JP2011102881A - Anti-glare film, method of manufacturing the same, and display device - Google Patents

Anti-glare film, method of manufacturing the same, and display device Download PDF

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勉 長浜
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-glare film capable of suppressing gloss reflection, and also, achieving high contrast. <P>SOLUTION: The anti-glare film includes: a base material having an uneven surface; and a hard coat layer formed on the uneven surface of the base material. The hard coat layer has an uneven pattern imitating the uneven surface of the base material, on the surface thereof. In the range of the tilt angle of 1.5 to 3.5°, the tilt angle distribution of the uneven surface of the hard coat layer becomes one-tenth of the tilt angle distribution in the tilt angle of 0°. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置に関する。詳しくは、基材上にハードコート層を備える防眩性フィルムに関する。   The present invention relates to an antiglare film, a method for producing the same, and a display device. Specifically, the present invention relates to an antiglare film having a hard coat layer on a substrate.

従来、画像表示装置の映り込みを低減するため、表示装置前面にはAG(Anti-Glare)などの表面処理が行われている。AG処理は、表示装置などの表面に凹凸を形成し、光の散乱により、外光の映り込みを低減させるものである。AG処理の凹凸は、微粒子を含有する樹脂組成物を基材上にコーティングし、微粒子をコーティング膜の表面から突出させることにより形成される。しかし、微粒子をコーティング膜から突出させ、急峻な角度成を有する突起により表面を形成するため、散乱反射が強く、外光環境下において表示装置のコントラストの低下を招いてしまう。   Conventionally, surface treatment such as AG (Anti-Glare) has been performed on the front surface of the display device in order to reduce the reflection of the image display device. In the AG treatment, irregularities are formed on the surface of a display device or the like, and reflection of external light is reduced by light scattering. The unevenness of the AG treatment is formed by coating a resin composition containing fine particles on a substrate and projecting the fine particles from the surface of the coating film. However, since fine particles protrude from the coating film and the surface is formed by protrusions having a steep angle, scattering reflection is strong, and the contrast of the display device is lowered in an external light environment.

そこで、近年のAG処理では、外光環境下においても表示装置のコントラストの低下を抑制することができる、いわゆる高コントラストのAG処理が検討されている。このような高コントラストのAG処理としては、対流などの自然現象を利用して、うねりにより緩やかな表面粗さを形成し、急峻な角度を有する突起を低減するものが検討されている(例えば特許文献1参照)。   Therefore, in recent AG processing, so-called high-contrast AG processing, which can suppress a decrease in contrast of the display device even under an external light environment, has been studied. As such high-contrast AG processing, a method is considered in which a natural surface phenomenon such as convection is used to form a gradual surface roughness by waviness and reduce projections having steep angles (for example, patents). Reference 1).

特許第4155336号公報Japanese Patent No. 4155336

しかしながら、急峻な角度成分を低減すると、反射光は正反射近傍に集まるために、光沢反射が強くなる傾向がある(図1参照)。このように光沢反射が強くなると、外光下で写り込みが強く感じられることがある。例えば、白い壁や外光が入射する窓などに囲われている部屋では、拡散反射低減より光沢反射の影響が強いため、高コントラストAGを施した表示装置の表面では、従来のAGを施したものよりも逆に映り込みを強く感じられる。   However, when the steep angle component is reduced, the reflected light tends to be gathered in the vicinity of regular reflection, so that gloss reflection tends to be strong (see FIG. 1). When gloss reflection becomes strong in this way, reflection may be felt strongly under external light. For example, in a room surrounded by a white wall or a window where external light is incident, the effect of gloss reflection is stronger than the reduction of diffuse reflection, so the surface of a display device with high contrast AG is subjected to conventional AG. On the contrary, you can feel the reflection more strongly than the thing.

したがって、本発明の目的は、光沢反射を抑制することができ、かつ、高コントラストを得ることができる防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an antiglare film that can suppress glossy reflection and obtain high contrast, a method for producing the same, and a display device.

上述の課題を解決するために、第1の発明は、
凹凸面を有する基材と、
基材の凹凸面上に形成されたハードコート層と
を備え、
ハードコート層は、基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、
ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる防眩性フィルムである。
In order to solve the above-mentioned problem, the first invention
A substrate having an uneven surface;
A hard coat layer formed on the uneven surface of the substrate,
The hard coat layer has an uneven shape on the surface following the uneven surface of the substrate,
The inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is an antiglare film that is 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the range of the inclination angle of 1.5 ° to 3.5 °. .

第2の発明は、
無機酸化物フィラーと粘度調整剤とを含んでいる電離放射線硬化型樹脂を、基材の凹凸面上に塗布する工程と、
塗布した電離放射線硬化型樹脂を乾燥する工程と、
乾燥した電離放射線硬化型樹脂を硬化し、基材上にハードコート層を形成する工程と
を備え、
乾燥の工程では、無機酸化物フィラーの表面と粘度調整剤とが結合を形成することにより、電離放射線硬化型樹脂の粘度が上昇し、粘度が上昇した電離放射線硬化型樹脂が基材の凹凸面に追随し、
ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる防眩性フィルムの製造方法である。
The second invention is
Applying an ionizing radiation curable resin containing an inorganic oxide filler and a viscosity modifier on the uneven surface of the substrate;
Drying the applied ionizing radiation curable resin;
Curing the dried ionizing radiation curable resin and forming a hard coat layer on the substrate,
In the drying process, the surface of the inorganic oxide filler and the viscosity modifier form a bond, thereby increasing the viscosity of the ionizing radiation curable resin, and the increased ionizing radiation curable resin is the uneven surface of the substrate. Follow
Production of an antiglare film in which the inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the inclination angle range of 1.5 ° to 3.5 °. Is the method.

本発明では、ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布を、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10としている。これにより、正反射強度を低減し、光沢反射を抑制することができる。また、散乱反射による白濁感を抑制し、高コントラストを得ることができる。   In the present invention, the inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is set to 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the inclination angle range of 1.5 ° to 3.5 °. Thereby, regular reflection intensity can be reduced and gloss reflection can be suppressed. Further, it is possible to suppress the cloudiness due to scattering reflection and obtain a high contrast.

以上説明したように、本発明によれば、光沢反射を抑制することができ、かつ、高コントラストを得ることができる。   As described above, according to the present invention, gloss reflection can be suppressed and high contrast can be obtained.

図1は、従来の防眩性フィルムの拡散反射特性を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the diffuse reflection characteristics of a conventional antiglare film. 図2は、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの一構成例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of the antiglare film according to the first embodiment of the present invention. 図3は、基材の凹凸面の形状の一例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing an example of the shape of the uneven surface of the substrate. 図4は、構造体の最小距離Rmおよび最大距離RMの好ましい範囲を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a preferable range of the minimum distance R m and the maximum distance R M of the structure. 図5は、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するためのフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart for explaining an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention. 図6A〜図6Cは、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための工程図である。6A to 6C are process diagrams for explaining an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention. 図7A〜図7Dは、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための工程図である。7A to 7D are process diagrams for explaining an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention. 図8A〜図8Cは、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明するための工程図である。8A to 8C are process diagrams for explaining an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置の一構成を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing one configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. 図10は、実施例1のTACフィルムおよびハードコート層の表面形状の測定結果を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the measurement results of the surface shapes of the TAC film and hard coat layer of Example 1. 図11A、図11Bは、実施例1、3、および比較例1〜3の防眩性フィルムの拡散反射特性を示すグラフである。11A and 11B are graphs showing the diffuse reflection characteristics of the antiglare films of Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1 to 3. FIG. 図12は、実施例1〜3、および比較例1〜3の防眩性フィルムの強度比を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing strength ratios of the antiglare films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. 図13A〜図13Cは、実施例1、比較例2、および比較例4の防眩性フィルムの自己相関関数の算出結果を示す図である。13A to 13C are diagrams illustrating calculation results of autocorrelation functions of the antiglare films of Example 1, Comparative Example 2, and Comparative Example 4. FIG. 図14A、図14Bは、実施例1および比較例3の下地形状となるフィルム表面の観察結果を示す図である。FIG. 14A and FIG. 14B are diagrams showing the observation results of the film surfaces that are the base shapes of Example 1 and Comparative Example 3. FIG. 図15は、実施例1、比較例3の基材凹凸面の傾斜角度の累積頻度分布を示すグラフである。FIG. 15 is a graph showing the cumulative frequency distribution of the inclination angle of the substrate uneven surface of Example 1 and Comparative Example 3. 図16は、実施例1、比較例3の基材凹凸面の傾斜角度の規格化頻度を示すグラフである。FIG. 16 is a graph showing the standardization frequency of the inclination angle of the uneven surface of the base material of Example 1 and Comparative Example 3. 図17は、実施例1〜3のハードコート層凹凸面の傾斜角度の規格化頻度を示すグラフである。FIG. 17 is a graph showing the normalized frequency of the inclination angle of the hard coat layer uneven surface of Examples 1 to 3. 図18は、比較例1〜3のハードコート層凹凸面の傾斜角度の規格化頻度を示すグラフである。FIG. 18 is a graph showing the normalized frequency of the inclination angle of the hard coat layer uneven surface of Comparative Examples 1-3.

本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
1.第1の実施形態(防眩性フィルムの例)
2.第2の実施形態(表示装置の表面に防眩性フィルムを適用した例)
Embodiments of the present invention will be described in the following order with reference to the drawings.
1. First embodiment (example of anti-glare film)
2. Second Embodiment (Example in which an antiglare film is applied to the surface of a display device)

<1.第1の実施形態>
[1.1.反射防止フィルムの構成]
図2は、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの一構成例を示す断面図である。この防眩性フィルムは、表面に凹凸形状を有し、この凹凸形状により反射光を散乱させる光学フィルムである。図2に示すように、防眩性フィルム1は、凹凸面を有する基材11と、この基材11の凹凸面上に形成されたハードコート層12とを備える。基材11の凹凸面は、凹部または凸部である構造体11aを基材11表面に繰り返し形成することにより構成されている。なお、図2では、構造体11aが凸部である例が示されている。
<1. First Embodiment>
[1.1. Structure of antireflection film]
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of the antiglare film according to the first embodiment of the present invention. This antiglare film is an optical film having a concavo-convex shape on the surface and scattering reflected light by the concavo-convex shape. As shown in FIG. 2, the antiglare film 1 includes a base material 11 having an uneven surface and a hard coat layer 12 formed on the uneven surface of the base material 11. The concavo-convex surface of the base material 11 is configured by repeatedly forming a structure 11 a which is a concave portion or a convex portion on the surface of the base material 11. In FIG. 2, an example in which the structure 11a is a convex portion is shown.

全光線透過率は92%以上であることが好ましい。92%以上であると、基材11の透過性を劣化させることなく、バックライトからの光量を保てるからである。へイズは1.5%以下であることが好ましい。1.5%以下であると、バックライト光の散乱、および表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。内部へイズは、0.5%以下であることが好ましい。0.5%以下であると、バックライト光の散乱を抑制でき、より自然に近い色として色を視認できるからである。なお、ヘイズは、表面ヘイズと内部ヘイズとを加算したものである。   The total light transmittance is preferably 92% or more. This is because if it is 92% or more, the amount of light from the backlight can be maintained without deteriorating the transparency of the substrate 11. The haze is preferably 1.5% or less. This is because if it is 1.5% or less, it is possible to suppress the scattering of the backlight light and the scattering of the surface reflected light, and black can be visually recognized as black. The internal haze is preferably 0.5% or less. This is because if it is 0.5% or less, scattering of backlight light can be suppressed, and the color can be visually recognized as a more natural color. The haze is a sum of surface haze and internal haze.

(基材)
図3は、基材11の凹凸面の形状の一例を示す平面図である。図3に示すように、この基材11の表面には、凹部または凸部である構造体11aが不規則に(ランダム)に形成されている。この構造体11は、2次元的または3次元的に不規則に形成されていることが好ましい。このような基材11の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層12の表面を2次元的または3次元的に不規則な凹凸形状とすることができるからである。また、構造体11aの底面の大きさは、不規則に変化することが好ましい。このような基材11の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層表面の凹凸形状(うねり)の周期を不規則に変化させることができるからである。ここで、2次元的に不規則とは、防眩性フィルム1または基材11の面内方向に、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。また、3次元的に不規則とは、防眩性フィルム1または基材11の面内方向に、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていると共に、防眩性フィルム1または基材11の厚さ方向にも、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。
(Base material)
FIG. 3 is a plan view showing an example of the shape of the uneven surface of the substrate 11. As shown in FIG. 3, structures 11 a that are concave portions or convex portions are irregularly (randomly) formed on the surface of the base material 11. This structure 11 is preferably formed irregularly in two dimensions or three dimensions. This is because the surface of the hard coat layer 12 can be irregularly irregularly formed two-dimensionally or three-dimensionally by forming the surface of the hardcoat layer that follows the uneven surface of the substrate 11. . Moreover, it is preferable that the size of the bottom surface of the structure 11a changes irregularly. This is because the period of the concavo-convex shape (swell) on the surface of the hard coat layer can be irregularly changed by forming such a hard coat layer surface that follows the concavo-convex surface of the substrate 11. Here, the two-dimensional irregularity means that the structures 11a or irregularities are irregularly formed in the in-plane direction of the antiglare film 1 or the substrate 11. The three-dimensional irregularity means that the structures 11a or irregularities are irregularly formed in the in-plane direction of the antiglare film 1 or the substrate 11, and the antiglare film 1 or the substrate 11 is irregular. In the thickness direction, the structure 11a or irregularities are irregularly formed.

構造体11aは、この構造体11aの上部から底部に向かって広がる側面を有していることが好ましい。このような形状を有する場合、隣り合う構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接することが好ましい。凹部または凸部である構造体11aの形状としては、例えば、ドーム状、錐体状または柱状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。ドーム状としては、例えば、半球状、半楕円球状を挙げることができる。錐体状としては、例えば、先端が尖った錐体状、先端に曲率を有する錐体状、先端が切り落とされた錐体状を挙げることができる。具体的には例えば、円錐状、円錐台状、楕円錐、楕円錐台状、多角錐状、多角錐台状などを挙げることができる。多角錐の形状としては、例えば、四角錐、六角錐、八角錐などの形状が挙げられる。柱状としては、例えば、円柱状、多角柱状などを挙げることができる。多角柱の形状としては、例えば、四角柱、六角柱、八角柱などの形状が挙げられる。また、構造体11aに形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えば基材11の面内方向のうち、直交する2方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には、形状異方性を有する構造体11aの形状としては、例えば、楕円柱状、半楕円球状、楕円錐台状、一方向に引き伸ばされた多角柱状または多角錐状などが挙げられる。   The structure 11a preferably has a side surface that extends from the top to the bottom of the structure 11a. When it has such a shape, it is preferable that the bottom surfaces of the adjacent structures 11a are in contact with each other or substantially in contact with each other. Examples of the shape of the structure 11a that is the concave portion or the convex portion include a dome shape, a cone shape, and a column shape. However, the shape is not limited to these shapes, and may be arbitrarily set according to desired optical characteristics. You can choose. Examples of the dome shape include a hemispherical shape and a semi-elliptical spherical shape. Examples of the cone shape include a cone shape with a sharp tip, a cone shape with a curvature at the tip, and a cone shape with the tip cut off. Specific examples include a cone shape, a truncated cone shape, an elliptical cone shape, an elliptical truncated cone shape, a polygonal pyramid shape, and a polygonal truncated cone shape. Examples of the shape of the polygonal pyramid include a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, and an octagonal pyramid. Examples of the columnar shape include a columnar shape and a polygonal columnar shape. Examples of the shape of the polygonal column include a quadrangular column, a hexagonal column, and an octagonal column. In addition, shape anisotropy may be imparted to the structure 11a. From the viewpoint of adjusting the optical characteristics in the horizontal direction and the vertical direction of the display device, for example, in two orthogonal directions among the in-plane directions of the substrate 11 It is preferable to impart shape anisotropy. Specifically, examples of the shape of the structure 11a having shape anisotropy include an elliptical columnar shape, a semi-elliptical spherical shape, an elliptical truncated cone shape, and a polygonal columnar shape or a polygonal pyramid shape extended in one direction.

構造体11aの底面の形状としては、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などを挙げることができる。この底面の多角形状としては、例えば、四角形状、六角形状、八角形状などが挙げられる。構造体11aの底面を楕円形状や多角形状にする場合には、構造体11aの底面形状が、例えば同一方向に揃うように構造体11aが基材表面に配置される。具体的には、構造体11aの底面を楕円形状にする場合には、その長軸方向または短軸方向が同一方向に揃うように配置される。構造体11aの底面を多角形状にする場合には、同一の角度を有する角が同一方向に揃うように配置される。構造体11aの底面の形状は、所望とする特性に応じて選択することが好ましい。例えば、構造体11aの底面の形状を楕円形状とした場合には、短軸方向に比して長軸方向がより滑らかな凹凸形状となるため、長軸方向からの外光の影響を受けにくくなり、表示画面などが白っぽくなることを抑制できる。また、短軸方向は、長軸方向に比して凹凸形状が荒れるため、良好な防眩性を確保することができる。すなわち、構造体11aの底面を楕円形状とした場合には、全体として高防眩性であり、かつ高コントラストな防眩性フィルム1を得ることができる。   Examples of the shape of the bottom surface of the structure 11a include a circular shape, an elliptical shape, and a polygonal shape. Examples of the polygonal shape of the bottom surface include a quadrangular shape, a hexagonal shape, and an octagonal shape. When the bottom surface of the structure 11a is an elliptical shape or a polygonal shape, the structure 11a is arranged on the substrate surface so that the bottom surface shape of the structure 11a is aligned in the same direction, for example. Specifically, when the bottom surface of the structure 11a is elliptical, the long axis direction or the short axis direction is aligned in the same direction. When the bottom surface of the structure 11a is polygonal, the corners having the same angle are arranged so as to be aligned in the same direction. The shape of the bottom surface of the structure 11a is preferably selected according to desired characteristics. For example, when the shape of the bottom surface of the structure 11a is an elliptical shape, the major axis direction is smoother as compared with the minor axis direction, so that it is less susceptible to external light from the major axis direction. Therefore, the display screen can be prevented from becoming whitish. In addition, since the concave and convex shape is rough in the short axis direction as compared with the long axis direction, it is possible to ensure good antiglare properties. That is, when the bottom surface of the structure 11a is elliptical, the antiglare film 1 having high antiglare property and high contrast as a whole can be obtained.

構造体11aが以下の(1)〜(3)の関係を満たすことが好ましい。モアレの発生を抑制でき、かつ、防眩性およびコントラストに優れた防眩性フィルム1を得ることができるからである。
(1)構造体11aの底面の大きさが、最小距離Rm以上、最大距離RM以下の範囲内でランダムに変化する。
(但し、最小距離Rm:構造体11aの底面の重心から、底面の周縁までの最短距離の最小値、最大距離RM:構造体11aの底面の重心から、底面の周縁までの最大距離の最大値)
(2)構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある。
(3)構造体11aの底面の最小距離Rmと最大距離RMは、Rm/RM≦0.9の関係を満たす。
(1)の関係を満たさず、構造体11aの底面の大きさがランダムに変化しない場合には、モアレが発生してしまう。(2)の関係を満たさず、構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にない場合には、充填率が低下し、防眩性が低下する。(3)の関係を満たさず、0.9を超えると配置が規則的になり、モアレが発生しやすくなる。ここで、構造体11aの底面同士がほぼ接するとは、構造体11aの底面同士が0μmより大きく80μm以下の範囲内で隣接していることを意味する。
It is preferable that the structure 11a satisfies the following relationships (1) to (3). It is because generation | occurrence | production of a moire can be suppressed and the anti-glare film 1 excellent in anti-glare property and contrast can be obtained.
(1) The size of bottoms of the structures 11a is, the minimum distance R m or more, randomly varying within a maximum distance R M or less.
(However, the minimum distance R m is the minimum value of the shortest distance from the center of gravity of the bottom surface of the structure 11a to the periphery of the bottom surface, and the maximum distance R M is the maximum distance from the center of gravity of the bottom surface of the structure 11a to the periphery of the bottom surface. Maximum value)
(2) The bottom surfaces of the structures 11a are in contact with or substantially in contact with each other.
(3) The minimum distance R m and the maximum distance R M of the bottom surface of the structure 11a satisfy the relationship of R m / R M ≦ 0.9.
If the relationship (1) is not satisfied and the size of the bottom surface of the structure 11a does not change at random, moire occurs. When the relationship (2) is not satisfied and the bottom surfaces of the structures 11a are not in contact with each other or are not substantially in contact with each other, the filling rate is reduced and the antiglare property is reduced. If the relationship of (3) is not satisfied and the ratio exceeds 0.9, the arrangement becomes regular and moire tends to occur. Here, that the bottom surfaces of the structures 11a are substantially in contact with each other means that the bottom surfaces of the structures 11a are adjacent to each other within a range of 0 μm to 80 μm.

図4は、構造体の最小距離Rmおよび最大距離RMの好ましい範囲を示す。図4に示すように、Rm/RM≦0.9の関係を満たすことが好ましい。また、構造体11aの最小距離Rmおよび最大距離RMは、好ましくはRm<RM≦75μm、より好ましくは10μm≦Rm<RM≦75μmの範囲内である。最小距離Rmが10μm未満になると、防眩性を得ようとすると白濁感が上昇し、白濁感を抑えようとすると防眩性が低下する。すなわち、防眩性と白濁感の抑制とを両立することが困難になる。最大距離RMが75μmを超えると、表面がざらついたり、画面を見たときにぎらついて見えたりする。 FIG. 4 shows a preferred range for the minimum distance R m and the maximum distance R M of the structure. As shown in FIG. 4, it is preferable to satisfy the relationship of R m / R M ≦ 0.9. The minimum distance R m and the maximum distance R M of the structure 11a are preferably in the range of R m <R M ≦ 75 μm, more preferably 10 μm ≦ R m <R M ≦ 75 μm. When the minimum distance R m is less than 10 μm, the anti-glare property increases when trying to obtain anti-glare property, and the anti-glare property decreases when trying to suppress the anti-cloudiness property. That is, it becomes difficult to achieve both antiglare properties and suppression of cloudiness. When the maximum distance R M exceeds 75 μm, the surface is rough, or when the screen is viewed, it is glaring.

最小距離Rmと最大距離RMがRm/RM≦0.9、10μm≦Rm<RM≦75μmの関係を満たす場合、ハードコート層12の表面の平均凹凸高さPVが、0.15μm≦PV≦1.6μmの範囲内であることが好ましい。PVが0.15μm未満になると、防眩性が得られなくなる傾向がある。PVが1.6μmを超えると、白濁感が上昇し、白濁度が0.64%を越える傾向がある。白濁度は、0.64%以下であることが好ましい。0.64%以下であると、バックライト光の散乱、および表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。PVは凸部(構造体11a)の最高点と(隣接する凸部間にできる)谷部の最低点の間の高さを示す。 Minimum distance if the R m and the maximum distance R M satisfy the relationship R m / R M ≦ 0.9,10μm ≦ R m <R M ≦ 75μm, the average irregularity height PV of the surface of the hard coat layer 12 is, 0 It is preferable that it is in the range of 15 μm ≦ PV ≦ 1.6 μm. When PV is less than 0.15 μm, antiglare properties tend not to be obtained. When PV exceeds 1.6 μm, the cloudiness increases and the cloudiness tends to exceed 0.64%. The turbidity is preferably 0.64% or less. This is because if it is 0.64% or less, the scattering of backlight light and the scattering of surface reflected light can be suppressed, and black can be visually recognized as black. PV indicates the height between the highest point of the convex portion (structure 11a) and the lowest point of the valley (formed between adjacent convex portions).

なお、構造体11aの底面が円形状である場合には、上述の各関係において、最小距離Rmは最小半径Rmであり、最大距離RMは最大半径RMである。また、構造体11aの底面が、楕円形状である場合には、最小距離Rmは短軸長さ(短径)の最小値Rmであり、最大距離RMは長軸長さ(長径)の最大値RMである。 When the bottom surface of the structure 11a is circular, the minimum distance R m is the minimum radius R m and the maximum distance R M is the maximum radius R M in each of the above relationships. Further, the bottom surface of the structures 11a, if it is elliptical, the minimum distance R m is the minimum value R m of the short axis (short diameter), the maximum distance R M is the long axis length (major axis) it is the maximum value R M of.

構造体11aの底面同士の間にできる隙間に、構造体11aをさらに配置することが好ましい。このような構造体11aをさらに配置することで、構造体11aの充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができるからである。隙間に配置される構造体11aの底面の重心から底面の周縁までの最短距離は、例えば、上述の構造体11aの最小距離Rm以下に設定される。構造体11aの高さは、底面の大きさと連動して、連続的に変化していることが好ましい。 It is preferable to further arrange the structure 11a in a gap formed between the bottom surfaces of the structure 11a. This is because by further disposing such structures 11a, the filling rate of the structures 11a can be increased, the flat portions can be reduced, and the antiglare property can be increased. The shortest distance from the center of gravity of the bottom of the structure 11a is disposed in the gap to the peripheral edge of the bottom, for example, it is set below the minimum distance R m of the structure 11a described above. It is preferable that the height of the structure 11a changes continuously in conjunction with the size of the bottom surface.

基材11は、例えば、透明性を有するプラスチック基材である。基材11の形状としては、例えば、透明性を有するフィルムなどを用いることができる。ここで、フィルムにはシートも含まれるものと定義する。基材11の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエステル(TPEE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、アラミド、ポリエチレン(PE)、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン(PP)、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。基材11の厚さは、生産性の観点から38〜100μmであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。   The substrate 11 is, for example, a plastic substrate having transparency. As the shape of the substrate 11, for example, a film having transparency can be used. Here, the film is defined to include a sheet. As a material of the base material 11, for example, a known polymer material can be used. Specific examples of known polymer materials include triacetyl cellulose (TAC), polyester (TPEE), polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyamide (PA), aramid, polyethylene (PE), poly Examples include acrylate, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene (PP), diacetyl cellulose, polyvinyl chloride, acrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), epoxy resin, urea resin, urethane resin, and melamine resin. The thickness of the substrate 11 is preferably 38 to 100 μm from the viewpoint of productivity, but is not particularly limited to this range.

(ハードコート層)
ハードコート層12は、基材11の表面、すなわち偏光子や表示装置などの表面に耐擦傷性と防眩性とを併せて付与するためのものであり、例えば、基材11より硬い高分子樹脂層である。ハードコート層12は、樹脂組成物を基材11の凹凸面上に塗布、乾燥、硬化して得られる。ハードコート層12は、基材11の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有している。この凹凸形状は、基材11の凹凸面に倣った連続的な波面であることが好ましい。凹凸形状は、2次元的または3次元的に不規則な凹凸形状であることが好ましい。モアレの発生を抑制することができるからである。ハードコート層12の凹部および凸部の位置はそれぞれ、基材11の凹部および凸部の位置と対応していることが好ましい。ハードコート層表面の凹凸量は、例えば基材表面の凹凸量より小さくなり、ハードコート層の塗布厚が厚いほど凹凸量が小さくなる傾向がある。任意の方向に切断したときのハードコート層断面が、連続波形状であることが好ましい。これにより、ハードコート層表面に滑らかなうねりを形成し、このうねりにより光を拡散することができる。ここで、連続的な波面とは、ハードコート層表面に不連続点や段差がなく滑らかにつながっており、具体的には、ハードコート層表面の任意の点において微分可能であることを示す。
(Hard coat layer)
The hard coat layer 12 is for imparting both the scratch resistance and the antiglare property to the surface of the substrate 11, that is, the surface of a polarizer or a display device. It is a resin layer. The hard coat layer 12 is obtained by applying, drying and curing the resin composition on the uneven surface of the substrate 11. The hard coat layer 12 has a concavo-convex shape following the concavo-convex surface of the substrate 11 on the surface. This uneven shape is preferably a continuous wavefront that follows the uneven surface of the substrate 11. The concavo-convex shape is preferably a two-dimensional or three-dimensional irregular concavo-convex shape. It is because generation | occurrence | production of a moire can be suppressed. The positions of the concave and convex portions of the hard coat layer 12 preferably correspond to the positions of the concave and convex portions of the base material 11, respectively. The amount of unevenness on the surface of the hard coat layer is, for example, smaller than the amount of unevenness on the surface of the substrate, and the amount of unevenness tends to decrease as the coating thickness of the hard coat layer increases. The cross section of the hard coat layer when cut in an arbitrary direction is preferably a continuous wave shape. Thereby, a smooth wave | undulation can be formed in the hard-coat layer surface, and light can be diffused by this wave | undulation. Here, the continuous wavefront means that the hard coat layer surface is smoothly connected without discontinuities and steps, and specifically, can be differentiated at any point on the hard coat layer surface.

ハードコート層12の凹凸面は、頂部から底部に向かって広がる側面を有する複数の突起を備える。このような側面を有する複数の突起を備えることで、防眩性フィルム1の凹凸面をなだらかなうねりにより形成することができる。すなわち、防眩性を損なうことなく、外光の散乱範囲を狭くすることができる。複数の突起のうち隣り合う突起の底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある。このような関係にあると、防眩性フィルム1の凹凸面における突起の充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。ここで、突起の底面同士がほぼ接するとは、突起の底面同士の距離が0μmより大きく80μm以下の範囲内で隣り合っていることを意味する。ハードコート層12の表面に形成された突出部の高さは、その底面の大きさと連動して連続的に変化していることが好ましい。このように突出部の高さが連続的に変化することで、分光現象をより抑制することができるからである。分光現象がある場合、遠くの蛍光灯を映し込んだとき、蛍光灯の周囲に虹模様が発生する。   The concavo-convex surface of the hard coat layer 12 includes a plurality of protrusions having side surfaces extending from the top portion toward the bottom portion. By providing a plurality of projections having such side surfaces, the uneven surface of the antiglare film 1 can be formed by gentle undulation. That is, the scattering range of external light can be narrowed without impairing the antiglare property. Among the plurality of protrusions, the bottom surfaces of adjacent protrusions are in contact with each other or substantially in contact with each other. With such a relationship, the filling rate of protrusions on the uneven surface of the antiglare film 1 can be increased, the flat portion can be reduced, and the antiglare property can be increased. Here, the fact that the bottom surfaces of the protrusions are almost in contact means that the distance between the bottom surfaces of the protrusions is adjacent within a range of 0 μm to 80 μm. It is preferable that the height of the protruding portion formed on the surface of the hard coat layer 12 continuously changes in conjunction with the size of the bottom surface. This is because the spectroscopic phenomenon can be further suppressed by continuously changing the height of the protruding portion. When there is a spectroscopic phenomenon, when a distant fluorescent lamp is reflected, a rainbow pattern is generated around the fluorescent lamp.

突起の底面の形状が、円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種であることが好ましく、多角形状であることがより好ましい。突起の底面の形状が円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種であると、高角度の表面傾斜を少なく抑えることができる傾向にある。突起の底面の形状が多角形状であると、ハードコート層12の凹凸面における突起の充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。   The shape of the bottom surface of the protrusion is preferably at least one of a circular shape, an elliptical shape, and a polygonal shape, and more preferably a polygonal shape. When the shape of the bottom surface of the protrusion is at least one of a circular shape, an elliptical shape, and a polygonal shape, the high-angle surface inclination tends to be reduced. When the shape of the bottom surface of the protrusion is a polygonal shape, the filling ratio of the protrusion on the uneven surface of the hard coat layer 12 can be increased, the flat portion can be reduced, and the antiglare property can be increased.

ハードコート層12の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる。1.5°未満であると、防眩性フィルムとして適用した場合、正反射強度が強く、映り込みが気になる傾向がある。3.5°を超えると、防眩性フィルムとして適用した場合、外光の拡散反射の影響が顕著になってくるため、全体的に白濁して見える傾向がある。   The inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer 12 is 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the range of the inclination angle of 1.5 ° to 3.5 °. When it is less than 1.5 °, when applied as an antiglare film, the specular reflection intensity is strong, and there is a tendency that reflection is a concern. If it exceeds 3.5 °, when applied as an antiglare film, the influence of diffuse reflection of external light becomes prominent, so that the whole tends to appear cloudy.

ハードコート層12の凹凸形状の表面にて拡散反射された光は、好ましくは−4°以上4°以下、より好ましくは−8°以上8°以下の範囲内でほぼ同一強度を有することが好ましい。この範囲内で反射光をほぼ同一強度とすることで、防眩性フィルムとして適用した場合、映り込みを強く防止出来る上、正反射のみが突出していないため、光沢反射を抑える事ができるからである。また、0°の反射ゲインG0に対する10°以上の反射ゲインG10の比率(G10/G0)が1/100以下であることが好ましい。この関係を満たすことで、防眩性フィルムとして適用した場合、白濁感を抑える事ができるからである。 The light diffusely reflected on the uneven surface of the hard coat layer 12 preferably has substantially the same intensity within a range of −4 ° to 4 °, more preferably −8 ° to 8 °. . By applying almost the same intensity of reflected light within this range, when applied as an anti-glare film, reflection can be strongly prevented, and since only regular reflection does not protrude, gloss reflection can be suppressed. is there. Further, the ratio (G 10 / G 0 ) of the reflection gain G 10 of 10 ° or more to the reflection gain G 0 of 0 ° is preferably 1/100 or less. By satisfying this relationship, when applied as an antiglare film, the cloudiness can be suppressed.

[1.2.反射防止フィルムの製造方法]
次に、図5に示すフローチャート、および図6〜図8に示す工程図を参照しながら、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明する。
[1.2. Method for producing antireflection film]
Next, an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 5 and the process diagrams shown in FIGS.

(レジスト層形成工程)
まず、ステップS1において、被加工体である基材21の表面上に、レジスト層22を形成する(図6A参照)。被加工体である基材21の形状としては、例えば、板状、シート状、フィルム状、ブロック状、円柱状、円筒状などが挙げられる。レジスト層22の材料としては、例えば、無機レジストおよび有機レジストのいずれも用いることができる。なお、基材21が円柱状または円筒状を有する場合には、それらの外周面にレジスト層22を形成することが好ましい。必要に応じて、ステップS1の前工程において、被加工体である基材21の表面に、メッキ処理を施し、銅メッキなどのメッキ層を形成するようにしてもよい。
(Resist layer formation process)
First, in step S1, a resist layer 22 is formed on the surface of the substrate 21 that is a workpiece (see FIG. 6A). Examples of the shape of the base material 21 that is a workpiece include a plate shape, a sheet shape, a film shape, a block shape, a columnar shape, and a cylindrical shape. As a material of the resist layer 22, for example, either an inorganic resist or an organic resist can be used. In addition, when the base material 21 has column shape or cylindrical shape, it is preferable to form the resist layer 22 in those outer peripheral surfaces. If necessary, in the pre-process of step S1, the surface of the base material 21, which is the workpiece, may be plated to form a plating layer such as copper plating.

(露光工程)
次に、ステップS2において、例えば、レジスト層22にレーザー光L1を照射することにより、露光パターン22aをレジスト層22に形成する(図6B参照)。露光パターン22aの形状としては、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などを挙げることができる。例えば、最小距離Rm以上、最大距離RM以下の範囲内で露光パターン22aの大きさをランダムに変化させるとともに、露光パターン22a同士を接するまたはほぼ接するようにしながら、レーザー光Lをレジスト層22に照射する。また、露光パターン22aの最小距離Rmと最大距離RMが、Rm/RM≦0.9の関係を満たすようにする。なお、露光パターン22aの底面が円形状である場合には、上述の各関係において、最小距離Rmは最小半径Rmであり、最大距離RMは最大半径RMである。また、露光パターン22aの底面が楕円形状である場合には、最小距離Rmは短軸長さ(短径)の最小値Rmであり、最大距離RMは長軸長さ(長径)の最大値RMである。
(Exposure process)
Next, in step S2, for example, an exposure pattern 22a is formed on the resist layer 22 by irradiating the resist layer 22 with laser light L1 (see FIG. 6B). Examples of the shape of the exposure pattern 22a include a circular shape, an elliptical shape, and a polygonal shape. For example, the minimum distance R m or more, with randomly changing the size of the exposure patterns 22a in the maximum distance R M or less in the range, while in contact with the exposure patterns 22a to each other or in contact with almost the resist layer with a laser beam L 22 Irradiate. Further, the minimum distance R m and the maximum distance R M of the exposure pattern 22a are set to satisfy the relationship of R m / R M ≦ 0.9. Note that when the bottom surface of the exposure pattern 22a is circular in each relationship above, the minimum distance R m is the minimum radius R m, the maximum distance R M is the maximum radius R M. Further, when the bottom surface of the exposure pattern 22a is elliptical, the minimum distance R m is the minimum value R m of the short axis (short diameter), the maximum distance R M is the long axis length of (long diameter) it is the maximum value R M.

(現像工程)
次に、ステップS3において、露光パターン22aが形成されたレジスト層22を現像する。これにより、露光パターン22aに応じた開口部22bがレジスト層22に形成される(図6C参照)。なお、図6Cでは、レジストとしてポジ型レジストを用い、露光部に開口部22bを形成する例が示されているが、レジストはこの例に限定されるものではない。すなわち、レジストとしてネガ型レジストを用い、露光部を残すようにしてもよい。
(Development process)
Next, in step S3, the resist layer 22 on which the exposure pattern 22a is formed is developed. Thereby, the opening part 22b according to the exposure pattern 22a is formed in the resist layer 22 (refer FIG. 6C). 6C shows an example in which a positive resist is used as the resist and the opening 22b is formed in the exposed portion, but the resist is not limited to this example. That is, a negative resist may be used as the resist and the exposed portion may be left.

隣接する開口部22bの間の最小間隔dは、1μm以上、(D2×4)μm以下であることが好ましい。ここで、D2は、再エッチング(第2のエッチング処理)によるエッチング深さ(量)である。最小間隔が1μm未満であると、再エッチング時に、円柱形状などを有する凹部間の壁が破れてつながってしまい、平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。最小間隔が(D2×4)μmを超えると、基材21の全面を再エッチングしても、平坦部が多くなってしまい、防眩性が低下する傾向がある。   The minimum distance d between adjacent openings 22b is preferably 1 μm or more and (D2 × 4) μm or less. Here, D2 is an etching depth (amount) by re-etching (second etching process). When the minimum distance is less than 1 μm, the walls between the recesses having a columnar shape or the like are broken and connected at the time of re-etching, so that flat portions increase and the antiglare property tends to decrease. When the minimum distance exceeds (D2 × 4) μm, even if the entire surface of the base material 21 is re-etched, the flat portion increases and the antiglare property tends to decrease.

(エッチング工程)
次に、ステップS4において、開口部22bが形成されたレジスト層22をマスクとして、基材21の表面をエッチングする。これにより、凹部21aが形成される(図7A参照)。エッチングとしては、例えば、ドライエッチングおよびウエットエッチングのいずも用いることができるが、設備が簡易である点からすと、ウエットエッチングを用いることが好ましい。また、エッチングとしては、例えば、等方性エッチングおよび異方性エッチングのいずれも用いることができ、所望とする構造体11aの形状に応じて適宜選択することが好ましい。
(Etching process)
Next, in step S4, the surface of the base material 21 is etched using the resist layer 22 in which the opening 22b is formed as a mask. Thereby, the recessed part 21a is formed (refer FIG. 7A). As the etching, for example, either dry etching or wet etching can be used, but it is preferable to use wet etching in view of simple facilities. As the etching, for example, either isotropic etching or anisotropic etching can be used, and it is preferable to select appropriately according to the desired shape of the structure 11a.

エッチング処理の深さD1は、0.5μm以上10μm以下であることが好ましい。0.5μm未満であると、防眩性を維持するにはハードコート層12の膜厚を薄くする必要があり、鉛筆硬度が低下する傾向がある。または、再エッチング処理により、凹部の深さが浅くなる、もしくは平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。一方、10μmを超えると、ハードコート塗料の塗布後にザラツキ感が生じる、または白濁を抑えるためにハードコート層12の厚みを厚くする必要があり、カールが大きくなる傾向がある。また、転写速度が下がり、生産性が低下する傾向もある。エッチング液としては、例えば、塩化第二銅エッチング液(塩化第二銅、塩酸、水)を使用することができるが、これに限定されるわけではない。   The depth D1 of the etching process is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less. If it is less than 0.5 μm, it is necessary to reduce the film thickness of the hard coat layer 12 in order to maintain the antiglare property, and the pencil hardness tends to decrease. Or, by the re-etching process, the depth of the concave portion becomes shallow, or the flat portion increases, and the antiglare property tends to decrease. On the other hand, if the thickness exceeds 10 μm, it is necessary to increase the thickness of the hard coat layer 12 in order to produce a rough feeling after applying the hard coat paint or to suppress white turbidity, and the curl tends to increase. In addition, the transfer speed tends to decrease and productivity tends to decrease. As an etchant, for example, a cupric chloride etchant (cupric chloride, hydrochloric acid, water) can be used, but is not limited thereto.

(レジスト剥離工程)
次に、ステップS5において、アッシングなどにより、基材表面に形成されたレジスト層22を剥離する(図7B参照)。これにより、例えば同一深さ(例えば5μm)を有する凹部21aが基材表面に形成される。すなわち、基材表面に凹凸面が形成される。
(Resist stripping process)
Next, in step S5, the resist layer 22 formed on the substrate surface is removed by ashing or the like (see FIG. 7B). Thereby, the recessed part 21a which has the same depth (for example, 5 micrometers) is formed in the base-material surface, for example. That is, an uneven surface is formed on the substrate surface.

(再エッチング工程)
次に、ステップS6において、基材21の凹凸面全体を再エッチングする。これにより、基材21の表面に形成された複数の凹部21aを、例えば円柱状からドーム状に変えることができ、滑らかな凹凸面を有する原盤23が得られる(図7C参照)。この原盤23の凹凸面は、基材11の凹凸面を反転したものである。
(Re-etching process)
Next, in step S6, the entire uneven surface of the substrate 21 is re-etched. Thereby, the plurality of recesses 21a formed on the surface of the base material 21 can be changed from, for example, a columnar shape to a dome shape, and a master 23 having a smooth uneven surface is obtained (see FIG. 7C). The uneven surface of the master 23 is obtained by inverting the uneven surface of the substrate 11.

(メッキ工程)
次に、ステップS7において、必要に応じて、原盤23の凹凸面にメッキ処理を施し、ニッケルメッキやクロムメッキなどのメッキ層(図示省略)を形成する。このようにメッキ層を形成することで、長期間使用の摩耗耐久性を向上することができる。
(Plating process)
Next, in step S7, the uneven surface of the master 23 is plated as necessary to form a plating layer (not shown) such as nickel plating or chrome plating. By forming the plating layer in this way, it is possible to improve wear durability for long-term use.

(形状転写工程)
次に、ステップS8において、基材11の平滑な表面に対して原盤23を押し当てるとともに、基材11を加熱することにより、原盤23の凹凸形状を基材11に転写する(図7D参照)。これにより、凹凸面を有する基材11が得られる。
(Shape transfer process)
Next, in step S8, the master 23 is pressed against the smooth surface of the base 11 and the base 11 is heated to transfer the uneven shape of the master 23 to the base 11 (see FIG. 7D). . Thereby, the base material 11 which has an uneven surface is obtained.

(塗工工程)
次に、ステップS9において、樹脂組成物(以下、適宜塗料とも称する)13を基材11の凹凸面上に塗工する(図8A参照)。塗工方法は、特に限定されるものではなく、公知の塗工方法を用いることができる。公知の塗工方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。
(Coating process)
Next, in step S9, a resin composition (hereinafter also referred to as a paint as appropriate) 13 is applied onto the uneven surface of the substrate 11 (see FIG. 8A). The coating method is not particularly limited, and a known coating method can be used. Known coating methods include, for example, micro gravure coating method, wire bar coating method, direct gravure coating method, die coating method, dip method, spray coating method, reverse roll coating method, curtain coating method, comma coating method, knife coating. Method, spin coating method and the like.

(樹脂組成物)
樹脂組成物としては、後工程である乾燥工程(ステップS10)において、粘度が上昇し、流動性が失われる特性を有するものが好ましい。後工程である乾燥工程において、基材11の凹凸面に樹脂組成物を追随させることができるからである。樹脂組成物としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化する電離放射線硬化型樹脂、または熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、光により硬化する感光性樹脂組成物が好ましく、紫外線により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物が最も好ましい。電離放射線硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂は、無機酸化物フィラー、粘度調整剤、および溶剤を含んでいることが好ましい。これらの材料を含むことで、後工程である乾燥工程において、基材11の凹凸面に樹脂組成物を追随させることができるからである。
(Resin composition)
As a resin composition, what has the characteristic that a viscosity rises and fluidity | liquidity is lost in the drying process (step S10) which is a post process is preferable. This is because the resin composition can follow the uneven surface of the substrate 11 in the drying step, which is a subsequent step. From the viewpoint of ease of production, the resin composition is preferably an ionizing radiation curable resin that is cured by light or an electron beam, or a thermosetting resin that is cured by heat. As the ionizing radiation curable resin, a photosensitive resin composition curable by light is preferable, and an ultraviolet curable resin composition curable by ultraviolet light is most preferable. The ionizing radiation curable resin or thermosetting resin preferably contains an inorganic oxide filler, a viscosity modifier, and a solvent. It is because a resin composition can be made to follow the uneven surface of the base material 11 in the drying process which is a post process by including these materials.

(紫外線硬化型樹脂組成物)
紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、アクリレートと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、粘度調整剤と、溶剤とを含有している。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、防汚性付与の観点から、防汚剤をさらに含有していることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、基材11への濡れ性向上の観点から、レベリング剤をさらに含有することが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、帯電防止機能を防眩性フィルム1に付与する観点から、帯電防止剤をさらに含有することが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、ハードコートに内部ヘイズを付与する有機または無機フィラーをさらに含有するようにしてもよい。このようにフィラーを含有させる場合、フィラーとマトリクスとの屈折率差は、0.01以上であることが好ましい。フィラーの平均粒径は、0.1〜1μmであることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、光安定剤、難燃剤および酸化防止剤などをさらに含有するようにしてもよい。
(UV curable resin composition)
The ultraviolet curable resin composition contains, for example, an acrylate, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, a viscosity modifier, and a solvent. Moreover, it is preferable that the ultraviolet curable resin composition further contains an antifouling agent from the viewpoint of imparting antifouling properties. Moreover, it is preferable that an ultraviolet curable resin composition further contains a leveling agent from a viewpoint of the wettability improvement to the base material 11. FIG. In addition, the ultraviolet curable resin composition preferably further contains an antistatic agent from the viewpoint of imparting an antistatic function to the antiglare film 1. Moreover, you may make it an ultraviolet curable resin composition further contain the organic or inorganic filler which provides an internal haze to a hard-coat as needed. Thus, when a filler is contained, it is preferable that the refractive index difference of a filler and a matrix is 0.01 or more. The average particle size of the filler is preferably 0.1 to 1 μm. Moreover, you may make it an ultraviolet curable resin composition further contain a light stabilizer, a flame retardant, antioxidant, etc. as needed.

以下、アクリレート、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、粘度調整剤、溶剤、帯電防止剤、防汚剤、およびレベリング剤について順次説明する。   Hereinafter, the acrylate, the photopolymerization initiator, the inorganic oxide filler, the viscosity modifier, the solvent, the antistatic agent, the antifouling agent, and the leveling agent will be sequentially described.

(アクリレート)
アクリレートとしては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーを用いることが好ましい。このモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレートなどを用いることができる。ここで、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基のいずれかを意味するものである。ここで、オリゴマーとは、分子量500以上60000以下の分子をいう。
(Acrylate)
As the acrylate, it is preferable to use a monomer and / or an oligomer having two or more (meth) acryloyl groups. As this monomer and / or oligomer, for example, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate and the like are used. be able to. Here, the (meth) acryloyl group means either an acryloyl group or a methacryloyl group. Here, the oligomer refers to a molecule having a molecular weight of 500 or more and 60000 or less.

(光重合開始剤)
光重合開始剤としては、公知の材料から適宜選択したものを使用できる。公知の材料としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、または併用して用いることができる。重合開始剤の配合量は、固形分中0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。0.1質量%未満であると、光硬化性が低下し、実質的に工業生産に適さない。一方、10質量%を超えると、照射光量が小さい場合に、塗膜に臭気が残る傾向にある。ここで、固形分とは、硬化後のハードコート層12を構成する全ての成分、例えば溶剤および粘度調整剤以外の全ての成分をいう。具体的には例えば、アクリレート、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、帯電防止剤、レベリング剤、および防汚剤などを固形分という。
(Photopolymerization initiator)
As the photopolymerization initiator, those appropriately selected from known materials can be used. As a known material, for example, a benzophenone derivative, an acetophenone derivative, an anthraquinone derivative, or the like can be used alone or in combination. The blending amount of the polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less in the solid content. If it is less than 0.1% by mass, the photocurability is lowered, which is substantially unsuitable for industrial production. On the other hand, when it exceeds 10 mass%, when the amount of irradiation light is small, odor tends to remain in the coating film. Here, solid content means all the components which comprise the hard-coat layer 12 after hardening, for example, all components other than a solvent and a viscosity modifier. Specifically, for example, acrylate, photopolymerization initiator, inorganic oxide filler, antistatic agent, leveling agent, antifouling agent, and the like are referred to as solid content.

(無機酸化物フィラー)
無機酸化物フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫(Indium Tin Oxide:ITO)、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫(Antimony-doped tin oxide:ATO)、酸化アルミニウム亜鉛(Alminum Zinc Oxide:AZO)などを用いることができる。無機酸化物フィラー表面は、末端に(メタ)アクリル基、ビニル基、またはエポキシ基などの官能基を有する有機系分散剤で表面処理されていることが好ましい。有機系分散剤としては、例えば、上記官能基を末端に有するシランカップリング剤が好適である。末端にアクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−5103を挙げることができる。末端にメタクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503を挙げることができる。末端にビニル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KA−1003、KBM−1003、KBE−1003を挙げることができる。末端にエポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−303、KBM−403、KBE−402、KBE−403を挙げることができる。シランカップリング剤の他、有機カルボン酸を用いるようにしてもよい。このように表面処理された無機酸化物フィラーを用いることで、後述する塗膜の硬化工程において、無機酸化物フィラーがその周囲にある(メタ)アクリルモノマーおよび/またはオリゴマーなどのアクリレートと一体化し、塗膜硬度や可撓性が向上する。
(Inorganic oxide filler)
Examples of the inorganic oxide filler include silica, alumina, zirconia, antimony pentoxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium oxide, and antimony-doped tin oxide: ATO), aluminum zinc oxide (AZO), and the like can be used. The surface of the inorganic oxide filler is preferably surface-treated with an organic dispersant having a functional group such as a (meth) acryl group, a vinyl group, or an epoxy group at the terminal. As the organic dispersant, for example, a silane coupling agent having the above functional group at the terminal is suitable. Examples of the silane coupling agent having an acryl group at the terminal include KBM-5103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having a methacryl group at the terminal include KBM-502, KBM-503, KBE-502, and KBE-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having a vinyl group at the terminal include KA-1003, KBM-1003, and KBE-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having an epoxy group at the terminal include KBM-303, KBM-403, KBE-402, and KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. In addition to the silane coupling agent, an organic carboxylic acid may be used. By using the inorganic oxide filler surface-treated in this way, in the curing step of the coating film described later, the inorganic oxide filler is integrated with an acrylate such as a (meth) acrylic monomer and / or oligomer around it, The coating film hardness and flexibility are improved.

無機酸化物フィラーは、その表面にOH基などを有することが好ましい。これにより、後述する塗膜の乾燥工程において、溶剤が蒸発する過程で、無機酸化物フィラー表面のOH基などと、粘度調整剤の有する官能基とが、水素結合または配位結合し、塗料の粘度が上昇し、好ましくは塗料がゲル化する。このように粘度が上昇することで、塗料が基材11の凹凸形状に追随し、塗料表面に基材21の凹凸形状に倣った凹凸形状が形成される。   The inorganic oxide filler preferably has an OH group or the like on its surface. Thereby, in the process of drying the coating film to be described later, in the process of evaporating the solvent, the OH group on the surface of the inorganic oxide filler and the functional group of the viscosity modifier are hydrogen-bonded or coordinate-bonded, The viscosity increases and preferably the paint gels. As the viscosity increases in this way, the coating material follows the uneven shape of the base material 11, and an uneven shape that follows the uneven shape of the base material 21 is formed on the surface of the paint.

無機酸化物フィラーの平均粒径は、例えば、1nm以上100nm以下である。無機酸化物フィラー配合量は、固形分中10質量%以上70質量%以下であることが好ましい。なお、全固形分を100質量%としている。10質量%未満であると、溶媒蒸発過程で系が高粘度化しなくなる、または、高粘度化に必要な粘度調整剤量が多くなりすぎ、塗料に濁りが生じる、もしくは塗膜硬度が劣化する傾向がある。一方、70質量%を超えると、硬化膜の可撓性が低下する傾向がある。   The average particle diameter of the inorganic oxide filler is, for example, 1 nm or more and 100 nm or less. The inorganic oxide filler content is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less in the solid content. The total solid content is 100% by mass. If it is less than 10% by mass, the system will not increase in viscosity during the solvent evaporation process, or the amount of the viscosity modifier necessary for increasing the viscosity will increase too much, causing the paint to become turbid or the coating film hardness to deteriorate. There is. On the other hand, when it exceeds 70 mass%, there exists a tendency for the flexibility of a cured film to fall.

(粘度調整剤)
粘度調整剤としては、例えば、ヒドロキシ基(OH基)、カルボキシル基(COOH基)、ウレア基(−NH−CO−NH−)、アミド基(−NH−CO−)、アミノ基(NH2)基を有する分子を用いることができ、これらの官能基から選ばれる少なくとも1種の官能基を2個以上有する分子を用いることが好ましい。また、粘度調整剤としては、無機酸化物フィラーの凝集を抑制する観点からすると、カルボキシル基を有する分子を用いることが好ましい。公知のタレ止め剤、沈降防止剤を適用することも可能である。粘度調整剤としては、例えば、ビックケミー・ジャパン株式会社製のBYK−405、BYK−410、BYK−411、BYK−430、BYK−431、共栄社化学株式会社製のターレン1450、ターレン2200A、ターレン2450、フローレンG−700、フローレンG−900などが好適である。粘度調整剤の配合量は、全塗料100質量部に対して0.001〜5質量部であることが好ましい。最適な配合量は、無機酸化物フィラーの材料種および配合量、粘度調整剤の材料種、ならびに所望のハードコート膜厚に応じて適宜選択することが好ましい。
(Viscosity modifier)
Examples of the viscosity modifier include a hydroxy group (OH group), a carboxyl group (COOH group), a urea group (—NH—CO—NH—), an amide group (—NH—CO—), and an amino group (NH 2 ). A molecule having a group can be used, and it is preferable to use a molecule having two or more functional groups selected from these functional groups. Moreover, as a viscosity modifier, it is preferable to use the molecule | numerator which has a carboxyl group from a viewpoint of suppressing aggregation of an inorganic oxide filler. It is also possible to apply known anti-sagging agents and anti-settling agents. Examples of the viscosity modifier include BYK-405, BYK-410, BYK-411, BYK-430, BYK-431 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. Floren G-700, Floren G-900 and the like are preferable. It is preferable that the compounding quantity of a viscosity modifier is 0.001-5 mass parts with respect to 100 mass parts of all the coating materials. It is preferable that the optimum blending amount is appropriately selected according to the material type and blending amount of the inorganic oxide filler, the material type of the viscosity modifier, and the desired hard coat film thickness.

(溶剤)
溶剤としては、使用するアクリレートなどの樹脂原料を溶解すると共に、基材11との濡れ性が良好で、かつ、基材11を白化させないものが好ましい。このような溶剤としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソランなどのエーテル類を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも2成分以上の混合物でもよく、さらに、上記に例示したもの以外の溶剤を樹脂原料の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
(solvent)
The solvent is preferably a solvent that dissolves a resin raw material such as acrylate to be used, has good wettability with the base material 11, and does not whiten the base material 11. Examples of such solvents include acetone, diethyl ketone, dipropyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, isopropyl formate, butyl formate, methyl acetate, and ethyl acetate. , Ketones such as propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, sec-amyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, methyl lactate or Carboxylic acid esters, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol and other alcohols, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane It can be mentioned ethers. These solvents may be used singly or as a mixture of two or more components. Furthermore, solvents other than those exemplified above can be added as long as the performance of the resin raw material is not impaired.

(帯電防止剤)
樹脂組成物は、上述のように、帯電防止剤をさらに含有することが好ましい。帯電防止剤としては、四級アンモニウム塩、導電性ポリマー、イオン性液体、および導電性微粒子の少なくとも1種を含んでいることが好ましい。
(Antistatic agent)
As described above, the resin composition preferably further contains an antistatic agent. The antistatic agent preferably contains at least one of a quaternary ammonium salt, a conductive polymer, an ionic liquid, and conductive fine particles.

四級アンモニウム塩としては、4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物を用いることが好ましい。4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、1個または2個以上の4級アンモニウム塩基と、1個または2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有するモノマーおよび/またはオリゴマーを用いることが好ましい。その分子内の4級アンモニウム塩基により、帯電防止機能をハードコート層12に付与することができる。また、モノマーおよび/またはオリゴマーが(メタ)アクリロイル基を有することで、紫外線照射によりマトリクス樹脂などと一体化する。これにより、4級アンモニウム塩のブリードアウトが抑止される。   As the quaternary ammonium salt, a compound having a quaternary ammonium base in the molecule is preferably used. As the compound having a quaternary ammonium base in the molecule, a monomer and / or oligomer having one or more quaternary ammonium bases and one or more (meth) acryloyl groups may be used. preferable. An antistatic function can be imparted to the hard coat layer 12 by the quaternary ammonium base in the molecule. In addition, since the monomer and / or oligomer has a (meth) acryloyl group, it is integrated with a matrix resin or the like by ultraviolet irradiation. Thereby, bleed-out of the quaternary ammonium salt is suppressed.

4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、例えば、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネートなどを挙げることができる。   Examples of the compound having a quaternary ammonium base in the molecule include methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, acryloylaminopropyltrimethylammonium chloride, methacryloylaminopropyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyldimethylbenzylammonium chloride. , Methacryloyloxyethyldimethylbenzylammonium chloride, methacryloylaminopropyldimethylbenzylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloylaminopropyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloyloxyethyldimethyl Le ethylammonium ethyl sulfate, methacryloyl aminopropyl dimethyl ethyl ammonium ethylsulfate, methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium p- toluenesulfonate, and the like methacryloylamino trimethylammonium p- toluenesulfonate.

導電性ポリマーとしては、例えば、置換または無置換のポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、およびこれらから選ばれる1種または2種からなる(共)重合体が挙げられる。特にポリピロール、ポリチオフェン、ポリN−メチルピロール、ポリ3−メチルチオフェン、ポリ3−メトキシチオフェン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、およびこれらから選ばれる1種または2種からなる(共)重合体が好適である。   Examples of the conductive polymer include substituted or unsubstituted polyaniline, polypyrrole, polythiophene, and one or two (co) polymers selected from these. In particular, polypyrrole, polythiophene, poly N-methylpyrrole, poly-3-methylthiophene, poly-3-methoxythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and one or two selected from these (co-) Polymers are preferred.

導電性ポリマーとしては、紫外線硬化型樹脂組成物との相溶性が良いものを選択することが好ましい。相溶性が悪い場合、所望の帯電防止性能を得るために必要な導電性ポリマーの配合量が多くなり、機械特性劣化や着色(透明性劣化)などを招くことになる。   As the conductive polymer, it is preferable to select a polymer having good compatibility with the ultraviolet curable resin composition. When the compatibility is poor, the amount of the conductive polymer necessary for obtaining the desired antistatic performance increases, leading to deterioration of mechanical properties, coloring (transparency deterioration), and the like.

導電性ポリマーが、導電性向上の観点から、ドーパントを含有することが好ましい。ドーパントとしては、例えば、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸などが挙げられる。具体的には、有機カルボン酸、有機スルホン酸などの有機酸、有機シアノ化合物、フラーレン、水素化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどが挙げられる。ポリスチレンスルホン酸をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン溶液は、比較的熱安定性が高く、重合度が低いことから、塗膜成形後の透明性が有利となる点で好ましい。   It is preferable that a conductive polymer contains a dopant from a viewpoint of an electroconductive improvement. Examples of the dopant include halogen compounds, Lewis acids, and protonic acids. Specific examples include organic acids such as organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, organic cyano compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, carboxylic fullerenes, and sulfonated fullerenes. A polyethylene dioxythiophene solution doped with polystyrene sulfonic acid is preferable in that it has a relatively high thermal stability and a low degree of polymerization, and thus is advantageous in transparency after coating film formation.

(防汚剤)
樹脂組成物は、上述のように、防汚剤をさらに含有することが好ましい。防汚剤としては、1個以上の(メタ)アクリル基、ビニル基、またはエポキシ基を有するシリコーンオリゴマーおよび/またはフッ素含有オリゴマーを用いることが好ましい。防眩性フィルム1に耐アルカリ性を付与する必要がある場合、フッ素含有オリゴマーを用いることが好ましい。上記シリコーンオリゴマーおよび/またはフッ素オリゴマーの配合量は、固形分の0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。0.01質量%未満であると、防汚機能が不十分となる傾向がる。一方、5質量%を超えると、塗膜硬度が低下する傾向がある。防汚剤としては、例えば、DIC株式会社製のRS−602、RS−751−K、サートマー社製のCN4000、ダイキン工業株式会社製のオプツールDAC−HP、信越化学工業株式会社製のX−22−164E、チッソ株式会社製のFM−7725、ダイセル・サイテック株式会社製のEBECRYL350、デグサ社製のTEGORad2700などを用いることが好ましい。
(Anti-fouling agent)
As described above, the resin composition preferably further contains an antifouling agent. As the antifouling agent, it is preferable to use a silicone oligomer and / or a fluorine-containing oligomer having one or more (meth) acryl groups, vinyl groups, or epoxy groups. When it is necessary to impart alkali resistance to the antiglare film 1, it is preferable to use a fluorine-containing oligomer. It is preferable that the compounding quantity of the said silicone oligomer and / or a fluorine oligomer is 0.01 to 5 mass% of solid content. If it is less than 0.01% by mass, the antifouling function tends to be insufficient. On the other hand, when it exceeds 5 mass%, there exists a tendency for coating-film hardness to fall. Examples of the antifouling agent include RS-602 and RS-751-K manufactured by DIC Corporation, CN4000 manufactured by Sartomer, Optool DAC-HP manufactured by Daikin Industries, Ltd., and X-22 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. It is preferable to use -164E, FM-7725 manufactured by Chisso Corporation, EBECRYL350 manufactured by Daicel-Cytec Corporation, TEGORad2700 manufactured by Degussa Corporation, and the like.

(レベリング剤)
紫外線硬化型樹脂組成物は、上述したように、基材11への濡れ性向上の観点から、公知のレベリング剤をさらに含有することが好ましい。レベリング剤の配合量は、固形分の0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。0.01質量%未満であると、濡れ性の向上が不十分になる傾向がある。5質量%を超えると、塗膜硬度が低下する傾向がある。
(Leveling agent)
As described above, the ultraviolet curable resin composition preferably further contains a known leveling agent from the viewpoint of improving wettability to the substrate 11. The blending amount of the leveling agent is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less of the solid content. If it is less than 0.01% by mass, the wettability tends to be insufficiently improved. When it exceeds 5 mass%, there exists a tendency for coating-film hardness to fall.

(乾燥工程)
次に、ステップS10において、基材11の凹凸面上に塗工された樹脂組成物13を乾燥させることにより、溶剤を揮発させる。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などを調整する人工的乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようすることが好ましい。また、乾燥温度および乾燥時間は塗料中に含まれる溶剤の沸点によって適宜決定することが可能である。その場合、乾燥温度および乾燥時間は、基材11の耐熱性を配慮し、熱収縮により基材11の変形が起きない範囲で選定することが好ましい。
(Drying process)
Next, in step S10, the solvent is volatilized by drying the resin composition 13 coated on the uneven surface of the substrate 11. The drying conditions are not particularly limited, and may be natural drying or artificial drying that adjusts the drying temperature, drying time, and the like. However, when wind is applied to the surface of the paint at the time of drying, it is preferable not to generate a wind pattern on the surface of the coating film. Further, the drying temperature and drying time can be appropriately determined depending on the boiling point of the solvent contained in the paint. In that case, it is preferable to select the drying temperature and the drying time in a range in which the base material 11 is not deformed by heat shrinkage in consideration of the heat resistance of the base material 11.

溶剤が蒸発する過程で、塗料の固形分濃度が上昇し、無機酸化物フィラーと粘度調整剤とが系内で水素結合または配位結合などの結合を介したネットワークを形成し、粘度が上昇し、高粘度化する。このように高粘度化することにより、基材11の凹凸形状が乾燥した樹脂組成物の表面13sに残される(図8B参照)。すなわち、乾燥した樹脂組成物の表面13sに適度な滑らかさが形成され、防眩性が発現する。上述のように、脂組成物が溶媒蒸発過程で高粘度化すると、乾燥後の樹脂組成物が基材11の凹凸形状に倣い、防眩性が発現する。これに対して、紫外線硬化型樹脂組成物が高粘度化しない場合、乾燥した樹脂組成物により、基材11の凹凸形状がつぶれてしまい、防眩性が得られなくなる。   As the solvent evaporates, the solids concentration of the paint increases, and the inorganic oxide filler and the viscosity modifier form a network through bonds such as hydrogen bonds or coordination bonds in the system, increasing the viscosity. Increase viscosity. By increasing the viscosity in this manner, the uneven shape of the base material 11 remains on the surface 13s of the dried resin composition (see FIG. 8B). That is, moderate smoothness is formed on the surface 13s of the dried resin composition, and antiglare properties are exhibited. As described above, when the fat composition has a high viscosity in the process of solvent evaporation, the resin composition after drying follows the uneven shape of the substrate 11 and exhibits anti-glare properties. On the other hand, when the UV curable resin composition does not increase in viscosity, the uneven shape of the substrate 11 is crushed by the dried resin composition, and the antiglare property cannot be obtained.

(硬化工程)
次に、ステップS11において、例えば電離放射線照射L2または加熱により、基材111の凹凸面上にて乾燥された樹脂組成物13を硬化させる。これにより、滑らかな凹凸形状を有するハードコート層12が形成される(図8C参照)。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材11の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂組成物の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。
以上により、目的とする防眩性フィルム1が得られる。
(Curing process)
Next, in step S11, the resin composition 13 dried on the uneven surface of the substrate 111 is cured by, for example, ionizing radiation irradiation L2 or heating. Thereby, the hard coat layer 12 having a smooth uneven shape is formed (see FIG. 8C). As the ionizing radiation, for example, an electron beam, an ultraviolet ray, a visible ray, a gamma ray, an electron beam or the like can be used, and an ultraviolet ray is preferable from the viewpoint of production equipment. The integrated irradiation dose is preferably selected as appropriate in consideration of the curing characteristics of the resin, suppression of yellowing of the resin and the substrate 11, and the like. Moreover, it is preferable to select suitably as atmosphere of irradiation according to the kind of resin composition, For example, the atmosphere of inert gas, such as air, nitrogen, and argon, is mentioned.
Thus, the intended antiglare film 1 is obtained.

また、下地パターン(基材11の凹凸パターン)の形成法は、突起径分布選択性、ランダム配置性、高さ制御性、および突起形状(傾斜)制御性などを有するものであればよく、上述の形成方法に限定されるものではない。例えば金属金型上にレジストを塗布後、コンピュータ生成したランダムパターンをレーザー光によりアブレーション除去し、金属を溶解するエッチャントにより、金属金型ロールに突起を形成する方法を用いることができる。また、上記下地パターンの径のインクリメント/デクリメントを行ったパターンを用い、再度このレーザー・エッチング手法を多段に繰り返す方法も用いることができる。これらの手法でパターン形成後、レジストを剥離し全体的にエッチングすることで、傾斜を緩やかにすることができる。   In addition, the formation method of the base pattern (uneven pattern of the base material 11) may be any method as long as it has projection diameter distribution selectivity, random arrangement, height controllability, projection shape (tilt) controllability, and the like. It is not limited to the forming method. For example, after applying a resist on a metal mold, a computer-generated random pattern is ablated and removed by laser light, and a protrusion is formed on the metal mold roll with an etchant that dissolves the metal. Further, it is also possible to use a method in which this laser etching technique is repeated in multiple stages using a pattern obtained by incrementing / decrementing the diameter of the base pattern. After pattern formation by these methods, the inclination can be made gentle by peeling the resist and etching the whole.

コンピュータによりランダムパターンを生成する際に、円形パターンの直径分布を狭くしたり、パターン密度を上げるためにパターン間の配置の制約を行うと、ランダム性が落ち、表示装置に適用した際にモアレは生成しないものの、反射光が分光する傾向がある。このため、円形パターンの直径分布を広くとり、配置上の制約は設けないことが好ましい。例えば、円形パターンの直径分布としては、好ましくは10μm以上200μm以下、より好ましくは20μm以上170μm以下、更に好ましくは20μm以上140μm以下に広く取ることが好ましい。このような円形パターンの直径分布範囲を選択することで、自己相関関数の最大値を0.1以下に抑えることができ、分光現象を緩和することができる。なお、基材11の構造体底面の直径分布は、上述したコンピュータにより生成した円形パターンのものとほぼ同一となる。   When a random pattern is generated by a computer, if the diameter distribution of the circular pattern is narrowed or the arrangement between patterns is restricted in order to increase the pattern density, the randomness will be reduced, and the moire will be reduced when applied to a display device. Although not generated, the reflected light tends to be dispersed. For this reason, it is preferable that the circular pattern has a wide diameter distribution and that there is no restriction on arrangement. For example, the diameter distribution of the circular pattern is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 170 μm, and still more preferably 20 μm to 140 μm. By selecting the diameter distribution range of such a circular pattern, the maximum value of the autocorrelation function can be suppressed to 0.1 or less, and the spectral phenomenon can be reduced. The diameter distribution on the bottom surface of the structure of the base material 11 is substantially the same as that of the circular pattern generated by the computer described above.

また、所望の拡散反射角度特性を実現するため、金型のエッチング深さ、およびレジスト剥離後の全体エッチング時間などを調整することが好ましい。また、無機フィラー、および粘度調整剤などを添加してレベリング性を調整した樹脂を、基材11の凹凸面上に膜厚を調整して塗布することが好ましい。   In order to achieve desired diffuse reflection angle characteristics, it is preferable to adjust the etching depth of the mold and the total etching time after the resist is removed. In addition, it is preferable to apply a resin whose leveling property is adjusted by adding an inorganic filler, a viscosity modifier, or the like on the uneven surface of the substrate 11 while adjusting the film thickness.

上述したように、第1の実施形態によれば、防眩性フィルム1は、凹凸面を有する基材11と、基材11の凹凸面上に形成されたハードコート層12とを備える。ハードコート層12は、基材11の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有する。ハードコート層12の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる。これにより、光沢反射を抑制することができ、かつ、高コントラストを得ることができる。また、正反射強度を低減しつつ、散乱反射による白濁感を抑制し、外光下でも高コントラストの防眩性フィルム1を実現できる。   As described above, according to the first embodiment, the antiglare film 1 includes the base material 11 having an uneven surface and the hard coat layer 12 formed on the uneven surface of the base material 11. The hard coat layer 12 has an uneven shape following the uneven surface of the substrate 11 on the surface. The inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer 12 is 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the range of the inclination angle of 1.5 ° to 3.5 °. Thereby, gloss reflection can be suppressed and high contrast can be obtained. Moreover, the anti-glare film 1 having high contrast can be realized even under external light by reducing the specular reflection intensity and suppressing the cloudiness due to scattering reflection.

表面粗さを制御して形成した下地上に、形状追随性を有するように調製した樹脂組成物を塗布することにより、10°以下の低角度の拡散反射角度特性の制御することができる。その反射特性としては、±4°から±8°の範囲から選ばれる特定の角度範囲でほぼ同一強度にすると共に、10°以上の高角度への反射ゲインを1/100以下に低減することが好ましい。これにより、正反射強度を低減しつつ、散乱反射による白濁感を抑制し、外光下でも高コントラストを得ることができる。また、外光照明下においても高コントラストを得ることができ、かつ、映り込み像を大幅に抑制することができる。また、表示装置表面に適用されるのに十分な機械強度を付与することもできる。   By applying a resin composition prepared so as to have a shape following property on a base formed by controlling the surface roughness, it is possible to control the diffuse reflection angle characteristics at a low angle of 10 ° or less. As the reflection characteristics, it is possible to obtain substantially the same intensity in a specific angle range selected from the range of ± 4 ° to ± 8 °, and to reduce the reflection gain to a high angle of 10 ° or more to 1/100 or less. preferable. Thereby, while reducing the specular reflection intensity, it is possible to suppress the white turbidity due to scattering reflection and to obtain high contrast even under external light. Moreover, high contrast can be obtained even under external light illumination, and a reflected image can be significantly suppressed. In addition, sufficient mechanical strength to be applied to the display device surface can be imparted.

<2.第2の実施形態>
[液晶表示装置の構成]
図9は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置の一構成を示す断面図である。図9に示すように、この液晶表示装置は、光を出射するバックライト3と、バックライト3から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル2とを備える。液晶パネル2の両面にはそれぞれ、偏光子2a、2bが設けられている。液晶パネル2の表示面側の偏光子2bには、光学フィルムである防眩性フィルム1が設けられている。
以下、液晶表示装置を構成するバックライト3、液晶パネル2、および防眩性フィルム1について順次説明する。
<2. Second Embodiment>
[Configuration of liquid crystal display device]
FIG. 9 is a cross-sectional view showing one configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 9, the liquid crystal display device includes a backlight 3 that emits light, and a liquid crystal panel 2 that displays an image by temporally and spatially modulating the light emitted from the backlight 3. Polarizers 2a and 2b are provided on both surfaces of the liquid crystal panel 2, respectively. The polarizer 2b on the display surface side of the liquid crystal panel 2 is provided with an antiglare film 1 that is an optical film.
Hereinafter, the backlight 3, the liquid crystal panel 2, and the antiglare film 1 constituting the liquid crystal display device will be sequentially described.

(バックライト)
バックライト3としては、例えば、直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト3は、例えば、光源、反射板、光学フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管(Cold Cathode Fluorescent Lamp:CCFL)、熱陰極蛍光管(Hot Cathode Fluorescent Lamp:HCFL)、有機エレクトロルミネッセンス(Organic ElectroLuminescence:OEL)、無機エレクトロルミネッセンス(IEL:Inorganic ElectroLuminescence)および発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)などが用いられる。
(Backlight)
As the backlight 3, for example, a direct type backlight, an edge type backlight, and a planar light source type backlight can be used. The backlight 3 includes, for example, a light source, a reflecting plate, an optical film, and the like. Examples of the light source include a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), a hot cathode fluorescent lamp (HCFL), organic electroluminescence (OEL), and inorganic electroluminescence (IEL). ) And a light emitting diode (LED).

(液晶パネル)
液晶パネル2としては、例えば、ツイステッドネマチック(Twisted Nematic:TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(Super Twisted Nematic:STN)モード、垂直配向(Vertically Aligned:VA)モード、水平配列(In-Plane Switching:IPS)モード、光学補償ベンド配向(Optically Compensated Birefringence:OCB)モード、強誘電性(Ferroelectric Liquid Crystal:FLC)モード、高分子分散型液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal:PDLC)モード、相転移型ゲスト・ホスト(Phase Change Guest Host:PCGH)モードなどの表示モードのものを用いることができる。
(LCD panel)
Examples of the liquid crystal panel 2 include a twisted nematic (TN) mode, a super twisted nematic (STN) mode, a vertically aligned (VA) mode, and a horizontal alignment (In-Plane Switching: IPS). Mode, Optically Compensated Birefringence (OCB) mode, Ferroelectric Liquid Crystal (FLC) mode, Polymer Dispersed Liquid Crystal (PDLC) mode, Phase Transition Guest Host (Phase) A display mode such as Change Guest Host (PCGH) mode can be used.

液晶パネル2の両面には、例えば偏光子2a、2bがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子2a、2bは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子2a、2bとしては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルムに、ヨウ素錯体や二色性染料を一軸方向に配列させたものを用いることができる。偏光子2a、2bの両面には、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムなどの保護層を設けることが好ましい。このように保護層を設ける場合、この保護層が防眩性フィルム1の基材を兼ねる構成とすることが好ましい。このような構成とすることで、偏光子2a、2bを薄型化できるからである。   For example, polarizers 2a and 2b are provided on both surfaces of the liquid crystal panel 2 so that their transmission axes are orthogonal to each other. The polarizers 2a and 2b allow only one of the orthogonal polarization components of incident light to pass through and block the other by absorption. As the polarizers 2a and 2b, for example, a polyvinyl alcohol (PVA) film with an iodine complex or a dichroic dye arranged in a uniaxial direction can be used. It is preferable to provide protective layers, such as a triacetyl cellulose (TAC) film, on both surfaces of the polarizers 2a and 2b. Thus, when providing a protective layer, it is preferable to set it as the structure which this protective layer serves as the base material of the anti-glare film 1 as well. This is because the polarizers 2a and 2b can be thinned by using such a configuration.

(防眩性フィルム)
防眩性フィルム1は、上述した第1の実施形態のものと同様であるので説明を省略する。
(Anti-glare film)
Since the anti-glare film 1 is the same as that of the first embodiment described above, description thereof is omitted.

第2の実施形態によれば、液晶表示装置の表示面に防眩性フィルム1を設けているので、液晶パネル2の表示面における防眩性や耐擦傷性などを向上することができる。   According to the second embodiment, since the antiglare film 1 is provided on the display surface of the liquid crystal display device, it is possible to improve the antiglare property and scratch resistance on the display surface of the liquid crystal panel 2.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

この実施例において、ハードコート層の膜厚(平均膜厚)は、触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製、商品名:サーフコーダET4000)を用いて以下のようにして求めたものである。
まず、接触端子として6mmφの円筒形状のものを用い、ハードコート層が潰れない程度の低荷重で、円筒端子をハードコート層に接触させ、防眩性フィルムの厚さを任意の5点で測定した。次に、測定した防眩性フィルムの厚さを単純に加算平均し、防眩性フィルム総厚の平均値DAを求めた。次に、同一の防眩性フィルムの未塗布部の厚さを任意の5点で測定した。次に、測定した基材(TACフィルム)の厚さを単純に加算平均し、基材の平均厚みDBを求めた。次に、防眩性フィルム総厚の平均値DAから基材の平均厚みDBを差し引き、その値をハードコート層の膜厚とした。
In this example, the film thickness (average film thickness) of the hard coat layer was as follows using a stylus type surface roughness measuring instrument (trade name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). It is what I have sought.
First, a 6 mmφ cylindrical contact terminal is used, and the hard coating layer is brought into contact with the hard coating layer with a low load that does not crush the hard coating layer, and the thickness of the antiglare film is measured at five arbitrary points. did. Then, simply adding the average thickness of the measured antiglare film, an average value was obtained D A total thickness antiglare film. Next, the thickness of the uncoated part of the same anti-glare film was measured at arbitrary 5 points. Then, simply adding the average thickness of the measured substrate (TAC film), to obtain an average thickness D B of the base material. Next, it subtracted the mean thickness D B of the base material from the average value D A total thickness antiglare film was the value and the film thickness of the hard coat layer.

(実施例1)
まず、転写ロール原盤として、鉄芯(φ100mm、面長300mm)の表面に銅メッキを施したロール状の基材を準備した。次に、銅メッキが施されたロール表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト層を形成した。次に、最小直径Dm:20μm〜最大直径DM:140μmの円形状のランダムパターンをコンピュータにより生成した。次に、この生成パターンに基づき、基材の外周面に形成されたレジスト層をレーザー光により露光した後、露光したレジスト層を現像した。これにより、上記生成パターンに応じた開口部がレジスト層に形成された。次に、開口部が形成されたレジスト層をマスクとして、基材の外周面をウエットエッチングした。次に、レジスト層を基材の外周面から除去し、基材11の外周面全体を再度ウエットエッチングした。これにより、滑らかな凹凸が外周面に形成されたロール原盤が得られた。
Example 1
First, as a transfer roll master, a roll-shaped base material in which the surface of an iron core (φ100 mm, surface length 300 mm) was subjected to copper plating was prepared. Next, a photoresist was applied to the surface of the roll plated with copper to form a photoresist layer. Next, a circular random pattern having a minimum diameter D m of 20 μm to a maximum diameter D M of 140 μm was generated by a computer. Next, based on this generated pattern, the resist layer formed on the outer peripheral surface of the substrate was exposed with laser light, and then the exposed resist layer was developed. Thereby, the opening part according to the said production | generation pattern was formed in the resist layer. Next, the outer peripheral surface of the base material was wet-etched using the resist layer in which the opening was formed as a mask. Next, the resist layer was removed from the outer peripheral surface of the base material, and the entire outer peripheral surface of the base material 11 was wet etched again. Thereby, the roll original disc in which the smooth unevenness | corrugation was formed in the outer peripheral surface was obtained.

次に、ロール原盤の凹凸をTACフィルム(富士写真フイルム株式会社製、フィルム厚:80μm)の表面に形状転写した。これにより、滑らかな凹凸を表面に有するTACフィルムが得られた。次に、触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製、商品名:サーフコーダET4000)で、TACフィルムの表面形状を評価した。その結果を図10Aに示す。Ra(算術平均粗さ)=0.903μm、Rz(十点平均粗さ)=2.907μm、RSm(粗さ曲線要素の平均長さ)=65μmであった。   Next, the unevenness of the roll master was transferred onto the surface of a TAC film (Fuji Photo Film Co., Ltd., film thickness: 80 μm). Thereby, the TAC film which has smooth unevenness | corrugation on the surface was obtained. Next, the surface shape of the TAC film was evaluated with a stylus type surface roughness measuring instrument (trade name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). The result is shown in FIG. 10A. Ra (arithmetic average roughness) = 0.903 μm, Rz (ten-point average roughness) = 2.907 μm, RSm (average length of roughness curve elements) = 65 μm.

次に、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物をTACフィルムの凹凸面上に、#14のワイヤーバーで塗工した後、塗工した紫外線硬化型樹脂組成物を80℃の乾燥炉で1.5分間乾燥させた。次に、乾燥した紫外線硬化型樹脂組成物に対して、窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して、膜厚5μmのハードコート層をTACフィルム上に形成した。以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。 Next, an ultraviolet curable resin composition having the following composition was coated on the concavo-convex surface of the TAC film with a # 14 wire bar, and then the coated ultraviolet curable resin composition was 1. Dry for 5 minutes. Next, the dried UV curable resin composition was irradiated with 350 mJ / cm 2 of UV in a nitrogen atmosphere to form a 5 μm thick hard coat layer on the TAC film. Thus, the intended antiglare film was obtained.

<紫外線硬化型樹脂組成物の配合>
6官能ウレタンアクリルオリゴマー 35.3質量部
(共栄社化学株式会社製、商品名:UA−510H)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 17.65質量部
(新中村化学工業株式会社製、商品名:A−TMMT)
平均粒径25nmのシリカフィラー 40質量部
(但し、末端にアクリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−5103)でフィラー表面を処理した。)
光重合開始剤 5質量部
(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名:Irgacure184)
フッ素含有2官能アクリルオリゴマー 2質量部
(DIC株式会社製、商品名:RS−602)
レベリング剤 0.05質量部
(共栄化学社製、商品名:KL−600)
粘度調整剤 0.025質量部
(共栄化学社製、商品名:G700)
溶剤:IPA 15質量部
シクロヘキサノン 71.9質量部
<Formulation of UV curable resin composition>
Hexafunctional urethane acrylic oligomer 35.3 parts by mass (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: UA-510H)
17.65 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: A-TMMT)
40 parts by mass of silica filler having an average particle size of 25 nm (however, the filler surface was treated with a silane coupling agent having an acrylic group at the end (trade name: KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.))
5 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 184)
2 parts by mass of fluorine-containing bifunctional acrylic oligomer (manufactured by DIC Corporation, trade name: RS-602)
Leveling agent 0.05 parts by mass (Kyoei Chemical Co., Ltd., trade name: KL-600)
Viscosity modifier 0.025 parts by mass (Kyoei Chemical Co., Ltd., trade name: G700)
Solvent: IPA 15 parts by mass Cyclohexanone 71.9 parts by mass

次に、触針式表面粗さ測定器でハードコート層の表面形状を評価した。その結果を図10Bに示す。Ra(算術平均粗さ)=0.182μm、Rz(十点平均粗さ)=0.886μm、RSm(粗さ曲線要素の平均長さ)=85μmであった。また、ハードコート層表面には、フィルムの凹凸形状に倣い、かつ、適度に滑らかな凹凸形状が形成されていた。これは、乾燥工程において、シリカフィラーと粘度調整剤とが結合を形成し、紫外線硬化型樹脂組成物が高粘度化して、TACフィルムの凹凸形状に追随したためである。   Next, the surface shape of the hard coat layer was evaluated with a stylus type surface roughness measuring instrument. The result is shown in FIG. 10B. Ra (arithmetic average roughness) = 0.182 μm, Rz (ten-point average roughness) = 0.886 μm, and RSm (average length of roughness curve elements) = 85 μm. In addition, a moderately smooth uneven shape was formed on the surface of the hard coat layer, following the uneven shape of the film. This is because in the drying process, the silica filler and the viscosity modifier formed a bond, and the ultraviolet curable resin composition increased in viscosity and followed the uneven shape of the TAC film.

(実施例2)
紫外線硬化型樹脂組成物を#12のワイヤーバーで塗工し、ハードコート層の膜厚を4μmとした以外は実施例1と同様にして、防眩性フィルムを得た。
(Example 2)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin composition was applied with a # 12 wire bar and the thickness of the hard coat layer was changed to 4 μm.

(実施例3)
まず、実施例1と同様にしてTACフィルムに凹凸面を形成した。次に、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を#18のワイヤーバーでTACフィルムの凹凸面上に塗工した後、紫外線硬化型樹脂組成物を65℃の乾燥炉で1.5分間乾燥させた。次に、乾燥した紫外線硬化型樹脂組成物に対して、窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して、膜厚5μmのハードコート層をTACフィルム上に形成した。以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。
(Example 3)
First, an uneven surface was formed on the TAC film in the same manner as in Example 1. Next, after coating the UV curable resin composition of the following composition on the concavo-convex surface of the TAC film with a # 18 wire bar, the UV curable resin composition was dried in a drying oven at 65 ° C. for 1.5 minutes. It was. Next, the dried UV curable resin composition was irradiated with 350 mJ / cm 2 of UV in a nitrogen atmosphere to form a 5 μm thick hard coat layer on the TAC film. Thus, the intended antiglare film was obtained.

<紫外線硬化型樹脂組成物の配合>
6官能ウレタンアクリルオリゴマー 35.3質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 17.65質量部
平均粒径25nmのシリカフィラー 40質量部
(但し、末端にアクリル基を有するシランカップリング剤でフィラー表面を処理した。)
光重合開始剤 5質量部
フッ素含有2官能アクリルオリゴマー 2質量部
レベリング剤 0.05質量部
粘度調整剤 0.033質量部
溶剤:IPA 56.700質量部
シクロヘキサノン 116.5質量部
なお、各材料の入手先の社名、および商品名は、実施例1と同様であるので記載を省略する。
<Formulation of UV curable resin composition>
Hexafunctional urethane acrylic oligomer 35.3 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 17.65 parts by mass Silica filler with an average particle size of 25 nm 40 parts by mass (however, the filler surface was treated with a silane coupling agent having an acrylic group at the end)
Photopolymerization initiator 5 parts by mass Fluorine-containing bifunctional acrylic oligomer 2 parts by mass Leveling agent 0.05 parts by mass Viscosity modifier 0.033 parts by mass Solvent: IPA 56.700 parts by mass Cyclohexanone 116.5 parts by mass Since the company name and the product name of the supplier are the same as in Example 1, the description is omitted.

(比較例1)
まず、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を、形状転写していないTACフィルムの(富士写真フイルム株式会社製、フィルム厚:80μm)のフラットな面上に、#5のワイヤーバーで塗工した。次に、塗工した紫外線硬化型樹脂組成物を80℃の乾燥炉で2分間乾燥させた。次に、乾燥した紫外線硬化型樹脂組成物に対して、紫外線を100mJ/cm2照射して、膜厚8μmのハードコート層をTACフィルム上に形成した。以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。
(Comparative Example 1)
First, an ultraviolet curable resin composition having the following composition was coated on a flat surface of a TAC film (Fuji Photo Film Co., Ltd., film thickness: 80 μm) that had not been transferred with a # 5 wire bar. . Next, the applied ultraviolet curable resin composition was dried in an oven at 80 ° C. for 2 minutes. Next, the dried ultraviolet curable resin composition was irradiated with ultraviolet rays at 100 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 8 μm on the TAC film. Thus, the intended antiglare film was obtained.

<紫外線硬化型樹脂組成物の配合>
6官能ウレタンアクリルオリゴマー 100質量部
アクリルポリオール系ポリマー 5質量部
架橋性スチレンビーズ 3質量部
(積水化成品工業株式会社製、商品名:SBX6、平均粒径6μm)
光重合開始剤 3質量部
溶剤:t−ブタノール 153質量部
なお、架橋性スチレンビーズ以外の材料の入手先の社名、および商品名は、実施例1と同様であるので記載を省略する。
<Formulation of UV curable resin composition>
Hexafunctional urethane acrylic oligomer 100 parts by mass Acrylic polyol-based polymer 5 parts by mass Crosslinkable styrene beads 3 parts by mass (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name: SBX6, average particle size 6 μm)
Photopolymerization initiator 3 parts by mass Solvent: t-butanol 153 parts by mass The name of the company from which the material other than the crosslinkable styrene beads is obtained and the product name are the same as those in Example 1 and therefore will not be described.

次に、防眩性フィルムの表面をレーザー顕微鏡および光学顕微鏡により観察し、微粒子の状態を評価した。その結果、微粒子は分散し、微粒子の突出により表面の凹凸が形成されていることがわかった。   Next, the surface of the antiglare film was observed with a laser microscope and an optical microscope, and the state of the fine particles was evaluated. As a result, it was found that the fine particles were dispersed and surface irregularities were formed by the protrusion of the fine particles.

(比較例2)
まず、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を、形状転写していないTACフィルムの(富士写真フイルム株式会社製、フィルム厚:80μm)のフラットな面上に、#16のワイヤーバーで塗工した。次に、塗工した紫外線硬化型樹脂組成物を80℃の乾燥炉で2分間乾燥させた。次に、乾燥した紫外線硬化型樹脂組成物に対して、窒素雰囲気下で500mJ/cm2の紫外線を照射して、膜厚15μmのハードコート層をTACフィルム上に形成した。以上により、目的とする防眩性フィルムが得られた。
(Comparative Example 2)
First, an ultraviolet curable resin composition having the following composition was coated with a # 16 wire bar on a flat surface of a TAC film (Fuji Photo Film Co., Ltd., film thickness: 80 μm) that was not shape-transferred. . Next, the applied ultraviolet curable resin composition was dried in an oven at 80 ° C. for 2 minutes. Next, the dried UV curable resin composition was irradiated with 500 mJ / cm 2 of UV in a nitrogen atmosphere to form a hard coat layer having a thickness of 15 μm on the TAC film. Thus, the intended antiglare film was obtained.

<紫外線硬化型樹脂組成物の配合>
6官能ウレタンアクリルオリゴマー 95質量部
アクリルポリオール系ポリマー 5質量部
架橋性MSビーズ 27.5質量部
(積水化成品工業株式会社製、商品名:テクポリマー、屈折率1.515、平均粒径5.0μm、変動係数7)
光重合開始剤 イルガキュア184 5質量部
溶剤:トルエン 89質量部
炭酸ジメチル 73質量部
なお、架橋性MSビーズ以外の材料の入手先の社名、および商品名は、実施例1と同様であるので記載を省略する。
<Formulation of UV curable resin composition>
Hexafunctional urethane acrylic oligomer 95 parts by mass Acrylic polyol-based polymer 5 parts by mass Crosslinkable MS beads 27.5 parts by mass (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name: Techpolymer, refractive index 1.515, average particle size 5. 0μm, coefficient of variation 7)
Photopolymerization initiator Irgacure 184 5 parts by mass Solvent: Toluene 89 parts by mass Dimethyl carbonate 73 parts by mass The company name and the trade name of the materials other than the crosslinkable MS beads are the same as in Example 1 Omitted.

次に、防眩性フィルムの表面をレーザー顕微鏡および光学顕微鏡により観察し、微粒子の状態を評価した。その結果、微粒子はハードコート層面内にて凝集体を形成し、この凝集を1つの山として、ハードコート層表面に緩やかなうねりにが形成されていることがわかった。   Next, the surface of the antiglare film was observed with a laser microscope and an optical microscope, and the state of the fine particles was evaluated. As a result, it was found that the fine particles formed an aggregate in the hard coat layer surface, and this flocculation was taken as one peak, and a gentle undulation was formed on the hard coat layer surface.

(比較例3)
ロール原盤の作製時にレジスト層剥離後の再エッチングを行わず、ハードコート層の膜厚を7μmとした以外は実施例1と同様にして、防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
An anti-glare film was obtained in the same manner as in Example 1 except that re-etching after peeling of the resist layer was not performed during the production of the roll master, and the film thickness of the hard coat layer was changed to 7 μm.

(比較例4)
ロール原盤作製時に使用する円形状のパターンの径分布を最小直径Dm:60μm〜最大直径DM:75μmとし、レジスト層剥離後の再エッチングを行わず、ハードコート層の膜厚を7μmとした以外は実施例1と同様にして、防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
The diameter distribution of the circular pattern used at the time of producing the roll master is set to the minimum diameter D m : 60 μm to the maximum diameter D M : 75 μm, and the thickness of the hard coat layer is set to 7 μm without re-etching after the resist layer is peeled off. Except for this, an antiglare film was obtained in the same manner as in Example 1.

上述のようにして得られた実施例1〜3、および比較例1〜4の防眩性フィルムに対して、以下の評価を行った。   The following evaluation was performed with respect to the antiglare films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 obtained as described above.

(20°光沢度)
防眩性フィルムの20°光沢度を以下のようにして測定した。裏面反射の影響を抑え、防眩性フィルムの光沢度を評価するため、作製した防眩性フィルムをヘイズ0.5%以下の光学粘着剤により3mm厚の黒いアクリル板(三菱レイヨン株式会社製、商品名:アクリライトL 502)に貼合した。次に、アクリル板表面の垂線を基準にして20°の光沢度をGardner社製マイクロトリグロスにより測定した。その結果を表1に示す。
(20 ° gloss)
The 20 ° glossiness of the antiglare film was measured as follows. In order to suppress the influence of the back surface reflection and evaluate the glossiness of the antiglare film, the produced antiglare film was black acrylic plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., 3 mm thick) with an optical adhesive having a haze of 0.5% or less. Product name: Acrylite L 502). Next, the glossiness of 20 ° was measured with a microtrigloss manufactured by Gardner, based on the perpendicular line on the surface of the acrylic plate. The results are shown in Table 1.

(拡散反射角度特性)
裏面反射の影響を抑え、防眩性フィルム自体の拡散反射特性を測定するため、防眩性フィルムの裏面を、ヘイズ0.5%以下の光学粘着剤により3mm厚の黒いアクリル板(三菱レイヨン株式会社製、商品名:アクリライトL 502)に貼合した。次に、ゴニオフォトメータ(オプテック社製、商品名:GP−1−3D)を用い、サンプル面(アクリル板表面の垂線)に対して−5°方向からコリメートした入射光を照射し、正反射方向を0°として−5°から10°まで走査して暗室条件下にて反射光強度を求めた。この際、ゴニオフォトメータの輝度計は1°視野であった。その反射強度から求めた半値角、1/10角、10°ゲインを求めた。その結果を表2に示す。なお、「1/10角」とは、ゲインが0°ゲインに対して1/10となる角度を示している。また、図11A、図11Bに、実施例1、3、および比較例1〜3の拡散反射特性を示す。
(Diffuse reflection angle characteristics)
In order to suppress the influence of back surface reflection and measure the diffuse reflection characteristics of the antiglare film itself, the back surface of the antiglare film is coated with a black acrylic plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) with an optical adhesive having a haze of 0.5% or less. Bonded to a product made by company, product name: Acrylite L 502). Next, using a goniophotometer (trade name: GP-1-3D, manufactured by Optec Co., Ltd.), the incident light collimated from the −5 ° direction with respect to the sample surface (perpendicular to the acrylic plate surface) is irradiated and specular reflection is performed. The reflected light intensity was obtained under darkroom conditions by scanning from −5 ° to 10 ° with the direction set to 0 °. At this time, the luminance meter of the goniophotometer had a 1 ° field of view. The half-value angle, 1/10 angle, and 10 ° gain obtained from the reflection intensity were obtained. The results are shown in Table 2. Note that “1/10 angle” indicates an angle at which the gain is 1/10 of the 0 ° gain. 11A and 11B show the diffuse reflection characteristics of Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1 to 3. FIG.

(明所環境下の特性評価)
明所環境下での黒の沈み、および人物や背景の映り込みを確認するため、以下のようにして評価を行った。まず、ソニー製液晶テレビ BRAVIA KDL−40F1のパネル表面からアンチグレア付き偏光板を剥離し、アンチグレア処理のないTAC表面を有する偏光板を貼合した。次に、その上層に実施例および比較例の防眩性フィルムをヘイズ0.5%以下の光学粘着剤で貼合した。この液晶テレビの表示画面を照度800Luxの環境照明下で目視により確認し、エッジのボケ、映りこみ、および白濁感を以下の基準にて評価した。その評価結果を「○」印、「△」印、および「×」印により表2に示す。
(Characteristic evaluation under light environment)
In order to confirm the darkness of the sun and the reflection of people and background in a light environment, the evaluation was performed as follows. First, the polarizing plate with anti-glare was peeled off from the panel surface of Sony LCD TV BRAVIA KDL-40F1, and a polarizing plate having a TAC surface without anti-glare treatment was bonded. Next, the antiglare films of Examples and Comparative Examples were bonded to the upper layer with an optical adhesive having a haze of 0.5% or less. The display screen of this liquid crystal television was visually confirmed under ambient illumination with an illuminance of 800 Lux, and edge blurring, reflection, and cloudiness were evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 2 by “◯” mark, “Δ” mark, and “X” mark.

(エッジのボケ)
○:何が映り込んでいるか判別できない程、物体のエッジがボケている
△:物体のエッジはボケているが、何が映り込んでいるか判別できる
×:物体のエッジが明瞭に見える
(Edge blur)
○: The edge of the object is blurred so that it cannot be determined what is reflected △: The edge of the object is blurred, but it can be determined what is reflected ×: The edge of the object is clearly visible

(映りこみ感)
○:映り込み像強度が弱く、映り込みは全く気にならない
△:映り込んでいるが、映像に集中していれば気にならない程度である
×:映り込み像強度が強く、映像を見る際に気になる
(A feeling of reflection)
○: Reflected image intensity is weak, and the reflection is not noticed at all △: Reflected, but not noticeable if it is concentrated on the image ×: Reflected image intensity is strong, when viewing the image Worried

(白濁感)
○:黒が引き締まっており、明所においてもコントラストが高い
△:黒が浮いているが、映像を見る際に問題にならない程度である
×:映像光のコントラストが落ちて気になる程白濁している
(Cloudiness)
○: Black is tightened and the contrast is high even in bright places. △: Black is floating, but it is not a problem when viewing images. ing

(防汚特性)
防汚特性は、純水接触角(協和界面科学株式会社製CA−XE型)、指紋払拭性、油性マジック(ゼブラ株式会社マッキー黒)のはじき・払拭性により評価した。
(Anti-fouling properties)
The antifouling properties were evaluated by the pure water contact angle (CA-XE type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), fingerprint wiping properties, and the repelling / wiping properties of oily magic (Zebra Co., Ltd. Mackey Black).

表1に、実施例1〜3、比較例1〜4の防眩性フィルムの構成を示す。
In Table 1, the structure of the anti-glare film of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-4 is shown.

表2に、実施例1〜3、比較例1〜4の防眩性フィルムの評価結果を示す。
In Table 2, the evaluation result of the anti-glare film of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-4 is shown.

上述の評価結果などからから以下のことがわかった。
実施例1〜3の防眩性フィルムでは、何が映り込んでいるか判別できない程、物体のエッジがボケており、また、正反射強度も低いため、映りこみは全く気にならない上、壁が比較的明るい部屋でも白濁感が低く黒く見える。これに対して、比較例1の防眩性フィルムでは、何が映り込んでいるか判別できない程、物体のエッジがボケており、また、映りこみは気にならないものの、白濁感が強く、明るい部屋では黒が浮いて見える。比較例2〜4のフィルムは、物体のエッジはボケているものの、光沢が強いため、ボケた像が強く観察され、映りこみが気になる。
From the above evaluation results, the following was found.
In the anti-glare films of Examples 1 to 3, the edge of the object is blurred so that it cannot be determined what is reflected, and the specular reflection intensity is also low, so the reflection is not bothered at all and the wall is not Even in a relatively bright room, the cloudiness is low and looks black. In contrast, in the anti-glare film of Comparative Example 1, the edge of the object is so blurred that it is impossible to determine what is reflected, and although the reflection is not worrisome, the cloudiness is strong and the room is bright. Then black appears to float. In the films of Comparative Examples 2 to 4, although the edge of the object is blurred, since the gloss is strong, the blurred image is strongly observed and the reflection is anxious.

また、比較例1、2のように、粒子により凹凸表面を形成した場合、防眩性を強くしようとすると、白濁感が増し、高角度ゲインを落とそうとすると光沢反射が強くなるため、明るい部屋において、高防眩かつ高コントラストのフィルムを得ることは困難である。これに対して、実施例1〜3のように、形状転写した下地上に、形状追随性を有する樹脂を塗布、硬化することで、その表面形状を自由に設計できるようになり、明るい部屋においても、高防眩かつ高コントラストの防眩性フィルムを得ることができるようになる。しかしながら、比較例3のように、形状転写用のロール作製の際に再エッチングを行わず、切り立った円柱状の下地を形成し、急峻な傾斜を埋めるために厚く樹脂組成物を塗布すると、比較的ゆるやかなうねり形状になってしまい、光沢反射が増大するという問題がある。このため、下地の形状、および樹脂の形状追随性や膜厚を制御することが好ましい。   In addition, when the uneven surface is formed of particles as in Comparative Examples 1 and 2, when trying to increase the antiglare property, the cloudiness increases, and when the high angle gain is decreased, the gloss reflection increases, so that it is bright. It is difficult to obtain a highly antiglare and high contrast film in a room. On the other hand, as in Examples 1 to 3, the surface shape can be freely designed by applying and curing a resin having shape followability on the shape-transferred base, in a bright room. However, an antiglare film having high antiglare and high contrast can be obtained. However, as in Comparative Example 3, when a roll for shape transfer is not re-etched, a sharp cylindrical base is formed, and a thick resin composition is applied to fill a steep slope. There is a problem that the glossy reflection is increased due to the gentle undulation shape. For this reason, it is preferable to control the shape of the base, the shape following property of the resin, and the film thickness.

(強度比)
拡散反射特性において、ある角度範囲における最大ゲイン強度と最小ゲイン強度の比を取った。例えば、±2度の反射角度内における、実施例1の最大ゲインは13.4、最小ゲインは8.2のため、この比は1.6となる。同様にして、反射角度範囲を横軸にとり、縦軸にこのゲイン比をプロットした結果を図12に示す。
(Strength ratio)
In the diffuse reflection characteristic, the ratio of the maximum gain intensity to the minimum gain intensity in a certain angle range was taken. For example, within the reflection angle of ± 2 degrees, the maximum gain of Example 1 is 13.4 and the minimum gain is 8.2, so this ratio is 1.6. Similarly, the reflection angle range is plotted on the horizontal axis, and the gain ratio plotted on the vertical axis is shown in FIG.

(表面形状 自己相関関数)
表面形状の自己相関関数の測定は菱化システム社製 RBX3300H Liteにより、VertScan2.0システムを用いて算出した。防眩性フィルムの歪みを強制するために、防眩性フィルムをスライドガラスに固定し、対物レンズ10倍、中間レンズ0.5倍、波長520nmのPhaze Modeにて観察を行った。この際の横方向分解能は1.7μm、縦方向分解能は0.01nmであった。自己相関関数の算出結果を、図13A〜図13Cに示す。また、実施例1および比較例3の下地形状となるフィルム表面の観察結果を図14A、図14Bに示す。
(Surface shape autocorrelation function)
The measurement of the autocorrelation function of the surface shape was calculated by RBX3300H Lite manufactured by Ryoka System Co., Ltd. using a VertScan 2.0 system. In order to force the distortion of the antiglare film, the antiglare film was fixed to a slide glass, and the objective lens was 10 times, the intermediate lens was 0.5 times, and observation was performed with a phase mode having a wavelength of 520 nm. At this time, the horizontal resolution was 1.7 μm, and the vertical resolution was 0.01 nm. The calculation results of the autocorrelation function are shown in FIGS. 13A to 13C. Moreover, the observation result of the film surface used as the foundation | substrate shape of Example 1 and Comparative Example 3 is shown to FIG. 14A and FIG. 14B.

また、VertScanにより測定した自己相関関数は、形状転写により凹凸表面を形成した実施例1〜3、および微粒子により凹凸表面を形成した比較例2では、ブロードな特性を示しており、その最大値も0.1程度と低かった。これに対して、パターンの配置が比較的規則的な比較例4では、自己相関関数にいくつかのピークが観察され、その値が0.4と大きく、このフィルムは蛍光灯を映りこませると回折によると思われる色分離が見られた。なお、比較例1のフィルムは凹凸粗さが高いため、測定の際にデータの飛びが生じ算出できなかった。   Further, the autocorrelation function measured by VertScan shows broad characteristics in Examples 1 to 3 in which the uneven surface was formed by shape transfer and Comparative Example 2 in which the uneven surface was formed by fine particles, and the maximum value was also shown. It was as low as about 0.1. On the other hand, in Comparative Example 4 where the pattern arrangement is relatively regular, several peaks are observed in the autocorrelation function, and the value is as large as 0.4, and this film reflects a fluorescent lamp. Color separation that seems to be due to diffraction was observed. In addition, since the film of the comparative example 1 had high uneven | corrugated roughness, the jump of data occurred in the case of a measurement, and it was not able to calculate.

(傾斜角度の累積頻度)
触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製、商品名:サーフコーダET4000)の粗さ測定データから傾斜角を算出し、角度分布のヒストグラムを作成した。その結果を図15に示す。
(Cumulative frequency of tilt angle)
A tilt angle was calculated from roughness measurement data of a stylus type surface roughness measuring instrument (trade name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.), and a histogram of angle distribution was created. The result is shown in FIG.

(傾斜角度の規格化頻度)
触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製、商品名:サーフコーダET4000)の粗さ測定データから傾斜角を算出し、角度分布のヒストグラムを作成し、0°の頻度で規格化してプロットした。その結果を図16〜図18に示す。
(Normalization frequency of tilt angle)
The tilt angle is calculated from the roughness measurement data of the stylus type surface roughness tester (trade name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.), a histogram of the angle distribution is created, and standardized at a frequency of 0 ° And plotted. The results are shown in FIGS.

図17、図18から、実施例1〜3では、ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となっていることがわかる。これに対して、比較例1〜3では、ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となっていないことがわかる。   From FIGS. 17 and 18, in Examples 1 to 3, the inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is an inclination having an inclination angle of 0 ° within a range of an inclination angle of 1.5 ° to 3.5 °. It can be seen that the angular distribution is 1/10. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the inclination angle distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is an inclination angle distribution having an inclination angle of 0 ° within the inclination angle range of 1.5 ° to 3.5 °. It turns out that it is not 1/10 of.

以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, Various deformation | transformation based on the technical idea of this invention is possible.

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。   For example, the configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like may be used as necessary.

また、上述の実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。   The configurations of the above-described embodiments can be combined with each other without departing from the gist of the present invention.

また、上述の実施形態に係る防眩性フィルムを、アンチニュートンリング(Anti Newton-Ring:ANR)フィルムとして表示装置に用いるようにしてもよい。このようにANRフィルムとして用いることで、ニュートンリングの発生を抑制する、もしくは気にならない程度までニュートンリングの発生を低減することが可能である。   Moreover, you may make it use the anti-glare film which concerns on the above-mentioned embodiment for a display apparatus as an anti-Newton-Ring (Anti Newton-Ring: ANR) film. By using it as an ANR film in this way, it is possible to suppress the generation of Newton rings or to reduce the generation of Newton rings to the extent that it does not matter.

また、上述の実施形態では、本発明に係る防眩性フィルムを液晶表示装置に適用する場合を例として説明したが、本発明に係る防眩性フィルムは液晶表示装置以外の各種表示装置に対しても適用可能である。例えば、CRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(Plasma Display Panel:PDP)、エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence:EL)ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(Surface-conduction Electron-emitter Display:SED)などの各種表示装置に対しても本発明に係る防眩性フィルムは適用可能である。   Moreover, although the above-mentioned embodiment demonstrated as an example the case where the anti-glare film which concerns on this invention is applied to a liquid crystal display device, the anti-glare film which concerns on this invention is with respect to various display apparatuses other than a liquid crystal display device. Is applicable. For example, CRT (Cathode Ray Tube) display, Plasma Display Panel (PDP), Electro Luminescence (EL) display, Surface-conduction Electron-emitter Display (SED), etc. The antiglare film according to the present invention can be applied to various display devices.

1 防眩性フィルム
2 液晶パネル
2a、2b 偏向子
3 バックライト
11 基材
11a 構造体
12 ハードコート層
21 基材
21a 凹部
22 レジスト層
22a 露光パターン
22b 開口部
23 原盤
13 樹脂組成物
13s 表面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anti-glare film 2 Liquid crystal panel 2a, 2b Deflector 3 Back light 11 Base material 11a Structure 12 Hard coat layer 21 Base material 21a Recess 22 Resist layer 22a Exposure pattern 22b Opening 23 Master 13 Resin composition 13s Surface

Claims (11)

凹凸面を有する基材と、
上記基材の凹凸面上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層は、上記基材の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有し、
上記ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる防眩性フィルム。
A substrate having an uneven surface;
A hard coat layer formed on the uneven surface of the substrate,
The hard coat layer has an uneven shape on the surface following the uneven surface of the substrate,
The anti-glare film in which the unevenness distribution of the concavo-convex surface of the hard coat layer is 1/10 of the inclination distribution of the inclination angle of 0 ° within the range of the inclination angle of 1.5 ° to 3.5 °.
上記ハードコート層の凹凸形状の表面にて拡散反射された光は、−4°以上4°以下の範囲内でほぼ同一強度を有する共に、0°の反射ゲインG0に対する10°以上の反射ゲインG10の比率(G10/G0)が1/100以下である請求項1記載の防眩性フィルム。 The light diffusely reflected by the uneven surface of the hard coat layer has substantially the same intensity within the range of −4 ° to 4 ° and has a reflection gain of 10 ° or more with respect to the reflection gain G 0 of 0 °. anti-glare film according to claim 1, wherein the ratio of G 10 (G 10 / G 0 ) is 1/100 or less. 上記ハードコート層の凹凸形状の表面にて拡散反射された光は、−8°以上8°以下の範囲内でほぼ同一強度を有する共に、0°の反射ゲインG0に対する10°以上の反射ゲインG10の比率(G10/G0)が1/100以下である請求項1記載の防眩性フィルム。 The light diffusely reflected by the uneven surface of the hard coat layer has substantially the same intensity within a range of −8 ° to 8 ° and has a reflection gain of 10 ° or more with respect to a reflection gain G 0 of 0 °. anti-glare film according to claim 1, wherein the ratio of G 10 (G 10 / G 0 ) is 1/100 or less. 上記ハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂を上記基材の凹凸面上に塗布、乾燥、硬化して得られ、
上記電離放射線硬化型樹脂は、無機酸化物フィラーと、粘度調整剤とを含んでいる請求項1記載の防眩性フィルム。
The hard coat layer is obtained by applying, drying and curing an ionizing radiation curable resin on the uneven surface of the substrate,
The anti-glare film according to claim 1, wherein the ionizing radiation curable resin contains an inorganic oxide filler and a viscosity modifier.
上記無機酸化物フィラーと、上記粘度調整剤とが結合を形成している請求項4記載の防眩性フィルム。   The anti-glare film according to claim 4, wherein the inorganic oxide filler and the viscosity modifier form a bond. 上記基材は、凹部または凸部である構造体を有し、
上記構造体により上記基材の凹凸面が形成され、
上記構造体の底面が円形状、または楕円形状である請求項1記載の防眩性フィルム。
The substrate has a structure that is a recess or a protrusion,
The uneven surface of the substrate is formed by the structure,
2. The antiglare film according to claim 1, wherein the bottom surface of the structure is circular or elliptical.
上記構造体は、該構造体の上部から底部に向かって広がる側面を有し、
隣り合う上記構造体の底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある請求項6記載の防眩性フィルム。
The structure has a side surface extending from the top to the bottom of the structure,
The antiglare film according to claim 6, wherein the bottom surfaces of the adjacent structures are in contact with each other or substantially in contact with each other.
上記構造体の底面が円形状であり、
上記底面の直径の分布が、10μm以上200μm以下である請求項6記載の防眩性フィルム。
The bottom surface of the structure is circular,
The antiglare film according to claim 6, wherein the distribution of the diameter of the bottom surface is 10 μm or more and 200 μm or less.
請求項1〜8のいずれか1項に記載の防眩性フィルムを備える表示装置。   A display apparatus provided with the anti-glare film of any one of Claims 1-8. 無機酸化物フィラーと粘度調整剤とを含んでいる電離放射線硬化型樹脂を、基材の凹凸面上に塗布する工程と、
塗布した上記電離放射線硬化型樹脂を乾燥する工程と、
乾燥した上記電離放射線硬化型樹脂を硬化し、上記基材上にハードコート層を形成する工程と
を備え、
上記乾燥の工程では、上記無機酸化物フィラーの表面と上記粘度調整剤とが結合を形成することにより、上記電離放射線硬化型樹脂の粘度が上昇し、粘度が上昇した上記電離放射線硬化型樹脂が上記基材の凹凸面に追随し、
上記ハードコート層の凹凸面の傾斜角度分布は、傾斜角度1.5°以上3.5°以下の範囲内において、0°の傾斜角度の傾斜角度分布の1/10となる防眩性フィルムの製造方法。
Applying an ionizing radiation curable resin containing an inorganic oxide filler and a viscosity modifier on the uneven surface of the substrate;
Drying the applied ionizing radiation curable resin;
Curing the dried ionizing radiation curable resin, and forming a hard coat layer on the substrate,
In the drying step, the surface of the inorganic oxide filler and the viscosity modifier form a bond, thereby increasing the viscosity of the ionizing radiation curable resin and increasing the viscosity of the ionizing radiation curable resin. Follow the uneven surface of the substrate,
The inclination angle distribution of the uneven surface of the hard coat layer is 1/10 of the inclination angle distribution of the inclination angle of 0 ° within the inclination angle range of 1.5 ° to 3.5 °. Production method.
上記塗布の工程前に、
凹凸面を有する原盤を作製する工程と、
上記原盤の凹凸面を基材に転写し、凹凸面を有する基材を作製する工程と
をさらに備え、
上記原盤の作製工程は、
基材の表面にレジスト層を形成する工程と、
上記基材上のレジスト層に所定パターンの開口部を形成する工程と、
上記所定パターンの開口部を形成したレジスト層をマスクとして、上記基材をエッチングし、凹凸面を上記基材の表面に形成する工程と、
上記レジスト層を上記基材の表面から除去し、上記基材の凹凸面の全体を再度エッチングする工程と
を備える請求項10記載の防眩性フィルムの製造方法。
Before the coating process,
Producing a master having an uneven surface;
A step of transferring the uneven surface of the master to a base material and producing a base material having the uneven surface,
The production process of the master is
Forming a resist layer on the surface of the substrate;
Forming a predetermined pattern of openings in the resist layer on the substrate;
Etching the base material using the resist layer having the openings of the predetermined pattern as a mask, and forming an uneven surface on the surface of the base material; and
The method for producing an antiglare film according to claim 10, further comprising: removing the resist layer from the surface of the base material and etching the entire uneven surface of the base material again.
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