JP2011169987A - Antiglare film, method of manufacturing the same, ultraviolet curable resin composition, and display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、防眩性フィルムおよびその製造方法、紫外線硬化型樹脂組成物、ならびに表示装置に関する。詳しくは、帯電防止機能を有する防眩性フィルムに関する。 The present invention relates to an antiglare film and a method for producing the same, an ultraviolet curable resin composition, and a display device. Specifically, the present invention relates to an antiglare film having an antistatic function.
近年、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)やプラズマディスプレイ(Plasma Display Panel:PDP)などの各種表示装置が広く普及している。これらの表示装置の画面は、太陽光や室内照明などの外光が映り込むことによって、特に明所での視認性が著しく阻害されるので、画面表面で外光を拡散反射させる防眩性フィルムが多用されている。 In recent years, various display devices such as a liquid crystal display (LCD) and a plasma display (PDP) have been widely used. The screens of these display devices are anti-glare film that diffuses and reflects the external light on the screen surface, as the external light such as sunlight and indoor lighting is reflected and the visibility in the bright place is significantly hindered. Is frequently used.
従来、この防眩性フィルムでは、画面表面で外光を拡散反射させるために、表面に微細な凹凸構造を構成する手法を用いている。具体的には、透明プラスチック基材上に擦傷性を考慮してハードコート塗料に透明微粒子を分散した拡散層を塗布する方法が、現在の液晶表示装置の主流となっている。 Conventionally, in this anti-glare film, a method of forming a fine uneven structure on the surface is used in order to diffusely reflect external light on the screen surface. Specifically, a method of applying a diffusion layer in which transparent fine particles are dispersed in a hard coat paint in consideration of scratching properties on a transparent plastic substrate is the mainstream of current liquid crystal display devices.
特許文献1では、粒子を含有した防眩層の上に、樹脂バインダーと、有機微粒子または無機微粒子などの流動調整剤とを含有した塗料を塗布することによって、より滑らかな表面凹凸を得る技術が提案されている。
しかしながら、最近の薄型テレビに代表される各種表示装置では、画質の向上、高精細化が急速に進み、画素が小型化している。このため、防眩性フィルムを透過する光が防眩層中の微粒子や表面凹凸構造による屈折や拡散によって歪を受け、画像が不鮮明になったり輝度のバラツキ現象としてギラツキが発生したり、表面が白茶けた画質となり品位が著しく劣化してしまうことがある。したがって、微粒子を用いて表面凹凸構造を形成する現行の防眩性フィルムでは、上述したような画質の向上や高精細化に十分に追従することが困難となっている。 However, in various display devices typified by recent flat-screen televisions, improvement in image quality and high definition are rapidly progressing, and pixels are downsized. For this reason, the light transmitted through the antiglare film is distorted by refraction and diffusion due to fine particles in the antiglare layer and the surface uneven structure, and the image becomes unclear or the brightness varies, The image quality may be dark and the quality may deteriorate significantly. Therefore, it is difficult for the current antiglare film that forms the surface uneven structure using fine particles to sufficiently follow the improvement in image quality and high definition as described above.
そこで、微粒子を用いないで表面凹凸構造を形成する、以下の技術が提案されている。すなわち、基材表面に凹凸形状を形成し、この凹凸形状上に紫外線硬化型樹脂組成物を塗布、硬化して、ハードコート層表面に凹凸形状を形成する技術が提案されている(例えば特許文献2参照)。しかしながら、この技術では、紫外線硬化型樹脂組成物がレベリングして、基材表面の凹凸を埋めてしまうため、防眩性が低下してしまう。 In view of this, the following technique for forming a surface uneven structure without using fine particles has been proposed. That is, a technique has been proposed in which a concavo-convex shape is formed on the surface of a substrate, and an ultraviolet curable resin composition is applied and cured on the concavo-convex shape to form a concavo-convex shape on the surface of the hard coat layer (for example, Patent Documents). 2). However, in this technique, since the ultraviolet curable resin composition is leveled and fills the unevenness of the substrate surface, the antiglare property is lowered.
そこで、紫外線硬化型樹脂組成物の塗布面を下向きにして乾燥させ硬化する技術が提案されている(特許文献2参照)。しかし、特許文献2に記載の技術では、ハードコート液の塗布面を下向きにして乾燥、硬化させる必要があるため、製造プロセスが複雑になってしまう。
Then, the technique which dries and hardens | cures by making the application surface of an ultraviolet curable resin composition face down is proposed (refer patent document 2). However, in the technique described in
また、プラスチック基材およびハードコート層(アクリル硬化膜)は、帯電しやすく、塵や埃が付着しやすい。このため、近年では、防眩性フィルムに対して帯電防止機能を付与することが強く望まれるようになっている。 In addition, the plastic substrate and the hard coat layer (acrylic cured film) are easily charged, and dust and dust are easily attached thereto. For this reason, in recent years, it has been strongly desired to impart an antistatic function to the antiglare film.
したがって、本発明の目的は、製造プロセスを複雑化することなく、優れた防眩性、および帯電防止性を得ることができる防眩性フィルムおよびその製造方法、紫外線硬化型樹脂組成物、ならびに表示装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an antiglare film capable of obtaining excellent antiglare properties and antistatic properties without complicating the production process, a method for producing the same, an ultraviolet curable resin composition, and a display. To provide an apparatus.
上述の課題を解決するために、第1の発明は、
凹凸面を有する基材と、
基材の凹凸面に形成されたハードコート層と
を備え、
ハードコート層の表面には、基材の凹凸面に倣った凹凸形状が形成され、
ハードコート層は、紫外線硬化型樹脂組成物を基材の凹凸面上に塗布、硬化して得られ、
紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含有し、
イオン性液体の配合量が、紫外線硬化型樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である防眩性フィルムである。
In order to solve the above-mentioned problem, the first invention
A substrate having an uneven surface;
A hard coat layer formed on the uneven surface of the substrate,
On the surface of the hard coat layer, an uneven shape following the uneven surface of the substrate is formed,
The hard coat layer is obtained by applying and curing an ultraviolet curable resin composition on the uneven surface of the substrate,
The ultraviolet curable resin composition contains a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, and an ionic liquid,
It is an anti-glare film whose compounding quantity of an ionic liquid is 10 mass% or more and 25 mass% or less with respect to the total solid of an ultraviolet curable resin composition.
第2の発明は、
基材の凹凸面に紫外線硬化型樹脂組成物を塗布する工程と、
塗布した紫外線硬化型樹脂組成物を乾燥させることで、基材の凹凸面に紫外線硬化型樹脂組成物を倣わせる工程と、
乾燥した紫外線硬化型樹脂組成物を硬化する工程と
を備え、
紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含有し、
イオン性液体の配合量が、紫外線硬化型樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である防眩性フィルムの製造方法である。
The second invention is
Applying an ultraviolet curable resin composition to the uneven surface of the substrate;
A step of copying the ultraviolet curable resin composition on the uneven surface of the substrate by drying the applied ultraviolet curable resin composition;
A step of curing the dried UV curable resin composition,
The ultraviolet curable resin composition contains a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, and an ionic liquid,
It is a manufacturing method of the anti-glare film whose compounding quantity of an ionic liquid is 10 to 25 mass% with respect to the total solid of an ultraviolet curable resin composition.
第3の発明は、
2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、
光重合開始剤と、
無機酸化物フィラーと、
イオン性液体と
を含有し、
イオン性液体の配合量が、全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である紫外線硬化型樹脂組成物である。
The third invention is
Monomers and / or oligomers having two or more (meth) acryloyl groups;
A photopolymerization initiator;
An inorganic oxide filler;
An ionic liquid and
It is an ultraviolet curable resin composition whose compounding quantity of an ionic liquid is 10 mass% or more and 25 mass% or less with respect to the total solid.
本発明では、紫外線硬化型樹脂組成物が、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含んでいる。したがって、乾燥工程において、紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる無機酸化物フィラーとイオン性液体との作用により、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が上昇し、粘度が上昇した紫外線硬化型樹脂組成物が基材の凹凸面に追随する。したがって、基材の凹凸面に倣った凹凸形状が、ハードコート層表面に形成され、防眩性が得られる。すなわち、製造プロセスの複雑化を招くことなく、優れた防眩性を有する防眩性フィルムが得られる。また、ハードコート層がイオン性液体を含んでいるので、ハードコート層に帯電防止性が発現する。 In the present invention, the ultraviolet curable resin composition contains an inorganic oxide filler and an ionic liquid. Accordingly, in the drying process, the viscosity of the ultraviolet curable resin composition is increased by the action of the inorganic oxide filler and the ionic liquid contained in the ultraviolet curable resin composition, and the viscosity is increased. Follows the uneven surface of the substrate. Accordingly, a concavo-convex shape following the concavo-convex surface of the substrate is formed on the surface of the hard coat layer, and antiglare properties are obtained. That is, an antiglare film having excellent antiglare properties can be obtained without complicating the manufacturing process. Further, since the hard coat layer contains an ionic liquid, antistatic properties are exhibited in the hard coat layer.
以上説明したように、本発明によれば、製造プロセスを複雑化することなく、優れた防眩性、および帯電防止性を得ることができる。 As described above, according to the present invention, excellent antiglare properties and antistatic properties can be obtained without complicating the manufacturing process.
本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
1.第1の実施形態(イオン性液体を含むハードコート層を備える防眩性フィルムの例:図1参照)
2.第2の実施形態(2種の構造体により基材の凹凸面が形成された防眩性フィルムの例:図9参照)
3.第3の実施形態(基材の凹凸面に微細構造体が形成された防眩性フィルムの例:図10参照)
4.第4の実施形態(構造体の側面にステップを形成した防眩性フィルムの例:図12参照)
5.第5の実施形態(表示装置の表面に防眩性フィルムを適用した例:図13参照)
Embodiments of the present invention will be described in the following order with reference to the drawings.
1. First Embodiment (An example of an antiglare film provided with a hard coat layer containing an ionic liquid: see FIG. 1)
2. Second Embodiment (An example of an antiglare film in which an uneven surface of a substrate is formed by two kinds of structures: see FIG. 9)
3. Third Embodiment (An example of an antiglare film in which a fine structure is formed on an uneven surface of a substrate: see FIG. 10)
4). Fourth Embodiment (An example of an antiglare film in which a step is formed on a side surface of a structure: see FIG. 12)
5. Fifth Embodiment (Example in which an antiglare film is applied to the surface of a display device: see FIG. 13)
<1.第1の実施形態>
[1.1.防眩性フィルムの構成]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの一構成例を示す断面図である。この防眩性フィルム1は、表面に凹凸形状を有し、この凹凸形状により反射光を散乱させる光学フィルムである。図1に示すように、防眩性フィルム1は、凹凸面を有する基材11と、この基材11の凹凸面上に形成されたハードコート層12とを備える。ハードコート層12の表面には、基材11の凹凸面に倣った凹凸形状が形成されている。ハードコート層12の表面の凹凸形状は、基材11の凹凸形状よりもなだらかであることが好ましい。
<1. First Embodiment>
[1.1. Composition of antiglare film]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an antiglare film according to the first embodiment of the present invention. This
ハードコート層12の凹凸面は、頂部から底部に向かって広がる側面を有する複数の突起12aを備えることが好ましい。このような側面を有する複数の突起12aを備えることで、防眩性フィルム1の凹凸面をなだらかなうねりにより形成することができる。すなわち、防眩性を損なうことなく、外光の散乱範囲を狭くすることができる。複数の突起12aのうち隣り合う突起12aの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にあることが好ましい。このような関係にあると、防眩性フィルム1の凹凸面における突起12aの充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。ここで、突起12aの底面同士がほぼ接するとは、突起12aの底面同士の距離が0μmより大きく80μm以下の範囲内で隣り合っていることを意味する。
It is preferable that the concavo-convex surface of the
図2A、図2Bは、突起の底面の定義を説明するためのものである。
突起12aの底面は、図2Aに示すように、以下のようにして求めた値である。ある任意の突起12aについて、z軸を含む面における断面形状を評価する。突起12aの頂点からその側面を左右それぞれに下っていき、それぞれで最初に遭遇する極小値αの位置同士を任意の断面について結んでできた図形12vをxy平面に投影する。この投影してできた図形12wを突起12aの底面と定義する。
2A and 2B are for explaining the definition of the bottom surface of the protrusion.
As shown in FIG. 2A, the bottom surface of the
また、図2Bに示すように、隣接する突起12aの間に隙間がある場合、この隙間部分が平面状となる。この場合には、上記極小値αの位置は以下のように定義される。すなわち、突起12aの頂点からその側面を左右それぞれに下っていき、突起12aの側面と平面状の隙間部分との境界点を極小値αの位置とする。
Further, as shown in FIG. 2B, when there is a gap between the
凹凸面の高さ(突起12aの高さ)とは、z軸方向における突起12aの頂点と突起間の極小値との位置の差である。但し、z軸方向とは、基材11の厚さ方向である。x軸方向、およびy軸方向とは、防眩性フィルム1の面内において互いに直交するとともに、z軸と直交する方向である。
The height of the concavo-convex surface (height of the
ハードコート層12の凹凸面の最大高さ(Rz)が、0.1μm以上1μm以下、好ましくは0.25μm以上0.95μm以下である。0.1μm未満であると、外光の散乱範囲が狭くなりすぎ、防眩性が損なわれる傾向がある。一方、1μmを超えると、外光の散乱範囲が広くなりすぎ、防眩性フィルム1を液晶表示装置などに適用した場合に、表示面の黒さが低下し、視認性が低下する傾向がある。
The maximum height (Rz) of the uneven surface of the
ハードコート層12の凹凸面は、2.5°以上の傾斜角度成分と2°以下の傾斜角度成分との比が1/1000以下であり、0.5°以下の傾斜角度成分が全体の85%以下である傾斜角度分布を有することが好ましい。2.5°以上の傾斜角度成分と2°以下の傾斜角度成分との比が1/1000を超えると、防眩性フィルム1を液晶表示装置などに適用した場合に、表示面の黒さが低下し、視認性が低下する傾向がある。0.5°以下の傾斜角度成分が全体の85%を超えると、防眩性が低下する傾向がある。
The uneven surface of the
ハードコート層12の凹凸面は、3°以上の傾斜角度成分が0.1%以下であるの傾斜角度分布を有していることが好ましい。3°以上の傾斜角度成分が0.1%を超えると、防眩性フィルム1を液晶表示装置などに適用した場合に、表示面の黒さが低下し、視認性が低下する傾向がある。
The uneven surface of the
ハードコート層12の凹凸面は、2°以下の傾斜角度成分が90%以上である傾斜角度分布を有していることが好ましい。2°以下の傾斜角度成分が90%未満であると、防眩性フィルム1を液晶表示装置などに適用した場合に、表示面の黒さが低下し、視認性が低下する傾向がある。
The uneven surface of the
ハードコート層12の凹凸面は、1°以下の傾斜角度成分が40%以上である傾斜角度分布を有していることが好ましい。1°以下の傾斜角度成分が40%未満であると、3°以上の成分が増加、2°以下成分が減少傾向になり、視認性の低下を招く。
The uneven surface of the
防眩性フィルム1における反射光の5°ゲインは、好ましくは0.3以下、より好ましくは0.05以下の範囲内である。5°ゲインが0.3を超えると、防眩性フィルム1への入射光の散乱範囲が広くなっていまい、白ちゃける傾向がある。
The 5 ° gain of reflected light in the
防眩性フィルム1の全光線透過率は、90%以上であることが好ましい。90%以上であると、基材11の透過性を劣化させることなく、バックライトからの光量を保てるからである。へイズは5%以下であることが好ましい。5%以下であると、バックライト光の散乱、および表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。なお、ヘイズは、表面ヘイズと内部ヘイズとを加算したものである。
The total light transmittance of the
内部ヘイズは、好ましくは1%以上20%以下、より好ましくは1%以上5%以下である。1%未満であると、基材11の凹凸面が滑らかとなり、ギラツキ低減の効果が低下する傾向にある。20%を超えると、表示装置に防眩性フィルム1を適用したときに、画面が白っぽくなり、視認性が失われる傾向にある。5%以下とすると、微細構造体11bの形成のみで内部ヘイズを容易に付与することができる。内部ヘイズを5%より大きくする場合には、ハードコート層12の表面形状に影響がない範囲で、ハードコート層12に微粒子を添加するようにしてもよい。
The internal haze is preferably 1% or more and 20% or less, more preferably 1% or more and 5% or less. If it is less than 1%, the uneven surface of the
防眩性フィルム1の20°光沢度は、20以上78以下であることが好ましい。20未満であると、白ちゃける傾向がある。一方、78を超えると、防眩性が不十分となる傾向がある。
The 20 ° glossiness of the
突起12aの底面の形状が、円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種であることが好ましく、多角形状であることがより好ましい。突起12aの底面の形状が円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種であると、高角度の表面傾斜を少なく抑えることができる傾向にある。突起12aの底面の形状が多角形状であると、ハードコート層12の凹凸面における突起12aの充填率を高め、平坦部を減らして、防眩性を高めることができる。
The shape of the bottom surface of the
(基材)
基材11の凹凸面は、凸部である多数の構造体11aを基材表面に形成することにより構成されている。多数の構造体11aは、充填率の向上の観点からすると、互いに隣接していることが好ましいが、図1に示すように、構造体間に隙間11bを設けるようにしてもよい。
(Base material)
The concavo-convex surface of the
基材11は、例えば、透明性を有するプラスチック基材である。基材11の形状としては、例えば、透明性を有するフィルムなどを用いることができる。ここで、フィルムにはシートも含まれるものと定義する。基材11の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエステル(TPEE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、アラミド、ポリエチレン(PE)、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン(PP)、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。基材11の厚さは、生産性の観点から38〜100μmであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
The
(構造体)
図3は、基材11の凹凸面の形状の一例を示す平面図である。図3に示すように、この基材11の表面には、凸部である構造体11aが不規則に(ランダム)に形成されている。この構造体11aは、2次元的または3次元的に不規則に形成されていることが好ましい。このような基材11の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層12の表面を2次元的または3次元的に不規則な凹凸形状とすることができるからである。また、構造体11aの底面の大きさは、不規則に変化することが好ましい。このような基材11の凹凸面に倣ったハードコート層表面を形成することで、ハードコート層表面の凹凸形状(うねり)の周期を不規則に変化させることができるからである。ここで、2次元的に不規則とは、防眩性フィルム1または基材11の面内方向に、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。また、3次元的に不規則とは、防眩性フィルム1または基材11の面内方向に、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていると共に、防眩性フィルム1または基材11の厚さ方向にも、構造体11aまたは凹凸が不規則に形成されていることをいう。
(Structure)
FIG. 3 is a plan view showing an example of the shape of the uneven surface of the
構造体11aは、この構造体11aの頂部から底部に向かって広がる側面を有していることが好ましい。このような形状を有する場合、隣り合う構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接することが好ましい。凹部または凸部である構造体11aの形状としては、例えば、ドーム状、錐体状または柱状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、所望とする光学特性に応じて任意に選択することができる。ドーム状としては、例えば、半球状、半楕円球状を挙げることができる。錐体状としては、例えば、先端が尖った錐体状、先端に曲率を有する錐体状、先端が切り落とされた錐体状を挙げることができる。具体的には例えば、円錐状、円錐台状、楕円錐、楕円錐台状、多角錐状、多角錐台状などを挙げることができる。多角錐の形状としては、例えば、四角錐、六角錐、八角錐などの形状が挙げられる。柱状としては、例えば、円柱状、多角柱状などを挙げることができる。多角柱の形状としては、例えば、四角柱、六角柱、八角柱などの形状が挙げられる。また、構造体11aに形状異方性を付与してもよく、表示装置の水平方向および垂直方向の光学特性を調整する観点から、例えば基材11の面内方向のうち、直交する2方向に形状異方性を付与することが好ましい。具体的には、形状異方性を有する構造体11aの形状としては、例えば、楕円柱状、半楕円球状、楕円錐台状、一方向に引き伸ばされた多角柱状または多角錐状などが挙げられる。
The
構造体11aの底面の形状としては、円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種であることが好ましく、多角形状であることがより好ましい。これにより、ハードコート層12を基材11の凹凸に追随させて形成した場合、ハードコート層12の突起12aの底面形状を、円形状、楕円形状および多角形状の少なくとも1種とすることができるからである。構造体11aの底面の多角形状としては、例えば、四角形状、六角形状、八角形状などが挙げられる。構造体11aの底面を楕円形状や多角形状にする場合には、構造体11aの底面形状が、例えば同一方向に揃うように構造体11aが基材表面に配置される。具体的には、構造体11aの底面を楕円形状にする場合には、その長軸方向または短軸方向が同一方向に揃うように配置される。構造体11aの底面を多角形状にする場合には、同一の角度を有する角が同一方向に揃うように配置される。構造体11aの底面の形状は、所望とする特性に応じて選択することが好ましい。例えば、構造体11aの底面の形状を楕円形状とした場合には、短軸方向に比して長軸方向がより滑らかな凹凸形状となるため、長軸方向からの外光の影響を受けにくくなり、表示画面などが白っぽくなることを抑制できる。また、短軸方向は、長軸方向に比して凹凸形状が荒れるため、良好な防眩性を確保することができる。すなわち、構造体11aの底面を楕円形状とした場合には、全体として高防眩性であり、かつ高コントラストな防眩性フィルム1を得ることができる。
The shape of the bottom surface of the
構造体11aが以下の(1)〜(3)の関係を満たすことが好ましい。モアレの発生を抑制でき、かつ、防眩性およびコントラストに優れた防眩性フィルム1を得ることができるからである。
(1)構造体11aの底面の大きさが、最小距離Rm以上、最大距離RM以下の範囲内でランダムに変化する。
(但し、最小距離Rm:構造体11aの底面の重心から底面の周縁までの最短距離、最大距離RM:構造体11aの底面の重心から底面の周縁までの最大距離)
(2)構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にある。
(3)構造体11aの底面の最小距離Rmと最大距離RMは、Rm/RM≦0.9の関係を満たす。
(1)の関係を満たさず、構造体11aの底面の大きさがランダムに変化しない場合には、モアレが発生する傾向がある。(2)の関係を満たさず、構造体11aの底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にない場合には、充填率が低下し、防眩性が低下する傾向がある。(3)の関係を満たさず、Rm/RM>0.9となると、配置が規則的になり、モアレが発生しやすくなる傾向がある。ここで、構造体11aの底面同士がほぼ接するとは、構造体11aの底面同士の距離が0μmよりも大きく80μm以下の範囲内で隣り合っていることを意味する。
It is preferable that the
(1) The size of bottoms of the
(However, the minimum distance R m : the shortest distance from the center of gravity of the bottom surface of the
(2) The bottom surfaces of the
(3) The minimum distance R m and the maximum distance R M of the bottom surface of the
If the relationship (1) is not satisfied and the size of the bottom surface of the
図4は、構造体の最小距離Rmおよび最大距離RMの好ましい範囲を示す。図4に示すように、Rm/RM≦0.9の関係を満たすことが好ましい。また、構造体11aの最小距離Rmおよび最大距離RMは、好ましくはRm<RM≦75μm、より好ましくは10μm≦Rm<RM≦75μmの範囲内である。最小距離Rmが10μm未満になると、防眩性を得ようとすると白濁感が上昇し、白濁感を抑えようとすると防眩性が低下する傾向がある。すなわち、防眩性と白濁感の抑制とを両立することが困難になる傾向がある。最大距離RMが75μmを超えると、表面がざらついたり、画面を見たときにぎらついて見えたりする傾向がある。
FIG. 4 shows a preferred range for the minimum distance R m and the maximum distance R M of the structure. As shown in FIG. 4, it is preferable to satisfy the relationship of R m / R M ≦ 0.9. The minimum distance R m and the maximum distance R M of the
最小距離Rmと最大距離RMがRm/RM≦0.9、10μm≦Rm<RM≦75μmの関係を満たす場合、ハードコート層12の表面の平均凹凸高さPVが、0.15μm≦PV≦1.6μmの範囲内であることが好ましい。PVが0.15μm未満になると、防眩性が得られなくなる傾向がある。PVが1.6μmを超えると、白濁感が上昇し、白濁度が0.64%を越える傾向がある。白濁度は、0.64%以下であることが好ましい。0.64%以下であると、バックライト光の散乱、および表面反射光の散乱を抑制でき、黒を黒として視認できるからである。PVは凸部(構造体11a)の最高点と、隣接する凸部間にできる谷部の最低点との間の高さを示す。
Minimum distance if the R m and the maximum distance R M satisfy the relationship R m / R M ≦ 0.9,10μm ≦ R m <R M ≦ 75μm, the average irregularity height PV of the surface of the
なお、構造体11aの底面が円形状である場合には、上述の各関係において、最小距離Rmは最小半径Rmであり、最大距離RMは最大半径RMである。また、構造体11aの底面が、楕円形状である場合には、最小距離Rmは短軸長さ(短径)の最小値Rmであり、最大距離RMは長軸長さ(長径)の最大値RMである。
When the bottom surface of the
(ハードコート層)
ハードコート層12は、基材11の表面、すなわち防眩性フィルム1が適用される偏光子、および表示装置の画面などの表面に耐擦傷性と防眩性とを併せて付与するためのものであり、例えば、基材11より硬い高分子樹脂層である。ハードコート層12は、樹脂組成物を基材11の凹凸面上に塗布、乾燥、硬化して得られる。ハードコート層12は、基材11の凹凸面に倣った凹凸形状を表面に有している。この凹凸形状は、基材11の凹凸面に倣った連続的な波面であることが好ましい。凹凸形状は、2次元的または3次元的に不規則な凹凸形状であることが好ましい。モアレの発生を抑制することができるからである。ハードコート層12の凹部および凸部の位置はそれぞれ、基材11の凹部および凸部の位置と対応していることが好ましい。
(Hard coat layer)
The
ハードコート層表面の凹凸量は、例えば基材表面の凹凸量より小さく、ハードコート層の塗布厚が厚いほど凹凸量が小さくなる傾向がある。任意の方向に切断したときのハードコート層断面が、連続波形状であることが好ましい。これにより、ハードコート層表面に滑らかなうねりを形成し、このうねりにより光を拡散することができる。ここで、連続的な波面とは、ハードコート層表面に不連続点や段差がなく滑らかにつながっていること、具体的には、ハードコート層表面の任意の点において微分可能であることを示す。ハードコート層12の表面に形成された突起12aの高さは、その底面の大きさと相関して連続的に変化していることが好ましい。このように突起12aの高さが連続的に変化することで、分光現象をより抑制することができるからである。分光現象がある場合、遠くの蛍光灯を映し込んだとき、蛍光灯の周囲に虹模様が発生する。
The amount of unevenness on the surface of the hard coat layer is, for example, smaller than the amount of unevenness on the surface of the substrate, and the amount of unevenness tends to decrease as the hard coat layer is thickened. The cross section of the hard coat layer when cut in an arbitrary direction is preferably a continuous wave shape. Thereby, a smooth wave | undulation can be formed in the hard-coat layer surface, and light can be diffused by this wave | undulation. Here, the continuous wavefront means that the hard coat layer surface is smoothly connected without discontinuities or steps, and specifically, can be differentiated at any point on the hard coat layer surface. . It is preferable that the height of the
ハードコート層12の鉛筆硬度が好ましくはH以上、より好ましくは2H以上である。鉛筆硬度がH未満であると、ハードコートとしての機能が低下する傾向がある。ハードコート層12のマルテンス硬度が270以上600以下であることが好ましい。マルテンス硬度が270未満であると、鉛筆硬度がH未満となりハードコートとしての機能が低下する傾向がある。マルテンス硬度が600を超えると、硬化後の可撓性が低下する傾向がある。ハードコート層12の表面抵抗が、1.0×108Ω/□以上1.0×1013Ω/□以下の範囲であることが好ましい。表面抵抗が1.0×108Ω/□未満であると、膜硬度が低下する傾向がある。一方、表面抵抗が1.0×1013Ω/□を超えると、帯電防止機能が低下し防塵特性が不十分となる傾向がある。
The pencil hardness of the
[1.2.防眩性フィルムの製造方法]
次に、図5に示すフローチャート、および図6〜図8に示す工程図を参照しながら、本発明の第1の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法の一例について説明する。
[1.2. Manufacturing method of antiglare film]
Next, an example of a method for producing an antiglare film according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 5 and the process diagrams shown in FIGS.
(メッキ処理工程)
まず、ステップS1において、必要に応じて、被加工体である原盤21の表面に、メッキ処理を施し、銅メッキなどのメッキ層を形成する。被加工体である原盤21の形状としては、例えば、板状、シート状、フィルム状、ブロック状、円柱状、円筒状などが挙げられる。円柱状、または円筒状の原盤21としては、例えば、誘導発熱ジャケットロール、熱媒循環ロール、ヒーター内臓ロールなどの加熱ロールを用いることができる。
(Plating process)
First, in step S1, if necessary, a plating process is performed on the surface of the
(レジスト層形成工程)
次に、ステップS2において、原盤21の表面上に、レジスト層22を形成する(図6A参照)。レジスト層22の材料としては、例えば、無機レジストおよび有機レジストのいずれも用いることができる。なお、原盤21が円柱状または円筒状を有する場合には、それらの外周面にレジスト層22を形成することが好ましい。
(Resist layer formation process)
Next, in step S2, a resist
(露光工程)
次に、ステップS3において、例えば、レジスト層22にレーザー光L1を照射することにより、所定の露光パターンを有する複数の露光部22aをレジスト層22に形成する(図6B参照)。具体的には例えば、ランダムパターンを生成し、このランダムパターンに基づき、以下に示すようにレジスト層22を露光する。すなわち、最小距離Rm以上、最大距離RM以下の範囲内で露光部22aの大きさをランダムに変化させるとともに、露光部22a同士を接するまたはほぼ接するようにしながら、レーザー光L1をレジスト層22に照射する。また、露光部22aの最小距離Rmと最大距離RMが、Rm/RM≦0.9の関係を満たすようにする。但し、最小距離Rm:露光部22aの重心から外周までの最短距離、最大距離RM:露光部22aの重心から外周までの最大距離である。露光部22aの形状としては、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などを挙げることができる。なお、露光部22aが円形状である場合には、最小距離Rmは最小半径Rmであり、最大距離RMは最大半径RMである。また、露光部22aが楕円形状である場合には、最小距離Rmは短軸長さ(短径)の最小値Rmであり、最大距離RMは長軸長さ(長径)の最大値RMである。また、ランダムパターンを構成する形状の隙間に、円形状などの形状をさらに配置することが好ましい。
(Exposure process)
Next, in step S3, for example, a plurality of exposed portions 22a having a predetermined exposure pattern are formed on the resist
(現像工程)
次に、ステップS4において、複数の露光部22aが形成されたレジスト層22を現像する。これにより、露光部22aに応じた開口部22bがレジスト層22に形成される(図6C参照)。なお、図7Cでは、レジストとしてポジ型レジストを用い、露光部22aが開口部22bとなる例が示されているが、レジストはこの例に限定されるものではない。すなわち、レジストとしてネガ型レジストを用い、露光部22aを残すようにしてもよい。
(Development process)
Next, in step S4, the resist
隣接する開口部22bの間の最小間隔dは、1μm以上、(D2×4)μm以下であることが好ましい。ここで、D2は、再エッチング(第2のエッチング処理)によるエッチング深さ(量)である。最小間隔が1μm未満であると、再エッチング時に、円柱形状などを有する凹部間の壁が破れてつながってしまい、平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。最小間隔が(D2×4)μmを超えると、原盤21の全面を再エッチングしても、平坦部が多くなってしまい、防眩性が低下する傾向がある。
The minimum distance d between adjacent openings 22b is preferably 1 μm or more and (D2 × 4) μm or less. Here, D2 is an etching depth (amount) by re-etching (second etching process). When the minimum distance is less than 1 μm, the walls between the recesses having a columnar shape or the like are broken and connected at the time of re-etching, so that flat portions increase and the antiglare property tends to decrease. When the minimum distance exceeds (D2 × 4) μm, even if the entire surface of the
(エッチング工程)
次に、ステップS5において、複数の開口部22bが形成されたレジスト層22をエッチングマスクとして、原盤21の表面にエッチング処理(第1のエッチング処理)を施す。これにより、例えば円柱状などを有する複数の凹部21aが原盤21の表面に形成される(図7A参照)。また、このエッチング処理の際に、エッチング条件を調整することにより、多数の転写用微細構造体21bを原盤21の表面に形成することができる。
(Etching process)
Next, in step S5, an etching process (first etching process) is performed on the surface of the
エッチングとしては、例えば、ドライエッチングおよびウエットエッチングのいずれも用いることができるが、設備が簡易である点からすと、ウエットエッチングを用いることが好ましい。エッチングとしては、例えば、等方性エッチングおよび異方性エッチングのいずれも用いることができ、所望とする構造体11aの形状に応じて適宜選択することが好ましい。エッチング処理の深さD1は、0.5μm以上10μm以下であることが好ましい。0.5μm未満であると、防眩性を維持するにはハードコート層12の膜厚を薄くする必要があり、鉛筆硬度が低下する傾向がある。または、再エッチング処理により、凹部の深さが浅くなる、もしくは平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。一方、10μmを超えると、ハードコート塗料の塗布後にザラツキ感が生じる、または白濁を抑えるためにハードコート層12の厚みを厚くする必要があり、カールが大きくなる傾向がある。また、転写速度が下がり、生産性が低下する傾向もある。エッチング液としては、例えば、塩化第二銅エッチング液(塩化第二銅、塩酸、水)を使用することができるが、これに限定されるわけではない。
As the etching, for example, both dry etching and wet etching can be used, but it is preferable to use wet etching in view of simple equipment. As the etching, for example, both isotropic etching and anisotropic etching can be used, and it is preferable to select appropriately according to the desired shape of the
(レジスト剥離工程)
次に、ステップS6において、アッシングなどにより、基材表面に形成されたレジスト層22を剥離する(図7B参照)。これにより、複数の凹部21aが基材表面に形成される。すなわち原盤表面に凹凸面が形成される。
(Resist stripping process)
Next, in step S6, the resist
(再エッチング工程)
次に、ステップS7において、必要に応じて、原盤21の凹凸面全体に再エッチング処理(第2のエッチング処理)を施す。これにより、原盤21の表面に形成された複数の凹部21aが、例えば円柱状からなだらかなドーム状に変わり、滑らかな凹凸面を有する原盤23が得られる(図7C参照)。滑らかな凹凸面は、連続的な波面であることが好ましい。優れた防眩性とコントラストとを両立することができるからである。なお、この原盤23の凹凸面は、基材11の凹凸面を反転したものである。
(Re-etching process)
Next, in step S7, a re-etching process (second etching process) is performed on the entire concave / convex surface of the
この再エッチングの深さD2は、(D1×0.6)μm以上(D1×2)μm以下であることが好ましい。(D1×0.6)μm未満であると、ドーム形状などの形成が不十分となり、平坦部が残り、直線傾斜があり、防眩性の改善が不十分となる傾向がある。一方、(D1×2μm)を超えると、凹部の深さが浅くなり過ぎ、または平坦部が多くなり、防眩性が低下する傾向がある。 The depth D2 of this re-etching is preferably (D1 × 0.6) μm or more and (D1 × 2) μm or less. If it is less than (D1 × 0.6) μm, the formation of a dome shape or the like is insufficient, a flat portion remains, there is a linear inclination, and the improvement of antiglare property tends to be insufficient. On the other hand, when it exceeds (D1 × 2 μm), the depth of the concave portion becomes too shallow, or the flat portion increases, and the antiglare property tends to decrease.
(メッキ処理工程)
次に、ステップS8において、必要に応じて、原盤23の凹凸面にメッキ処理を施し、ニッケルメッキやクロムメッキなどのメッキ層(図示省略)を形成する。このようにメッキ層を形成することで、長期間使用の磨耗耐久性を向上することができる。なお、メッキ処理後の表面にも、多数の転写用微細構造体21bによる微細な凹凸が原盤表面に保持されるように、メッキ処理を適宜調整することが好ましい。
(Plating process)
Next, in step S8, the uneven surface of the
(形状転写工程)
次に、ステップS9において、基材11の平滑な表面に対して原盤23を押し当てるとともに、基材11を加熱することにより、原盤23の凹凸形状を基材11に転写する(図7D参照)。この際、多数の転写用微細構造体21bも基材11に転写されるように、転写条件を適宜調整することが好ましい。
(Shape transfer process)
Next, in step S9, the
(塗工工程)
次に、ステップS10において、樹脂組成物(以下、適宜塗料とも称する)13を基材11の凹凸面上に塗工する(図8A参照)。塗工方法は、特に限定されるものではなく、公知の塗工方法を用いることができる。公知の塗工方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。
(Coating process)
Next, in step S10, a resin composition (hereinafter also referred to as a paint as appropriate) 13 is applied onto the uneven surface of the substrate 11 (see FIG. 8A). The coating method is not particularly limited, and a known coating method can be used. Known coating methods include, for example, micro gravure coating method, wire bar coating method, direct gravure coating method, die coating method, dip method, spray coating method, reverse roll coating method, curtain coating method, comma coating method, knife coating. Method, spin coating method and the like.
(樹脂組成物)
樹脂組成物としては、後工程である乾燥工程(ステップS11)において、粘度が上昇し、流動性が失われる特性を有するものが好ましい。後工程である乾燥工程において、基材11の凹凸面に樹脂組成物を追随させることができるからである。樹脂組成物としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化する電離放射線硬化型樹脂、または熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、光により硬化する感光性樹脂組成物が好ましく、紫外線により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物が最も好ましい。電離放射線硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂は、粘度調整剤、および溶剤を含んでいることが好ましい。これらの材料を含むことで、後工程である乾燥工程において、基材11の凹凸面に樹脂組成物を追随させることができるからである。
(Resin composition)
As a resin composition, what has the characteristic that a viscosity rises and fluidity | liquidity is lost in the drying process (step S11) which is a post process is preferable. This is because the resin composition can follow the uneven surface of the
(紫外線硬化型樹脂組成物)
紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機系の粘度調整剤と、イオン性液体と、溶剤とを含有している。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、後述する乾燥工程における塗膜の形状追随性向上の観点から、有機系の粘度調整剤をさらに含有していることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、防汚性付与の観点から、防汚剤をさらに含有していることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、基材11への濡れ性向上の観点から、レベリング剤をさらに含有することが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、帯電防止機能を防眩性フィルム1に付与する観点から、帯電防止剤をさらに含有することが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、ハードコートに内部ヘイズを付与する有機または無機フィラーをさらに含有するようにしてもよい。このようにフィラーを含有させる場合、フィラーとマトリクスとの屈折率差は、0.01以上であることが好ましい。フィラーの平均粒径は、0.1〜1μmであることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤および酸化防止剤などをさらに含有するようにしてもよい。
(UV curable resin composition)
The ultraviolet curable resin composition includes, for example, a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic viscosity modifier, an ionic liquid, and a solvent. Contains. Moreover, it is preferable that the ultraviolet curable resin composition further contains an organic viscosity modifier from the viewpoint of improving the shape followability of the coating film in the drying step described later. Moreover, it is preferable that the ultraviolet curable resin composition further contains an antifouling agent from the viewpoint of imparting antifouling properties. Moreover, it is preferable that an ultraviolet curable resin composition further contains a leveling agent from a viewpoint of the wettability improvement to the
以下、アクリレート、光重合開始剤、無機系の粘度調整剤、有機系の粘度調整剤、溶剤、帯電防止剤、防汚剤、およびレベリング剤について順次説明する。 Hereinafter, an acrylate, a photopolymerization initiator, an inorganic viscosity modifier, an organic viscosity modifier, a solvent, an antistatic agent, an antifouling agent, and a leveling agent will be sequentially described.
(アクリレート)
アクリレートとしては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーを用いることが好ましい。このモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレートなどを用いることができる。ここで、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基のいずれかを意味するものである。ここで、オリゴマーとは、分子量500以上60000以下の分子をいう。
(Acrylate)
As the acrylate, it is preferable to use a monomer and / or an oligomer having two or more (meth) acryloyl groups. As this monomer and / or oligomer, for example, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate and the like are used. be able to. Here, the (meth) acryloyl group means either an acryloyl group or a methacryloyl group. Here, the oligomer refers to a molecule having a molecular weight of 500 or more and 60000 or less.
(光重合開始剤)
光重合開始剤としては、公知の材料から適宜選択したものを使用できる。公知の材料としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、または併用して用いることができる。重合開始剤の配合量は、固形分中0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。0.1質量%未満であると、光硬化性が低下し、実質的に工業生産に適さない。一方、10質量%を超えると、照射光量が小さい場合に、塗膜に臭気が残る傾向にある。ここで、固形分とは、溶剤および有機系の粘度調整剤以外の全ての成分をいう。具体的には例えば、アクリレート、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、帯電防止剤、レベリング剤、および防汚剤などを固形分という。
(Photopolymerization initiator)
As the photopolymerization initiator, those appropriately selected from known materials can be used. As a known material, for example, a benzophenone derivative, an acetophenone derivative, an anthraquinone derivative, or the like can be used alone or in combination. The blending amount of the polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less in the solid content. If it is less than 0.1% by mass, the photocurability is lowered, which is substantially unsuitable for industrial production. On the other hand, when it exceeds 10 mass%, when the amount of irradiation light is small, odor tends to remain in the coating film. Here, solid content means all components other than a solvent and an organic viscosity modifier. Specifically, for example, acrylate, photopolymerization initiator, inorganic oxide filler, antistatic agent, leveling agent, antifouling agent, and the like are referred to as solid content.
(無機系の粘度調整剤)
無機系の粘度調整剤としては、例えば、無機酸化物フィラーを用いることができる。無機酸化物フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫(Indium Tin Oxide:ITO)、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫(Antimony-doped tin oxide:ATO)、酸化アルミニウム亜鉛(Alminum Zinc Oxide:AZO)などを用いることができる。無機酸化物フィラー表面は、末端に(メタ)アクリル基、ビニル基、またはエポキシ基などの官能基を有する有機系分散剤で表面処理されていることが好ましい。これにより、塗膜の硬化工程でフィラーは周囲の(メタ)アクリルモノマー/オリゴマーと一体化し、塗膜硬度や可撓性が向上する。
(Inorganic viscosity modifier)
As the inorganic viscosity modifier, for example, an inorganic oxide filler can be used. Examples of the inorganic oxide filler include silica, alumina, zirconia, antimony pentoxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium oxide, and antimony-doped tin oxide: ATO), aluminum zinc oxide (AZO), and the like can be used. The surface of the inorganic oxide filler is preferably surface-treated with an organic dispersant having a functional group such as a (meth) acryl group, a vinyl group, or an epoxy group at the terminal. Thereby, the filler is integrated with the surrounding (meth) acrylic monomer / oligomer in the coating film curing step, and the coating film hardness and flexibility are improved.
有機系分散剤としては、例えば、上記官能基を末端に有するシランカップリング剤が好適である。末端にアクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−5103を挙げることができる。末端にメタクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503を挙げることができる。末端にビニル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KA−1003、KBM−1003、KBE−1003を挙げることができる。末端にエポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製KBM−303、KBM−403、KBE−402、KBE−403を挙げることができる。シランカップリング剤の他、有機カルボン酸を用いるようにしてもよい。このように表面処理された無機酸化物フィラーを用いることで、後述する塗膜の硬化工程において、無機酸化物フィラーがその周囲にある(メタ)アクリルモノマーおよび/またはオリゴマーなどのアクリレートと一体化し、塗膜硬度や可撓性が向上する。 As the organic dispersant, for example, a silane coupling agent having the above functional group at the terminal is suitable. Examples of the silane coupling agent having an acryl group at the terminal include KBM-5103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having a methacryl group at the terminal include KBM-502, KBM-503, KBE-502, and KBE-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having a vinyl group at the terminal include KA-1003, KBM-1003, and KBE-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples of the silane coupling agent having an epoxy group at the terminal include KBM-303, KBM-403, KBE-402, and KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. In addition to the silane coupling agent, an organic carboxylic acid may be used. By using the inorganic oxide filler surface-treated in this way, in the curing step of the coating film described later, the inorganic oxide filler is integrated with an acrylate such as a (meth) acrylic monomer and / or oligomer around it, The coating film hardness and flexibility are improved.
無機酸化物フィラーは、その表面にOH基などを有することが好ましい。これにより、後述する塗膜の乾燥工程において、溶剤が蒸発する過程で、無機酸化物フィラー表面のOH基などと、有機系の粘度調整剤の有する官能基とが、水素結合または配位結合し、塗料の粘度が上昇し、好ましくは塗料がゲル化する。このように粘度が上昇することで、塗料が基材11の凹凸形状に追随し、塗料表面に基材11の凹凸形状に倣った凹凸形状が形成される。
The inorganic oxide filler preferably has an OH group or the like on its surface. As a result, in the process of drying the coating film, which will be described later, in the process of evaporation of the solvent, the OH groups on the surface of the inorganic oxide filler and the functional groups possessed by the organic viscosity modifier are bonded with hydrogen bonds or coordinate bonds. , The viscosity of the paint increases, and preferably the paint gels. As the viscosity increases in this way, the paint follows the uneven shape of the
無機酸化物フィラーの平均粒径は、例えば、1nm以上100nm以下である。無機酸化物フィラー配合量は、固形分中10質量%以上70質量%以下であることが好ましい。なお、全固形分を100質量%としている。10質量%未満であると、溶媒蒸発過程で系が高粘度化しなくなる、または、高粘度化に必要な有機系の粘度調整剤量が多くなりすぎ、塗料に濁りが生じる、もしくは塗膜硬度が劣化する傾向がある。一方、70質量%を超えると、硬化膜の可撓性が低下する傾向がある。 The average particle diameter of the inorganic oxide filler is, for example, 1 nm or more and 100 nm or less. The inorganic oxide filler content is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less in the solid content. The total solid content is 100% by mass. If it is less than 10% by mass, the system will not increase in viscosity in the process of solvent evaporation, or the amount of organic viscosity modifier necessary for increasing the viscosity will be too large, resulting in turbidity in the paint or coating film hardness. There is a tendency to deteriorate. On the other hand, when it exceeds 70 mass%, there exists a tendency for the flexibility of a cured film to fall.
(有機系の粘度調整剤)
無機系および有機系の粘度調整剤を併用することが好ましい。両者を併用すると、形状追随性が高まるからである。有機系の粘度調整剤としては、例えば、ヒドロキシ基(OH基)、カルボキシル基(COOH基)、ウレア基(−NH−CO−NH−)、アミド基(−NH−CO−)、アミノ基(NH2)基を有する分子を用いることができ、これらの官能基から選ばれる少なくとも1種の官能基を2個以上有する分子を用いることが好ましい。また、有機系の粘度調整剤としては、無機酸化物フィラーの凝集を抑制する観点からすると、カルボキシル基を有する分子を用いることが好ましい。公知のタレ止め剤、沈降防止剤を適用することも可能である。有機系の粘度調整剤としては、例えば、ビックケミー・ジャパン株式会社製のBYK−405、BYK−410、BYK−411、BYK−430、BYK−431、共栄社化学株式会社製のターレン1450、ターレン2200A、ターレン2450、フローレンG−700、フローレンG−900などが好適である。有機系の粘度調整剤の配合量は、全塗料100質量部に対して0.001〜5質量部であることが好ましい。最適な配合量は、無機酸化物フィラーの材料種および配合量、有機系の粘度調整剤の材料種、ならびに所望のハードコート膜厚に応じて適宜選択することが好ましい。
(Organic viscosity modifier)
Inorganic and organic viscosity modifiers are preferably used in combination. It is because shape followability will increase when both are used together. Examples of organic viscosity modifiers include hydroxy groups (OH groups), carboxyl groups (COOH groups), urea groups (—NH—CO—NH—), amide groups (—NH—CO—), amino groups ( A molecule having an NH 2 ) group can be used, and a molecule having two or more functional groups selected from these functional groups is preferably used. From the viewpoint of suppressing the aggregation of the inorganic oxide filler, it is preferable to use a molecule having a carboxyl group as the organic viscosity modifier. It is also possible to apply known anti-sagging agents and anti-settling agents. Examples of organic viscosity modifiers include BYK-405, BYK-410, BYK-411, BYK-430, BYK-431 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., Talen 1450, Talen 2200A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Talen 2450, Floren G-700, Floren G-900 and the like are preferable. It is preferable that the compounding quantity of an organic viscosity modifier is 0.001-5 mass parts with respect to 100 mass parts of all the coating materials. It is preferable that the optimum blending amount is appropriately selected according to the material type and blending amount of the inorganic oxide filler, the material type of the organic viscosity modifier, and the desired hard coat film thickness.
(溶剤)
溶剤としては、使用するアクリレートなどの樹脂原料を溶解すると共に、基材11との濡れ性が良好で、かつ、基材11を白化させないものが好ましい。このような溶剤としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソランなどのエーテル類を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも2成分以上の混合物でもよく、さらに、上記に例示したもの以外の溶剤を樹脂原料の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
(solvent)
The solvent is preferably a solvent that dissolves a resin raw material such as acrylate to be used, has good wettability with the
(帯電防止剤)
樹脂組成物は、上述のように、帯電防止剤をさらに含有することが好ましい。帯電防止剤としては、イオン性液体を用いることができる。ここで、イオン性液体とは、室温(例えば25℃)で液状を呈する溶融塩(イオン性化合物)をいう。
(Antistatic agent)
As described above, the resin composition preferably further contains an antistatic agent. An ionic liquid can be used as the antistatic agent. Here, the ionic liquid refers to a molten salt (ionic compound) that is liquid at room temperature (for example, 25 ° C.).
(イオン性液体)
イオン性液体の配合量は、樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下が好ましい。ここで、樹脂組成物の全固形分を100質量%とする。イオン性液体の配合量が10質量%未満であると、塗膜に十分な帯電防止性能が発現しない傾向にある。一方、イオン性液体の配合量が25質量%を超えると塗膜硬度が低下する傾向にある。
(Ionic liquid)
As for the compounding quantity of an ionic liquid, 10 mass% or more and 25 mass% or less are preferable with respect to the total solid of a resin composition. Here, the total solid content of the resin composition is 100% by mass. When the blending amount of the ionic liquid is less than 10% by mass, sufficient antistatic performance tends to be not exhibited in the coating film. On the other hand, when the blending amount of the ionic liquid exceeds 25% by mass, the coating film hardness tends to decrease.
イオン性液体としては、イミダゾリウム(系)、ピリジウム(系)、ピロリジニウム(系)、グアニジニウム(系)、イソウロニウム(系)、第4級アンモニウム(系)、第4級ホスホニウム(系)等のカチオン性物質が挙げられ、通常はこれらのカチオン物質に対しては、カウンターイオンである、ハロゲン、トリフラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスファート等のアニオンと結合した塩(液体)で存在するものが挙げられる。イオン性液体としては、高湿環境下にける耐久性向上の観点からすると、水に不溶なイオン性液体が好ましい。 Examples of ionic liquids include cations such as imidazolium (system), pyridium (system), pyrrolidinium (system), guanidinium (system), isouronium (system), quaternary ammonium (system), and quaternary phosphonium (system). In general, for these cationic substances, those present in the form of salts (liquids) bonded to counter ions, such as halogen, triflate, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, etc. Can be mentioned. The ionic liquid is preferably an ionic liquid that is insoluble in water from the viewpoint of improving durability in a high-humidity environment.
本発明にあっては、イオン性液体中でも、イミダゾリウム(系)、ピリジウム(系)の物質及びその塩が好ましくは使用することができる。イミダゾリウム(系)の物質及びその塩の具体例(物質の鍵括弧中はカウンターイオンを示す)としては、1,3−ジメチルイミダゾリウム「クロライド」、1,3−ジメチルイミダゾリウム「ジメチルホスフェート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「クロライド」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「ブロマイド」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「イオダイド」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「トリフルオロメタンスルフォネート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「p−トルエンスルフォネート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「エチルサルフェート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「2−メチル(2―メトキシエトキシ)エチルサルフェート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「ジシンアンアミド」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボレート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロフォスヘート」、1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「ビス(トリフルオロメタンスフォニル)イミド」、1−メチル,3−プロピルイミダゾリウム「イオダイド」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「クロライド」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「ブロマイド」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「イオダイド」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「トリフルオロメタンスルフォネート」、」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロフォスヘート」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「ビス(トリフルオロメタンスフォニル)イミド」、1−ブチル,3−メチルイミダゾリウム「テトラクロロフェレート」、1−ヘキシル,3−メチルイミダゾリウム「クロライド」、1−ヘキシル,3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロフォスヘート」、1−ヘキシル,3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボレート」、1−ブチル,2,3−ジメチルイミダゾリウム「クロライド」、1−ブチル,2,3−ジメチルイミダゾリウム「テトラフルオロボレート」、1−ブチル,2,3−ジメチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロフォスヘート」,1−エチル,3−メチルイミダゾリウム「トリフルオロメタンスルフォネート」等が挙げられ、好ましくは、高いイオン伝導性および安定性を示すことから、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボレート」が挙げられる。 In the present invention, among ionic liquids, imidazolium (based) and pyridium (based) substances and salts thereof can be preferably used. Specific examples of imidazolium (based) substances and salts thereof (counter ions indicate counter ions) are 1,3-dimethylimidazolium “chloride” and 1,3-dimethylimidazolium “dimethyl phosphate”. 1-ethyl, 3-methylimidazolium “chloride”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “bromide”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “iodide”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “ Trifluoromethanesulfonate ", 1-ethyl, 3-methylimidazolium" p-toluenesulfonate ", 1-ethyl, 3-methylimidazolium" ethyl sulfate ", 1-ethyl, 3-methylimidazolium" 2 -Methyl (2-methoxyethoxy) ethyl sulfate ", 1-ethyl, 3- Tyrimidazolium “dicinanamide”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “tetrafluoroborate”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “hexafluorophosphate”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “ Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ”, 1-methyl, 3-propylimidazolium“ iodide ”, 1-butyl, 3-methylimidazolium“ chloride ”, 1-butyl, 3-methylimidazolium“ bromide ”, 1-butyl, 3-methylimidazolium “iodide”, 1-butyl, 3-methylimidazolium “trifluoromethanesulfonate”, “, 1-butyl, 3-methylimidazolium“ hexafluorophosphate ”, 1- Butyl, 3-methylimidazolium “bis (triflu L-methanesulfonyl) imide ", 1-butyl, 3-methylimidazolium" tetrachloroferrate ", 1-hexyl, 3-methylimidazolium" chloride ", 1-hexyl, 3-methylimidazolium" hexafluorophos Hate, 1-hexyl, 3-methylimidazolium “tetrafluoroborate”, 1-butyl, 2,3-dimethylimidazolium “chloride”, 1-butyl, 2,3-dimethylimidazolium “tetrafluoroborate”, 1-butyl, 2,3-dimethylimidazolium “hexafluorophosphate”, 1-ethyl, 3-methylimidazolium “trifluoromethanesulfonate” and the like are preferable, and high ion conductivity and stability are preferable. 1-butyl-3-methylimidazolium “ Tetrafluoroborate ".
ピリジニウム(系)の物質及びその塩の具体例(物質の鍵括弧中はカウンターイオンを示す)としては、1−エチルピリジニウム「クロライド」、1−エチルピリジニウム「ブロマイド」、1−ブチルピリジニウム「クロライド」、)、1−ブチルピリジニウム「ブロマイド」、1−ブチルピリジニウム「ヘキサフルオロフォスフェート」、1−ブチル−4−メチルピリジニウム「ブロマイド」、1−ブチル−4−メチルピリジニウム「ヘキサフルオロフォスフェート」、1−エチル−3−メチルピリジニウム「エチルサルフェート」、1−エチル−3−(ヒドロキシメチル)ピリジニウム「エチルサルフェート」、1−エチル−3−(ヒドロキ)シメチル)ピリジニウム「エチルサルフェート」等が挙げられる。 Specific examples of pyridinium (system) substances and salts thereof (counter ions in the parentheses of the substances indicate 1-ethylpyridinium “chloride”, 1-ethylpyridinium “bromide”, 1-butylpyridinium “chloride”) )), 1-butylpyridinium “bromide”, 1-butylpyridinium “hexafluorophosphate”, 1-butyl-4-methylpyridinium “bromide”, 1-butyl-4-methylpyridinium “hexafluorophosphate”, 1 -Ethyl-3-methylpyridinium “ethyl sulfate”, 1-ethyl-3- (hydroxymethyl) pyridinium “ethyl sulfate”, 1-ethyl-3- (hydroxy) cimethyl) pyridinium “ethyl sulfate” and the like.
(その他の帯電防止剤)
イオン性液体を他の帯電防止剤と組み合わせて用いるようにしてもよい。イオン性液体以外の他の帯電防止剤としては、例えば、4級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子などを挙げることができ、特に導電性ポリマーと組み合わせて用いることが好ましい。これらのイオン性液体以外の他の帯電防止剤のうちの1種または2種以上とイオン性液体とを組み合わせて用いることができる。
(Other antistatic agents)
An ionic liquid may be used in combination with another antistatic agent. Examples of the antistatic agent other than the ionic liquid include quaternary ammonium salts, conductive polymers, conductive fine particles, and the like, and it is particularly preferable to use them in combination with the conductive polymer. One or two or more of these antistatic agents other than these ionic liquids can be used in combination with the ionic liquid.
4級アンモニウム塩としては、4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物を用いることが好ましい。4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、1個または2個以上の4級アンモニウム塩基と、1個または2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有するモノマーおよび/またはオリゴマーを用いることが好ましい。その分子内の4級アンモニウム塩基により、帯電防止機能をハードコート層12に付与することができる。また、モノマーおよび/またはオリゴマーが(メタ)アクリロイル基を有することで、紫外線照射によりマトリクス樹脂などと一体化する。これにより、4級アンモニウム塩のブリードアウトが抑止される。
As the quaternary ammonium salt, a compound having a quaternary ammonium base in the molecule is preferably used. As the compound having a quaternary ammonium base in the molecule, a monomer and / or oligomer having one or more quaternary ammonium bases and one or more (meth) acryloyl groups may be used. preferable. An antistatic function can be imparted to the
4級アンモニウム塩基を分子中に有する化合物としては、例えば、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルアミノプロピルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネート、メタクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネートなどを挙げることができる。 Examples of the compound having a quaternary ammonium base in the molecule include methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, acryloylaminopropyltrimethylammonium chloride, methacryloylaminopropyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyldimethylbenzylammonium chloride. , Methacryloyloxyethyldimethylbenzylammonium chloride, methacryloylaminopropyldimethylbenzylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloylaminopropyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloyloxyethyldimethyl Le ethylammonium ethyl sulfate, methacryloyl aminopropyl dimethyl ethyl ammonium ethylsulfate, methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium p- toluenesulfonate, and the like methacryloylamino trimethylammonium p- toluenesulfonate.
導電性ポリマーとしては、例えば、置換または無置換のポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、およびこれらから選ばれる1種または2種からなる(共)重合体が挙げられる。特にポリピロール、ポリチオフェン、ポリN−メチルピロール、ポリ3−メチルチオフェン、ポリ3−メトキシチオフェン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、およびこれらから選ばれる1種または2種からなる(共)重合体が好適である。 Examples of the conductive polymer include substituted or unsubstituted polyaniline, polypyrrole, polythiophene, and one or two (co) polymers selected from these. In particular, polypyrrole, polythiophene, poly N-methylpyrrole, poly-3-methylthiophene, poly-3-methoxythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and one or two selected from these (co-) Polymers are preferred.
導電性ポリマーとしては、紫外線硬化型樹脂組成物との相溶性が良いものを選択することが好ましい。相溶性が悪い場合、所望の帯電防止性能を得るために必要な導電性ポリマーの配合量が多くなり、機械特性劣化や着色(透明性劣化)などを招くことになる。 As the conductive polymer, it is preferable to select a polymer having good compatibility with the ultraviolet curable resin composition. When the compatibility is poor, the amount of the conductive polymer necessary for obtaining the desired antistatic performance increases, leading to deterioration of mechanical properties, coloring (transparency deterioration), and the like.
導電性ポリマーが、導電性向上の観点から、ドーパントを含有することが好ましい。ドーパントとしては、例えば、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸などが挙げられる。具体的には、有機カルボン酸、有機スルホン酸などの有機酸、有機シアノ化合物、フラーレン、水素化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどが挙げられる。ポリスチレンスルホン酸をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン溶液は、比較的熱安定性が高く、重合度が低いことから、塗膜成形後の透明性が有利となる点で好ましい。 It is preferable that a conductive polymer contains a dopant from a viewpoint of an electroconductive improvement. Examples of the dopant include halogen compounds, Lewis acids, and protonic acids. Specific examples include organic acids such as organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, organic cyano compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, carboxylic fullerenes, and sulfonated fullerenes. A polyethylene dioxythiophene solution doped with polystyrene sulfonic acid is preferable in that it has a relatively high thermal stability and a low degree of polymerization, and thus is advantageous in transparency after coating film formation.
(防汚剤)
樹脂組成物は、上述のように、防汚剤をさらに含有することが好ましい。防汚剤としては、1個以上の(メタ)アクリル基、ビニル基、またはエポキシ基を有するシリコーンオリゴマーおよび/またはフッ素含有オリゴマーを用いることが好ましい。防眩性フィルム1に耐アルカリ性を付与する必要がある場合、フッ素含有オリゴマーを用いることが好ましい。上記シリコーンオリゴマーおよび/またはフッ素オリゴマーの配合量は、固形分の0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。0.01質量%未満であると、防汚機能が不十分となる傾向がる。一方、5質量%を超えると、塗膜硬度が低下する傾向がある。防汚剤としては、例えば、DIC株式会社製のRS−602、RS−751−K、サートマー社製のCN4000、ダイキン工業株式会社製のオプツールDAC−HP、信越化学工業株式会社製のX−22−164E、チッソ株式会社製のFM−7725、ダイセル・サイテック株式会社製のEBECRYL350、デグサ社製のTEGORad2700などを用いることが好ましい。
(Anti-fouling agent)
As described above, the resin composition preferably further contains an antifouling agent. As the antifouling agent, it is preferable to use a silicone oligomer and / or a fluorine-containing oligomer having one or more (meth) acryl groups, vinyl groups, or epoxy groups. When it is necessary to impart alkali resistance to the
(レベリング剤)
紫外線硬化型樹脂組成物は、上述したように、基材11への濡れ性向上の観点から、公知のレベリング剤をさらに含有することが好ましい。レベリング剤の配合量は、固形分の0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。0.01質量%未満であると、濡れ性の向上が不十分になる傾向がある。5質量%を超えると、塗膜硬度が低下する傾向がある。
(Leveling agent)
As described above, the ultraviolet curable resin composition preferably further contains a known leveling agent from the viewpoint of improving wettability to the
(乾燥工程)
次に、ステップS11において、基材11の凹凸面上に塗工された樹脂組成物13を乾燥させることにより、溶剤を揮発させる。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などを調整する人工的乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようすることが好ましい。また、乾燥温度および乾燥時間は塗料中に含まれる溶剤の沸点によって適宜選定することが可能である。その場合、乾燥温度および乾燥時間は、基材11の耐熱性を配慮し、熱収縮により基材11の変形が起きない範囲で選定することが好ましい。
(Drying process)
Next, in step S <b> 11, the solvent is volatilized by drying the
溶剤が蒸発する過程で、例えば、樹脂組成物中に含まれる無機酸化物フィラーとイオン性液体との作用により、粘度が上昇し、高粘度化する。この際、高粘度化により、樹脂組成物13の固形分がゲル化することが好ましい。また、樹脂組成物13が、無機酸化物フィラー(無機系の粘度調整剤)と、有機系の粘度調整剤とを含んでいる場合には、これらの粘度調整剤も樹脂組成物13の高粘度化に寄与する。すなわち、これらの粘度調整剤を樹脂組成物13が含んでいると、溶剤が蒸発する過程で、例えば、樹脂組成物13の固形分濃度が上昇し、無機酸化物フィラーと有機系の粘度調整剤とが系内で水素結合または配位結合などの結合を介したネットワークを形成する。これにより、樹脂組成物13の粘度が上昇し、高粘度化する。このように樹脂組成物13が高粘度化、好ましくはゲル化することにより、基材11の凹凸形状が乾燥した樹脂組成物の表面13sに残される(図8B参照)。すなわち、乾燥した樹脂組成物の表面13sに適度な滑らかさが形成され、防眩性が発現する。また、上述の高粘度化により、樹脂組成物13の流動性が失われることが好ましい。上述のように、樹脂組成物が溶媒蒸発過程で高粘度化すると、乾燥後の樹脂組成物が基材11の凹凸形状に倣い、防眩性が発現する。これに対して、樹脂組成物が高粘度化しない場合、乾燥した樹脂組成物により、基材11の凹凸形状がつぶれてしまい、防眩性が得られなくなる。
In the process of evaporating the solvent, for example, the viscosity increases due to the action of the inorganic oxide filler and the ionic liquid contained in the resin composition, thereby increasing the viscosity. Under the present circumstances, it is preferable that solid content of the
(硬化工程)
次に、ステップS12において、例えば電離放射線照射L2または加熱により、基材111の凹凸面上にて乾燥された樹脂組成物13を硬化させる。これにより、滑らかな凹凸形状を有するハードコート層12が形成される(図8C参照)。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂組成物13の硬化特性、ならびに樹脂組成物13および基材11の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂組成物の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。
以上により、目的とする防眩性フィルム1が得られる。
(Curing process)
Next, in step S12, the
Thus, the intended
また、下地パターン(基材11の凹凸パターン)の形成法は、突起径分布選択性、ランダム配置性、高さ制御性、および突起形状(傾斜)制御性などを有するものであればよく、上述の形成方法に限定されるものではない。例えば金属金型上にレジストを塗布後、コンピュータで生成したランダムパターンをレーザー光によりアブレーション除去し、金属を溶解するエッチャントにより、金属金型ロールに突起を形成する方法を用いることができる。また、上記下地パターンの径のインクリメント/デクリメントを行ったパターンを用い、再度このレーザー・エッチング手法を多段に繰り返す方法も用いることができる。これらの手法でパターン形成後、レジストを剥離し全体的にエッチングすることで、傾斜を緩やかにすることができる。 In addition, the formation method of the base pattern (uneven pattern of the base material 11) may be any method as long as it has projection diameter distribution selectivity, random arrangement, height controllability, projection shape (tilt) controllability, and the like. It is not limited to the forming method. For example, after applying a resist on a metal mold, a computer-generated random pattern is ablated and removed by laser light, and a protrusion is formed on a metal mold roll by an etchant that dissolves the metal. Further, it is also possible to use a method in which this laser etching technique is repeated in multiple stages using a pattern obtained by incrementing / decrementing the diameter of the base pattern. After pattern formation by these methods, the inclination can be made gentle by peeling the resist and etching the whole.
コンピュータによりランダムパターンを生成する際に、円形パターンの直径分布を狭くしたり、パターン密度を上げるためにパターン間の配置の制約を行うと、ランダム性が落ち、表示装置に適用した際にモアレは生成しないものの、反射光が分光する傾向がある。このため、円形パターンの直径分布を広くとり、配置上の制約は設けないことが好ましい。例えば、円形パターンの直径分布としては、好ましくは150μm以下、より好ましくは20μm以上150μm以下に広く取ることが好ましい。このような円形パターンの直径分布範囲を選択することで、自己相関関数の最大値を0.1以下に抑えることができ、分光現象を緩和することができる。なお、基材11の構造体底面の直径分布は、上述したコンピュータにより生成した円形パターンのものとほぼ同一となる。
When a random pattern is generated by a computer, if the diameter distribution of the circular pattern is narrowed or the arrangement between patterns is restricted in order to increase the pattern density, the randomness will be reduced, and the moire will be reduced when applied to a display device. Although not generated, the reflected light tends to be dispersed. For this reason, it is preferable that the circular pattern has a wide diameter distribution and that there is no restriction on arrangement. For example, the diameter distribution of the circular pattern is preferably 150 μm or less, more preferably 20 μm or more and 150 μm or less. By selecting the diameter distribution range of such a circular pattern, the maximum value of the autocorrelation function can be suppressed to 0.1 or less, and the spectral phenomenon can be reduced. The diameter distribution on the bottom surface of the structure of the
また、所望の拡散反射角度特性を実現するため、金型のエッチング深さ、およびレジスト剥離後の全体エッチング時間などを調整することが好ましい。また、無機フィラー、および有機系の粘度調整剤などを添加して形状追随性を調整した樹脂を、基材11の凹凸面上に膜厚を調整して塗布することが好ましい。
In order to achieve desired diffuse reflection angle characteristics, it is preferable to adjust the etching depth of the mold and the total etching time after the resist is removed. In addition, it is preferable to apply a resin whose shape following property is adjusted by adding an inorganic filler, an organic viscosity modifier, or the like on the uneven surface of the
ここで、第1のエッチング処理の深さD1とは、第1のエッチング処理により原盤表面に形成される凹状の構造体の中で最も深い値を指す。通常D1はエッチング液のエッチングレートとエッチング処理時間により決定される。同一のエッチング液を使用し、なおかつエッチング量がさほど多くない場合、D1はエッチング処理時間Te1に概略比例して増大する。 Here, the depth D1 of the first etching process refers to the deepest value among the concave structures formed on the surface of the master by the first etching process. Usually, D1 is determined by the etching rate of the etching solution and the etching processing time. When the same etching solution is used and the etching amount is not so large, D1 increases in proportion to the etching processing time Te1.
処理時間Te1のエッチングにて、第1のエッチング処理深さD1が得られた場合、このエッチング液のエッチングレートをD1/Te1として定義することができる。
第2のエッチング処理は、上記のようにして求めたエッチングレートD1/Te1のエッチング液を利用して、特定の時間Te2の間、ロール全表面をエッチングすることにより行われる。このとき上記エッチングレートD1/Te1にTe2を乗じた値を第2のエッチング処理の深さD2と定義する(D2=(D1/Te1)×Te2)。
When the first etching processing depth D1 is obtained by etching at the processing time Te1, the etching rate of this etching solution can be defined as D1 / Te1.
The second etching process is performed by etching the entire surface of the roll for a specific time Te2 using the etching solution having the etching rate D1 / Te1 obtained as described above. At this time, a value obtained by multiplying the etching rate D1 / Te1 by Te2 is defined as a depth D2 of the second etching process (D2 = (D1 / Te1) × Te2).
上述したように、第1の実施形態に係る紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含んでいる。したがって、乾燥工程において、紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる無機酸化物フィラーとイオン性液体との作用により、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が上昇し、粘度が上昇した紫外線硬化型樹脂組成物が基材11の凹凸面に追随する。この際、無機フィラーはゲル化に寄与し、イオン性液体は溶剤蒸発過程での高粘度化に寄与していると推測される。したがって、基材11の凹凸面に倣った凹凸形状が、ハードコート層表面に形成され、防眩性が得られる。また、イオン性液体によりハードコート層12に帯電防止性が発現する。したがって、製造プロセスを複雑化することなく、優れた防眩性、および帯電防止性を得ることができる。
As described above, the ultraviolet curable resin composition according to the first embodiment includes a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, Contains ionic liquid. Accordingly, in the drying process, the viscosity of the ultraviolet curable resin composition is increased by the action of the inorganic oxide filler and the ionic liquid contained in the ultraviolet curable resin composition, and the viscosity is increased. Follows the uneven surface of the
また、エッチングマスクを用いて原盤表面に対してエッチング処理を施した後、エッチングマスクを除去し、原盤表面の全体に対して再エッチング処理を施した場合、滑らかな凹凸を有する原盤23を作製することができる。このような原盤23により成形された基材上に、乾燥により流動性が失われるハードコート塗料を塗布、乾燥、硬化させることで、基材表面の凹凸に倣ったハードコート層12が形成される。したがって、高防眩、および低白濁の両特性を満たす防眩性フィルム1が得られる。
In addition, when an etching process is performed on the surface of the master using an etching mask, the etching mask is removed, and a re-etching process is performed on the entire surface of the master, so that a
また、ハードコート層12の塗布厚、および/またはハードコート層12を形成するための樹脂組成物の追随性を調整することで、ハードコート層表面の凹凸形状を調整できる。したがって、防眩性フィルム1の防眩性を容易に調整することができる。すなわち、多品種生産が容易である防眩性フィルム1を提供できる。
Moreover, the uneven | corrugated shape on the surface of a hard-coat layer can be adjusted by adjusting the coating thickness of the hard-
基材11の凹凸形状に倣った塗膜を形成するためには、溶媒が蒸発する過程で、樹脂組成物の固形分濃度が上昇し、高粘度化し、好ましくはゲル化することが必要である。このように高粘度化しない場合には、基材11の凹凸形状に塗膜を倣わせることができず、基材11の凹凸形状が塗膜により埋もれてしまい、防眩性が得られなくなる。
In order to form a coating film that conforms to the uneven shape of the
<2.第2の実施形態>
[2.1.防眩性フィルムの構成]
図9は、本発明の第2の実施形態に係る防眩性フィルムに備えられる基材の凹凸面の形状の一例を示す平面図である。図9に示すように、第2の実施形態に係る防眩性フィルムは、構造体11aが第1の構造体11a1と第2の構造体11a2とを含む点において、第1の実施形態のものとは異なっている。
<2. Second Embodiment>
[2.1. Composition of antiglare film]
FIG. 9: is a top view which shows an example of the shape of the uneven surface of the base material with which the anti-glare film which concerns on the 2nd Embodiment of this invention is equipped. As shown in FIG. 9, the antiglare film according to the second embodiment is the first embodiment in that the
第1の構造体11a1の底面の大きさが、10μm≦R1m<R1M≦75μmの範囲内でランダムに変化し、第2の構造体11a2の底面の大きさが、R2m<R2M≦R1mの範囲内でランダムに変化することが好ましい。但し、最小距離R1m:第1の構造体11a1の底面の重心から、底面の周縁までの最短距離、最大距離R1M:第1の構造体11a1の底面の重心から、底面の周縁までの最大距離である。また、最小距離R2m:第2の構造体11a2の底面の重心から、底面の周縁までの最短距離、最大距離R2M:第2の構造体11a2の底面の重心から、底面の周縁までの最大距離である。10μm>R1mであると、該当する構造体が概略平坦化してしまい、表面のざらつきが生じる傾向にある。R1M>75μmであると、表面がざらついたり、画面を見たときにぎらついて見えたりする。
The size of the bottom surface of the
第2の構造体11a2が第1の構造体11a1の間の隙間に配置されるとともに、第1の構造体11a1の高さの最小値h1、および第2の構造体11a2の高さの最大値h2が、h1≧h2の関係を満たす場合には、第1の構造体11a1、および第2の構造体11a2の底面の大きさが以下のように変化することが好ましい。すなわち、第1の構造体11a1の底面の大きさが、R1m<R1M≦75μmの範囲内でランダムに変化し、第2の構造体11a2の底面の大きさが、R2m<R2M≦R1mの範囲内でランダムに変化することが好ましい。R1M>75μmであると、表面がざらついたり、画面を見たときにぎらついて見えたりする。
With
第1の構造体11a1の高さの最小値h1、および第2の構造体11a2の高さの最大値h2が、h1≧h2の関係を満たすとともに、第1の構造体11a1および第2の構造体11a2の高さがばらついていることが好ましい。このようにすることで、構造体11aの径の大きさに応じて構造体11aの高さがばらつき、光学素子表面に3次元的にランダムな面状を付与することができる。この結果、構造体11aの高さが揃うことによって生じる反射光の虹模様、すなわち分光現象を抑制することができるからである。
The minimum height h 1 of the
[2.2.防眩性フィルムの製造方法]
この第2の実施形態に係る防眩性フィルムの製造方法は、以下に示す露光工程を備える以外の点において、第1の実施形態のものと異なっている。まず、上述の第1の実施形態と同様にして、第1の構造体11a1に対応する露光部を形成する。次に、この露光部の間の隙間に、第2の構造体11a2に対応する露光部を配置する。
[2.2. Manufacturing method of antiglare film]
The manufacturing method of the anti-glare film which concerns on this 2nd Embodiment differs from the thing of 1st Embodiment except the point provided with the exposure process shown below. First, similarly to the above-described first embodiment, an exposure portion corresponding to the first
以下では、これらの第1の構造体11a1、および第2の構造体11a2を形成するための凹部をそれぞれ、第1の凹部(第1の転写用構造体)、第2の凹部(第2の転写用構造体)と称する。
エッチングプロセスによる原盤作製を行う場合、第1の凹部および第2の凹部の深さは、(1)凹部の底面の大きさ、(2)隣接する凹部の底面同士の間隔、(3)隣接する凹部の底面の大きさ、(4)その他原盤加工条件に依存してばらつく傾向にある。したがって、エッチングプロセスにより原盤を作製する際に、上記(1)〜(4)の条件を適宜調整することにより、第1の凹部、および第2の凹部の深さを意図的にばらつかせることができる。特に、第2の凹部の底面半径の最大値RMを第1の凹部の底面半径の最小値Rm以下に設定することにより、第2の凹部の深さを第1の凹部の深さよりも浅く設定することができる。なお、これらの第1の凹部、および第2の凹部をフィルムに転写すると、フィルム上に第1の構造体11a1、および第2の構造体11a2を形成することができる。
In the following, the recesses for forming the
When the master is manufactured by the etching process, the depths of the first recess and the second recess are (1) the size of the bottom surface of the recess, (2) the interval between the bottom surfaces of the adjacent recesses, and (3) adjacent. It tends to vary depending on the size of the bottom surface of the recess and (4) other master processing conditions. Therefore, when the master is produced by the etching process, the depths of the first and second recesses are intentionally varied by appropriately adjusting the conditions (1) to (4). Can do. In particular, by setting the maximum value R M of the bottom radius of the second recess to be equal to or less than the minimum value R m of the bottom radius of the first recess, the depth of the second recess is made larger than the depth of the first recess. Can be set shallow. Incidentally, these first recess, and a second recess when transferred to the film, it is possible to form the
上述した原盤側における第1の凹部および第2の凹部の深さばらつきに応じて、基材側における第1の構造体11a1、および第2の構造体11a2の高さについても意図的にばらつきを生じさせることができる。これにより、防眩性フィルム1として、反射光が虹がかった状態になる、いわゆる分光現象を抑制することができる。
The heights of the
また、原盤側において第1の凹部に対して第2の凹部をさらに追加することにより、原盤上に存在する凹部の密度を高めることができる。これにより、基材上に形成される構造体11aの密度を高めることができる。このように構造体11aの密度が向上することで、防眩性フィルム1の凹凸面において平坦部分が減少し、その結果として防眩性を高めることができる。
Moreover, the density of the recessed parts existing on the master can be increased by further adding the second recessed part to the first recessed part on the master side. Thereby, the density of the
<3.第3の実施形態>
図10Aは、本発明の第3の実施形態に係る防眩性フィルムに備えられる基材の構成の第1の例を示す断面図である。図10Aに示すように、基材11は、ハードコート層12が形成される凹凸面に複数の微細構造体11cを備える点において、第1の実施形態とは異なっている。微細構造体11cは、例えば、微細構造体11cの表面のうちの少なくとも一部に形成される。ギラツキ低減の観点からすると、構造体11の表面全体に微細構造体11cを形成することが好ましい。微細構造体11cは、構造体11cよりも小さい凸部または凹部である。なお、微細構造体11cが基材11の凹凸面に形成されているか否かは、例えば以下のようにして確認することができる。すなわち、TACフィルムなどの基材11を溶剤により溶解し、ハードコート層12と基材11との界面を露出させ、この界面を顕微鏡を用いて観察することにより、微細構造体11の形成の有無を確認できる。
<3. Third Embodiment>
FIG. 10A is a cross-sectional view illustrating a first example of a configuration of a base material provided in an antiglare film according to a third embodiment of the present invention. As shown to FIG. 10A, the
基材11とハードコート層12との屈折率が異なることが好ましい。基材11とハードコート層12との屈折率差が、0.01以上0.2以下であることが好ましい。0.01未満であると、ギラツキを抑える程度の内部ヘイズを得ることが困難となる傾向がある。一方、0.2を超えると、界面での反射率が増加し、光の利用効率が低下する傾向がある。
It is preferable that the
ハードコート層12の凹凸面の十点平均粗さ(Rzjis)が、0.1μm以上0.7μm以下の範囲内であることが好ましい。正面から観察したときに感じられるギラツキを抑制することができるからである。このようにハードコート層12の十点平均粗さ(Rzjis)が、0.1μm以上0.7μm以下の範囲内である場合において、基材表面に多数の微細構造体11bを形成することが好ましい。防眩性フィルム1を斜めから観察したときに感じられるギラツキも抑制でき、あらゆる角度から観察してギラツキが感じられなくなる傾向にあるからである。
The ten-point average roughness (Rzjis) of the uneven surface of the
微細構造体11cの形状としては、ドット状、線状などを挙げることができ、これらの形状を組合せて用いてもよい。線状としては、直線状、曲線状、円環状ならびにそれらの組合せを挙げることができ、所望とする特性に応じて、これらの形状のうちから適宜選択することが好ましい。微細構造体11cの高さおよび幅は、例えば、構造体11aのものよりも小さく形成されている。微細構造体11cは、構造体11aよりも短い周期で基材11の凹凸面に形成されている。微細構造体11cは、例えば、エッチング工程において用いられるエッチング液に界面活性剤を添加することにより形成することができる。
Examples of the shape of the
微細構造体11cは、例えば、界面活性剤が添加されたエッチング液を用いて、原盤表面をエッチングすることにより形成することができる。界面活性剤としては、例えば、公知のアルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩などを用いることができる。
The
微細構造体11bは、ハードコート層表面の凹凸形状の形成に実質的に寄与しない程度の大きさであることが好ましい。ここで、実質的に寄与しないとは、ハードコート層表面の拡散反射特性が、微細構造体11bが存在しない場合とほぼ等しいことを意味している。具体的には、微細構造体11bの形成による表面ヘイズの変位が、2%以内であることを意味する。
It is preferable that the
図11Aは、微細構造体の形状の第1の例を示す略線図である。図11Aに示すように、ドット状に突出した複数の微細構造体11cが、構造体11aの表面に形成されている。複数の微細構造体11cの配置は特に限定されるものではなく、所望とする特性に応じて規則的配置およびランダム配置のいずれを採用してもよい。
FIG. 11A is a schematic diagram illustrating a first example of the shape of a microstructure. As shown in FIG. 11A, a plurality of
図11Bは、微細構造体の形状の第2の例を示す略線図である。図11Bに示すように、直線状に突出した複数の微細構造体11cが、構造体11aの頂部から底部に向かって延在されている。
FIG. 11B is a schematic diagram illustrating a second example of the shape of the fine structure. As shown in FIG. 11B, a plurality of
図11Cは、微細構造体の形状の第3の例を示す略線図である。図11Cに示すように、円環状に突出した複数の微細構造体11cが、構造体11aの頂部から底部に渡って形成されている。すなわち、構造体11aの表面には蛇腹状の稜が形成されている。
FIG. 11C is a schematic diagram illustrating a third example of the shape of the microstructure. As shown in FIG. 11C, a plurality of
本発明の第3の実施形態では、ハードコート層12が形成される凹凸面に微細な複数の構造体11cを形成しているので、内部ヘイズ(例えば1〜5%)を付与することができる。このような基材11を備える防眩性フィルム1を表示装置の表面に適用した場合には、ギラツキを低減することができる。なお、微細構造体11cの大きさや形状などを適宜調整することで、微細構造体11cが形成されていない場合とほぼ同様な凹凸形状(すなわち拡散反射特性)とすることができる。
In the third embodiment of the present invention, since a plurality of
図10Bは、本発明の第3の実施形態に係る防眩性フィルムに備えられる基材の構成の第2の例を示す断面図である。図10Bに示すように、この第2の例は、隣り合う構造体11aの間に隙間11dが形成されている点において、第1の例とは異なっている。このように隙間11dが形成されている場合には、構造体11aの表面、および構造体11a間の隙間11dの少なくとも一方に、微細構造体11cを形成するようにしてもよい。ギラツキの低減の観点からすると、構造体11aの表面、および構造体11a間の隙間11dの両方に微細構造体11cを形成することが好ましい。
FIG. 10B is a cross-sectional view showing a second example of the configuration of the base material provided in the antiglare film according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 10B, the second example is different from the first example in that a gap 11d is formed between
第3の実施形態に係る防眩性フィルム1によれば、ハードコート層12が形成される基材11の凹凸面に多数の微細構造体11bを形成しているので、内部ヘイズ(例えば1〜5%)を付与することができる。このような基材11を備える防眩性フィルム1を表示装置の表面に適用した場合には、ギラツキを低減することができる。なお、微細構造体11bの大きさや形状などを適宜調整することで、微細構造体11bが形成されていない場合とほぼ同様なハードコート層表面の凹凸形状(すなわち拡散反射特性)とすることができる。
According to the
<4.第4の実施形態>
図12は、本発明の第4の実施形態に係る防眩性フィルムの一構成例を示す断面図である。第4の実施形態は、構造体11aが側面に1つまたは2つ以上のステップStを備え、構造体11aが2つまたは3つ以上の段構造体からなる段構造を有している点において、第1の実施形態とは異なっている。2つまたは3つ以上の段構造体は、基材側からハードコート層の表面側に向かって、小さくなるように構成されている。図4では、構造体11aが側面に1つのステップを備え、段構造が第1の段構造体16b、および第2の段構造体16aからなる例が示されている。構造体11aは、全体としてドーム形状を有することが好ましい。各段を形成する段構造体の底面の形状は、同一形状に限定されるものではなく、異なる形状としてもよい。
<4. Fourth Embodiment>
FIG. 12: is sectional drawing which shows one structural example of the anti-glare film which concerns on the 4th Embodiment of this invention. In the fourth embodiment, the
<5.第5の実施形態>
[液晶表示装置の構成]
図13は、本発明の第5の実施形態に係る液晶表示装置の一構成を示す断面図である。図13に示すように、この液晶表示装置は、光を出射するバックライト3と、バックライト3から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル2とを備える。液晶パネル2の両面にはそれぞれ、偏光子2a、2bが設けられている。液晶パネル2の表示面側の偏光子2bには、防眩性フィルムである防眩性フィルム1が設けられている。
以下、液晶表示装置を構成するバックライト3、液晶パネル2、および防眩性フィルム1について順次説明する。
<5. Fifth Embodiment>
[Configuration of liquid crystal display device]
FIG. 13 is a cross-sectional view showing one configuration of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 13, the liquid crystal display device includes a backlight 3 that emits light, and a
Hereinafter, the backlight 3, the
(バックライト)
バックライト3としては、例えば、直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト3は、例えば、光源、反射板、防眩性フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管(Cold Cathode Fluorescent Lamp:CCFL)、熱陰極蛍光管(Hot Cathode Fluorescent Lamp:HCFL)、有機エレクトロルミネッセンス(Organic ElectroLuminescence:OEL)、無機エレクトロルミネッセンス(IEL:Inorganic ElectroLuminescence)および発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)などが用いられる。
(Backlight)
As the backlight 3, for example, a direct type backlight, an edge type backlight, and a planar light source type backlight can be used. The backlight 3 includes, for example, a light source, a reflecting plate, an antiglare film, and the like. Examples of the light source include a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), a hot cathode fluorescent lamp (HCFL), organic electroluminescence (OEL), and inorganic electroluminescence (IEL). ) And a light emitting diode (LED).
(液晶パネル)
液晶パネル2としては、例えば、ツイステッドネマチック(Twisted Nematic:TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(Super Twisted Nematic:STN)モード、垂直配向(Vertically Aligned:VA)モード、水平配列(In-Plane Switching:IPS)モード、光学補償ベンド配向(Optically Compensated Birefringence:OCB)モード、強誘電性(Ferroelectric Liquid Crystal:FLC)モード、高分子分散型液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal:PDLC)モード、相転移型ゲスト・ホスト(Phase Change Guest Host:PCGH)モードなどの表示モードのものを用いることができる。
(LCD panel)
Examples of the
液晶パネル2の両面には、例えば偏光子2a、2bがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子2a、2bは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子2a、2bとしては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルムに、ヨウ素錯体や二色性染料を一軸方向に配列させたものを用いることができる。偏光子2a、2bの両面には、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムなどの保護層を設けることが好ましい。このように保護層を設ける場合、この保護層が防眩性フィルム1の基材を兼ねる構成とすることが好ましい。このような構成とすることで、偏光子2a、2bを薄型化できるからである。
For example, polarizers 2a and 2b are provided on both surfaces of the
(防眩性フィルム)
防眩性フィルム1としては、上述した第1〜第4の実施形態に係る防眩性フィルムのうちの1種を用いることができる。
(Anti-glare film)
As the
第5の実施形態によれば、液晶表示装置の表示面に防眩性フィルム1を設けているので、液晶パネル2の表示面における防眩性、耐擦傷性、および帯電防止性などを向上することができる。
According to the fifth embodiment, since the
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.
この実施例において、ハードコート層の膜厚(平均膜厚)は、厚み測定器(TESA株式会社製、電気マイクロメータ)を用いて以下のようにして求めたものである。
まず、接触端子として6mmφの円筒形状のものを用い、ハードコート層が潰れない程度の低荷重で、円筒端子をハードコート層に接触させ、防眩性フィルムの厚さを任意の5点で測定した。次に、測定した防眩性フィルムの厚さを単純に加算平均し、防眩性フィルム総厚の平均値DAを求めた。次に、同一の防眩性フィルムの未塗布部の厚さを任意の5点で測定した。次に、測定した基材(TACフィルム)の厚さを単純に加算平均し、基材の平均厚みDBを求めた。次に、防眩性フィルム総厚の平均値DAから基材の平均厚みDBを差し引き、その値をハードコート層の膜厚とした。
In this example, the film thickness (average film thickness) of the hard coat layer was determined as follows using a thickness measuring device (TESA Corporation, electric micrometer).
First, a 6 mmφ cylindrical contact terminal is used, and the hard coating layer is brought into contact with the hard coating layer with a low load that does not crush the hard coating layer, and the thickness of the antiglare film is measured at five arbitrary points. did. Then, simply adding the average thickness of the measured antiglare film, an average value was obtained D A total thickness antiglare film. Next, the thickness of the uncoated part of the same anti-glare film was measured at arbitrary 5 points. Then, simply adding the average thickness of the measured substrate (TAC film), to obtain an average thickness D B of the base material. Next, it subtracted the mean thickness D B of the base material from the average value D A total thickness antiglare film was the value and the film thickness of the hard coat layer.
(実施例1)
まず、エッチング加工で作製した原盤から形状転写(エンボス)によりトリアセチルセルロースフィルム(以下、TACフィルムと称する。)(富士フイルム株式会社製、フィルム厚:80μm)表面に凹凸を形成した。次に、この凹凸表面を触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製サーフコーダET4000)で評価した。その結果、Ra(算術平均粗さ)=0.903μm、Rz(十点平均粗さ)=2.907μm、RSm(粗さ曲線要素の平均長さ)=65μmであった。
Example 1
First, irregularities were formed on the surface of a triacetyl cellulose film (hereinafter referred to as a TAC film) (made by Fuji Film Co., Ltd., film thickness: 80 μm) by shape transfer (embossing) from a master produced by etching. Next, this uneven surface was evaluated with a stylus type surface roughness measuring instrument (Surfcoder ET4000 manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). As a result, Ra (arithmetic average roughness) = 0.903 μm, Rz (ten-point average roughness) = 2.907 μm, and RSm (average length of roughness curve elements) = 65 μm.
次に、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物をTACフィルムの凹凸面上にコイルバーで塗工した。塗工後、紫外線硬化型樹脂組成物を80℃で1分30秒乾燥させた。上記紫外線硬化型樹脂組成物の溶媒蒸発過程で、紫外線硬化型樹脂組成物がゲル化してTACフィルムの凹凸形状に倣い適度な滑らかさが形成された。次に、窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。次に、触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製サーフコーダET4000)でハードコート層の表面形状を評価した。その結果Ra=0.116μm、Rz=0.526μm、RSm=91μmであった。 Next, an ultraviolet curable resin composition having the following composition was coated on the uneven surface of the TAC film with a coil bar. After coating, the ultraviolet curable resin composition was dried at 80 ° C. for 1 minute 30 seconds. In the process of solvent evaporation of the ultraviolet curable resin composition, the ultraviolet curable resin composition gelled, and moderate smoothness was formed following the uneven shape of the TAC film. Next, an antiglare film having an antistatic hard coat layer having a thickness of 9 μm was obtained by irradiating with 350 mJ / cm 2 of ultraviolet light in a nitrogen atmosphere. Next, the surface shape of the hard coat layer was evaluated with a stylus type surface roughness measuring instrument (Surfcoder ET4000 manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). As a result, Ra = 0.116 μm, Rz = 0.526 μm, and RSm = 91 μm.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 25.97質量部
(商品名:CN9006 サートマー社製)
・多官能アクリルモノマー 12.98質量部
(商品名:A−TMM−3 新中村化学社製)
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
(商品名:Irgacure184 チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
(商品名:RS−751K DIC社製)
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
(商品名:KL−600 共栄社化学社製)
・イオン性液体 15質量部
(商品名:CIL−641(1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート) 日本カーリット社製)
・粘度調整剤 0.0375質量部
(商品名:G−700 共栄社化学社製)
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.4625質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 25.97 parts by mass (trade name: CN9006 manufactured by Sartomer)
-Polyfunctional acrylic monomer 12.98 mass parts (Brand name: A-TMM-3 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product)
-Silica filler with a particle size of 25 nm (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass (trade name: Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals)
・ Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 part by mass (trade name: RS-751K manufactured by DIC)
・ 0.05 parts by mass of fluorine-containing acrylic polymer (trade name: KL-600 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
-15 parts by mass of ionic liquid (trade name: CIL-641 (1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate) manufactured by Nippon Carlit)
・ Viscosity modifier 0.0375 parts by mass (trade name: G-700, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
・ Solvent Isopropyl alcohol (IPA) 100.4625 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass Butyl cellosolve 4.5 parts by mass
イオン性液体(商品名:CIL−641(1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート) 日本カーリット社製)の構造を以下の化学式(1)に示す。
(実施例2)
粘度調整剤の配合量を2倍に増加し、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。次に、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面形状を評価した結果、Ra=0.221μm、Rz=0.962μm、RSm=88μmであった。
(Example 2)
Antiglare property having an antistatic hard coat layer with a film thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the viscosity modifier is doubled and an ultraviolet curable resin composition having the following blending is prepared. A film was obtained. Next, as in Example 1, the surface shape of the hard coat layer was evaluated. As a result, Ra = 0.221 μm, Rz = 0.962 μm, and RSm = 88 μm.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 25.97質量部
・多官能アクリルモノマー 12.98質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 25.97 parts by mass-Polyfunctional acrylic monomer 12.98 parts by mass-Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 15 parts by mass, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4 .5 parts by mass In addition, since the company name and the trade name of the source of the material are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(実施例3)
粘度調整剤を加えず、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。次に、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面形状を評価した結果、Ra=0.109μm、Rz=0.483μm、RSm=87μmであった。
(Example 3)
An antiglare film having an antistatic hard coat layer having a thickness of 9 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet curable resin composition having the following composition was prepared without adding a viscosity modifier. Next, as in Example 1, the surface shape of the hard coat layer was evaluated. As a result, Ra = 0.109 μm, Rz = 0.383 μm, and RSm = 87 μm.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 25.97質量部
・多官能アクリルモノマー 12.98質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.5質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 25.97 parts by mass-Polyfunctional acrylic monomer 12.98 parts by mass-Silica filler with 25 nm particle diameter (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 0 .1 part by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 part by mass, ionic liquid 15 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.5 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4.5 parts by mass Since the company name and the trade name of the material source are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(実施例4)
シリカフィラーの配合量を20質量部に減らし、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。次に、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面形状を評価した結果、Ra=0.087μm、Rz=0.333μm、RSm=96μmであった。
Example 4
An anti-glare film having an antistatic hard coat layer with a thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the amount of silica filler is reduced to 20 parts by mass and an ultraviolet curable resin composition having the following composition is prepared. Got. Next, as a result of evaluating the surface shape of the hard coat layer in the same manner as in Example 1, Ra = 0.087 μm, Rz = 0.333 μm, and RSm = 96 μm.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 39.3質量部
・多官能アクリルモノマー 19.65質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 20質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
Urethane acrylic oligomer 39.3 parts by mass Polyfunctional acrylic monomer 19.65 parts by mass Silica filler with 25 nm particle diameter (acrylic modification) 20 parts by mass Polymerization initiator 5 parts by mass Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 15 parts by mass, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4 .5 parts by mass In addition, since the company name and the trade name of the source of the material are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(実施例5)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を7μmとする以外は、実施例2と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 5)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 7 μm.
(実施例6)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を11μmとする以外は、実施例2と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 6)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 11 μm.
(実施例7)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を7μmとする以外は、実施例1と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 7)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 7 μm.
(実施例8)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を15μmとする以外は、実施例1と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 8)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 15 μm.
(実施例9)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を6μmとする以外は、実施例3と同様にして防眩性フィルムを得た。
Example 9
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 6 μm.
(実施例10)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を14μmとする以外は、実施例3と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 10)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 14 μm.
(実施例11)
紫外線硬化型樹脂組成物の塗布厚を調整し、硬化後のハードコート層の膜厚を10μmとする以外は、実施例4と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 11)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the coating thickness of the ultraviolet curable resin composition was adjusted and the thickness of the hard coat layer after curing was 10 μm.
(実施例12)
イオン性液の配合量を10重量部に減らし、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Example 12)
Antiglare property having an antistatic hard coat layer with a film thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ionic liquid is reduced to 10 parts by weight and an ultraviolet curable resin composition having the following blending is prepared. A film was obtained.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 29.3質量部
・多官能アクリルモノマー 14.65質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 29.3 parts by mass-Polyfunctional acrylic monomer 14.65 parts by mass-Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 15 parts by mass, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4 .5 parts by mass In addition, since the company name and the trade name of the source of the material are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(実施例13)
イオン性液の配合量を25重量部に増やし、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Example 13)
Antiglare property having an antistatic hard coat layer with a film thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ionic liquid is increased to 25 parts by weight and an ultraviolet curable resin composition having the following blending is prepared. A film was obtained.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 19.3質量部
・多官能アクリルモノマー 9.62質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 25質量部
・粘度調整剤 0.0075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
Urethane acrylic oligomer 19.3 parts by mass Polyfunctional acrylic monomer 9.62 parts by mass Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass Polymerization initiator 5 parts by mass Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 25 parts by mass, viscosity modifier 0.0075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4 .5 parts by mass In addition, since the company name and the trade name of the source of the material are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(実施例14)
イオン性液体として、アザスピロ[4.4]ノナンテトラフルオロボレート(商品名:CIL−131、日本カーリット社製)を用いる以外は、実施例3と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 14)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 3 except that azaspiro [4.4] nonanetetrafluoroborate (trade name: CIL-131, manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) was used as the ionic liquid.
イオン性液体(商品名:CIL−131、日本カーリット社製)の構造を以下の化学式(2)に示す。
(実施例15)
イオン性液体として、脂肪族アミン系イオン性液体を用い、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Example 15)
An antistatic hard coat layer having a film thickness of 9 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that an aliphatic amine-based ionic liquid was used as the ionic liquid and an ultraviolet curable resin composition having the following composition was prepared. A dazzling film was obtained.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 39.3質量部
・多官能アクリルモノマー 19.65質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
(商品名:IL−A5 ティーエーケミカル社製)
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、イオン性液体以外の上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
Urethane acrylic oligomer 39.3 parts by mass Polyfunctional acrylic monomer 19.65 parts by mass Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass Polymerization initiator 5 parts by mass Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Part by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 part by mass, ionic liquid 15 parts by mass (trade name: IL-A5 manufactured by TA Chemical Co., Ltd.)
Viscosity modifier 0.075 parts by mass Solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass Butyl cellosolve 4.5 parts by mass The company name of the above-mentioned material other than the ionic liquid, Since the product names are the same as those in Example 1, their descriptions are omitted.
イオン性液体(商品名:IL−A5 ティーエーケミカル社製)の構造を以下の化学式(3)に示す。
(実施例16)
イオン性液体として、1−ブチルヘキサフルオロホスフェートを用いる以外は、実施例3と同様にして防眩性フィルムを得た。
(Example 16)
An antiglare film was obtained in the same manner as in Example 3 except that 1-butylhexafluorophosphate was used as the ionic liquid.
イオン性液体である「1−ブチルヘキサフルオロホスフェート」の構造を以下の化学式(4)に示す。
(比較例1)
イオン性液体を配合せずに、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
An antiglare film having an antistatic hard coat layer with a thickness of 9 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet curable resin composition having the following composition was prepared without blending an ionic liquid. .
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 35.97質量部
・多官能アクリルモノマー 17.98質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 35.97 parts by mass-Polyfunctional acrylic monomer 17.98 parts by mass-Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass
Butyl cellosolve 4.5 parts by mass In addition, since the company name of the acquisition source of the said material and a brand name are the same as that of Example 1, those description is abbreviate | omitted.
(比較例2)
シリカフィラーを配合せず、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。次に、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面形状を評価した結果、Ra=0.027μm、Rz=0.111μm、RSm=101μmであった。
(Comparative Example 2)
An antiglare film having an antistatic hard coat layer having a film thickness of 9 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet curable resin composition having the following composition was prepared without using a silica filler. Next, as in Example 1, the surface shape of the hard coat layer was evaluated. As a result, Ra = 0.027 μm, Rz = 0.111 μm, and RSm = 101 μm.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 52.63質量部
・多官能アクリルモノマー 26.32質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 15質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 52.63 parts by mass-Multifunctional acrylic monomer 26.32 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 part by mass-Fluorine-containing acrylic polymer 0.05 part by mass-Ion 15 parts by mass of liquid, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4.5 parts by mass Since the product names are the same as those in Example 1, their descriptions are omitted.
(比較例3)
イオン性液体の配合量を5質量部に減らし、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
Antiglare property having an antistatic hard coat layer with a film thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ionic liquid is reduced to 5 parts by mass and an ultraviolet curable resin composition having the following blending is prepared. A film was obtained.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 32.63質量部
・多官能アクリルモノマー 16.32質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 5質量部
・粘度調整剤 0.075質量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.425質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 32.63 parts by mass-Multifunctional acrylic monomer 16.32 parts by mass-Silica filler with 25 nm particle size (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 5 parts by mass, viscosity modifier 0.075 parts by mass, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.425 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4 .5 parts by mass In addition, since the company name and the trade name of the source of the material are the same as those in Example 1, their description is omitted.
(比較例4)
イオン性液体の配合量を30質量部に増やし、下記配合の紫外線硬化型樹脂組成物を調製する以外は実施例1と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
Antiglare property having an antistatic hard coat layer with a film thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ionic liquid is increased to 30 parts by mass and an ultraviolet curable resin composition having the following blending is prepared. A film was obtained.
(配合)
・ウレタンアクリルオリゴマー 15.96質量部
・多官能アクリルモノマー 7.99質量部
・粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40質量部
・重合開始剤 5質量部
・フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 1質量部
・フッ素含有アクリルポリマー 0.05質量部
・イオン性液体 30量部
・溶剤
イソプロピルアルコール(IPA) 100.5質量部
1.3−ジオキソラン 45質量部
ブチルセロソルブ 4.5質量部
なお、上記材料の入手先の社名、および商品名は実施例1と同様であるので、それらの記載を省略する。
(Combination)
-Urethane acrylic oligomer 15.96 parts by mass-Polyfunctional acrylic monomer 7.9 parts by mass-Silica filler having a particle size of 25 nm (acrylic modification) 40 parts by mass-Polymerization initiator 5 parts by mass-Fluorine-containing oligomer (bifunctional acrylic) 1 Parts by mass, fluorine-containing acrylic polymer 0.05 parts by mass, ionic liquid 30 parts by weight, solvent isopropyl alcohol (IPA) 100.5 parts by mass 1.3-dioxolane 45 parts by mass butyl cellosolve 4.5 parts by mass Since the company name and the product name of the supplier are the same as in Example 1, their description is omitted.
(比較例5)
イオン性液体として、CIL―512(日本カーリット社製)を用いる以外は比較例4と同様にして、膜厚9μmの帯電防止性ハードコート層を有する防眩性フィルムを得た。
(Comparative Example 5)
An antiglare film having an antistatic hard coat layer having a thickness of 9 μm was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that CIL-512 (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) was used as the ionic liquid.
上述のようにして得られた実施例1〜16、比較例1〜5に係る防眩性フィルムについて、以下の評価を行った。 The following evaluation was performed about the anti-glare film which concerns on Examples 1-16 obtained as mentioned above and Comparative Examples 1-5.
(表面抵抗)
防眩性フィルムの表面抵抗を三菱化学株式会社製のHiresta−UPで評価(プローブ:URS、印加電圧:1000V)した。
(Surface resistance)
The surface resistance of the antiglare film was evaluated with a Hiresta-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (probe: URS, applied voltage: 1000 V).
(マルテンス硬度)
PICODENTOR HM500(株式会社フィッシャー・インストルメンツ製)で評価し、加重は5mNとした。
(Martens hardness)
It was evaluated with PICODERTOR HM500 (manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd.), and the weight was 5 mN.
(鉛筆硬度)
JIS K5400に準拠し、500g加重で評価した。
(Pencil hardness)
Based on JIS K5400, the weight was evaluated at 500 g.
(HAZE、全光線透過率)
防眩性フィルムのHAZE、(JIS K7136)、および全光線透過率Tt(JIS K7361)を、HM−150(株式会社村上色彩技術研究所製)で評価した。
(HAZE, total light transmittance)
The antiglare film HAZE, (JIS K7136), and total light transmittance Tt (JIS K7361) were evaluated by HM-150 (Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.).
(密着性)
JIS K5400の碁盤目(1mm間隔×100マス)セロハンテープCT24(ニチバン株式会社製)剥離試験により、帯電防止ハードコート層の密着性を評価した。
(Adhesion)
The adhesion of the antistatic hard coat layer was evaluated by a peel test of JIS K5400 grid (1 mm interval × 100 mass) cellophane tape CT24 (manufactured by Nichiban Co., Ltd.).
(スチールウール試験)
AB−301(テスター産業株式会社製)にて、250g荷重を加えながらスチールウール(日本スチールウール株式会社 ボンスター#0000)を帯電防止ハードコート層表面上で10往復させた後、目視で傷の有無を確認した。
(Steel wool test)
In AB-301 (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), steel wool (Nippon Steel Wool Co., Ltd. Bonstar # 0000) was reciprocated 10 times on the surface of the antistatic hard coat layer while applying a load of 250 g, and then visually checked for scratches. It was confirmed.
(防眩性)
防眩性フィルムを黒板に粘着シートを介して貼り付け、蛍光灯の映り込みを確認し、以下の基準で評価した。
○:防眩性が発現し、蛍光灯の輪郭がぼやけた。
×:防眩性が発現せず、蛍光灯の輪郭がくっきり映り込んだ。
(Anti-glare)
An antiglare film was attached to a blackboard via an adhesive sheet, and reflection of a fluorescent lamp was confirmed. Evaluation was made according to the following criteria.
○: Antiglare property was developed and the outline of the fluorescent lamp was blurred.
X: Anti-glare property was not exhibited, and the outline of the fluorescent lamp was clearly reflected.
(表面凹凸形状)
ハードコート層の形成前の基材の凹凸面と、ハードコート層の凹凸面との表面形状を、触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製、商品名:サーフコーダET4000)で評価し、以下の基準で評価した。
○:基材の凹凸面に倣った凹凸面が、ハードコート層の表面に形成されている。
×:基材の凹凸面に倣った凹凸面が、ハードコート層の表面に形成されていない。
(Surface irregular shape)
The surface shape of the concavo-convex surface of the base material before the formation of the hard coat layer and the concavo-convex surface of the hard coat layer is measured with a stylus type surface roughness measuring instrument (trade name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). And evaluated according to the following criteria.
(Circle): The uneven surface which followed the uneven surface of the base material is formed in the surface of a hard-coat layer.
X: The uneven surface which followed the uneven surface of the base material is not formed on the surface of the hard coat layer.
なお、基材の凹凸面に倣ったハードコート層の凹凸面は、紫外線硬化型樹脂組成物の溶媒蒸発過程で、紫外線硬化型樹脂組成物が高粘度化して基材の凹凸面に倣うことにより形成されるものである。 The uneven surface of the hard coat layer that follows the uneven surface of the substrate is formed by the UV curable resin composition becoming highly viscous and following the uneven surface of the substrate during the solvent evaporation process of the UV curable resin composition. Is formed.
(溶解性)
実施例1〜16に係る防眩性フィルムの作製に用いたイオン性液体の、水に対する溶解性を以下のようにして評価した。
イオン性液体1mlに純水1mlを加え攪拌した。その後、目視で溶液が完全に透明になったものを水に可溶、白く濁ったものを水に不溶として評価した。
(Solubility)
The solubility with respect to water of the ionic liquid used for preparation of the anti-glare film which concerns on Examples 1-16 was evaluated as follows.
1 ml of pure water was added to 1 ml of ionic liquid and stirred. Then, the solution in which the solution became completely transparent with the naked eye was evaluated as soluble in water, and the cloudy white solution was evaluated as insoluble in water.
(環境試験)
防眩性フィルムに対して以下の環境試験を行い、評価した。
(60℃90%Rh)
防眩性フィルムを60℃90%Rhの環境下に250時間放置した後、防眩性フィルムの表面抵抗を三菱化学株式会社製のHiresta−UPで測定(プローブ:URS、印加電圧:1000V)した。次に、環境試験前の表面抵抗に対する、環境試験後の表面抵抗の変動値を算出し、算出した変動値を以下の基準で評価した。
◎:表面抵抗の変動値が1桁以下である。
○:表面抵抗の変動値が1桁を超え、2桁以下である。
×:表面抵抗の変動値が2桁を超える。
(Environmental testing)
The following environmental tests were conducted on the antiglare film and evaluated.
(60 ° C 90% Rh)
After the antiglare film was left in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 250 hours, the surface resistance of the antiglare film was measured with a Hiresta-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (probe: URS, applied voltage: 1000 V). . Next, the fluctuation value of the surface resistance after the environmental test with respect to the surface resistance before the environmental test was calculated, and the calculated fluctuation value was evaluated according to the following criteria.
A: The fluctuation value of the surface resistance is one digit or less.
○: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 1 digit and is 2 digits or less.
X: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 2 digits.
(80℃DRY)
防眩性フィルムを80℃DRY(10〜20%RH程度)の環境下に250時間放置した後、防眩性フィルムの表面抵抗を三菱化学株式会社製のHiresta−UPで評価(プローブ:URS、印加電圧:1000V)した。次に、環境試験前の表面抵抗に対する、環境試験後の表面抵抗の変動値を算出し、算出した変動値を以下の基準で評価した。
◎:表面抵抗の変動値が1桁以下である。
○:表面抵抗の変動値が1桁を超え、2桁以下である。
×:表面抵抗の変動値が2桁を超える。
(80 ° C DRY)
After allowing the antiglare film to stand in an environment of 80 ° C. DRY (about 10 to 20% RH) for 250 hours, the surface resistance of the antiglare film was evaluated by Hiresta-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (probe: URS, Applied voltage: 1000 V). Next, the fluctuation value of the surface resistance after the environmental test with respect to the surface resistance before the environmental test was calculated, and the calculated fluctuation value was evaluated according to the following criteria.
A: The fluctuation value of the surface resistance is one digit or less.
○: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 1 digit and is 2 digits or less.
X: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 2 digits.
(FADE)
防眩性フィルムを耐光性試験機(Ci35A、アトラス社製)にて、90kJ/cm2の積算光量条件下で試験した。次に、試験前の表面抵抗に対する、試験後の表面抵抗の変動値を算出し、算出した変動値を以下の基準で評価した。
◎:表面抵抗の変動値が1桁以下である。
○:表面抵抗の変動値が1桁を超え、2桁以下である。
×:表面抵抗の変動値が2桁を超える。
(FADE)
The antiglare film was tested with a light resistance tester (Ci35A, manufactured by Atlas Co., Ltd.) under an integrated light quantity condition of 90 kJ / cm2. Next, the fluctuation value of the surface resistance after the test with respect to the surface resistance before the test was calculated, and the calculated fluctuation value was evaluated according to the following criteria.
A: The fluctuation value of the surface resistance is one digit or less.
○: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 1 digit and is 2 digits or less.
X: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 2 digits.
(ケン化60℃)
防眩性フィルムを60℃の4.5N−水酸化カリウム水溶液に1分間浸した後、防眩性フィルムの表面抵抗を三菱化学株式会社製のHiresta−UPで測定(プローブ:URS、印加電圧:1000V)した。次に、ケン化前の表面抵抗に対する、ケン化後の表面抵抗の変動値を算出し、算出した変動値を以下の基準で評価した。
◎:表面抵抗の変動値が1桁以下である。
○:表面抵抗の変動値が1桁を超え、2桁以下である。
×:表面抵抗の変動値が2桁を超える。
(Saponification 60 ° C)
After dipping the antiglare film in a 4.5N-potassium hydroxide aqueous solution at 60 ° C. for 1 minute, the surface resistance of the antiglare film was measured with a Hiresta-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (probe: URS, applied voltage: 1000V). Next, the fluctuation value of the surface resistance after saponification relative to the surface resistance before saponification was calculated, and the calculated fluctuation value was evaluated according to the following criteria.
A: The fluctuation value of the surface resistance is one digit or less.
○: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 1 digit and is 2 digits or less.
X: The fluctuation value of the surface resistance exceeds 2 digits.
表1に、実施例1〜16、比較例1〜5に係る防眩性フィルムの構成を示す。
表2に、実施例1〜16、比較例1〜5に係る防眩性フィルムの評価結果を示す。
表3に、実施例1〜16、比較例1〜5に係る防眩性フィルムの評価結果を示す。
表2に示す評価結果などから以下のことがわかった。
・実施例2において、実施例1と同程度の防眩性を得るために、ハードコート層の膜厚を薄くする必要がある。
・実施例3において、実施例1と同程度の防眩性を得るために、ハードコート層の膜厚を厚くする必要がある。
・実施例1〜16では、表面抵抗が1.0×108Ω/□以上1.0×1013Ω/□以下の範囲内にあるのに対して、比較例1では、表面抵抗が1.0×1013Ω/□を超え、1.00×1015Ω/□以上となった。これは、比較例1では、ハードコート層にイオン性液体を含有させていないためである。
・実施例1〜16では、基材の凹凸面に倣った凹凸面がハードコート層の表面に形成され、優れた防眩性が発現しているのに対して、比較例2では、基材の凹凸面に倣った凹凸面がハードコート層の表面に形成されず、防眩性が発現しなかった。これは、比較例2では、紫外線硬化型樹脂組成物がシリカフィラーを含有していないために、紫外線硬化型樹脂組成物の溶媒蒸発過程で、系が高粘度化せず、基材の凹凸形状が紫外線硬化型樹脂組成物により埋もれてしまったためである。
・比較例3では、防眩性フィルムの表面抵抗は1.37×1013Ω/□であり、十分な帯電防止性能が得られなかった。これは、比較例3では、イオン性液体の配合量が少なかったためである。
・比較例4では、防眩性フィルムの鉛筆硬度はF、マルテンス硬度は231N/mm2であり、ハードコート層としての十分な性能が得られなかった。これは、イオン性液体の配合量が多すぎたためである。
・比較例5では、防眩性フィルムの鉛筆硬度はF、マルテンス硬度は233N/mm2であり、ハードコート層としての十分な性能が得られなかった。これは、イオン性液体の配合量が多すぎたためである。
以上により、紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含有していることが好ましい。また、イオン性液体の配合量が、紫外線硬化型樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下であることが好ましい。
From the evaluation results shown in Table 2, the following were found.
In Example 2, it is necessary to reduce the film thickness of the hard coat layer in order to obtain the same degree of antiglare properties as in Example 1.
In Example 3, it is necessary to increase the film thickness of the hard coat layer in order to obtain the same degree of antiglare properties as in Example 1.
In Examples 1 to 16, the surface resistance is in the range of 1.0 × 10 8 Ω / □ to 1.0 × 10 13 Ω / □, whereas in Comparative Example 1, the surface resistance is 1 It exceeded 0.0 × 10 13 Ω / □ and became 1.00 × 10 15 Ω / □ or more. This is because in Comparative Example 1, no ionic liquid is contained in the hard coat layer.
-In Examples 1-16, although the uneven surface which followed the uneven surface of the base material was formed in the surface of a hard-coat layer, and excellent anti-glare property was expressed, in Comparative Example 2, a base material The uneven surface following the uneven surface was not formed on the surface of the hard coat layer, and no antiglare property was exhibited. In Comparative Example 2, since the ultraviolet curable resin composition does not contain a silica filler, the system does not increase in viscosity during the solvent evaporation process of the ultraviolet curable resin composition, and the uneven shape of the substrate. This is because it was buried by the ultraviolet curable resin composition.
In Comparative Example 3, the surface resistance of the antiglare film was 1.37 × 10 13 Ω / □, and sufficient antistatic performance was not obtained. This is because in Comparative Example 3, the amount of the ionic liquid was small.
In Comparative Example 4, the pencil hardness of the antiglare film was F, and the Martens hardness was 231 N / mm 2 , and sufficient performance as a hard coat layer was not obtained. This is because the blending amount of the ionic liquid is too large.
In Comparative Example 5, the antiglare film had a pencil hardness of F and a Martens hardness of 233 N / mm 2 , and sufficient performance as a hard coat layer was not obtained. This is because the blending amount of the ionic liquid is too large.
As described above, the ultraviolet curable resin composition contains a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, and an ionic liquid. It is preferable. Moreover, it is preferable that the compounding quantity of an ionic liquid is 10 to 25 mass% with respect to the total solid of an ultraviolet curable resin composition.
表3に示す評価結果などから以下のことがわかった。
・実施例1では、60℃90%Rhの環境下に250時間放置したところ、表面抵抗は6.28×012Ω/□に上昇した。これは、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートが高湿環境で水に溶解したためと考えられる
・実施例15では、60℃90%Rhの環境下に250時間放置したところ、表面抵抗は1.23×1012Ω/□に上昇したが、実施例1の環境試験の結果より上昇していないことがわかった。これはIL−A5が水に不溶なため、高湿環境で水に溶解しにくかったためと考えられる。
以上により、高湿環境下にける耐久性向上の観点からすると、水に不溶なイオン性液体が好ましい。
From the evaluation results shown in Table 3, the following were found.
In Example 1, the surface resistance increased to 6.28 × 0 12 Ω / □ when left in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 250 hours. This is thought to be because 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate was dissolved in water in a high humidity environment. In Example 15, when the sample was left in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 250 hours, the surface resistance was Increased to 1.23 × 10 12 Ω / □, but from the results of the environmental test of Example 1, it was found that the value did not increase. This is presumably because IL-A5 was insoluble in water and thus difficult to dissolve in water in a high humidity environment.
From the above, from the viewpoint of improving durability in a high humidity environment, an ionic liquid insoluble in water is preferable.
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, Various deformation | transformation based on the technical idea of this invention is possible.
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。 For example, the configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like may be used as necessary.
また、上述の実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。 The configurations of the above-described embodiments can be combined with each other without departing from the gist of the present invention.
また、上述の実施形態に係る防眩性フィルムを、アンチニュートンリング(Anti Newton-Ring:ANR)フィルムとして表示装置に用いるようにしてもよい。このようにANRフィルムとして用いることで、ニュートンリングの発生を抑制する、もしくは気にならない程度までニュートンリングの発生を低減することが可能である。 Moreover, you may make it use the anti-glare film which concerns on the above-mentioned embodiment for a display apparatus as an anti-Newton-Ring (Anti Newton-Ring: ANR) film. By using it as an ANR film in this way, it is possible to suppress the generation of Newton rings or to reduce the generation of Newton rings to the extent that it does not matter.
また、上述の実施形態では、本発明に係る防眩性フィルムを液晶表示装置に適用する場合を例として説明したが、本発明に係る防眩性フィルムは液晶表示装置以外の各種表示装置に対しても適用可能である。例えば、CRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(Plasma Display Panel:PDP)、エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence:EL)ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(Surface-conduction Electron-emitter Display:SED)などの各種表示装置に対しても本発明に係る防眩性フィルムは適用可能である。また、タッチパネルなどの各種フィルム用途としても広く適用可能である。 Moreover, although the above-mentioned embodiment demonstrated as an example the case where the anti-glare film which concerns on this invention is applied to a liquid crystal display device, the anti-glare film which concerns on this invention is with respect to various display apparatuses other than a liquid crystal display device. Is applicable. For example, CRT (Cathode Ray Tube) display, Plasma Display Panel (PDP), Electro Luminescence (EL) display, Surface-conduction Electron-emitter Display (SED), etc. The antiglare film according to the present invention can be applied to various display devices. Moreover, it is widely applicable also as various film uses, such as a touch panel.
また、上述の実施形態では、基材上にハードコート層を形成する場合を例として説明したが、ハードコート層を形成しない状態で基材を拡散シートや拡散板などとして活用することも可能である。このようにして活用する場合、基材の両面に対して、上述の実施形態の凹凸形状を形成した構成としてもよい。これにより、基材の両面に拡散作用を付与することができる。 In the above-described embodiment, the case where the hard coat layer is formed on the base material has been described as an example. However, the base material can be used as a diffusion sheet or a diffusion plate without forming the hard coat layer. is there. When utilizing in this way, it is good also as a structure which formed the uneven | corrugated shape of the above-mentioned embodiment with respect to both surfaces of a base material. Thereby, a spreading | diffusion effect | action can be provided to both surfaces of a base material.
また、上述の実施形態において、基材に微粒子を含有させてもよい。また、基材の裏面に凹凸形状を形成するようにしてもよい。この凹凸形状の形成方法としては、例えば、エンボス加工、シボ加工を挙げることができる。また、基材裏面に、微粒子を含有する樹脂層を設け、この樹脂層の表面から微粒子を突出させるようにしてもよい。また、基材に微粒子を含有させるとともに、これらの微粒子の一部を基材裏面から突出させるようにしてもよい。また、基材の内部に微粒子を含有させるとともに、基材の裏面に凹凸形状を形成するようにしてもよい。このような構成を採用することで、基材の内部および/または裏面に拡散作用を付与することができる。なお、このような構成を採用する場合、ハードコート層の形成を省略し、基材の表面の凹凸形状が露出した構成としてもよい。これにより、基材を拡散シートや拡散板などとして用いることができる。 In the above-described embodiment, the base material may contain fine particles. Moreover, you may make it form uneven | corrugated shape in the back surface of a base material. Examples of the method for forming the concavo-convex shape include embossing and embossing. Further, a resin layer containing fine particles may be provided on the back surface of the base material, and the fine particles may protrude from the surface of the resin layer. Moreover, while making a base material contain microparticles | fine-particles, you may make it make some of these microparticles | fine-particles protrude from a base material back surface. Further, fine particles may be contained inside the base material, and an uneven shape may be formed on the back surface of the base material. By employ | adopting such a structure, a spreading | diffusion effect | action can be provided to the inside and / or back surface of a base material. In addition, when employ | adopting such a structure, formation of a hard-coat layer is abbreviate | omitted and it is good also as a structure which the uneven | corrugated shape of the surface of the base material was exposed. Thereby, a base material can be used as a diffusion sheet, a diffusion plate, etc.
また、上述の実施形態では、エッチング処理(第1のエッチング処理)により複数の凹部を原盤表面に形成する場合を例として説明したが、エッチング処理に代えてレーザー加工により複数の凹部を原盤表面に形成するようにしてもよい。また、このようにレーザー加工により複数の凹部を原盤表面に形成した後に、上述の実施形態と同様に、原盤の凹凸面全体にエッチング処理を施すようにしてもよい。これにより、原盤表面に形成された複数の凹部を、例えば円柱状からなだらかなドーム状に変え、滑らかな凹凸面を有する原盤を作製することができる。 Moreover, although the above-mentioned embodiment demonstrated as an example the case where a several recessed part was formed in the master surface by an etching process (1st etching process), it replaced with an etching process and the several recessed part was made into the master surface by laser processing. You may make it form. In addition, after forming a plurality of recesses on the surface of the master by laser processing in this way, the entire concave / convex surface of the master may be etched as in the above-described embodiment. As a result, a plurality of recesses formed on the surface of the master can be changed from, for example, a cylindrical shape to a gentle dome shape, and a master having a smooth uneven surface can be produced.
1 防眩性フィルム
2 液晶パネル
2a、2b 偏向子
3 バックライト
11 基材
11a 構造体
12 ハードコート層
12a 突起
21 原盤
21a 凹部
22 レジスト層
22a 露光パターン
22b 開口部
23 原盤
13 樹脂組成物
13s 表面
DESCRIPTION OF
Claims (12)
上記基材の凹凸面に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層の表面には、上記基材の凹凸面に倣った凹凸形状が形成され、
上記ハードコート層は、紫外線硬化型樹脂組成物を上記基材の凹凸面上に塗布、硬化して得られ、
上記紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含有し、
上記イオン性液体の配合量が、上記紫外線硬化型樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である防眩性フィルム。 A substrate having an uneven surface;
A hard coat layer formed on the uneven surface of the substrate,
On the surface of the hard coat layer, an uneven shape following the uneven surface of the substrate is formed,
The hard coat layer is obtained by applying and curing an ultraviolet curable resin composition on the uneven surface of the substrate,
The ultraviolet curable resin composition contains a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, and an ionic liquid,
The anti-glare film whose compounding quantity of the said ionic liquid is 10 to 25 mass% with respect to the total solid of the said ultraviolet curable resin composition.
上記ハードコート層の表面抵抗が、1.0×108Ω/□以上1.0×1013Ω/□以下である請求項1記載の防眩性フィルム。 The Martens hardness of the hard coat layer is 270 or more,
The antiglare film according to claim 1, wherein the hard coat layer has a surface resistance of 1.0 × 10 8 Ω / □ or more and 1.0 × 10 13 Ω / □ or less.
上記構造体の底面の大きさが、最小距離Rm以上、最大距離RM以下(但し、最小距離Rm:上記構造体の底面の重心から、底面の周縁までの最小値、最大距離RM:上記構造体の底面の重心から、底面の周縁までの最大値)の範囲内でランダムに変化し、
上記複数の構造体のうち、隣り合う上記構造体の底面同士が、接するまたはほぼ接する関係にあり、
上記最小距離Rmと上記最大距離RMが、Rm/RM≦0.9の関係を満たす請求項1記載の防眩性フィルム。 The uneven surface of the substrate is formed by a plurality of structures,
The size of the bottom surface of the structure is not less than the minimum distance R m and not more than the maximum distance R M (however, the minimum distance R m is the minimum value from the center of gravity of the bottom surface of the structure to the periphery of the bottom surface, the maximum distance R M : Randomly within the range of the center of gravity of the bottom surface of the above structure to the peripheral edge of the bottom surface)
Among the plurality of structures, the bottom surfaces of the adjacent structures are in contact with each other or substantially in contact with each other.
The antiglare film according to claim 1, wherein the minimum distance R m and the maximum distance R M satisfy a relationship of R m / R M ≦ 0.9.
上記無機酸化物フィラーの表面と上記有機系の粘度調整剤とが結合している請求項1記載の防眩性フィルム。 The ultraviolet curable resin composition further contains an organic viscosity modifier,
The anti-glare film according to claim 1, wherein the surface of the inorganic oxide filler is bonded to the organic viscosity modifier.
塗布した上記紫外線硬化型樹脂組成物を乾燥させることで、上記基材の凹凸面に上記紫外線硬化型樹脂組成物を倣わせる工程と、
乾燥した上記紫外線硬化型樹脂組成物を硬化する工程と
を備え、
上記紫外線硬化型樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーと、光重合開始剤と、無機酸化物フィラーと、イオン性液体とを含有し、
上記イオン性液体の配合量が、上記紫外線硬化型樹脂組成物の全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である防眩性フィルムの製造方法。 Applying an ultraviolet curable resin composition to the uneven surface of the substrate;
A step of copying the ultraviolet curable resin composition on the uneven surface of the substrate by drying the applied ultraviolet curable resin composition;
Curing the dried UV curable resin composition,
The ultraviolet curable resin composition contains a monomer and / or oligomer having two or more (meth) acryloyl groups, a photopolymerization initiator, an inorganic oxide filler, and an ionic liquid,
The manufacturing method of the anti-glare film whose compounding quantity of the said ionic liquid is 10 to 25 mass% with respect to the total solid of the said ultraviolet curable resin composition.
光重合開始剤と、
無機酸化物フィラーと、
イオン性液体と
を含有し、
上記イオン性液体の配合量が、全固形分に対して10質量%以上25質量%以下である紫外線硬化型樹脂組成物。 Monomers and / or oligomers having two or more (meth) acryloyl groups;
A photopolymerization initiator;
An inorganic oxide filler;
An ionic liquid and
The ultraviolet curable resin composition whose compounding quantity of the said ionic liquid is 10 to 25 mass% with respect to the total solid.
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