preferably, for example, 0.5 μm or more and 50 μm or less, more preferably 1.0 μm or more and 40 μm or less, further preferably 1.5 μm or more and 30 μm or less, and especially 2 μm or more and 20 μm or less. desirable. If the thickness of the hard coat layer is within the above range, sufficient hardness can be obtained as a hard coat layer.

하드 코트층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 상기 기재층 상에 상기 중합성 화합물 등을 포함하는 하드 코트층용 수지 조성물을 도포하여, 경화시키는 방법을 들 수 있다.As a method of forming the hard coat layer, for example, a method of applying a resin composition for a hard coat layer containing the polymerizable compound or the like onto the base material layer and curing the resin composition is included.

(2) 반사 방지층(2) Anti-reflection layer

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 제2 기능층으로서, 반사 방지층을 갖고 있어도 된다. 상기 반사 방지층은, 통상, 상기 기능층의 상기 기재층과는 반대 측의 표면에 마련된다.The laminate for a display device in the present disclosure may have an anti-reflection layer as a second functional layer. The antireflection layer is usually provided on the surface of the functional layer opposite to the base layer.

반사 방지층은, 단층으로 구성되어 있어도 되고, 다층으로 구성되어 있어도 된다.The antireflection layer may be composed of a single layer or may be composed of multiple layers.

반사 방지층으로서는, 일반적인 반사 방지층을 적용할 수 있고, 예를 들어 하드 코트층보다 굴절률이 낮은 재료를 함유하는 단층막이나, 하드 코트층 측으로부터 고굴절률층과 저굴절률층을 갖는 다층막, 하드 코트층 측으로부터 고굴절률층과 저굴절률층이 교호로 적층되어 있는 다층막, 하드 코트층 측으로부터 차례로 중굴절률층과 고굴절률층과 저굴절률층을 갖는 다층막 등을 들 수 있다.As the antireflection layer, a general antireflection layer can be applied, for example, a single layer film containing a material with a lower refractive index than the hard coat layer, a multilayer film having a high refractive index layer and a low refractive index layer from the hard coat layer side, or a hard coat layer. Examples include a multilayer film in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated from the side, and a multilayer film in which a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially stacked from the hard coat layer side.

반사 방지층이 단층막일 경우, 단층막에 함유되는 재료로서는, 하드 코트층보다 굴절률이 낮은 재료이면 되고, 예를 들어 불화 마그네슘 등을 들 수 있다.When the anti-reflection layer is a single-layer film, the material contained in the single-layer film may be any material that has a lower refractive index than the hard coat layer, and examples include magnesium fluoride.

또한, 반사 방지층이 다층막일 경우, 저굴절률층의 굴절률은, 예를 들어 1.45 이하인 것이 바람직하고, 1.40 이하인 것이 보다 바람직하다. 저굴절률층의 굴절률을 상기 범위로 함으로써, 반사 방지성이 양호해진다. 또한, 저굴절률층의 굴절률의 하한은, 1.10 이상이 실제적이다.In addition, when the antireflection layer is a multilayer film, the refractive index of the low refractive index layer is preferably, for example, 1.45 or less, and more preferably 1.40 or less. By setting the refractive index of the low refractive index layer within the above range, anti-reflection properties become good. Additionally, the practical lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is 1.10 or more.

저굴절률층으로서는, 예를 들어 금속 알콕시드의 가수 분해 중축합물을 함유하는 것, 저굴절률의 수지를 함유하는 것, 저굴절률 입자를 함유하는 것, 바인더 수지 및 저굴절률 입자를 함유하는 것 등을 들 수 있다.Examples of the low refractive index layer include those containing hydrolyzed polycondensates of metal alkoxides, those containing low refractive index resins, those containing low refractive index particles, those containing binder resin and low refractive index particles, etc. I can hear it.

금속 알콕시드의 가수 분해 중축합물은, 예를 들어 졸겔법에 의해 얻을 수 있다.A hydrolyzed polycondensate of a metal alkoxide can be obtained, for example, by the sol-gel method.

저굴절률의 수지로서는, 예를 들어 불소 수지를 들 수 있다.Examples of low-refractive-index resins include fluororesins.

또한, 저굴절률층의 두께는, 가시광선의 파장역의 1/4 정도(100nm 전후)인 것이 바람직하기 때문에, 예를 들어 60nm 이상 200nm 이하인 것이 바람직하고, 75nm 이상 180nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 90nm 이상 150nm인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the thickness of the low refractive index layer is preferably about 1/4 of the wavelength range of visible light (around 100 nm), so for example, it is preferably 60 nm or more and 200 nm or less, more preferably 75 nm or more and 180 nm or less, and 90 nm or more. It is more preferable that it is 150 nm.

저굴절률층의 형성 방법으로서는, 습식법 및 건식법을 들 수 있다. 습식법으로서는, 금속 알콕시드 등을 사용하여 졸겔법에 의해 형성하는 방법, 저굴절률의 수지를 도포하여 형성하는 방법, 바인더 수지 및 저굴절률 입자를 함유하는 저굴절률층용 조성물을 도포하여 형성하는 방법을 들 수 있다. 건식법으로서는, 저굴절률 입자를 사용하여, 물리 기상 성장법 또는 화학 기상 성장법에 의해 형성하는 방법을 들 수 있다. 습식법은 생산 효율의 점에서 우수하고, 그 중에서도, 바인더 수지 및 저굴절률 입자를 함유하는 저굴절률층용 조성물을 도포하여 형성하는 방법이 바람직하다.Methods for forming the low refractive index layer include wet methods and dry methods. Wet methods include a method of forming by a sol-gel method using a metal alkoxide, etc., a method of forming by applying a low refractive index resin, and a method of forming by applying a composition for a low refractive index layer containing a binder resin and low refractive index particles. You can. As a dry method, a method of forming by a physical vapor growth method or a chemical vapor growth method using low refractive index particles is included. The wet method is excellent in terms of production efficiency, and among them, the method of forming by applying a composition for a low refractive index layer containing a binder resin and low refractive index particles is preferable.

또한, 고굴절률층의 굴절률은, 예를 들어 1.55 이상 1.85 이하인 것이 바람직하고, 1.58 이상 1.70 이하인 것이 보다 바람직하다. 고굴절률층의 굴절률을 소정의 값 이상으로 함으로써, 반사 방지성이 양호해진다. 또한, 고굴절률층의 상한은 1.85 이하가 실제적이다.In addition, the refractive index of the high refractive index layer is preferably, for example, 1.55 or more and 1.85 or less, and more preferably 1.58 or more and 1.70 or less. By setting the refractive index of the high refractive index layer to a predetermined value or more, anti-reflection properties become good. Additionally, the practical upper limit of the high refractive index layer is 1.85 or less.

고굴절률층으로서는, 예를 들어 바인더 수지 및 고굴절률 입자를 함유하는 것을 들 수 있다.Examples of the high refractive index layer include those containing binder resin and high refractive index particles.

고굴절률 입자로서는, 예를 들어 오산화안티몬, 산화아연, 산화티탄, 산화세륨, 주석 도프 산화인듐, 안티몬 도프 산화주석, 산화이트륨 및 산화지르코늄 등을 들 수 있다.Examples of high refractive index particles include antimony pentoxide, zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, yttrium oxide, and zirconium oxide.

고굴절률 입자의 평균 입자경은, 예를 들어 5nm 이상 200nm 이하가 바람직하고, 5nm 이상 100nm 이하가 보다 바람직하고, 10nm 이상 80nm 이하가 더욱 바람직하다. 평균 입자경을 5nm 이상으로 함으로써, 입자의 응집을 억제하기 쉽게 할 수 있고, 평균 입자경을 200nm 이하로 함으로써, 입자의 확산에 의한 백화로 시인성이 저하되는 것을 억제하기 쉽게 할 수 있다.The average particle diameter of the high refractive index particles is preferably, for example, 5 nm or more and 200 nm or less, more preferably 5 nm or more and 100 nm or less, and even more preferably 10 nm or more and 80 nm or less. By setting the average particle diameter to 5 nm or more, it is possible to easily suppress agglomeration of particles, and by setting the average particle diameter to 200 nm or less, it is possible to easily suppress a decrease in visibility due to whitening due to particle diffusion.

고굴절률 입자의 함유량은, 도막의 고굴절률화 및 도막 강도의 밸런스의 관점에서, 바인더 수지 100질량부에 대하여, 50질량부 이상 500질량부 이하인 것이 바람직하고, 100질량부 이상 450질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 200질량부 이상 430질량부 이하인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of increasing the refractive index of the coating film and balancing the strength of the coating film, the content of the high refractive index particles is preferably 50 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, and 100 parts by mass or more and 450 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the binder resin. It is more preferable that it is 200 parts by mass or more and 430 parts by mass or less.

고굴절률층에 함유되는 바인더 수지로서는, 경화성 수지 조성물의 경화물을 들 수 있다. 경화성 수지 조성물로서는, 하드 코트층에서 예시한 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있고, 광경화성 수지 조성물이 적합하다.Examples of the binder resin contained in the high refractive index layer include cured products of curable resin compositions. As the curable resin composition, those similar to those exemplified for the hard coat layer can be used, and a photocurable resin composition is suitable.

또한, 고굴절률층의 두께는, 예를 들어 200nm 이하인 것이 바람직하고, 50nm 이상 180nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 90nm 이상 160nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 고굴절률층의 두께를 상기 범위로 함으로써, 가시광 영역(380nm 내지 780nm) 중, 넓은 파장역에서 저반사성을 나타낼 수 있다.Additionally, the thickness of the high refractive index layer is preferably, for example, 200 nm or less, more preferably 50 nm or more and 180 nm or less, and even more preferably 90 nm or more and 160 nm or less. By setting the thickness of the high refractive index layer within the above range, low reflectivity can be exhibited in a wide wavelength range in the visible light region (380 nm to 780 nm).

고굴절률층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 바인더 수지 및 고굴절률 입자를 함유하는 고굴절률층용 조성물을 도포하여 형성하는 방법을 들 수 있다.As a method of forming the high refractive index layer, for example, a method of forming the high refractive index layer by applying a composition for a high refractive index layer containing a binder resin and high refractive index particles is included.

반사 방지층의 두께로서는, 일반적인 반사 방지층의 두께와 마찬가지로 할 수 있고, 반사 방지층의 층 구성에 따라 적절히 선택된다.The thickness of the anti-reflection layer can be the same as the thickness of a general anti-reflection layer, and is appropriately selected depending on the layer structure of the anti-reflection layer.

반사 방지층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 도포법, 증착법 등을 들 수 있고, 반사 방지층의 재료 등에 따라 적절히 선택된다.Examples of the method for forming the anti-reflection layer include a coating method and a vapor deposition method, and are appropriately selected depending on the material of the anti-reflection layer.

5. 충격 흡수층5. Shock absorbing layer

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 상기 기재층의 상기 기능층과는 반대 측의 면, 혹은 상기 기재층과 상기 기능층 사이에, 충격 흡수층을 가질 수 있다. 충격 흡수층이 배치되어 있음으로써, 표시 장치용 적층체에 충격이 가해졌을 때 충격을 흡수하여, 내충격성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 기재층이 유리 기재일 경우에는, 유리 기재의 균열을 억제할 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure may have an impact absorption layer on the surface of the base layer opposite to the functional layer or between the base layer and the functional layer. By disposing the shock absorption layer, shock can be absorbed when shock is applied to the display device laminate, and shock resistance can be improved. Additionally, when the base layer is a glass base, cracking of the glass base can be suppressed.

충격 흡수층의 재료로서는, 충격 흡수성을 갖고, 투명성을 갖는 충격 흡수층을 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 우레탄 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 아크릴 수지, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 이들 재료는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The material of the shock absorbing layer is not particularly limited as long as it has shock absorbing properties and can obtain a transparent shock absorbing layer, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), urethane resin, epoxy resin, Polyimide, polyamidoimide, acrylic resin, triacetylcellulose (TAC), silicone resin, etc. can be mentioned. These materials may be used individually or in combination of two or more types.

충격 흡수층은, 필요에 따라, 첨가제를 더 함유할 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들어 무기 입자, 유기 입자, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광안정제, 계면 활성제, 밀착성 향상제 등을 들 수 있다.The shock absorbing layer may further contain additives, if necessary. Examples of additives include inorganic particles, organic particles, ultraviolet absorbers, antioxidants, light stabilizers, surfactants, and adhesion improvers.

충격 흡수층의 두께로서는, 충격을 흡수하는 것이 가능한 두께이면 되고, 예를 들어 7㎛ 이상 150㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상 120㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 15㎛ 이상 100㎛ 이하로 할 수 있다.The thickness of the shock absorbing layer may be any thickness that can absorb the shock. For example, it is preferably 7 μm or more and 150 μm or less, more preferably 10 μm or more and 120 μm or less, and even more preferably 15 μm or more and 100 μm or less. You can do this.

충격 흡수층으로서는, 예를 들어 수지 필름을 사용해도 된다. 또한, 예를 들어 상기 기재층 상에, 충격 흡수층용 조성물을 도포함으로써, 충격 흡수층을 형성해도 된다.As the shock absorption layer, for example, a resin film may be used. Additionally, a shock absorption layer may be formed, for example, by applying a shock absorption layer composition on the base material layer.

6. 첩부용 접착층6. Adhesive layer for patching

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 예를 들어 도 5에 나타내는 바와 같이, 기재층(2)의 기능층(3)과는 반대 측의 면에 첩부용 접착층(6)을 가질 수 있다. 첩부용 접착층을 통해, 표시 장치용 적층체를 예를 들어 표시 패널 등에 접합할 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure may have an adhesive layer 6 for sticking on the surface of the base material layer 2 opposite to the functional layer 3, as shown in FIG. 5, for example. . Through the adhesive layer for sticking, the laminate for a display device can be bonded to, for example, a display panel.

첩부용 접착층에 사용되는 접착제로서는, 투명성을 갖고, 표시 장치용 적층체를 표시 패널 등에 접착하는 것이 가능한 접착제이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 열경화형 접착제, 자외선 경화형 접착제, 2액 경화형 접착제, 열용융형 접착제, 감압 접착제(소위 점착제) 등을 들 수 있다.The adhesive used in the adhesive layer for sticking is not particularly limited as long as it has transparency and can adhere the display device laminate to the display panel, etc., for example, thermosetting adhesive, ultraviolet curing adhesive, two-component curing adhesive, Heat-melt adhesives, pressure-sensitive adhesives (so-called adhesives), etc. can be mentioned.

그 중에서도, 예를 들어 도 6에 나타내는 바와 같이, 기재층(2)의 기능층(3)과는 반대 측의 면에 충격 흡수층(5)이 배치되어 있는 경우이며, 충격 흡수층(5)의 기재층(2)과는 반대 측의 면에 첩부용 접착층(6)이 배치되고, 기재층(2) 및 충격 흡수층(5) 사이에 후술하는 층간 접착층(7)이 배치되어 있는 경우에는, 첩부용 접착층 및 층간 접착층은 감압 접착제를 함유하는 것이 바람직하고, 즉 감압 접착층인 것이 바람직하다. 일반적으로, 감압 접착층은, 상기의 접착제를 함유하는 접착층 중에서도, 비교적 유연한 층이다. 충격 흡수층이 비교적 유연한 감압 접착층 사이에 배치되어 있음으로써, 내충격성을 향상시킬 수 있다. 이것은, 감압 접착층이 비교적 유연하여, 변형되기 쉬움으로써, 표시 장치용 적층체에 충격이 가해졌을 때, 감압 접착층에 의해 충격 흡수층의 변형이 억제되지 않고, 충격 흡수층이 변형되기 쉬워지기 때문에, 보다 큰 충격 흡수 효과가 발휘되는 것으로 생각된다.Among them, for example, as shown in FIG. 6, this is the case where the shock absorbing layer 5 is disposed on the surface of the base material layer 2 opposite to the functional layer 3, and the base material of the shock absorbing layer 5 In the case where the adhesive layer 6 for sticking is disposed on the surface opposite to the layer 2 and the interlayer adhesive layer 7 described later is disposed between the base material layer 2 and the shock absorbing layer 5, The adhesive layer and the interlayer adhesive layer preferably contain a pressure-sensitive adhesive, that is, they are preferably a pressure-sensitive adhesive layer. In general, the pressure-sensitive adhesive layer is a relatively flexible layer among adhesive layers containing the above adhesives. By disposing the shock absorbing layer between relatively flexible pressure-sensitive adhesive layers, impact resistance can be improved. This is because the pressure-sensitive adhesive layer is relatively flexible and easily deformed, so when an impact is applied to the display device laminate, the deformation of the shock-absorbing layer is not suppressed by the pressure-sensitive adhesive layer, and the shock-absorbing layer becomes easily deformed, resulting in greater deformation. It is thought that it has a shock absorption effect.

감압 접착층에 사용되는 감압 접착제로서는, 예를 들어 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제 등을 들 수 있고, 상기의 충격 흡수층의 재료 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 점착제가 바람직하다. 투명성, 내후성, 내구성, 내열성이 우수하고, 저비용이기 때문이다.Pressure-sensitive adhesives used in the pressure-sensitive adhesive layer include, for example, acrylic adhesives, silicone-based adhesives, rubber-based adhesives, urethane-based adhesives, etc., and can be appropriately selected depending on the material of the shock absorbing layer, etc. Among them, acrylic adhesives are preferable. This is because it has excellent transparency, weather resistance, durability, and heat resistance, and is low cost.

첩부용 접착층의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25㎛ 이상 80㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이상 60㎛ 이하로 할 수 있다. 첩부용 접착층의 두께가 너무 얇으면, 표시 장치용 적층체와 표시 패널 등을 충분히 접착하지 못할 우려가 있다. 또한, 첩부용 접착층이 감압 접착층일 경우에는, 첩부용 접착층의 두께가 너무 얇으면, 표시 장치용 적층체에 충격이 가해졌을 때, 충격 흡수층을 변형시키기 쉽게 하는 효과가 충분히 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 첩부용 접착층의 두께가 너무 두꺼우면, 플렉시블성이 손상되는 경우가 있다.The thickness of the adhesive layer for sticking is preferably, for example, 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 25 μm or more and 80 μm or less, and further preferably 40 μm or more and 60 μm or less. If the thickness of the adhesive layer for sticking is too thin, there is a risk that the display device laminate and the display panel may not be sufficiently bonded. In addition, when the adhesive layer for sticking is a pressure-sensitive adhesive layer, if the thickness of the adhesive layer for sticking is too thin, the effect of making it easy to deform the shock absorbing layer when an impact is applied to the display device laminate may not be sufficiently obtained. . On the other hand, if the thickness of the adhesive layer for sticking is too thick, flexibility may be impaired.

첩부용 접착층으로서는, 예를 들어 접착 필름을 사용해도 된다. 또한, 예를 들어 지지체 또는 기재층 등의 위에 접착제 조성물을 도포하여, 첩부용 접착층을 형성해도 된다.As the adhesive layer for sticking, for example, you may use an adhesive film. Additionally, for example, the adhesive composition may be applied on a support or a base layer to form an adhesive layer for sticking.

7. 층간 접착층7. Interlayer adhesive layer

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체에 있어서는, 각 층 사이에 층간 접착층이 배치되어 있어도 된다.In the laminate for a display device in the present disclosure, an interlayer adhesive layer may be disposed between each layer.

층간 접착층에 사용되는 접착제로서는, 상기 첩부용 접착층에 사용되는 접착제와 마찬가지로 할 수 있다.The adhesive used in the interlayer adhesive layer can be similar to the adhesive used in the adhesive layer for sticking.

그 중에서도, 상술한 바와 같이, 기재층의 기능층과는 반대 측의 면에 충격 흡수층이 배치되어 있는 경우이며, 충격 흡수층의 기재층과는 반대 측의 면에 첩부용 접착층이 배치되고, 기재층 및 충격 흡수층 사이에 층간 접착층이 배치되어 있는 경우에는, 첩부용 접착층 및 층간 접착층은 감압 접착제를 함유하는 것이 바람직하고, 즉 감압 접착층인 것이 바람직하다.Among them, as described above, this is the case where the shock absorbing layer is disposed on the side of the base material layer opposite to the functional layer, the adhesive layer for sticking is disposed on the side of the shock absorbing layer opposite to the base layer, and the base material layer and when an interlayer adhesive layer is disposed between the shock absorbing layers, the adhesive layer for sticking and the interlayer adhesive layer preferably contain a pressure-sensitive adhesive, that is, they are preferably a pressure-sensitive adhesive layer.

감압 접착층에 대해서는, 상기 첩부용 접착층에 사용되는 감압 접착층과 마찬가지로 할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer can be used in the same manner as the pressure-sensitive adhesive layer used in the adhesive layer for sticking.

층간 접착층의 두께, 형성 방법 등에 대해서는, 상기 첩부용 접착층의 두께, 형성 방법 등과 마찬가지로 할 수 있다.The thickness, formation method, etc. of the interlayer adhesive layer can be similar to the thickness and formation method of the above-mentioned adhesive layer for sticking.

8. 표시 장치용 적층체의 그 외의 점8. Other points of laminate for display device

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상 500㎛ 이상인 것이 바람직하고, 20㎛ 이상 400㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 30㎛ 이상 300㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 표시 장치용 적층체의 두께가 상기 범위이면, 플렉시블성을 높일 수 있다.The thickness of the display device laminate in the present disclosure is preferably, for example, 10 μm or more and 500 μm or more, more preferably 20 μm or more and 400 μm or more, and even more preferably 30 μm or more and 300 μm or more. If the thickness of the display device laminate is within the above range, flexibility can be improved.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 표시 장치에 있어서, 표시 패널보다 관찰자 측에 배치되는 전면판으로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치에서의 전면판에 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 굴곡부에서의 내마모성을 향상시킬 수 있다는 점에서, 폴더블 디스플레이에서의 전면판에 적합하게 사용할 수 있다.The laminate for a display device in the present disclosure can be used as a front plate disposed on a viewer side of the display panel in a display device. Among them, the laminate for a display device in the present disclosure can be suitably used for a front panel in a flexible display device such as a foldable display, a rollable display, or a bendable display. In particular, the laminate for a display device in the present disclosure can be suitably used for a front panel in a foldable display because it can improve wear resistance at a bent portion.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체는, 예를 들어 스마트폰, 태블릿 단말기, 웨어러블 단말기, 퍼스널 컴퓨터, 텔레비전, 디지털 사이니지, 퍼블릭 인포메이션 디스플레이(PID), 차량 탑재 디스플레이 등의 표시 장치에서의 전면판에 사용할 수 있다.In addition, the laminate for a display device in the present disclosure can be used in display devices such as smartphones, tablet terminals, wearable terminals, personal computers, televisions, digital signage, public information displays (PID), and vehicle-mounted displays, for example. It can be used on the front panel of

B. 표시 장치B. Display device

본 개시에 있어서의 표시 장치는, 표시 패널과, 상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 상술한 표시 장치용 적층체를 구비한다.The display device in the present disclosure includes a display panel and the above-described display device laminate disposed on an observer side of the display panel.

도 7은 본 개시에 있어서의 표시 장치의 일 예를 나타내는 개략 단면도이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 표시 장치(20)는, 표시 패널(21)과, 표시 패널(21)의 관찰자 측에 배치된 표시 장치용 적층체(1)를 구비한다. 표시 장치(20)에 있어서는, 표시 장치용 적층체(1)와 표시 패널(21)은, 예를 들어 표시 장치용 적층체(1)의 첩부용 접착층(6)을 통해 접합할 수 있다.7 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device in the present disclosure. As shown in FIG. 7 , the display device 20 includes a display panel 21 and a display device laminate 1 disposed on the viewer side of the display panel 21. In the display device 20, the display device laminate 1 and the display panel 21 can be bonded, for example, through the adhesive layer 6 for sticking of the display device laminate 1.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 표시 장치의 표면에 배치하는 경우에는, 기능층이 외측, 기재층이 내측이 되도록 배치된다.When the laminate for a display device in the present disclosure is disposed on the surface of the display device, the functional layer is disposed on the outer side and the base layer is disposed on the inner side.

본 개시에 있어서의 표시 장치용 적층체를 표시 장치의 표면에 배치하는 방법으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 접착층을 통한 방법 등을 들 수 있다.The method of disposing the laminate for a display device in the present disclosure on the surface of the display device is not particularly limited, but includes, for example, a method using an adhesive layer.

본 개시에 있어서의 표시 패널로서는, 예를 들어 유기 EL 표시 장치, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 사용되는 표시 패널을 들 수 있다.Examples of the display panel in the present disclosure include display panels used in display devices such as organic EL displays and liquid crystal displays.

본 개시에 있어서의 표시 장치는, 표시 패널과 표시 장치용 적층체 사이에 터치 패널 부재를 가질 수 있다.The display device in the present disclosure may have a touch panel member between the display panel and the display device laminate.

본 개시에 있어서의 표시 장치는, 그 중에서도, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치인 것이 바람직하다.It is preferable that the display device in the present disclosure is, among others, a flexible display device such as a foldable display, a rollable display, or a bendable display.

또한, 본 개시에 있어서의 표시 장치는, 폴딩 가능한 것이 바람직하다. 즉, 본 개시에 있어서의 표시 장치는, 폴더블 디스플레이인 것이 바람직하다. 본 개시에 있어서의 표시 장치는, 굴곡부에서의 내마모성이 우수하고, 폴더블 디스플레이로서 적합하다.Additionally, it is preferable that the display device in the present disclosure is foldable. That is, it is preferable that the display device in the present disclosure is a foldable display. The display device in the present disclosure has excellent wear resistance at bent portions and is suitable as a foldable display.

또한, 본 개시는 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시 형태는, 예시이며, 본 개시의 특허 청구 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고, 마찬가지의 작용 효과를 발휘하는 것은, 어떠한 것이어도 본 개시의 기술적 범위에 포함된다.Additionally, the present disclosure is not limited to the above embodiments. The above-mentioned embodiment is an example, and anything that has substantially the same structure as the technical idea described in the claims of the present disclosure and exhibits similar functions and effects is included in the technical scope of the present disclosure.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 나타내고, 본 개시를 더 설명한다.Hereinafter, examples and comparative examples will be shown and the present disclosure will be further explained.

[실시예 1][Example 1]

(1) 하드 코트층 A의 형성(1) Formation of hard coat layer A

먼저, 하기에 나타내는 조성이 되도록 각 성분을 배합하여, 하드 코트층용 수지 조성물 1을 얻었다.First, each component was blended so as to have the composition shown below, and resin composition 1 for hard coat layer was obtained.

(하드 코트층용 수지 조성물 1의 조성)(Composition of resin composition 1 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 레벨링제(제품명 「BYK-UV3535」, 빅 케미·재팬사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Leveling agent (product name “BYK-UV3535”, manufactured by Big Chemie Japan): 0.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

다음으로, 기재층으로서, 두께 80㎛의 폴리이미드 필름(제품명 「네오프림」, 미쓰비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤제)을 사용하여, 기재층 상에 바 코터로 상기 하드 코트층용 수지 조성물 1을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막에 대하여, 80℃, 1분간 가열함으로써 도막 내의 용제를 증발시키고, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈 재팬사제, 광원 H 벌브)를 사용하여, 자외선을 산소 농도가 100ppm 이하에서 적산 광량이 70mJ/cm2이 되도록 조사하여 도막을 경화시켜, 제2 기능층으로서 두께 9.0㎛의 하드 코트층 A를 형성하였다.Next, using a polyimide film with a thickness of 80 μm (product name “Neoprim”, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a base layer, the above-mentioned resin composition 1 for hard coat layer was applied with a bar coater on the base layer. Thus, a coating film was formed. Then, the solvent in the coating film was evaporated by heating this coating film at 80°C for 1 minute, and using an ultraviolet irradiation device (Light Source H Bulb, manufactured by Fusion UV Systems Japan), ultraviolet rays were irradiated at an oxygen concentration of 100 ppm or less with an integrated light amount of The coating film was cured by irradiating to 70 mJ/cm 2 , and a hard coat layer A with a thickness of 9.0 μm was formed as a second functional layer.

(2) 하드 코트층 B의 형성(2) Formation of hard coat layer B

먼저, 하기에 나타내는 조성이 되도록 각 성분을 배합하여, 하드 코트층용 수지 조성물 2를 얻었다.First, each component was blended so as to have the composition shown below, and resin composition 2 for hard coat layer was obtained.

(하드 코트층용 수지 조성물 2의 조성)(Composition of resin composition 2 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-015A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-015A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 1.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 1.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

다음으로, 상기 하드 코트층 A 상에 바 코터로 상기 하드 코트층용 수지 조성물 2를 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막에 대하여, 50℃, 1분간 가열함으로써 도막 내의 용제를 증발시키고, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈 재팬사제, 광원 H 벌브)를 사용하여, 자외선을 산소 농도가 100ppm 이하에서 적산 광량이 360mJ/cm2이 되도록 조사하여 도막을 경화시켜, 기능층으로서 두께 3.0㎛의 하드 코트층 B를 형성하였다. 이와 같이 하여 기재층과 하드 코트층 A(제2 기능층)와 하드 코트층 B(기능층)를 이 순으로 갖는 적층체를 얻었다.Next, the resin composition for hard coat layer 2 was applied onto the hard coat layer A using a bar coater to form a coating film. Then, the solvent in the coating film was evaporated by heating this coating film at 50°C for 1 minute, and using an ultraviolet irradiation device (Light Source H Bulb, manufactured by Fusion UV Systems Japan), ultraviolet rays were irradiated at an oxygen concentration of 100 ppm or less with an integrated light amount. The coating film was cured by irradiating to 360 mJ/cm 2 , and a hard coat layer B with a thickness of 3.0 μm was formed as a functional layer. In this way, a laminate having the base material layer, hard coat layer A (second functional layer), and hard coat layer B (functional layer) in this order was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 하기의 하드 코트층용 수지 조성물 3을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), a laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the following resin composition 3 for hard coat layer was used.

(하드 코트층용 수지 조성물 3의 조성)(Composition of resin composition 3 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[실시예 2][Example 2]

기재층으로서, 두께 50㎛의 PET 필름(도요보사제 「코스모샤인 A4160」)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that a PET film (“Cosmoshine A4160” manufactured by Toyobo Corporation) with a thickness of 50 μm was used as the base layer.

[실시예 3][Example 3]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 하기의 하드 코트층용 수지 조성물 4를 사용하고, 두께를 4.0㎛로 한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), the resin composition 4 for the hard coat layer below was used, and a laminate was produced in the same manner as in Example 2, except that the thickness was set to 4.0 μm.

(하드 코트층용 수지 조성물 4의 조성)(Composition of resin composition 4 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 2질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 2 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[실시예 4][Example 4]

하드 코트층 A(제2 기능층)를 형성하지 않는 것, 및 하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 상기의 하드 코트층용 수지 조성물 4를 사용하고, 두께를 3.5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.Except that the hard coat layer A (second functional layer) was not formed, and in the formation of the hard coat layer B (functional layer), the above-mentioned resin composition 4 for hard coat layer was used and the thickness was set to 3.5 μm. , a laminate was produced in the same manner as in Example 2.

[실시예 5][Example 5]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 두께를 3.3㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), a laminate was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness was set to 3.3 μm.

[실시예 6][Example 6]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 두께를 3.8㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), a laminate was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness was set to 3.8 μm.

[실시예 7][Example 7]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 하기의 하드 코트층용 수지 조성물 5를 사용하고, 두께를 3.5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), the following resin composition 5 for hard coat layer was used, and a laminate was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness was 3.5 μm.

(하드 코트층용 수지 조성물 5의 조성)(Composition of resin composition 5 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 50질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 50 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-015A」, 다이세이 파인케미컬사제): 50질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-015A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 50 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 2질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 2 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[실시예 8][Example 8]

제2 기능층에 대전 방지제를 함유시킨 하드 코트층용 수지 조성물 6을 사용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 2, except that Resin Composition 6 for a hard coat layer containing an antistatic agent in the second functional layer was used.

(하드 코트층용 수지 조성물 6의 조성)(Composition of resin composition 6 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 레벨링제(제품명 「BYK-UV3535」, 빅 케미·재팬사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Leveling agent (product name “BYK-UV3535”, manufactured by Big Chemie Japan): 0.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 2.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 2.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[실시예 9][Example 9]

기능층에 대전 방지제를 사용하지 않는 하드 코트층용 수지 조성물 7을 사용한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 8, except that Resin Composition 7 for a hard coat layer without an antistatic agent was used in the functional layer.

(하드 코트층용 수지 조성물 7의 조성)(Composition of resin composition 7 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-015A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-015A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[실시예 10][Example 10]

기능층의 두께를, 5.8㎛로 한 것 이외에는, 실시예 9와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 9, except that the thickness of the functional layer was 5.8 μm.

[실시예 11][Example 11]

기능층의 두께를, 9.4㎛로 한 것 이외에는, 실시예 9와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 9, except that the thickness of the functional layer was 9.4 μm.

[실시예 12][Example 12]

먼저, 실시예 2의 하드 코트층 A(제2 기능층) 상에 바 코터로 하드 코트층용 수지 조성물 8을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막에 대하여, 80℃, 1분간 가열함으로써 도막 내의 용제를 증발시키고, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈 재팬사제, 광원 H 벌브)를 사용하여, 자외선을 산소 농도가 100ppm 이하에서 적산 광량이 70mJ/cm2이 되도록 조사하여 도막을 경화시켜, 기능층으로서 두께 3.0㎛의 하드 코트층 B(기능층)를 형성하였다.First, resin composition 8 for hard coat layer was applied on the hard coat layer A (second functional layer) of Example 2 with a bar coater to form a coating film. Then, the solvent in the coating film was evaporated by heating this coating film at 80°C for 1 minute, and using an ultraviolet irradiation device (Light Source H Bulb, manufactured by Fusion UV Systems Japan), ultraviolet rays were irradiated at an oxygen concentration of 100 ppm or less with an integrated light amount of The coating film was cured by irradiating to 70 mJ/cm 2 , and a hard coat layer B (functional layer) with a thickness of 3.0 μm was formed as a functional layer.

(하드 코트층용 수지 조성물 8의 조성)(Composition of resin composition 8 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-015A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-015A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 레벨링제(제품명 「BYK-UV3535」, 빅 케미·재팬사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Leveling agent (product name “BYK-UV3535”, manufactured by Big Chemie Japan): 0.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 1.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 1.5 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

다음으로, 상기 하드 코트층 B(기능층) 상에, 하기의 조성의 반사 방지층(저굴절률)용 조성물을 사용하여, 하기 가공 조건에서, 두께 100nm의 반사 방지층(저굴절률)을 제작하여, 적층체를 얻었다.Next, on the hard coat layer B (functional layer), an anti-reflection layer (low refractive index) with a thickness of 100 nm was produced using the composition for an anti-reflection layer (low refractive index) of the following composition under the following processing conditions, and laminated. got a sieve

(반사 방지층(저굴절률)용 조성물의 조성)(Composition of composition for anti-reflection layer (low refractive index))

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 3질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 3 parts by mass

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-047A」, 다이세이 파인케미컬사제): 25질량부· Urethane acrylate (product name “8UX-047A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 25 parts by mass

· 다관능 아크릴레이트(제품명 「M-510」, 도아 고세이사제): 45질량부· Multifunctional acrylate (product name “M-510”, manufactured by Toa Kosei Corporation): 45 parts by mass

· 펜타에리트리톨트리 및 테트라아크릴레이트(제품명 「M-450」, 도아 고세이사제): 30질량부· Pentaerythritol tri and tetraacrylate (product name “M-450”, manufactured by Toagosei Corporation): 30 parts by mass

· 저굴절률 입자(중공 실리카, 평균 1차 입자경 50nm, 닛키 쇼쿠바이 가세이사제): 120질량부(고형분 100% 환산값)· Low refractive index particles (hollow silica, average primary particle diameter 50 nm, manufactured by Nikki Shokubai Chemicals): 120 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 저굴절률 입자(실리카, 평균 1차 입자경 12nm, 닛산 가가쿠 고교사제): 15질량부(고형분 100% 환산값)· Low refractive index particles (silica, average primary particle diameter 12 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.): 15 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 270질량부· Methyl isobutyl ketone: 270 parts by mass

· 이소프로필알코올: 40질량부· Isopropyl alcohol: 40 parts by mass

(가공 조건)(processing conditions)

90℃ 1분간 가열 후, 자외선을 산소 농도 100ppm 이하에서 적산 광량 500mJ/cm2이 되도록 조사하였다.After heating at 90°C for 1 minute, ultraviolet rays were irradiated to an integrated light amount of 500mJ/cm 2 at an oxygen concentration of 100ppm or less.

[실시예 13][Example 13]

실시예 12에 기재된 하드 코트층 B(기능층) 상에, 하기의 조성의 반사 방지층(고굴절률)용 조성물을 사용하여, 하기 가공 조건에서, 두께 80nm의 반사 방지층(고굴절률)을 제작하였다. 이어서, 실시예 12에서 제작된 것과 마찬가지의 반사 방지층(저굴절률)을 제작하여, 적층체를 얻었다.On the hard coat layer B (functional layer) described in Example 12, an anti-reflection layer (high refractive index) with a thickness of 80 nm was produced using the composition for an anti-reflection layer (high refractive index) of the following composition under the following processing conditions. Next, an antireflection layer (low refractive index) similar to that produced in Example 12 was produced, and a laminate was obtained.

(반사 방지층(고굴절률)용 조성물의 조성)(Composition of composition for anti-reflection layer (high refractive index))

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 3질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 3 parts by mass

· 펜타에리트리톨(트리/테트라)아크릴레이트(제품명 「PETIA」, 다이셀 올넥스사제): 80질량부· Pentaerythritol (tri/tetra) acrylate (product name “PETIA”, manufactured by Daicel Allnex): 80 parts by mass

· 다관능 아크릴레이트(제품명 「M-510」, 도아 고세이사제): 20질량부· Multifunctional acrylate (product name “M-510”, manufactured by Toa Kosei Corporation): 20 parts by mass

· 고굴절률 입자(지르코니아, 평균 1차 입자경 20nm, CIK 나노테크사제): 120질량부(고형분 100% 환산값)· High refractive index particles (zirconia, average primary particle diameter 20 nm, manufactured by CIK Nanotech): 120 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 270질량부· Methyl isobutyl ketone: 270 parts by mass

· 이소프로필알코올: 40질량부· Isopropyl alcohol: 40 parts by mass

(가공 조건)(processing conditions)

70℃ 1분간 가열 후, 자외선을 산소 농도 100ppm 이하에서 적산 광량 60mJ/cm2이 되도록 조사하였다.After heating at 70°C for 1 minute, ultraviolet rays were irradiated to an integrated light amount of 60mJ/cm 2 at an oxygen concentration of 100ppm or less.

[실시예 14][Example 14]

반사 방지층(고굴절률)의 두께를, 190nm로 한 것 이외에는, 실시예 13과 마찬가지로 하여, 적층체를 얻었다.A laminate was obtained in the same manner as in Example 13, except that the thickness of the antireflection layer (high refractive index) was 190 nm.

[비교예 2][Comparative Example 2]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 두께를 3.0㎛로 한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), a laminate was produced in the same manner as in Example 4, except that the thickness was set to 3.0 μm.

[비교예 3][Comparative Example 3]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 두께를 2.5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), a laminate was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness was set to 2.5 μm.

[비교예 4][Comparative Example 4]

하드 코트층 B(기능층)의 형성에 있어서, 하기의 하드 코트층용 수지 조성물 9를 사용하고, 두께를 2.5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 적층체를 제작하였다.In forming the hard coat layer B (functional layer), the following resin composition 9 for hard coat layer was used, and a laminate was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness was set to 2.5 μm.

(하드 코트층용 수지 조성물 9의 조성)(Composition of resin composition 9 for hard coat layer)

· 우레탄 아크릴레이트(제품명 「8UX-141A」, 다이세이 파인케미컬사제): 100질량부(고형분 100% 환산값)· Urethane acrylate (product name “8UX-141A”, manufactured by Taisei Fine Chemicals): 100 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부· Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name “Omnirad184”, manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass

· 방오제(제품명 「DAC-HP」, 다이킨사제): 0.5질량부(고형분 100% 환산값)· Antifouling agent (product name “DAC-HP”, manufactured by Daikin): 0.5 parts by mass (value converted to 100% solid content)

· 대전 방지제(제품명 「빔 세트 MT-2」, 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 10질량부(고형분 100% 환산값)· Antistatic agent (product name “Beam Set MT-2”, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 10 parts by mass (converted to 100% solid content)

· 메틸이소부틸케톤: 250질량부· Methyl isobutyl ketone: 250 parts by mass

[비교예 5][Comparative Example 5]

기능층의 두께를, 10.3㎛로 한 것 이외에는, 실시예 9와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작하였다.A laminate was produced in the same manner as in Example 9, except that the thickness of the functional layer was 10.3 μm.

[평가][evaluation]

(1) 지우개 시험 후의 전하량(1) Charge amount after eraser test

실시예 및 비교예의 적층체의 기능층 측의 면에 대하여, 하기의 지우개 시험을 행하여, 지우개 시험 후의 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량을 측정하였다.The following eraser test was performed on the surface on the functional layer side of the laminates of Examples and Comparative Examples, and the amount of charge on the functional layer side surface of the laminate after the eraser test was measured.

먼저, 시험대인 유리판에, 23±5℃, 40±10% RH에서, 이오나이저를 1분간 대어 제전하였다. 또한, 20mm×80mm의 크기의 적층체를 준비하고, 적층체의 양면에, 23±5℃, 40±10% RH에서, 이오나이저를 30초간 이상 60초간 이하 대어 제전하였다.First, an ionizer was applied to a glass plate as a test stand at 23 ± 5°C and 40 ± 10% RH for 1 minute to eliminate static electricity. Additionally, a laminate of 20 mm

다음으로, 상기 적층체의 단부를 유리판 상에 셀로판 테이프로 고정하여, 상기 적층체의 기능층 측의 면에 대하여 지우개 시험을 행하였다. 구체적으로는, minoan제의 직경 6mm의 지우개를 사용하여, 직경 6mm의 구멍을 갖는 지그에 지우개의 선단이 4mm 노출되도록 삽입하고, 이 지우개 부착 지그를 학진형 마찰 견뢰도 시험기(제품명 「AB-301」, 테스터 산교사제)에 설치하여, 온도 23±5℃, 습도 40±10% RH에서, 하중 9.8N, 이동 속도 80mm/초 및 이동 거리 40mm로 지우개에 의해 상기 적층체의 기능층 측의 면을 2500왕복 문질렀다.Next, the end of the laminate was fixed on a glass plate with cellophane tape, and an eraser test was performed on the surface of the laminate on the functional layer side. Specifically, using an eraser with a diameter of 6 mm made by Minoan, insert it into a jig with a hole of 6 mm in diameter so that the tip of the eraser is exposed by 4 mm, and this jig with an eraser is run on a Gakjin type friction fastness tester (product name “AB-301”) , Tester (manufactured by Sangyo), the surface of the functional layer side of the laminate was erased with an eraser at a temperature of 23 ± 5°C and a humidity of 40 ± 10% RH, with a load of 9.8 N, a moving speed of 80 mm/sec, and a moving distance of 40 mm. 2500 rounds of rubbing.

이어서, 지우개 시험 후의 적층체를 패러데이 게이지에 세트하여, 전하량을 측정하였다. 이때, 절연성 및 비자성의 핀셋을 사용하여, 지우개 시험 후의 적층체를 들어 올렸다. 또한, 지우개 시험 후의 적층체를 들어 올린 후에는, 다른 고정면에 접촉시키지 않고, 전하량을 측정하였다. 패러데이 게이지로서는, 가스가 덴키사제의 패러데이 케이지 「KQ-1400」을 사용하였다. 또한, 이오나이저로서는, 가스가 덴키사제의 팬타입 이오나이저 「KD-750B」를 사용하였다. 또한, 핀셋으로서는, 케니스사제의 ESD(정전 대책) 핀셋 「P-643-S」를 사용하였다.Next, the laminate after the eraser test was set to a Faraday gauge, and the amount of electric charge was measured. At this time, the laminate after the eraser test was lifted using insulating and non-magnetic tweezers. In addition, after lifting the laminate after the eraser test, the amount of electric charge was measured without touching it to another fixed surface. As a Faraday gauge, a Faraday cage “KQ-1400” manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd. was used. Additionally, as the ionizer, a fan-type ionizer “KD-750B” manufactured by Gasga Denki Co., Ltd. was used. Additionally, as tweezers, ESD (electrostatic protection) tweezers “P-643-S” manufactured by Kenneth Co. were used.

(2) 지우개 시험 전후의 마찰력(2) Friction force before and after eraser test

실시예 및 비교예의 적층체의 기능층 측의 면에 대하여, 상기의 지우개 시험을 행하여, 지우개 시험 전후의 적층체의 기능층 측의 면에서의, 지우개에 대한 마찰력을 측정하였다.The above-described eraser test was performed on the surface on the functional layer side of the laminates of Examples and Comparative Examples, and the frictional force against the eraser on the functional layer side surface of the laminate before and after the eraser test was measured.

지우개에 대한 마찰력의 측정에 있어서는, minoan제의 직경 6mm의 지우개를 사용하여, 직경 6mm의 구멍을 갖는 지그에 지우개의 선단이 4mm 노출되도록 삽입하고, 이 지우개 부착 지그를 연속 가중식 스크래치 강도 시험기(제품명 「TRIBOGEAR TYPE18」, 신토 가가쿠 가부시키가이샤제)에 설치하여, 온도 23±5℃, 습도 40±10% RH에서, 하중 1.96N 및 이동 속도 840mm/분으로, 지우개에 의해 상기 적층체의 기능층 측의 면을, 지우개 시험 미실시부, 지우개 시험 실시부, 및 지우개 시험 미실시부의 순으로 문질러, 마찰력을 측정하였다. 그때, 도 2에 나타내는 바와 같이, 지우개를, 화살표로 나타내는 바와 같이, 직사각 형상의 지우개 시험 실시부(32)의 길이 방향에 대하여 수직으로 이동시켰다.In measuring the frictional force against an eraser, an eraser with a diameter of 6 mm made by Minoan is used and inserted into a jig with a hole of 6 mm in diameter so that the tip of the eraser is exposed by 4 mm, and this jig with an eraser is used in a continuous weighted scratch strength tester ( Product name “TRIBOGEAR TYPE18”, manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.), at a temperature of 23 ± 5°C and a humidity of 40 ± 10% RH, with a load of 1.96 N and a moving speed of 840 mm/min, the laminate was erased with an eraser. The surface on the functional layer side was rubbed in the order of the part where the eraser test was not performed, the part where the eraser test was performed, and the part where the eraser test was not performed, and the friction force was measured. At that time, as shown in FIG. 2, the eraser was moved perpendicularly to the longitudinal direction of the rectangular eraser test implementation section 32, as indicated by the arrow.

그리고, 지우개 시험 실시부에서의 지우개에 대한 마찰력에 대해서는, 마찰력의 최댓값을 구하였다. 또한, 지우개 시험 미실시부에서의 지우개에 대한 마찰력에 대해서는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 지우개 시험 실시부(32)의 지우개에 대한 마찰력이 최댓값이 되는 점을 0mm로 했을 때, 지우개 시험 미실시부(31)에 있어서, 상기의 점(0mm)을 기준으로 하여 4.2mm 내지 9.8mm의 범위에서의 마찰력의 평균값을 구하였다.And, regarding the frictional force against the eraser in the eraser test implementation section, the maximum value of the frictional force was obtained. In addition, regarding the frictional force against the eraser in the section where the eraser test was not performed, as shown in FIG. 2, when the point at which the frictional force against the eraser of the eraser test section 32 is the maximum value is set to 0 mm, the area where the eraser test was not performed ( In 31), the average value of friction force in the range of 4.2 mm to 9.8 mm was obtained based on the above point (0 mm).

또한, 지우개 시험 전후의 마찰력의 비율은, 상기 적층체의 기능층 측의 면에 있어서, 지우개 시험 미실시부의 마찰력의 평균값을 A, 지우개 시험 실시부의 마찰력의 최댓값을 B라 했을 때, 하기 식에 의해 산출하였다.In addition, the ratio of the friction force before and after the eraser test is obtained by the following equation, assuming that the average value of the friction force in the area where the eraser test was not performed is A and the maximum value of the friction force in the eraser test performed section is B on the surface on the functional layer side of the above-described laminate. Calculated.

마찰력의 비율=B/ARatio of friction force = B/A

(3) 지우개 시험 전후의 미끄럼성(3) Slipperiness before and after eraser test

실시예 및 비교예의 적층체의 기능층 측의 면에 대하여, 상기의 지우개 시험을 행하여, 지우개 시험 전후의 적층체의 기능층 측의 면에서의 미끄럼성을 평가하였다. 구체적으로는, 손가락 끝으로 상기 적층체의 기능층 측의 면을, 지우개 시험 미실시부, 지우개 시험 실시부, 및 지우개 시험 미실시부의 순으로, 온도 23±5℃, 습도 40±10% RH에서, 이동 속도 10cm/초로 문지르고, 그때의 지우개 시험 실시부에서의 미끄럼성에 대하여 하기 기준으로 평가하였다.The above-described eraser test was performed on the surface on the functional layer side of the laminates of Examples and Comparative Examples, and the slipperiness of the functional layer side surface of the laminate before and after the eraser test was evaluated. Specifically, the surface on the functional layer side of the above-mentioned laminate with a fingertip is touched in the order of the eraser test not performed area, the eraser test performed area, and the eraser test not performed area at a temperature of 23 ± 5°C and a humidity of 40 ± 10% RH. It was rubbed at a moving speed of 10 cm/sec, and the slipperiness in the eraser test section at that time was evaluated based on the following criteria.

A: 10명 중 7명 이상이 걸림을 느끼지 않았음A: More than 7 out of 10 people did not feel stuck.

B: 10명 중 5명 또는 6명이 걸림을 느끼지 않았음B: 5 or 6 out of 10 people did not feel stuck

C: 10명 중 6명 또는 7명이 걸림을 느꼈음C: 6 or 7 out of 10 people felt stuck

D: 10명 중 8명 이상이 걸림을 느꼈음D: More than 8 out of 10 people felt stuck

(4) 스틸 울 시험(4) Steel wool test

먼저, 4cm×10cm의 크기의 적층체 기재층 측의 면에, PET 기재의 편면에 점착층을 갖는 보호 필름(PET 기재의 두께: 100㎛ 이상 125㎛ 이하, 점착층의 두께: 10㎛ 이상 25㎛ 이하)을 접합한 후, 테스터 산교사제의 학진형 마찰 견뢰도 시험기 AB-301의 시험대에, 상기 적층체의 단부를 셀로판 테이프로 고정하였다. 다음으로, #0000의 스틸 울(닛폰 스틸 울사제의 본스타 #0000)을 사용하여, 스틸 울을 2cm×2cm의 지그에 고정하여, 온도 23±5℃, 습도 40±10% RH에서, 하중: 9.8N, 왕복 속도: 40rpm, 왕복 거리: 40mm, 스틸 울의 설치 면적: 4cm2의 조건에서, 표시 장치용 적층체의 기능층 측의 면을 2500왕복 문질렀다. 그리고, 흠집의 유무를 투과 및 반사로 확인하였다.First, a protective film having an adhesive layer on one side of the PET substrate was placed on the side of the laminate substrate layer with a size of 4 cm ㎛ or less), the ends of the laminate were fixed with cellophane tape to the test table of Gakjin-type friction fastness tester AB-301 manufactured by Tester Sangyo. Next, using #0000 steel wool (Bornstar #0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), the steel wool was fixed to a 2 cm : 9.8 N, reciprocating speed: 40 rpm, reciprocating distance: 40 mm, installation area of steel wool: 4 cm 2 , the surface of the functional layer side of the display device laminate was rubbed 2500 reciprocations. Then, the presence or absence of scratches was confirmed through transmission and reflection.

[표 1][Table 1]

Figure pct00004
Figure pct00004

(5) 지우개 시험 전후의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비(5) Ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements before and after the eraser test

실시예 1 및 비교예 1의 적층체의 기능층 측의 면에 대하여, 상기의 지우개 시험을 행하여, X선 광전자 분광법(XPS)에 의해, 지우개 시험 전후의 적층체의 기능층 측의 면 및 지우개 시험 전후의 지우개의 면의 조성 분석을 하였다. 먼저, X선 광전자 분광계(Kratos사제의 AXIS-NOVA)를 사용하여, 하기의 조건에서, 시료면으로부터 깊이 방향으로 X선을 조사하여, C, O, F, N, Si, Ca, Cl을 분석 대상 원소로 하여 X선 광전자 스펙트럼을 측정하였다.The eraser test described above was performed on the surface on the functional layer side of the laminate of Example 1 and Comparative Example 1, and the eraser and the functional layer side of the laminate before and after the eraser test were measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The composition of the surface of the eraser before and after the test was analyzed. First, using an The X-ray photoelectron spectrum was measured using the target element.

얻어진 스펙트럼으로부터, Shirley법으로 결정한 백그라운드를 차감하고, 피크의 면적으로부터 상대 감도 계수법을 사용하여, 시료면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 각 원소의 원자수의 비(탄소 원자, 산소 원자, 불소 원자, 질소 원자, 규소 원자, 칼슘 원자 및 염소 원자의 총 원자수를 100at%라 했을 때의 각 원자의 원자수 비율(at%))을 구하였다. 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다.From the obtained spectrum, the background determined by the Shirley method was subtracted, and the ratio of the number of atoms of each element (carbon atom, oxygen atom, fluorine) to the total number of atoms of all elements on the sample surface was calculated from the area of the peak using the relative sensitivity coefficient method. The atomic number ratio (at%) of each atom when the total number of atoms, nitrogen atom, silicon atom, calcium atom, and chlorine atom is 100 at%, was determined. The results are shown in Tables 2 and 3.

(측정 조건)(Measuring conditions)

· 입사 X선: Monochromated Al-Kα선(단색화 X선, Hv=1486.6eV)· Incident X-ray: Monochromated Al-Kα ray (monochromatized X-ray, Hv=1486.6eV)

· X선 조사 영역(측정 면적): 110㎛φ· X-ray irradiation area (measurement area): 110㎛ϕ

· X선 출력: 150W(15kV·6.7mA)· X-ray output: 150W (15kV·6.7mA)

· 광전자 도입 각도: 90°±15°(시료 법선을 0°로 함)· Photoelectron introduction angle: 90°±15° (sample normal is 0°)

· 대전 중화 조건: 전자 중화총(+6V, 0.05mA), 저가속 Ar+ 이온 조사· Charge neutralization conditions: electron neutralizing gun (+6V, 0.05mA), low-acceleration Ar + ion irradiation

· 측정 피크: C1s, O1s, F1s, N1s, Si2p, Ca2p, Cl2p· Measured peaks: C1s, O1s, F1s, N1s, Si2p, Ca2p, Cl2p

[표 2][Table 2]

Figure pct00005
Figure pct00005

[표 3][Table 3]

Figure pct00006
Figure pct00006

표 2 내지 3으로부터, 지우개 시험 후에, 적층체의 기능층 측의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비가 감소하고, 지우개의 면에서의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비가 증가해 있기 때문에, 적층체의 기능층 측의 면을 지우개로 문지름으로써, 기능층에 포함되는 불소 원자가 지우개에 부착되는 것이 확인되었다. 이것은, 적층체의 기능층 측의 면을 지우개로 문지름으로써 기능층의 표면이 마이너스로 대전되고, 그 영향으로 지우개의 접촉면이 플러스로 대전되고, 그 결과, 정전기력이 커져 인력이 커짐으로써, 음성이 강한 불소가, 기능층의 표면으로부터 탈리되어, 지우개의 표면에 부착되는 것으로 생각된다.From Tables 2 to 3, after the eraser test, the ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements on the side of the functional layer side of the laminate decreases, and the ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements on the side of the eraser decreases. Since the ratio of the number of fluorine atoms increased, it was confirmed that the fluorine atoms contained in the functional layer adhered to the eraser by rubbing the surface on the functional layer side of the laminate with an eraser. This means that by rubbing the surface of the functional layer side of the laminate with an eraser, the surface of the functional layer becomes negatively charged, and as a result, the contact surface of the eraser becomes positively charged. As a result, the electrostatic force increases and the attractive force increases, resulting in negative sound. It is thought that strong fluorine detaches from the surface of the functional layer and adheres to the surface of the eraser.

또한, 표 1로부터, 지우개 시험 후의 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 범위일 경우에는, 지우개 시험 전후의 미끄럼성의 변화가 적어, 내마모성이 우수한 것이 확인되었다. 이것은, 지우개 시험 후의 적층체의 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 소정의 범위임으로써, 기능층의 표면으로부터의 불소의 탈리를 억제할 수 있고, 그 결과, 우수한 내마모성을 얻을 수 있는 것으로 생각된다.Additionally, from Table 1, it was confirmed that when the absolute value of the charge on the functional layer side of the laminate after the eraser test was within a predetermined range, there was little change in slipperiness before and after the eraser test, and the wear resistance was excellent. This means that when the absolute value of the amount of charge on the surface of the functional layer side of the laminate after the eraser test is within a predetermined range, desorption of fluorine from the surface of the functional layer can be suppressed, and as a result, excellent wear resistance can be obtained. I think so.

즉, 본 개시에 있어서는, 이하의 발명을 제공할 수 있다.That is, in this disclosure, the following invention can be provided.

[1] 기재층과, 불소를 함유하는 기능층을 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 10.0nC 이하인, 표시 장치용 적층체.[1] A laminate for a display device having a base layer and a functional layer containing fluorine, wherein a load of 9.8 N is applied to the surface of the display device laminate on the side of the functional layer using an eraser with a diameter of 6 mm to 2500 A laminate for a display device, wherein the absolute value of the amount of charge on the surface on the functional layer side of the laminate for a display device after performing a reciprocating rubbing eraser test is 10.0 nC or less.

[2] 초기의 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의, 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값에 대한, 상기 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값의 비율이, 1.7 이하인, [1]에 기재된 표시 장치용 적층체.[2] The ratio of the maximum value of the frictional force against the eraser after the eraser test to the average value of the initial frictional force against the eraser on the surface of the functional layer side of the laminate for the display device is 1.7 or less, [ The laminate for a display device according to [1].

[3] X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 초기의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비에 대한, 상기 지우개 시험 후의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비의 비율이, 0.4 이상인, [1] 또는 [2]에 기재된 표시 장치용 적층체.[3] The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of all elements on the surface on the functional layer side initially, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy, the total surface on the functional layer side after the eraser test. The laminate for a display device according to [1] or [2], wherein the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms of the element is 0.4 or more.

[4] 상기 기능층이 대전 방지제를 함유하는, [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.[4] The laminate for a display device according to any one of [1] to [3], wherein the functional layer contains an antistatic agent.

[5] 상기 대전 방지제가 도전성 고분자인, [4]에 기재된 표시 장치용 적층체.[5] The laminate for a display device according to [4], wherein the antistatic agent is a conductive polymer.

[6] 상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측, 혹은 상기 기재층 및 상기 기능층 사이에, 충격 흡수층을 갖는, [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.[6] The laminate for a display device according to any one of [1] to [5], which has an impact absorption layer on the side of the base layer opposite to the functional layer or between the base layer and the functional layer.

[7] 상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측에 첩부용 점착층을 갖는, [1] 내지 [6] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.[7] The laminate for a display device according to any one of [1] to [6], which has an adhesive layer for sticking on a side of the base layer opposite to the functional layer.

[8] 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 최표면과, 대전 방지제를 함유하는 층의 거리가, 10㎛ 이하인, [1] 내지 [7] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.[8] The display device laminate according to any one of [1] to [7], wherein the distance between the outermost surface on the functional layer side of the display device laminate and the layer containing the antistatic agent is 10 μm or less.

[9] 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 최표면에 반사 방지층이 배치되어 있는, [1] 내지 [8] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.[9] The laminate for a display device according to any one of [1] to [8], wherein an anti-reflection layer is disposed on the outermost surface of the laminate for a display device on the functional layer side.

[10] 표시 패널과, 상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, [1] 내지 [9] 중 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체를 구비하는, 표시 장치.[10] A display device comprising a display panel and the display device laminate according to any one of [1] to [9] disposed on an observer side of the display panel.

1: 표시 장치용 적층체
2: 기재층
3: 기능층
4: 하드 코트층
5: 충격 흡수층
6: 첩부용 접착층
7: 층간 접착층
20: 플렉시블 표시 장치
21: 표시 패널
1: Laminate for display device
2: Base layer
3: Functional layer
4: Hard coat layer
5: Shock absorbing layer
6: Adhesive layer for sticking
7: Interlayer adhesive layer
20: Flexible display device
21: display panel

Claims (10)

기재층과, 불소를 함유하는 기능층을 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면을 직경 6mm의 지우개를 사용하여 9.8N의 하중을 가하여 2500왕복 문지르는 지우개 시험을 행한 후의, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의 전하량의 절댓값이 10.0nC 이하인, 표시 장치용 적층체.
A laminate for a display device having a base layer and a functional layer containing fluorine,
After performing an eraser test by applying a load of 9.8 N using an eraser with a diameter of 6 mm and rubbing the surface on the functional layer side of the display device laminate for 2500 reciprocations, on the functional layer side surface of the display device laminate A laminate for a display device whose absolute value of charge is 10.0 nC or less.
제1항에 있어서,
초기의 상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 면에서의, 초기의 지우개에 대한 마찰력의 평균값에 대한, 상기 지우개 시험 후의 지우개에 대한 마찰력의 최댓값의 비율이, 1.7 이하인, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, wherein the ratio of the maximum value of the frictional force against the eraser after the eraser test to the average value of the initial frictional force against the eraser on the surface of the functional layer side of the laminate for a display device at the initial stage is 1.7 or less. sifter.
제1항에 있어서,
X선 광전자 분광법에 의해 측정되는, 초기의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비에 대한, 상기 지우개 시험 후의 상기 기능층 측의 면의 전체 원소의 총 원자수에 대한 불소의 원자수의 비의 비율이, 0.4 이상인, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
The total number of elements in the surface of the functional layer side after the eraser test relative to the ratio of the number of atoms of fluorine to the total number of atoms of all elements in the surface of the functional layer side initially, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy. A laminate for a display device, wherein the ratio of the number of fluorine atoms to the number of atoms is 0.4 or more.
제1항에 있어서,
상기 기능층이 대전 방지제를 함유하는, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, wherein the functional layer contains an antistatic agent.
제4항에 있어서,
상기 대전 방지제가 도전성 고분자인, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 4,
A laminate for a display device, wherein the antistatic agent is a conductive polymer.
제1항에 있어서,
상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측, 혹은 상기 기재층 및 상기 기능층 사이에, 충격 흡수층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, which has an impact absorption layer on the side of the base layer opposite to the functional layer or between the base layer and the functional layer.
제1항에 있어서,
상기 기재층의 상기 기능층과는 반대의 면 측에 첩부용 점착층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, which has an adhesive layer for sticking on a side of the base layer opposite to the functional layer.
제1항에 있어서,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 최표면과, 대전 방지제를 함유하는 층의 거리가, 10㎛ 이하인, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, wherein the distance between the outermost surface on the functional layer side of the display device laminate and the layer containing an antistatic agent is 10 μm or less.
제1항에 있어서,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 기능층 측의 최표면에 반사 방지층이 배치되어 있는, 표시 장치용 적층체.
According to paragraph 1,
A laminate for a display device, wherein an anti-reflection layer is disposed on the outermost surface of the laminate for a display device on the functional layer side.
표시 패널과,
상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 표시 장치용 적층체를
구비하는, 표시 장치.
a display panel,
The laminate for a display device according to any one of claims 1 to 9, which is disposed on the observer side of the display panel.
Equipped with a display device.
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