KR20240003435A - 위상 시프트 마스크 블랭크, 위상 시프트 마스크, 노광방법, 및 디바이스의 제조 방법 - Google Patents

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시게히코 미야기
다카시 야가미
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가부시키가이샤 니콘
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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